JPH04316563A - 紫外線吸収剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【技術分野】本発明は、新規な耐熱性紫外線吸収剤に関
する。

【０００２】

【従来技術】従来、２−（２′−ヒドロキシフェニル）
ベンゾトリアゾール類よりなる紫外線吸収剤は各種有機
材料に対して有効であることがよくしられている。たと
えば、特公昭３８−７８６３号および特公昭４２−４７
８６号公報には２−（２′，４′−ジヒドロキシフェニ
ル）−ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−
４′−オクトキシフェニル）−ベンゾトリアゾールが、
特開昭５０−１０９９５２号公報には、２−（２′，４
′−ジヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリ
アゾールが開示されており、また、２−（２′−ヒドロ
キシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾ
ール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５
′−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾー
ルなどが市販されている。しかしながら、これら２−（
２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール類の
多くは、高分子材料を加熱加工する際に分解または揮散
し、逃失する欠点があった。

【０００３】

【目的】本発明の目的は、高分子材料から揮散、逃失す
ることなく、しかも、工業的に製造が容易である２−（
２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤を提供する点にある。

【０００４】

【構成】そこで、本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果
、２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾ
ール類のなかでも、おどろくべきことに耐熱性がすぐれ
、工業的に製造が容易な化合物であり、しかもこれがす
ぐれた紫外線吸収能をもつことを発明し、本発明を完成
させるに至ったものである。すなわち、本発明は、一般
式

【化２】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２
０、好ましくは１〜８のアルキル基またはアルコキシ基
、Ｒ２は炭素数１６〜２４のアルキル基を表わす。）で
示される化合物を有効成分として含有する紫外線吸収剤
に関する。一般式においてＲ１で示されるハロゲン原子
は、塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好
ましい。アルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、
オクチル等があげられる。アルコキシ基としては、メト
キシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二ブト
キシ、オクトキシ等があげられる。またＲ２は炭素数が
大きいほど耐熱性が向上する。

【０００５】本発明の紫外線吸収剤は、合成樹脂や合成
ゴムに添加して安定な組成物をつくることができる。こ
れら合成樹脂、合成ゴムとしては、例えば、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリ
ル、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、不飽和
ポリエステル、アルキッド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂
、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ＳＢＲ、ＮＢＲ等を挙げることができる。本発明
の紫外線吸収剤を添加した高分子材料は、従来の紫外線
吸収剤に比べて高分子材料を加熱加工する際に分解また
は揮散、逃失しにくいので、長期間にわたって優れた耐
光安定性を有し、たとえば、塗料や耐熱性材料の分野に
特に適している。本発明の紫外線吸収剤は、本発明のも
のを単独であるいは２種以上混合して使用することがで
きる。

【０００６】勿論、従来公知の下記の紫外線吸収剤酸化
防止剤、光安定剤等と併用することもできる。紫外線吸
収剤としては、たとえば、 ２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン２−ヒドロキシ−４−オ
クトキシベンゾフェノン２−ヒドロキシ−４−ドデシロ
キシベンゾフェノン２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキ
シベンゾフェノン２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン２，２′，４，４′−テトヒドロキシ
ベンゾフェノン２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジ
メトキシベンゾフェノン のようなベンゾフェノン系紫外線吸収剤、２−（２′−
ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾ
ール ２−（２′ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール２−（２′−
ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル
）−５−クロロベンゾトリアゾール２−（２′−ヒドロ
キシ−３′，５′−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾ
トリアゾール ２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）−ベンゾトリアゾール ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）
−ベンゾトリアゾール ２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル
）−ベンゾトリアゾール のようなベンゾアリアゾール系紫外線吸収剤、フェニル
サリチレート ｔ−ブチルフェニルサリチレート のようなサリチレート系紫外線吸収剤、等があげられる
。

【０００７】酸化防止剤としては、たとえば、２，６−
ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール２−ｔ−ブチル
−４，６−ジメチルフェノール２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−メトキシフェノールのようなアルキルフェノール
類、 ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール２，
５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノンのようなアルキル化
ハイドロキノン類、４，４′−チオビス−（３−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール） ２，２′−チオビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール） ４，４′−チオビス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール） ２，２′−チオビス−（４−オクチルフェノール）のよ
うなチオビスフェノール類、 ２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール） ２，２′−エチリデンビス−（４，６−ジ−ｔ−ブチル
フェノール） ４，４′−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル
フェノール） １，１，３−トリス−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）−ブタン のようなアルキリデンビスフェノール類、等があげられ
る。また、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリ
ス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン、ステアリル−チオプロピオ　　アミド、
２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３′，５′−ジ−ｔ
−ブチル−４′−ヒドロキシベンゾアート、などの酸化
防止剤も併用できる。

【０００８】光安定剤としては、たとえば、ビス−（２
，２，６，６−テトラメチル−ピペリジル）セバケート ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジ
ン）セバケート ４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４
−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン重縮合物 ポリ〔｛６−（１，１，３，３−テシラメチルブチル）
イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イ
ミノ｝ヘキサメチレン｛２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）イミノ｝〕 ８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オ
クチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕ウンデ
カン−２，４−ジオン のようなヒンダードアミン類があげられる。その他安定
剤としては、たとえば、〔２，２−チオ−ビス−（４−
ｔ−オクチルフェノラート）〕−ｎ−ブチルアミン−ニ
ッケル（ＩＩ） のようなニッケル化合物があげられる。また、本発明の
紫外線吸収剤は、たとえば、可塑剤、乳化剤、潤滑剤、
顔料、けい光増白剤、難燃剤、帯電防止剤等と併用する
ことができる。

【０００９】つぎに本発明化合物の合成例を示す。 合成例１

【化３】 Ｏ−ニトロアニリン類をジアゾ化し、常法によりレゾル
シンモノエーテルとカップリングしてニトロアゾ化合物
をつくり、これを還元して本発明の目的化合物とする。

【００１０】合成例２

【化４】 Ｏ−ニトロアニリン類をジアゾ化し、常法によりレゾル
シンとカップリングしてニトロアゾ化合物を得、これを
還元して２−（２′，４′−ジヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール類とし、これにエーテル化剤（式中、
Ｘはハロゲン原子、アルキルまたはアリールスルホネー
ト等のエーテル化剤残基を示す。）を反応させて、本発
明目的化合物とする。

【００１１】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではな
い。 実施例１ メチルエチルケトン７０ｍｌ、メチルセロソルブ３０ｍ
ｌ、２−（２′，４′−ジヒドロキシフェニル）−５−
クロロ−ベンゾトリアゾール５２．３ｇ、臭化セチル７
３．３ｇ、炭酸ナトリウム１３．８ｇ、ヨウ化カリウム
１．０ｇ、ジメチルホルムアミド２．０ｇを仕込み、１
時間かけて９２℃まで昇温させ、３時間反応させた。さ
らに、溶媒を改修することでゆっくり昇温させ、７時間
後１３０℃にした。冷却後、トルエン４００ｍｌ、水１
００ｍｌを加え、希硫酸でｐＨ４にした。分液後、トル
エン層を水洗し、トルエンを留去した残渣に、イソプロ
ピルアルコール４００ｍｌ、トルエン５０ｍｌを加え、
再結晶し、２−（２′−ヒドロキシ−４′−ヘキサデシ
ルオキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール
を収量６９．４ｇで得た。融点９５．８−９６．７℃。

【００１２】実施例２〜６ 次表に列記された化合物は、実施例１と同様にして製造
される。

【化５】

【化６】

【００１３】実施例７ 実施例１〜６の化合物についての熱重量分析の結果を表
１に示す。分析は空気中、昇温１０℃／ｍｉｎで行なっ
た。また、同じ条件で比較例１〜５の化合物（市販品、
特に比較例５の化合物は耐熱性の良い紫外線吸収剤とし
て知られている）についても行なった。

【表１】 　　表１に示した結果から明らかに、本発明の化合物は
市販されている比較例の化合物に比べて著しく優れた熱
安定性を示すことがわかる。

【００１４】実施例８ 実施例１の化合物をポリプロピレンに対して０．０５重
量％（サンプルＡ）、ビス−（２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジル）セバケート０．０５重量％（サンプ
ルＢ）、実施例１の化合物０．０２５％、ビス−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート０．
０２５％をそれぞれ添加したもの（サンプルＣ）につい
てテストシートを１８０℃で作成した。折り曲げライフ
を測定することでウェザーメーター劣化試験を行なった
。

【表２】 　　明らかに実施例１の化合物は添加しないものに比べ
てポリプロピレンを安定化した。また、ビス−（２，２
，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケートと相乗
効果があった。

【００１５】実施例９ 実施例２の化合物をポリエチレンテレフタレートに対し
て０．５重量％を添加し、２８０℃で撹拌溶融した。冷
却後、得られた塊は、十分紫外線を吸収し、紫外線不透
過性物質を製造することができる。

【００１６】

【効果】本発明の紫外線吸収剤は、紫外線吸収能は従来
品と較べて優るとも劣らないだけでなく、おどろくべき
ことに、従来品に較べて、実施例７に示すとおりその消
失温度がいちじるしく高いので、最近の耐熱特性が求め
られている電子部品、自動車部品などの用途に用いられ
る合成樹脂成形品の紫外線安定剤として極めて有用であ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式 【化１】 （式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２
   ０のアルキル基またはアルコキシ基、Ｒ２は炭素数１６
   〜２４のアルキル基を表わす。）で示される化合物を有
   効成分として含有する紫外線吸収剤。