JPH0431369A - セラミック基板製造装置 - Google Patents
セラミック基板製造装置Info
- Publication number
- JPH0431369A JPH0431369A JP2135907A JP13590790A JPH0431369A JP H0431369 A JPH0431369 A JP H0431369A JP 2135907 A JP2135907 A JP 2135907A JP 13590790 A JP13590790 A JP 13590790A JP H0431369 A JPH0431369 A JP H0431369A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- ceramic substrate
- grooves
- burning
- binder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、セラミック基板の製造装置に関するものであ
る。
る。
従来の技術
以下図面を参照しながら従来技術のセラミック基板の製
造装置について説明する。
造装置について説明する。
第４図は従来のセラミック基板の製造装置を示すもので
ある。第４図において、１４は箱型焼成炉である５、１
５はヒーター、１了はセラミック板、１９はセラミック
スペーサ−棒で、以上のように構成されたセラミックセ
ッターを用いて、セラεツク基板を製造する。
ある。第４図において、１４は箱型焼成炉である５、１
５はヒーター、１了はセラミック板、１９はセラミック
スペーサ−棒で、以上のように構成されたセラミックセ
ッターを用いて、セラεツク基板を製造する。
マスセラミック基板１７をセラミックセッター上に載せ
、上記セラミックセッターを多重させ箱型焼成炉に設置
し昇温し、脱バインダー又は焼成をする。
、上記セラミックセッターを多重させ箱型焼成炉に設置
し昇温し、脱バインダー又は焼成をする。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の従来構成では、ヒーターの嘉射熱を
しゃ断するので、セッター内の温度はセンサーにて制御
されているセッター外温度に一致せず、所定の温度が得
られなかった。その結果、脱バインダー不足や、焼成時
の温度分布が生じ脱バインダー又は焼成後に多層基板に
おいて、層間剥離及びクラックが発生するという欠点を
有ｌ−でいた。
しゃ断するので、セッター内の温度はセンサーにて制御
されているセッター外温度に一致せず、所定の温度が得
られなかった。その結果、脱バインダー不足や、焼成時
の温度分布が生じ脱バインダー又は焼成後に多層基板に
おいて、層間剥離及びクラックが発生するという欠点を
有ｌ−でいた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、ヒーター
の輻射熱を１−７や断すること無く、セラミック基板を
脱バインダー又は焼成でき層間剥離及びクランクが無い
信頼性の高いセラミック基板を提供することを目的とす
る。
の輻射熱を１−７や断すること無く、セラミック基板を
脱バインダー又は焼成でき層間剥離及びクランクが無い
信頼性の高いセラミック基板を提供することを目的とす
る。
課題を解決するだめの手段
この目的を達成するために本発明のセラミック基板の製
造設備は、溝を設けた支柱もしくは、板等からなり、セ
ラミック又はガラス等の透明な材料で構成されている。
造設備は、溝を設けた支柱もしくは、板等からなり、セ
ラミック又はガラス等の透明な材料で構成されている。
作用
本発明は上記設備によって、セラミック基板の脱バイン
ダー又は焼成をヒーターからの輻射熱を妨げることなく
、上記セラミック基板を均一に昇温することができ、不
完全な脱バインダーによる層間剥離がなく、不均一な熱
分布による収縮率のバラツキの少ない高品質のセラミッ
ク基板を得ることができる。
ダー又は焼成をヒーターからの輻射熱を妨げることなく
、上記セラミック基板を均一に昇温することができ、不
完全な脱バインダーによる層間剥離がなく、不均一な熱
分布による収縮率のバラツキの少ない高品質のセラミッ
ク基板を得ることができる。
実施例
以下本発明の一実施例について第１図を参照しながら説
明する。
明する。
１１Ｌは石英を主成分とする耐熱ガラスでできた基板の
製造設備であり、セラミック基板を置くだめの溝２ａ〜
２ｘを有する。
製造設備であり、セラミック基板を置くだめの溝２ａ〜
２ｘを有する。
この製造設備１１Ｌを使用する場合は溝２ａ〜２ｘにセ
ラミック板４を保持し、その上にセラミック基板５を配
置し、この後、ヒーター６を有する焼成炉内７に設置す
ることができるっ 以上のように構成されたセラミック基板の製造設備につ
いて、以下使用方法を説明するっまず、セラミック基板
６をのせたセラミック板を製造設備１ａに保持させる。
ラミック板４を保持し、その上にセラミック基板５を配
置し、この後、ヒーター６を有する焼成炉内７に設置す
ることができるっ 以上のように構成されたセラミック基板の製造設備につ
いて、以下使用方法を説明するっまず、セラミック基板
６をのせたセラミック板を製造設備１ａに保持させる。
次に製造設備１ａを焼成炉内に設置して、脱バインダー
又は焼成させる。
又は焼成させる。
以上のように本実施例によれば、溝を設けた支柱もしく
は板からなるランクを石英を主成分とする耐熱ガラスで
構成することにより、箱型焼成炉内のヒーター６の輻射
熱を妨げることなくセラミック多層基板の脱バインダー
又は焼成ができ、層間剥離、クラックの無い良質なセラ
ばツク多層基板の作製ができる。
は板からなるランクを石英を主成分とする耐熱ガラスで
構成することにより、箱型焼成炉内のヒーター６の輻射
熱を妨げることなくセラミック多層基板の脱バインダー
又は焼成ができ、層間剥離、クラックの無い良質なセラ
ばツク多層基板の作製ができる。
第２図は他の実施例の製造設備であり、第１図の実施例
と同様に溝３ａ〜３１にセラεツク板４を保持しその上
にセラミック基板６を配置するととにより同様の効果を
得ることができる。
と同様に溝３ａ〜３１にセラεツク板４を保持しその上
にセラミック基板６を配置するととにより同様の効果を
得ることができる。
発明の効果
以」二のように本発明は、溝を設けた支柱もしくば、板
等からなり、セラミック又はガラス等の透明の材料で構
成することにより、セラミック基板の脱バインダー又は
焼成を均一な熱分布の中で行え、層間剥離やクラックを
無くすることができる優れたセラミック基板の製造装置
を実現できるものである。
等からなり、セラミック又はガラス等の透明の材料で構
成することにより、セラミック基板の脱バインダー又は
焼成を均一な熱分布の中で行え、層間剥離やクラックを
無くすることができる優れたセラミック基板の製造装置
を実現できるものである。
第１図ム、Ｂは本発明の一実施例におけるセラミック基
板の製造装置の斜視図、第２図は上記実施例において、
焼成炉内に設置した断面図、第３図および第４図は従来
のセラばツク基板の製造装置の断面図である。 １ａ 、 １ｂ−−−−製造設備、２ａ 〜２Ｘ、３ｅ
Ｌ 〜３１・・・・・溝、４・・・・・・セラミック板
、６−＝ヒータ、７・・・・・・焼成炉。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名１１
１ 図 掻−製葭奴傷 ＱｃＬ〜’２ｘ−−二算 （Ｖ３２ ３シ〜３ｉ ｔ危鼓傳 １＝：う乏Ｅ−ノつ７Ｊ→】ｉミ を大１．′ノー！１；林 し−９
板の製造装置の斜視図、第２図は上記実施例において、
焼成炉内に設置した断面図、第３図および第４図は従来
のセラばツク基板の製造装置の断面図である。 １ａ 、 １ｂ−−−−製造設備、２ａ 〜２Ｘ、３ｅ
Ｌ 〜３１・・・・・溝、４・・・・・・セラミック板
、６−＝ヒータ、７・・・・・・焼成炉。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名１１
１ 図 掻−製葭奴傷 ＱｃＬ〜’２ｘ−−二算 （Ｖ３２ ３シ〜３ｉ ｔ危鼓傳 １＝：う乏Ｅ−ノつ７Ｊ→】ｉミ を大１．′ノー！１；林 し−９
Claims (2)
- （１）透明な材料で構成され、セラミックセッターをセ
ットできる溝を複数有するセラミック基板製造装置。 - （２）透明な材料として石英を主成分とする耐熱ガラス
を用いたことを特徴とする請求項１記載のセラミック基
板製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2135907A JPH0431369A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | セラミック基板製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2135907A JPH0431369A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | セラミック基板製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0431369A true JPH0431369A (ja) | 1992-02-03 |
Family
ID=15162620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2135907A Pending JPH0431369A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | セラミック基板製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0431369A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021509758A (ja) * | 2018-04-18 | 2021-04-01 | エルジー・ケム・リミテッド | 焼成用カートリッジ |
-
1990
- 1990-05-25 JP JP2135907A patent/JPH0431369A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021509758A (ja) * | 2018-04-18 | 2021-04-01 | エルジー・ケム・リミテッド | 焼成用カートリッジ |
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