JPH04314878A - 湿式処理装置 - Google Patents
湿式処理装置Info
- Publication number
- JPH04314878A JPH04314878A JP6577191A JP6577191A JPH04314878A JP H04314878 A JPH04314878 A JP H04314878A JP 6577191 A JP6577191 A JP 6577191A JP 6577191 A JP6577191 A JP 6577191A JP H04314878 A JPH04314878 A JP H04314878A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- filter
- tank
- temperature
- liquid
- Prior art date
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- Pending
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液体により固体材料
の例えばエッチングなどの処理を行う湿式処理装置に関
するものである。
の例えばエッチングなどの処理を行う湿式処理装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来の湿式処理装置の構成図であ
り、エッチング装置の場合を示す。図において、１は処
理槽としてのエッチング槽、２はエッチング槽１内に充
たされて図示しない固体材料の処理を行う液体であるエ
ッチング液、３はエッチング槽１内に設けられてエッチ
ング液２を加熱するヒーター、４はエッチング槽１に隣
接して設けられたオーバーフロー槽、５はエッチング液
２を循環させるポンプ、６は微粒子を除去できるフィル
ター、７はオーバーフロー槽４、ポンプ５、フィルター
６およびエッチング槽１を順次接続する配管である。
り、エッチング装置の場合を示す。図において、１は処
理槽としてのエッチング槽、２はエッチング槽１内に充
たされて図示しない固体材料の処理を行う液体であるエ
ッチング液、３はエッチング槽１内に設けられてエッチ
ング液２を加熱するヒーター、４はエッチング槽１に隣
接して設けられたオーバーフロー槽、５はエッチング液
２を循環させるポンプ、６は微粒子を除去できるフィル
ター、７はオーバーフロー槽４、ポンプ５、フィルター
６およびエッチング槽１を順次接続する配管である。
【０００３】次に動作について説明する。オーバーフロ
ー槽４へ流出するまでエッチング液２をエッチング槽１
に充たす。エッチング液２はエッチング処理に適した温
度に加熱するのが好ましいが、フィルター６の構成材料
の耐熱温度以下で用いなければならない。フィルター６
の材料としては耐熱性の高いテフロンが一般によく使用
されているが、それでも １５０℃ぐらい以下で用いる
必要がある。したがって、ヒーター３によりエッチング
液２を上記耐熱温度以下の範囲で加熱してエッチングを
行なう。
ー槽４へ流出するまでエッチング液２をエッチング槽１
に充たす。エッチング液２はエッチング処理に適した温
度に加熱するのが好ましいが、フィルター６の構成材料
の耐熱温度以下で用いなければならない。フィルター６
の材料としては耐熱性の高いテフロンが一般によく使用
されているが、それでも １５０℃ぐらい以下で用いる
必要がある。したがって、ヒーター３によりエッチング
液２を上記耐熱温度以下の範囲で加熱してエッチングを
行なう。
【０００４】エッチング槽１からオーバーフロー槽４へ
流出したエッチング液２はポンプ５により配管７を通っ
てフィルター６へ送られる。エッチング処理で生じた微
粒子などをフィルター６で除去し、ろ過されたエッチン
グ液２がエッチング槽１へ戻される。図中の矢印はエッ
チング液２の流れる向きを示す。このように、エッチン
グ液２は循環ろ過して用いられる。
流出したエッチング液２はポンプ５により配管７を通っ
てフィルター６へ送られる。エッチング処理で生じた微
粒子などをフィルター６で除去し、ろ過されたエッチン
グ液２がエッチング槽１へ戻される。図中の矢印はエッ
チング液２の流れる向きを示す。このように、エッチン
グ液２は循環ろ過して用いられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の湿式処理装置は
以上のように構成されているので、処理を行う液体の温
度をフィルターの耐熱温度以下にする必要があり、した
がって、例えば熱リン酸のように高温で使用するのが適
当である場合においても十分に温度を上げることができ
ない。そのため、処理速度が低下して処理時間が長くな
るなどの問題点があった。
以上のように構成されているので、処理を行う液体の温
度をフィルターの耐熱温度以下にする必要があり、した
がって、例えば熱リン酸のように高温で使用するのが適
当である場合においても十分に温度を上げることができ
ない。そのため、処理速度が低下して処理時間が長くな
るなどの問題点があった。
【０００６】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、処理槽内の液体の温度を、処理
に適当な温度まで上げながら、かつ、フィルターへはそ
の耐熱温度以下の温度の液体を送ることができる湿式処
理装置を得ることを目的とする。
ためになされたもので、処理槽内の液体の温度を、処理
に適当な温度まで上げながら、かつ、フィルターへはそ
の耐熱温度以下の温度の液体を送ることができる湿式処
理装置を得ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る湿式処理
装置は、処理槽からフィルターまでの間に冷却器を設け
たものである。
装置は、処理槽からフィルターまでの間に冷却器を設け
たものである。
【０００８】
【作用】この発明における湿式処理装置は、処理槽から
送られてくる高温のエッチング液の温度を、冷却器によ
りフィルターの耐熱温度以下まで下げてフィルターへ送
る。
送られてくる高温のエッチング液の温度を、冷却器によ
りフィルターの耐熱温度以下まで下げてフィルターへ送
る。
【０００９】
実施例１．図１はこの発明の一実施例による湿式処理装
置の構成図であり、エッチング装置の場合を示す。図に
おいて、１〜７は図２の場合と同様であるので説明を省
略する。８はオーバーフロー槽４からポンプ５までの間
に設けられた冷却器である。なお、冷却器８が設けられ
る位置に関して「〜から〜までの間」とは処理を行う液
体、すなわちエッチング液２の流れる向きに沿って言う
ものとする。
置の構成図であり、エッチング装置の場合を示す。図に
おいて、１〜７は図２の場合と同様であるので説明を省
略する。８はオーバーフロー槽４からポンプ５までの間
に設けられた冷却器である。なお、冷却器８が設けられ
る位置に関して「〜から〜までの間」とは処理を行う液
体、すなわちエッチング液２の流れる向きに沿って言う
ものとする。
【００１０】次に動作について説明する。エッチング槽
１内のエッチング液２をヒーター３により、エッチング
処理に適当な温度まで加熱してエッチング処理を行う。 したがってエッチングは短い時間で行うことができる。 エッチング槽１から流出したエッチング液２は、冷却器
８によりフィルター６の耐熱温度以下まで冷却され、し
かる後にフィルター６へ送られる。フィルター６を出た
エッチング液２はエッチング槽１へ戻される。
１内のエッチング液２をヒーター３により、エッチング
処理に適当な温度まで加熱してエッチング処理を行う。 したがってエッチングは短い時間で行うことができる。 エッチング槽１から流出したエッチング液２は、冷却器
８によりフィルター６の耐熱温度以下まで冷却され、し
かる後にフィルター６へ送られる。フィルター６を出た
エッチング液２はエッチング槽１へ戻される。
【００１１】なお、上記実施例では冷却器８をオーバー
フロー槽４からポンプ５までの間に設けたが、冷却器８
をポンプ５からフィルター６までの間に設けたり、ある
いは、冷却器８、フィルター６、ポンプ５の順に設けて
もよい。また、エッチング装置の例を示したが、酸、ア
ルカリ、有機溶媒を用いて洗浄や前処理などを行う場合
にも適用できる。
フロー槽４からポンプ５までの間に設けたが、冷却器８
をポンプ５からフィルター６までの間に設けたり、ある
いは、冷却器８、フィルター６、ポンプ５の順に設けて
もよい。また、エッチング装置の例を示したが、酸、ア
ルカリ、有機溶媒を用いて洗浄や前処理などを行う場合
にも適用できる。
【００１２】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、処理
槽からフィルターまでの間に冷却器を設けるように構成
したので、処理槽内の液体の温度を処理に適当な温度ま
で上げながら、かつ、フィルターへはその耐熱温度以下
まで液体の温度を下げて送ることができる。
槽からフィルターまでの間に冷却器を設けるように構成
したので、処理槽内の液体の温度を処理に適当な温度ま
で上げながら、かつ、フィルターへはその耐熱温度以下
まで液体の温度を下げて送ることができる。
【図１】この発明の一実施例による湿式処理装置を示す
構成図である。
構成図である。
【図２】従来の湿式処理装置を示す構成図である
１ エッチング槽
２ エッチング液
３ ヒーター
５ ポンプ
６ フィルター
８ 冷却器
Claims (1)
- 【請求項１】 加熱された液体により処理槽内で固体
材料を処理するとともに、上記液体をフィルターへ送っ
てろ過し、このろ過された液体を上記処理槽へ戻す湿式
処理装置において、上記処理槽からフィルターまでの間
に、上記液体を冷却する冷却器を設けたことを特徴とす
る湿式処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6577191A JPH04314878A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 湿式処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6577191A JPH04314878A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 湿式処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04314878A true JPH04314878A (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=13296625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6577191A Pending JPH04314878A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 湿式処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04314878A (ja) |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6577191A patent/JPH04314878A/ja active Pending
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