JPH0431466A - 水溶性染料の製造方法 - Google Patents
水溶性染料の製造方法Info
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- JPH0431466A JPH0431466A JP13908490A JP13908490A JPH0431466A JP H0431466 A JPH0431466 A JP H0431466A JP 13908490 A JP13908490 A JP 13908490A JP 13908490 A JP13908490 A JP 13908490A JP H0431466 A JPH0431466 A JP H0431466A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水溶性染料の製造方法に関し、特に水溶性染
料に含まれる無機塩を効率良く脱塩、精製する方法に関
するものである。
料に含まれる無機塩を効率良く脱塩、精製する方法に関
するものである。
水溶性染料は、その製造工程で塩析が必要なため多量の
無機塩を含み、長期間の貯蔵に対して染料か沈澱しない
安定した水溶性染料の製造には、脱塩を行う必要がある
。
無機塩を含み、長期間の貯蔵に対して染料か沈澱しない
安定した水溶性染料の製造には、脱塩を行う必要がある
。
従来、無機塩を脱塩する方法としては、イオン交換樹脂
法、逆浸透法、電気透析法等が知られているが、無機塩
濃度が高いため、イオン交換樹脂法では樹脂の再生にコ
ストかががることや、電気透析法もコストがかがるため
、逆浸透法が用いられている（例えば特公昭６０−１９
９３７号公報）。
法、逆浸透法、電気透析法等が知られているが、無機塩
濃度が高いため、イオン交換樹脂法では樹脂の再生にコ
ストかががることや、電気透析法もコストがかがるため
、逆浸透法が用いられている（例えば特公昭６０−１９
９３７号公報）。
しかしかかる逆浸透法では、塩分濃度が高い染料では脱
塩効率が低下するという問題があった。
塩効率が低下するという問題があった。
即ち、従来の逆浸透法では被処理液の浸透圧の上昇によ
る膜透過流束の低下を防ぐため、予め脱イオン水で希釈
して塩分濃度を下げて処理することか必要であり、その
ため処理量が増大して脱塩効率が低下し、処理コストも
増大するという問題点かあった。 また、高圧を必要ど
するため、実用的ではなかった。
る膜透過流束の低下を防ぐため、予め脱イオン水で希釈
して塩分濃度を下げて処理することか必要であり、その
ため処理量が増大して脱塩効率が低下し、処理コストも
増大するという問題点かあった。 また、高圧を必要ど
するため、実用的ではなかった。
本発明はかかる問題点を解決するためになされたもので
あって、特定の複合半透膜で水溶性染料の溶液を処理す
ることによって、比較的塩濃度の高い水溶性染料溶液に
対しても、比較的低い処理圧力で高い膜透過流束が得ら
れ、かつ塩透過率も高く、さらに染料成分を高収率で濃
縮側に回収できることを見い出して、本発明に至ったも
のである。
あって、特定の複合半透膜で水溶性染料の溶液を処理す
ることによって、比較的塩濃度の高い水溶性染料溶液に
対しても、比較的低い処理圧力で高い膜透過流束が得ら
れ、かつ塩透過率も高く、さらに染料成分を高収率で濃
縮側に回収できることを見い出して、本発明に至ったも
のである。
即ち本発明は、無機塩を含む水溶性染料の溶液を、スル
ホン酸基を有して溶質分離活性を有するスキン層が支持
膜上に一体的に積層されてなる複合半透膜に接触させて
、無機塩を脱塩することを特徴とする水溶性染料の製造
方法を提供する。
ホン酸基を有して溶質分離活性を有するスキン層が支持
膜上に一体的に積層されてなる複合半透膜に接触させて
、無機塩を脱塩することを特徴とする水溶性染料の製造
方法を提供する。
本発明か適用される水溶性染料には、直接、酸性、塩基
性、含金属酸性、反応染料などが挙げられるが、特に直
接、酸性、反応染料に好ましく適用される。
性、含金属酸性、反応染料などが挙げられるが、特に直
接、酸性、反応染料に好ましく適用される。
またかかる水溶性染料の原料溶液に含まれる無機塩とは
、合成および塩析によって生じるアルキル金属塩、例え
ば塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム等で
ある。 本発明は、その濃度に限定されないが、無機塩
の濃度が比較的高い場合に特に好適に用いられ、通常１
重量９６以上、好ましくは３重量９６以上である。 無
機塩の濃度が高いほと、膜の塩透過率が大きくなり、染
料成分との分離が容易となる。
、合成および塩析によって生じるアルキル金属塩、例え
ば塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム等で
ある。 本発明は、その濃度に限定されないが、無機塩
の濃度が比較的高い場合に特に好適に用いられ、通常１
重量９６以上、好ましくは３重量９６以上である。 無
機塩の濃度が高いほと、膜の塩透過率が大きくなり、染
料成分との分離が容易となる。
本発明の方法において用いる複合半透膜は、スルホン酸
基を有して溶質分離活性を有するスキン層が支持膜上に
一体的に積層されてなるものである。 ここで上記スキ
ン層は、そのスルホン酸基が全イオン交換基の大部分、
好ましくは７０％以上、特に好ましくは９０％以上であ
る重合体からなるものが望ましい。 スルホン酸基が全
イオン交換基のうち上記範囲にある限りは、残余のイオ
ン交換基、例えばカルボン酸基であってもよい。
基を有して溶質分離活性を有するスキン層が支持膜上に
一体的に積層されてなるものである。 ここで上記スキ
ン層は、そのスルホン酸基が全イオン交換基の大部分、
好ましくは７０％以上、特に好ましくは９０％以上であ
る重合体からなるものが望ましい。 スルホン酸基が全
イオン交換基のうち上記範囲にある限りは、残余のイオ
ン交換基、例えばカルボン酸基であってもよい。
本発明において特に好適に用いることができる複合半透
膜として、特開昭６１−４５０５号及び特開昭６１−４
５０６号に記載されているように、繰返し単位よりなる
ボリアリールエーテル、又は上記繰返し単位へと繰返し
単位Ｂ （但し、Ｒは−Ｃ叶又は−ＳＯ□−を示し、Ｒ゛は炭素
間結合、又は−〇〇−又は−ＳＯ□−を含む２価基を示
す。）よりなる線状ボリアリールエーテル共重合体を、
スルホン化してなるスルホン化ポリアリールエーテルか
らなるスキン層が、支持膜としての限外濾過膜上に一体
に積層されてなる複合半透膜を挙げることができる。
膜として、特開昭６１−４５０５号及び特開昭６１−４
５０６号に記載されているように、繰返し単位よりなる
ボリアリールエーテル、又は上記繰返し単位へと繰返し
単位Ｂ （但し、Ｒは−Ｃ叶又は−ＳＯ□−を示し、Ｒ゛は炭素
間結合、又は−〇〇−又は−ＳＯ□−を含む２価基を示
す。）よりなる線状ボリアリールエーテル共重合体を、
スルホン化してなるスルホン化ポリアリールエーテルか
らなるスキン層が、支持膜としての限外濾過膜上に一体
に積層されてなる複合半透膜を挙げることができる。
上記スルホン化ポリアリールエーテルは、その００５ｇ
をＮ−メチル−２−ピロリドン１００ｍ１に溶解した溶
液について、３０℃の温度において測定した対数粘度が
０．２以上であり、かつイオン交換基が２．３ミリ当量
／ｇ以下であることが望ましい。 イオン交換基が２．
３ミリ当＃／ｇを超えるときは、スルホン化ポリアリー
ルエーテルが水溶性を有するに至り、水溶液を処理する
ための素材としては不適当であり、また対数粘度が０．
２よりも小さいときは、ピンホール等の欠陥のない均一
なスキン層に製膜することか困難となる。 またスキン
層の厚みは１０μｍ以下が好ましい。
をＮ−メチル−２−ピロリドン１００ｍ１に溶解した溶
液について、３０℃の温度において測定した対数粘度が
０．２以上であり、かつイオン交換基が２．３ミリ当量
／ｇ以下であることが望ましい。 イオン交換基が２．
３ミリ当＃／ｇを超えるときは、スルホン化ポリアリー
ルエーテルが水溶性を有するに至り、水溶液を処理する
ための素材としては不適当であり、また対数粘度が０．
２よりも小さいときは、ピンホール等の欠陥のない均一
なスキン層に製膜することか困難となる。 またスキン
層の厚みは１０μｍ以下が好ましい。
また上記スキン層を支持する限外濾過膜は特に限定され
ないか、好ましくはポリスルホンからなる限外濾過膜、
例えば次式〇の繰返し単位からなる限外濾過膜が好まし
く用いられる。 この限外濾過膜は、その分画分子量が
１０００〜２０００００の範囲にあるものか好ましく、
特に１０００００程度のものが良い。
ないか、好ましくはポリスルホンからなる限外濾過膜、
例えば次式〇の繰返し単位からなる限外濾過膜が好まし
く用いられる。 この限外濾過膜は、その分画分子量が
１０００〜２０００００の範囲にあるものか好ましく、
特に１０００００程度のものが良い。
本発明においては前記の特定の複合半透膜を用いるため
、スキン層のスルホン酸基に基づく親水性ゆえに、さら
に複合膜に基づく高透水性ゆえに、比較的高濃度の水溶
性染料の原料溶液に対しても、比較的低い処理圧力で高
い膜透過流束が得られ、しかも高い造塩率を有しながら
、染料の高阻止率を示すため、効率のよい脱塩、精製が
できるという利点がある。
、スキン層のスルホン酸基に基づく親水性ゆえに、さら
に複合膜に基づく高透水性ゆえに、比較的高濃度の水溶
性染料の原料溶液に対しても、比較的低い処理圧力で高
い膜透過流束が得られ、しかも高い造塩率を有しながら
、染料の高阻止率を示すため、効率のよい脱塩、精製が
できるという利点がある。
以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
定されるものではない。
実施例１
膜性能が、０．２重量％塩化ナトリウム水溶液を２５℃
、１０ｋｇｆ／ａｄの条件下にて処理したときの阻止率
か５０％、透過流束が２．５ ｒｎ’／ ｎ（／日であ
るスルホン化ボリアリールエーテルからなるスキン層を
備えた複合半透膜を用いて、染料濃度が２．６重量％、
無機塩濃度は例えば硫酸ナトリウムを取り上げると１．
０重量％である水溶性染料の原料溶液を、２５°Ｃ１操
作圧力１０ｋｇｆ／ｃｎｒて２倍濃縮を行った。
、１０ｋｇｆ／ａｄの条件下にて処理したときの阻止率
か５０％、透過流束が２．５ ｒｎ’／ ｎ（／日であ
るスルホン化ボリアリールエーテルからなるスキン層を
備えた複合半透膜を用いて、染料濃度が２．６重量％、
無機塩濃度は例えば硫酸ナトリウムを取り上げると１．
０重量％である水溶性染料の原料溶液を、２５°Ｃ１操
作圧力１０ｋｇｆ／ｃｎｒて２倍濃縮を行った。
その結果を表に示す。 ここて造塩率とは、透過液の塩
絶対量 造塩率＝ Ｘ１００ （％）原
液の塩絶対量 である。
絶対量 造塩率＝ Ｘ１００ （％）原
液の塩絶対量 である。
実施例２
膜性能が、０．２重量％塩化ナトリウム水溶液を２５°
Ｃ，５ｋｇｆ／ｃｄの条件下にて処理したときの阻止率
が１０％、透過流束が４．５ ｒｎ’／ ｒｒｌ”／日
であるスルホン化ポリアリールエーテルからなるスキン
層を備えた複合半透膜を用いて、実施例１と同じ水溶性
染料の原料溶液を、同条件下で２倍濃縮を行った結果を
、表に併せて示す。
Ｃ，５ｋｇｆ／ｃｄの条件下にて処理したときの阻止率
が１０％、透過流束が４．５ ｒｎ’／ ｒｒｌ”／日
であるスルホン化ポリアリールエーテルからなるスキン
層を備えた複合半透膜を用いて、実施例１と同じ水溶性
染料の原料溶液を、同条件下で２倍濃縮を行った結果を
、表に併せて示す。
実施例３
実施例１と同様の複合半透膜を用いて、染料濃度が１０
重量％、無機塩濃度は例えば塩化ナトリウムを取り上げ
ると２．４重量％である水溶性染料の原料溶液を、２５
°Ｃ１操作圧カ１０ｋｇｆ／ｃｆｆｌ で３倍濃縮を行
った結果を、表に併せて示す。
重量％、無機塩濃度は例えば塩化ナトリウムを取り上げ
ると２．４重量％である水溶性染料の原料溶液を、２５
°Ｃ１操作圧カ１０ｋｇｆ／ｃｆｆｌ で３倍濃縮を行
った結果を、表に併せて示す。
比較例
膜性能が、０．２重量％塩化ナトリウム水溶液を２５°
Ｃ１２Ｃ１２Ｏ／ａｄの条件下にて処理したときの阻止
率が５０％、透過流束か１゜５ｒｒｉ’／ｒｒ？／日で
あるアセチルセルロースからなる非対称性半透膜を用い
て、実施例１と同じ水溶性染料の原料溶液を、同条件下
で２倍濃縮を行った結果を、表に併せて示す。
Ｃ１２Ｃ１２Ｏ／ａｄの条件下にて処理したときの阻止
率が５０％、透過流束か１゜５ｒｒｉ’／ｒｒ？／日で
あるアセチルセルロースからなる非対称性半透膜を用い
て、実施例１と同じ水溶性染料の原料溶液を、同条件下
で２倍濃縮を行った結果を、表に併せて示す。
表から明らかなように、本発明の方法は水溶性染料の原
料溶液の脱塩、精製に好適であることがわかる。
料溶液の脱塩、精製に好適であることがわかる。
（以下余白 ）
Claims (1)
- （１）無機塩を含む水溶性染料の溶液を、スルホン酸基
を有して溶質分離活性を有するスキン層が支持膜上に一
体的に積層されてなる複合半透膜に接触させて、無機塩
を脱塩することを特徴とする水溶性染料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13908490A JP2865381B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 水溶性染料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13908490A JP2865381B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 水溶性染料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0431466A true JPH0431466A (ja) | 1992-02-03 |
| JP2865381B2 JP2865381B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=15237115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13908490A Expired - Lifetime JP2865381B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 水溶性染料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2865381B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62117075A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像処理装置 |
| CN111234561A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-06-05 | 浙江大学滨海产业技术研究院 | 一种储存稳定的活性液体染料的制备 |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP13908490A patent/JP2865381B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62117075A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像処理装置 |
| CN111234561A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-06-05 | 浙江大学滨海产业技术研究院 | 一种储存稳定的活性液体染料的制备 |
| CN111234561B (zh) * | 2020-03-13 | 2021-08-20 | 浙江大学滨海产业技术研究院 | 一种储存稳定的活性液体染料的制备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2865381B2 (ja) | 1999-03-08 |
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