JPH04318025A - ポリアミック酸樹脂 - Google Patents

ポリアミック酸樹脂

Info

Publication number
JPH04318025A
JPH04318025A JP17629091A JP17629091A JPH04318025A JP H04318025 A JPH04318025 A JP H04318025A JP 17629091 A JP17629091 A JP 17629091A JP 17629091 A JP17629091 A JP 17629091A JP H04318025 A JPH04318025 A JP H04318025A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
dianhydride
mol
resin composition
polyamic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17629091A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2938227B2 (ja
Inventor
Takuya Tochimoto
卓哉 栃本
Toshio Nakao
中尾 俊夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP3176290A priority Critical patent/JP2938227B2/ja
Publication of JPH04318025A publication Critical patent/JPH04318025A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2938227B2 publication Critical patent/JP2938227B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特にフレキシブルプリ
ント基板に適したポリアミック酸樹脂組成物に関するも
のであり、さらに詳しくは、2種または3種の芳香族テ
トラカルボン酸二無水物と2種またはそれ以上の芳香族
ジアミン成分とからなるポリアミック酸樹脂組成物に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】ポリイミドは高耐熱性ポリマーとして広
く知られているが、その分子骨格が剛直なために成形性
に欠点があった。また、近年の電子、電気工業の発展に
伴い、通信用、民生用機器の実装方式は、軽量で立体的
に実装できるフレキシブルプリント回路基板が広く使用
されている。このフレキシブルプリント回路基板には現
在広くポリイミドフィルムが使用されている。この場合
、ポリイミドフィルムに要求される性能として耐熱性、
金属箔との接着力、金属箔との熱膨張係数の一致、電気
絶縁性などがある。これまでに種々のポリイミドが開発
されているが、耐熱性に優れるものは金属との接着力が
劣り、一方接着力に優れるものは、熱膨張係数が金属箔
と比べると大きく、基板にロールを生じるなどの欠点が
あった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐熱性、金
属箔との接着力に優れ、さらに熱膨張係数の値が金属箔
の値に近いポリイミド樹脂を得ようとして研究した結果
得られたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、3,3’,4
,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下B
PDAと略す)を必須成分とし、3,3’,4,4’−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下BTD
Aと略す)および/またはビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)エーテル二無水物(以下ODPAと略す)を
0〜50モル%含む酸二無水物成分と、一般式(I)

0005】
【化2】
【0006】で表される芳香族ジアミンの1種またはそ
れ以上と1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン(以下APBと略す)との比が70:30〜90:1
0である芳香族ジアミンからなり、酸成分とジアミン成
分のモル比が0.9〜1.1であるポリアミック酸樹脂
組成物に関するものである。
【0007】
【作用】本発明において用いられるポリアミック酸溶液
は、N−メチル−2−ピロリドン、(以下NMPと略す
)、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ク
レゾール等の溶媒中で、芳香族カルボン酸二無水物成分
と芳香族ジアミン成分とを攪拌することにより得ること
ができる。芳香族カルボン酸二無水物成分と芳香族ジア
ミン成分のモル比は、0.90〜1.10が好ましく、
さらに好ましくは0.97〜0.99である。酸成分と
アミン成分のモル比が上述の範囲を外れると、生成する
ポリイミドの分子量が小さくなり、生成物の物性が低下
する。特に耐熱性を考慮する場合は、ジアミン成分過剰
で反応する方が望ましい。
【0008】本発明のポリアミック酸中で用いられる酸
成分としては、BPDA、BTDA、ODPAなどがあ
る。BPDAのモル含量は、酸成分中の50モル%以上
が好ましく、特に好ましくは70〜80モル%である。 BTDAとODPAのモル比は、100:0〜0:10
0の範囲で任意に使用することができるが、90:10
〜50:50が好ましく、特に好ましくは80:20〜
70:30である。BPDAを必須成分として合成され
る樹脂組成物は、BTDA、ODPAと共重合体にする
ことにより、接着性をさらに向上させることができる。
【0009】一般式(I)で表わされる芳香族ジアミン
としては、p−フェニレンジアミン(以下PPDと略す
)、m−フェニレンジアミン(以下MPDと略す)、2
,4−トリレンジアミン(以下2,4−TDAと略す)
、1,4−ジメチル−2,5−ジアミノベンゼン(以下
25DPXと略す)などがある。これらの1種またはそ
れ以上とAPBの比は、70:30〜95:5が好まし
く、特に好ましくは75:25〜90:10である。A
PBをこの範囲で添加することにより、接着力を向上さ
せることができる。APBの添加量が30モル%を起え
ると接着力は向上するが、耐熱性が低下し、また熱膨張
係数も大きくなる。一般式(I)で表わされる芳香族ジ
アミンのうち、p−フェニレンジアミンの添加量はジア
ミン成分全量の20〜70モル%が好ましく、特に好ま
しくは30〜60モル%である。PPD添加量の増加と
ともにポリイミドフィルムの耐熱性は向上し、熱膨張係
数の値は小さくなる。一方、接着力は低下する。
【0010】本発明のポリアミック酸樹脂組成物は、銅
箔、アルミニウム箔等の金属箔へ塗布し、これを乾燥硬
化させることによりプリント回路基板を得ることができ
る。また、ガラスクロス等の基板に含浸してプリプレグ
とすることも可能である。これら基材に塗布した樹脂組
成物の乾燥温度は、通常80〜380℃であり、この温
度範囲で10〜180分間加熱することによってプリン
ト回路基板を得ることが出来る。
【0011】本発明の樹脂組成物は、金属とポリイミド
等のプラスチックの接着に用いることもでき、また金属
同志、プラスチック同志の接着性にも優れている。また
、耐熱性に優れていることから、接着層を持たないポリ
イミドと金属箔とから構成される2層のフレキシブルプ
リント回路基板のポリイミド側同志を貼合わせることに
より、その両面板を得ることも出来る。さらに銅箔同志
を貼合わせることによっても両面フレキシブルプリント
回路基板を得ることが出来る。また、高耐熱性のフィル
ムカバーコート用の接着剤としても用いることが出来る
【0012】
【実施例】
(実施例1)攪拌機、温度計、窒素導入管、還流冷却管
を備えた4ツ口ラスコヘジアミン成分として、PPD3
.24g(0.03モル)、25DPX8.17g(0
.06モル)、APB2.94g(0.01モル)を加
え、NMPを100g添加し、窒素気流下、室温で充分
に攪拌し、ジアミン成分を溶解した。次いで、BPDA
20.18g(0.07モル)、BTDA9.47g(
0.03モル)を徐々に添加し、NMPを75g加え、
室温で4時間攪拌した。ここへエタノール75gを加え
、さらに1時間攪拌した。得られた溶液の還元粘度(樹
脂0.5gを100mlのNMPへ溶解し、30℃の恒
温槽中で測定)は0.5であり、樹脂含量は15重量%
であった。この樹脂溶液を乾燥後の厚みが25μmにな
る様に厚さ35μmの銅箔上へ塗布し、100℃/1時
間、350℃/1時間乾燥し、フレキシブル基板を得た
【0013】(実施例2)ジアミン成分として、PPD
5.41g(0.05モル)、MPD4.33g(0.
04モル)、APB2.92g(0.01モル)、酸成
分として、BPDA20.18g(0.07モル)、O
DPA9.12g(0.03モル)を用い、実施例1と
同様の装置および方法でフレキシブル基板を得た。
【0014】(実施例3)ジアミン成分として、PPD
7.75g(0.07モル)、2,4−TDA2.44
g(0.02モル)、APB2.92g(0.01モル
)、酸成分として、BPDA20.18g(0.07モ
ル)、BTDA6.32g(0.02モル)、ODPA
3.04g(0.01モル)を用い、実施例1と同様の
装置および方法でフレキシブル基板を得た。
【0015】(比較例1)ジアミン成分として、25D
PX6.81g(0.05モル)、APB14.62g
(0.05モル)、酸成分として、BPDA20.18
g(0.07モル)、BTDA9.47g(0.03モ
ル)を用い、実施例1と同様の装置および方法でフレキ
シブル基板を得た。
【0016】(比較例2)ジアミン成分として、PPD
7.57g(0.07モル)、24TDA3.67g(
0.03モル)、酸成分として、BTDA22.56g
(0.07モル)、ODPA9.12g(0.03モル
)を用い、実施例1と同様の装置および方法でフレキシ
ブル基板を得た。
【0017】以上、実施例1、2、3及び比較例1、2
で得られたフレキシブル基板及びそのフィルムを評価し
た結果を表1に示す。実施例の樹脂組成物を用いたフレ
キシブル基板は、比較例と比べ、ピール強度、熱膨張係
数にバランスのとれた優れた値を示した。
【0018】
【表1】
【0019】
【発明の効果】本発明により得られたポリイミド樹脂は
、耐熱性、金属箔との接着性に優れ、さらに熱膨張係数
の値が金属箔に近いものである。これを用いることによ
り、従来のポリイミド樹脂に比べ、接着性、寸法安定性
、耐熱性に優れたフレキシブル基板を得ることができる
。また、プリプレグ含浸用組成物やフィルムカバーコー
ト用接着剤としても有用である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  3,3’,4,4’−ビフェニルテト
    ラカルボン酸二無水物を必須成分とし、3,3’,4,
    4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物および
    /またはビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
    ル二無水物0〜50モル%含むカルボン酸二無水物成分
    と、一般式(I) 【化1】 で表される芳香族ジアミンの1種またはそれ以上と1,
    3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンとの比が7
    0:30〜90:10である芳香族ジアミンからなり、
    酸成分とジアミン成分のモル比が0.9〜1.1である
    ポリアミック酸樹脂組成物。
  2. 【請求項2】  一般式(I)で表される芳香族ジアミ
    ン成分中のp−フェニレンジアミンの含有量が芳香族ジ
    アミン成分全量の20〜70モル%からなる請求項1記
    載のポリアミック酸樹脂組成物。
JP3176290A 1991-04-17 1991-04-17 ポリアミック酸樹脂 Expired - Lifetime JP2938227B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3176290A JP2938227B2 (ja) 1991-04-17 1991-04-17 ポリアミック酸樹脂

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3176290A JP2938227B2 (ja) 1991-04-17 1991-04-17 ポリアミック酸樹脂

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04318025A true JPH04318025A (ja) 1992-11-09
JP2938227B2 JP2938227B2 (ja) 1999-08-23

Family

ID=16011004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3176290A Expired - Lifetime JP2938227B2 (ja) 1991-04-17 1991-04-17 ポリアミック酸樹脂

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2938227B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993024583A1 (fr) * 1992-06-04 1993-12-09 Sumitomo Bakelite Company Limited Adhesif sous forme de film et production de cet adhesif
DE19604774A1 (de) * 1996-02-09 1997-08-14 Siemens Ag Kunststoffträger mit Induktionsspule
JP2011032358A (ja) * 2009-07-31 2011-02-17 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムおよびポリイミドフィルムの製造方法
WO2011035920A1 (en) * 2009-09-24 2011-03-31 Corus Technology Bv A method of preparing a polyetherimide coating on a metallic substrate
US20170306094A1 (en) * 2014-09-30 2017-10-26 Somar Corporation Polyimide copolymer and molded article using same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993024583A1 (fr) * 1992-06-04 1993-12-09 Sumitomo Bakelite Company Limited Adhesif sous forme de film et production de cet adhesif
US5739263A (en) * 1992-06-04 1998-04-14 Sumitomo Bakelite Company Limited Film adhesive and process for production thereof
DE19604774A1 (de) * 1996-02-09 1997-08-14 Siemens Ag Kunststoffträger mit Induktionsspule
JP2011032358A (ja) * 2009-07-31 2011-02-17 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムおよびポリイミドフィルムの製造方法
WO2011035920A1 (en) * 2009-09-24 2011-03-31 Corus Technology Bv A method of preparing a polyetherimide coating on a metallic substrate
US20170306094A1 (en) * 2014-09-30 2017-10-26 Somar Corporation Polyimide copolymer and molded article using same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2938227B2 (ja) 1999-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6320019B1 (en) Method for the preparation of polyamic acid and polyimide
KR100668948B1 (ko) 금속 적층판 및 그의 제조방법
KR100262417B1 (ko) 필름접착제 및 그의 제조 방법
JPH08224843A (ja) 多層芳香族ポリイミドフィルム
JP5547874B2 (ja) ポリイミド樹脂
JP2023079202A (ja) ポリイミド系樹脂前駆体
JPH0682895B2 (ja) フレキシブルプリント回路基板及びその製法
JPH04318025A (ja) ポリアミック酸樹脂
JP4935406B2 (ja) 高耐熱性ポリイミド樹脂組成物
EP1667501A1 (en) Substrate for flexible printed wiring board and method for manufacturing same
JP2729063B2 (ja) フレキシブル金属箔積層板の製造方法
JP4412708B2 (ja) ポリアミド酸、ポリアミド組成物及びポリイミド
JP4571043B2 (ja) 積層体及びその製造方法
TW202237705A (zh) 聚醯亞胺、金屬包覆層疊板及電路基板
JPH09193292A (ja) フレキシブル銅張積層板
JPH0446983A (ja) ポリイミド系接着剤
JP2002114848A (ja) 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂およびフレキシブル金属箔張積層体。
JP2977958B2 (ja) フレキシブルプリント基板用ポリアミック酸樹脂
JP2668752B2 (ja) 耐熱性接着剤
JP3295952B2 (ja) フレキシブル配線基板の製造方法
JPH04153224A (ja) 両面フレキシブルプリント回路基板用樹脂。
JPH05156231A (ja) 耐熱性接着剤組成物
JPWO1988000428A1 (ja) フレキシブル銅張回路基板
JPH0740626B2 (ja) フレキシブル銅張回路基板
JP4574160B2 (ja) 接着性に優れたポリイミド及び高濃度ポリアミド酸組成物