JPH04319241A - イオン注入装置 - Google Patents

イオン注入装置

Info

Publication number
JPH04319241A
JPH04319241A JP3115243A JP11524391A JPH04319241A JP H04319241 A JPH04319241 A JP H04319241A JP 3115243 A JP3115243 A JP 3115243A JP 11524391 A JP11524391 A JP 11524391A JP H04319241 A JPH04319241 A JP H04319241A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion beam
target
ion
beam current
current measuring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3115243A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3052420B2 (ja
Inventor
Kazuhiro Nishikawa
和宏 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP3115243A priority Critical patent/JP3052420B2/ja
Publication of JPH04319241A publication Critical patent/JPH04319241A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3052420B2 publication Critical patent/JP3052420B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、イオンビームを電気
的に走査すると共に、ターゲットをそれと実質的に直交
する方向に機械的に走査する、いわゆるハイブリッドス
キャン方式のイオン注入装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種のイオン注入装置の従来例を図3
に示す。
【0003】このイオン注入装置においては、イオン源
から引き出され、かつ必要に応じて質量分析、加速等の
行われたスポット状のイオンビーム2を、図示しない走
査手段によって電気的に(例えば静電的または電磁的)
にX方向(例えば水平方向。以下同じ)に走査するよう
にしている。この走査は、イオンビーム2を図示例のよ
うに平行に走査するいわゆるパラレルスキャンでも良い
し、通常の扇状のスキャンでも良い。
【0004】一方、ターゲット(例えばウェーハ)4を
ホルダ6によってイオンビーム2の照射領域内に保持す
ると共に、それらをホルダ駆動装置8によって前記X方
向と実質的に直交するY方向(例えば垂直方向。以下同
じ)に機械的に走査し、これとイオンビーム2の前記走
査との協働によって、ターゲット4の全面にイオン注入
を行うようにしている。
【0005】また、イオンビーム2の走査領域のこの例
では両端部に、イオンビーム2を受けてそのビーム電流
を計測するビーム電流計測器(例えばファラデーカップ
)10および12を設けている。その内の一方の、例え
ばビーム電流計測器10によって計測したイオンビーム
2のビーム電流に基づいて、ターゲット4に対する注入
量等の制御が行われる。他方のビーム電流計測器12は
、イオンビーム2の走査範囲が適当かどうかを判定する
ためのものであり、通常は両ビーム電流計測器10、1
2を用いてイオンビーム2のビーム電流波形をモニタし
ながらイオンビーム2の走査幅を調整するが、このビー
ム電流計測器12は無くても良い(これが無い場合は、
ビーム電流計測器10の反対側にもイオンビーム2の走
査が同様に行われているとみなすことになる)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記のような装置にお
いては、ビーム電流計測器10によってイオンビーム2
のビーム電流を計測し、そのデータに基づいてターゲッ
ト4に対する注入量等の制御を行うため、また前述した
ように両ビーム電流計測器10、12でモニタしながら
イオンビーム2の走査幅を調整するため、ターゲット4
上のみならず両ビーム電流計測器10、12上にもイオ
ンビーム2を確実に走査する必要がある。
【0007】この場合、従来はターゲット4が大きい場
合に合わせてビーム電流計測器10、12を固定してお
り、イオンビーム2の走査幅はこれによって規定されて
しまうため、ターゲット4が小さい場合に無駄になるイ
オンビーム2が多く、従ってイオンビーム2の利用効率
が低くなるという問題がある。
【0008】これを図4(ターゲット4が大きい場合で
直径はD1 )および図5(ターゲット4が小さい場合
で直径はD2 )を例に説明すると、イオンビーム2を
走査しなければならない幅はターゲット4が大きい場合
の幅W1 で決まってしまうため、図4の場合のイオン
ビーム2の利用効率はη1 =D1 /W1 になり、
図5の場合はη2 =D2 /W1 となる。例えばタ
ーゲット4の大きい場合の直径D1 を200mm、小
さい場合の直径D2 を150mmとすると、η2 /
η1 =0.75となり、ターゲット4が小さい場合の
イオンビーム2の利用効率はターゲット4が大きい場合
の75%になってしまう。
【0009】そこでこの発明は、小さいターゲットにイ
オン注入を行う場合でもイオンビームの利用効率を高く
することができるイオン注入装置を提供することを主た
る目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
、この発明のイオン注入装置は、前述したようなビーム
電流計測器をイオンビームの走査方向に沿って前後に動
かす計測器駆動装置を設けたことを特徴とする。
【0011】
【作用】上記構成によれば、ターゲットの大きさに応じ
て、計測器駆動装置によってビーム電流計測器の位置を
変えることができるので、ターゲットの大きさが変わっ
てもイオンビームの走査幅を常に最適なものにすること
ができる。その結果、小さいターゲットにイオン注入を
行う場合でもイオンビームの利用効率を高くすることが
できる。
【0012】
【実施例】図1は、この発明の一実施例に係るイオン注
入装置を部分的に示す斜視図である。図3の従来例と同
一または相当する部分には同一符号を付し、以下におい
ては当該従来例との相違点を主に説明する。
【0013】この実施例においては、従来固定であった
ビーム電流計測器10、12を計測器駆動装置14、1
6にそれぞれ取り付け、これによって、各ビーム電流計
測器10、12をそれぞれイオンビーム2の走査方向に
沿って(即ちこの実施例の場合はX方向に)前後に動か
すことができるようにしている。
【0014】各計測器駆動装置14、16は、例えばエ
アシリンダーのようなものでも良いし、あるいはモータ
とラックとピニオンを組み合わせたもの等でも良い。ま
た、各計測器駆動装置14、16によってビーム電流計
測器10、12を動かせる位置は2段階(即ちターゲッ
ト4が大きいときは両ビーム電流計測器10、12間の
幅を広くし、ターゲット4が小さいときは幅を狭くする
)でも良いし、ターゲット4の大きさに合わせて3段階
、あるいはそれ以上に動かせるようにしても良く、例え
ばラックとピニオンを組み合わせてモータでコントロー
ルすればより細かな設定も可能である。
【0015】上記構成によれば、ターゲット4の大きさ
に応じて、ビーム電流計測器10、12の位置を変える
ことができるので、ターゲット4の大きさが変わっても
イオンビーム2の走査幅を常に最適なものに(即ち両ビ
ーム電流計測器10、12間を必要十分なだけ走査する
ように)することができる。その結果、小さいターゲッ
ト4にイオン注入を行う場合でもイオンビーム2の利用
効率を高くすることができる。
【0016】例えば、従来と同様に、直径D1 が20
0mmのターゲット4と、直径D2 が150mmのタ
ーゲット4を使用する場合を考えてみると、直径D1 
が200mmの場合は、ビーム電流計測器10、12を
前述した図4と同様の位置にして注入動作を行う。直径
D2 が150mmの場合は、この実施例では図2に示
すように、両ビーム電流計測器10、12を内側に移動
させてイオンビーム2の走査幅W2 を狭くしてイオン
注入を行うことができる。
【0017】図2の場合のイオンビーム2の利用効率は
η3 =D2 /W2 となり、前述した従来の図5の
場合の利用効率η2 と比べると、利用効率の向上は、
η3 /η2 =(D2 /W2 )/(D2 /W1
 )=W1 /W2  となる。従って例えば、W2 をW1 −(D1 −D
2 )とし、W1 を300mmとすると、 η3 /η2 =1.2 となる。即ち、従来例のようにイオンビーム2の走査範
囲を変えずに小さいターゲット4にイオン注入する場合
に比べて、イオンビーム2の利用効率が20%向上する
【0018】上記例と異なる寸法のターゲット4を使用
する場合は、その利用効率の向上の割合は上記20%と
は別のものに変化するが、それでも、従来例の場合より
も利用効率が高くなることには間違いない。
【0019】また、従来例ではビーム電流計測器10、
12が固定なので、初めに設定した最大寸法より大きい
ターゲット4には対応することができなかったが、この
実施例の場合はビーム電流計測器10、12を外側へ移
動させることも可能なので、ターゲット4の寸法が大き
くなる場合にも何ら問題なく対応することができる。
【0020】なお、前述したように、他方のビーム電流
計測器12は必ずしも無くても良く、その場合はそれ用
の計測器駆動装置16も不要である。また、イオンビー
ム2の走査はパラレルスキャンでなく通常の扇状のスキ
ャンでも良い。
【0021】また、この明細書においてX方向およびY
方向は、直交する2方向を表すだけであり、従って例え
ば、X方向を水平方向と見ても、垂直方向と見ても、更
にはそれらから傾いた方向と見ても良い。
【0022】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ビーム
電流計測器をイオンビームの走査方向に沿って前後に動
かす計測器駆動装置を設けたので、小さいターゲットに
イオン注入を行う場合でもイオンビームの利用効率を高
くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】  この発明の一実施例に係るイオン注入装置
を部分的に示す斜視図である。
【図2】  図1の装置におけるターゲットが小さい場
合のイオンビームの走査範囲を示す図である。
【図3】  従来のイオン注入装置の一例を部分的に示
す斜視図である。
【図4】  図3の装置においてターゲットが大きい場
合のイオンビームの走査範囲を示す図である。
【図5】  図3の装置においてターゲットが小さい場
合のイオンビームの走査範囲を示す図である。
【符号の説明】
2  イオンビーム 4  ターゲット 6  ホルダ 8  ホルダ駆動装置 10,12  ビーム電流計測器 14,16  計測器駆動装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  イオンビームを一定方向に電気的に走
    査すると共に、ターゲットをそれと実質的に直交する方
    向に機械的に走査する構成のイオン注入装置であって、
    イオンビームの走査領域の端部においてイオンビームの
    ビーム電流を計測するビーム電流計測器を有するものに
    おいて、前記ビーム電流計測器をイオンビームの走査方
    向に沿って前後に動かす計測器駆動装置を設けたことを
    特徴とするイオン注入装置。
JP3115243A 1991-04-18 1991-04-18 イオン注入装置 Expired - Fee Related JP3052420B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3115243A JP3052420B2 (ja) 1991-04-18 1991-04-18 イオン注入装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3115243A JP3052420B2 (ja) 1991-04-18 1991-04-18 イオン注入装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04319241A true JPH04319241A (ja) 1992-11-10
JP3052420B2 JP3052420B2 (ja) 2000-06-12

Family

ID=14657890

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3115243A Expired - Fee Related JP3052420B2 (ja) 1991-04-18 1991-04-18 イオン注入装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3052420B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170098836A (ko) * 2014-12-26 2017-08-30 액셀리스 테크놀러지스, 인크. 하이브리드 스캐닝 이온 주입기의 생산성을 향상시키는 시스템 및 방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170098836A (ko) * 2014-12-26 2017-08-30 액셀리스 테크놀러지스, 인크. 하이브리드 스캐닝 이온 주입기의 생산성을 향상시키는 시스템 및 방법
JP2017539063A (ja) * 2014-12-26 2017-12-28 アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド ハイブリッド走査型イオンビーム注入器の生産性を向上させるためのシステムおよび方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3052420B2 (ja) 2000-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0975004B1 (en) Method for measuring distribution of beams of charged particles and methods relating thereto
JP2969788B2 (ja) イオンビームの平行度測定方法、走査波形整形方法およびイオン注入装置
KR930005735B1 (ko) 이온주입장치
EP0431757B1 (en) Ion implanter scanning mechanism
JP3153784B2 (ja) イオンビーム走査方法および装置
JPH05135730A (ja) イオン注入装置
JPH0513037A (ja) 荷電粒子ビーム装置及びその制御方法
JP2009283151A (ja) イオンビーム照射装置及びイオンビーム測定方法
JP6484247B2 (ja) 走査されたビームイオン注入におけるビームの利用を向上させるための方法
JPH1186775A (ja) イオン注入装置及びイオン注入方法
US9263231B2 (en) Moveable current sensor for increasing ion beam utilization during ion implantation
JPH04319241A (ja) イオン注入装置
CN116092912B (zh) 对样品载体上的分析物材料进行解吸扫描的装置
JP4347068B2 (ja) 基板をイオン注入する方法及びこの方法を実施する為のイオン注入装置
JP3407468B2 (ja) イオンビームの平行化調整方法
JP2678951B2 (ja) イオン注入装置
JP2674356B2 (ja) イオン注入装置
JP3456318B2 (ja) ビーム走査波形整形方法
JP2765043B2 (ja) イオンビームの平行度測定方法
JP3758214B2 (ja) 荷電粒子装置
JP2785297B2 (ja) イオン注入装置
JPS6212624B2 (ja)
JPH06310082A (ja) イオン注入装置におけるビーム軌道の復元方法
JPH03230462A (ja) イオンビームのモニタ方法およびその装置
JPH0317947A (ja) イオン注入装置

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees