JPH0432130B2 - - Google Patents
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- JPH0432130B2 JPH0432130B2 JP2938282A JP2938282A JPH0432130B2 JP H0432130 B2 JPH0432130 B2 JP H0432130B2 JP 2938282 A JP2938282 A JP 2938282A JP 2938282 A JP2938282 A JP 2938282A JP H0432130 B2 JPH0432130 B2 JP H0432130B2
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 66
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 5
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 5
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238557 Decapoda Species 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D11/00—Process control or regulation for heat treatments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
- C21D1/773—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material under reduced pressure or vacuum
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Control Of Heat Treatment Processes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は熱処理装置、たとえば真空熱処理装
置に関するものである。
置に関するものである。
真空熱処理装置は、被熱処理材料をたとえば焼
入れ硬化する場合には、真空排気した加熱炉内に
て被熱処理材料(以下ワークと称する。)を主と
して放射伝熱によつて酸化ならびに脱炭を防止し
ながら、所定の焼入れ温度に加熱し、その温度に
一定時間保持してから、ワークを、前記加熱炉に
隣接して設けられた真空密閉室に引き出し、その
下部に設けられた油タンクに浸漬し、油冷却によ
つて焼入れする真空加熱炉、冷却装置を備えた密
閉室およびワークのハンドリング装置からなつて
いる。
入れ硬化する場合には、真空排気した加熱炉内に
て被熱処理材料(以下ワークと称する。)を主と
して放射伝熱によつて酸化ならびに脱炭を防止し
ながら、所定の焼入れ温度に加熱し、その温度に
一定時間保持してから、ワークを、前記加熱炉に
隣接して設けられた真空密閉室に引き出し、その
下部に設けられた油タンクに浸漬し、油冷却によ
つて焼入れする真空加熱炉、冷却装置を備えた密
閉室およびワークのハンドリング装置からなつて
いる。
この種の装置におけるワークの加熱は、それが
鋼の場合、それをオーステナイト状態にするとと
もに、オーステナイト粒子の粗大化を抑えながら
その中に炭化物として存在する炭素、その他の合
金元素をできるだけ多くオーステナイト中に固溶
させることが必要で、そのためにワークの昇温が
徐々になされるようにきめられた加熱炉の昇温速
度、加熱温度、ならびにワークの温度をその中心
部まで前記加熱温度まで昇温させるための保持時
間の3つのフアクターがインプツトされたプログ
ラムコントロールによる加熱炉の自動運転にてな
されるのが一般である。
鋼の場合、それをオーステナイト状態にするとと
もに、オーステナイト粒子の粗大化を抑えながら
その中に炭化物として存在する炭素、その他の合
金元素をできるだけ多くオーステナイト中に固溶
させることが必要で、そのためにワークの昇温が
徐々になされるようにきめられた加熱炉の昇温速
度、加熱温度、ならびにワークの温度をその中心
部まで前記加熱温度まで昇温させるための保持時
間の3つのフアクターがインプツトされたプログ
ラムコントロールによる加熱炉の自動運転にてな
されるのが一般である。
たとえばあまり大きくなく、しかも質量効果が
小さい鋼材からなるワークをその内部まで均一に
焼入れ硬化する必要のある場合には、その中心部
の温度が前記加熱温度すなわち所定温度に到達す
るまで加熱し、直ちに焼入れを行えばよいのであ
るから、このようなワークの所定温度における保
持時間は、ワークの表面温度が所定温度に到達し
た時点から、ワークの中心部の温度が前記所定温
度に到達する時点までの経過時間に等しくとられ
ておれば十分であることになる。ここではこのよ
うな保持時間を最適保持時間と呼ぶことにする。
小さい鋼材からなるワークをその内部まで均一に
焼入れ硬化する必要のある場合には、その中心部
の温度が前記加熱温度すなわち所定温度に到達す
るまで加熱し、直ちに焼入れを行えばよいのであ
るから、このようなワークの所定温度における保
持時間は、ワークの表面温度が所定温度に到達し
た時点から、ワークの中心部の温度が前記所定温
度に到達する時点までの経過時間に等しくとられ
ておれば十分であることになる。ここではこのよ
うな保持時間を最適保持時間と呼ぶことにする。
従来プログラムにインプツトされるフアクター
の1つである前記保持時間の設定は、たてえびワ
ークの厚さ1″当りの経験からきめられた加熱持続
時間から算出するきめ方、ないしはそれを形状な
どによつて補正するといつた方法でなされてお
り、このように設定された保持時間が前記最適保
持時間に一致しているかどうかは十分に検討され
ることなく推移してきたのが現状である。
の1つである前記保持時間の設定は、たてえびワ
ークの厚さ1″当りの経験からきめられた加熱持続
時間から算出するきめ方、ないしはそれを形状な
どによつて補正するといつた方法でなされてお
り、このように設定された保持時間が前記最適保
持時間に一致しているかどうかは十分に検討され
ることなく推移してきたのが現状である。
いいかえれば前記保持時間が最適保持時間より
短いときは、ワークの焼入れ硬化は内部まで均一
に行われず品質不良とされることから、一般に前
記保持時間は最適保持時間よりも長くとられがち
であり、このことが熱処理時のワークの加熱に際
し、熱エネルギー、ならびに時間を無駄にしてい
ることになる。
短いときは、ワークの焼入れ硬化は内部まで均一
に行われず品質不良とされることから、一般に前
記保持時間は最適保持時間よりも長くとられがち
であり、このことが熱処理時のワークの加熱に際
し、熱エネルギー、ならびに時間を無駄にしてい
ることになる。
この発明は、従来の熱処理装置において被熱処
理材料の加熱炉での所定温度における加熱保持時
間がともすれば前記した最適保持時間より長く保
持されることから、熱エネルギーならびに時間の
無駄な消費を来たしている現状を改善するために
なされたものであつて、被熱処理材料を加熱炉に
おいて所定温度に加熱昇温させ、この温度での最
適保持時間の加熱が完了すれば、直ちに次工程へ
移行せしめるようにした熱処理装置を提供するこ
とを目的とするものである。
理材料の加熱炉での所定温度における加熱保持時
間がともすれば前記した最適保持時間より長く保
持されることから、熱エネルギーならびに時間の
無駄な消費を来たしている現状を改善するために
なされたものであつて、被熱処理材料を加熱炉に
おいて所定温度に加熱昇温させ、この温度での最
適保持時間の加熱が完了すれば、直ちに次工程へ
移行せしめるようにした熱処理装置を提供するこ
とを目的とするものである。
以下、この発明にかかる実施例装置について図
面を参照しながら詳細に説明する。
面を参照しながら詳細に説明する。
第1図はこの実施例装置全体の構成を示す模式
説明図である。この装置は、その本体部が前記し
た従来の真空熱処理装置とほぼ同様に構成されて
おり、真空加熱炉11と、下部が油タンク12と
された真空密閉室13と、ワーク14のハンドリ
ング装置とからなつている。加熱炉11の床部に
は、ワーク14を直接、もしくは補助台枠(図示
せず)を介して支承する1対のレール15、断熱
耐熱構造の天井、床および側壁にはヒータ16が
それぞれ設けられ、密閉室13との境界には同じ
く断熱耐熱構造のドア17が外部からの操作で上
下方向に開閉できるように設けられている。密閉
室13の内部には、エレベータ18が設けられ、
前記したドア17と同じく外部からガイドレール
19にそつてケージ20を昇降できるようにされ
ている。ケージ20は枠体から構成され、その床
枠にはレール15とゲージを同じくするレール2
1が固定されている。
説明図である。この装置は、その本体部が前記し
た従来の真空熱処理装置とほぼ同様に構成されて
おり、真空加熱炉11と、下部が油タンク12と
された真空密閉室13と、ワーク14のハンドリ
ング装置とからなつている。加熱炉11の床部に
は、ワーク14を直接、もしくは補助台枠(図示
せず)を介して支承する1対のレール15、断熱
耐熱構造の天井、床および側壁にはヒータ16が
それぞれ設けられ、密閉室13との境界には同じ
く断熱耐熱構造のドア17が外部からの操作で上
下方向に開閉できるように設けられている。密閉
室13の内部には、エレベータ18が設けられ、
前記したドア17と同じく外部からガイドレール
19にそつてケージ20を昇降できるようにされ
ている。ケージ20は枠体から構成され、その床
枠にはレール15とゲージを同じくするレール2
1が固定されている。
密閉室13に対しワーク14を出し入れするた
めの開口部22には、ヒンジ付きドア23が取付
けられ、ドア23をロツクすることによつて室内
の真空保持が可能なるようにされ、その底部に設
けられたレール24は加熱炉11内のレール15
の延長線上に位置するようにされている。また密
閉室13にはガイド溝(図示せず)にそつて水平
方向に摺動自在とされ、外部から回転駆動される
スプロケツトホイール25によつて繰り出される
リングチエーンからなるプツシヤー・プル搬送機
構26が設けられている。したがつてこの装置の
ワーク14のハンドリング装置は、レール15,
21,24、エレベータ18およびプツシヤー・
プル搬送機構26から構成されているわけであ
る。
めの開口部22には、ヒンジ付きドア23が取付
けられ、ドア23をロツクすることによつて室内
の真空保持が可能なるようにされ、その底部に設
けられたレール24は加熱炉11内のレール15
の延長線上に位置するようにされている。また密
閉室13にはガイド溝(図示せず)にそつて水平
方向に摺動自在とされ、外部から回転駆動される
スプロケツトホイール25によつて繰り出される
リングチエーンからなるプツシヤー・プル搬送機
構26が設けられている。したがつてこの装置の
ワーク14のハンドリング装置は、レール15,
21,24、エレベータ18およびプツシヤー・
プル搬送機構26から構成されているわけであ
る。
そしてこの装置の加熱炉11の自動制御装置
は、温度センサー(たとえば高温測定用PR熱電
対)30、PID演算回路を備えた温度調節計3
1、それから出力される操作電流によつて炉11
の加熱用電流を制御するSCR調整器32および
この調整器32からヒータ16への出力電流Iを
カレント・トランスフオーマ(変流器)33を介
して計測し、特定の電流値を計測した場合にスイ
ツチ34を作動させるメータリレー式電流計35
によつて構成されている。
は、温度センサー(たとえば高温測定用PR熱電
対)30、PID演算回路を備えた温度調節計3
1、それから出力される操作電流によつて炉11
の加熱用電流を制御するSCR調整器32および
この調整器32からヒータ16への出力電流Iを
カレント・トランスフオーマ(変流器)33を介
して計測し、特定の電流値を計測した場合にスイ
ツチ34を作動させるメータリレー式電流計35
によつて構成されている。
つぎにこの装置における動作を説明する。
ドア23,17を開き、エレベータ18をその
レール21がレール24,15と同一レベルを占
める位置に止めておき、たとえば均一に焼入れ硬
化させようとするワーク14をレール24,21
上をすべらせてケージ20に托してから、プチシ
ヤー・プル搬送機構26によつて炉11内に押込
み、レール15に支承させる。ドア23,17を
閉じ、真空加熱炉11および密閉室13の真空排
気を行う。ついで、温度調節計31の指示計を所
定の焼入れ温度THにセツトし、ヒータ16に通
電を行う。このヒータ16に通電がなされること
により炉11内の温度は徐々に昇温してゆくが、
その炉内温度は温度センサー30によつて検出さ
れ、温度調節計31に入力される。調節計31は
この入力信号と前記した設定値との偏差を比較
し、そのPID演算回路によつて演算を行い、前記
偏差に対する操作信号をたとえば4〜20mAの直
流電流iとしてSCR調整器32へ出力する。こ
の出力信号iに応じてSCRのゲート制御用の点
弧回路内の磁気増幅器がSCRの導通角を制御し
てヒータ16に供給する電流Iを連続的に調整す
る。このようにしてヒータ16によつて加熱炉1
1が加熱され、その炉内温度が次第に上昇してゆ
く。第2図はこの場合のワーク14の表面温度
(炉内温度と等しいとみなされる。)Ts(℃)と、
前記供給電流I(最大電流を100とし、%にてあら
わす。)との関係を時間経過tについて示したも
のである。この例では、ワーク14の表面温度が
TMになるまでの間は、温度調節計31に操作量
が100%出力される様にPID定数がセツトしてあ
る。
レール21がレール24,15と同一レベルを占
める位置に止めておき、たとえば均一に焼入れ硬
化させようとするワーク14をレール24,21
上をすべらせてケージ20に托してから、プチシ
ヤー・プル搬送機構26によつて炉11内に押込
み、レール15に支承させる。ドア23,17を
閉じ、真空加熱炉11および密閉室13の真空排
気を行う。ついで、温度調節計31の指示計を所
定の焼入れ温度THにセツトし、ヒータ16に通
電を行う。このヒータ16に通電がなされること
により炉11内の温度は徐々に昇温してゆくが、
その炉内温度は温度センサー30によつて検出さ
れ、温度調節計31に入力される。調節計31は
この入力信号と前記した設定値との偏差を比較
し、そのPID演算回路によつて演算を行い、前記
偏差に対する操作信号をたとえば4〜20mAの直
流電流iとしてSCR調整器32へ出力する。こ
の出力信号iに応じてSCRのゲート制御用の点
弧回路内の磁気増幅器がSCRの導通角を制御し
てヒータ16に供給する電流Iを連続的に調整す
る。このようにしてヒータ16によつて加熱炉1
1が加熱され、その炉内温度が次第に上昇してゆ
く。第2図はこの場合のワーク14の表面温度
(炉内温度と等しいとみなされる。)Ts(℃)と、
前記供給電流I(最大電流を100とし、%にてあら
わす。)との関係を時間経過tについて示したも
のである。この例では、ワーク14の表面温度が
TMになるまでの間は、温度調節計31に操作量
が100%出力される様にPID定数がセツトしてあ
る。
第2図から、炉内温度、すなわちワーク14の
表面温度TSはt1時点には設定温度、すなわち所定
の焼入れ温度THに到達することがわかる。
表面温度TSはt1時点には設定温度、すなわち所定
の焼入れ温度THに到達することがわかる。
ところでワーク14は固有の質量mおよび比熱
Cをもつた固体であるから、その有する熱容量
m・Cに応じてヒータ16からその表面に放射伝
熱によつて付与される熱量を、その内部に熱伝導
によつて吸収し、その内部温度が次第に上昇す
る。
Cをもつた固体であるから、その有する熱容量
m・Cに応じてヒータ16からその表面に放射伝
熱によつて付与される熱量を、その内部に熱伝導
によつて吸収し、その内部温度が次第に上昇す
る。
第2図の点線で示した曲線はワーク14の中心
温度TSを示したもので、表面温度TSと中心温度
TCとの間に温度差Tdが存在する間は、温度勾配
があることになり、ヒータ16からの熱量は前記
した過程によりワーク14の内部に吸収される。
ところでt1時点以降において、ヒータ16の供給
電流Iによる発熱量は主としてワーク14の内部
温度の昇温、すなわち前記温度差Tdをゼロに近
付けるのに消費され、Td=0となるt2時点にお
いては、炉内温度〈ワーク14の表面温度TS〉、
その中心部の温度TCのいずれもが所定の焼入れ
温度THとなり、このt2時点における供給電流Iに
よるヒータ16の発熱量は、加熱炉11から密閉
室13、もしくは外界へ放射伝熱によつて放出さ
れるわずかの熱量、いいかえれば外乱に対応し、
炉内温度を所定温度THに維持するのに消費され
ることとなる。この装置においては、加熱炉11
の運転時には加熱炉11、密閉室13はいずれも
真空状態に保持されるとともに、加熱炉11の外
界との断熱に対しては十分に配慮されているの
で、前記した加熱炉11から外部への放熱量は一
定であり、外乱の安定した制御系として構成され
ていることから、前記したt2時点以降の供給電流
Iはもはや変化せず一定値を保持する。そしてこ
の値ISはワーク14の熱容量とは無関係であり、
所定加熱温度THのみによつてきめられるもので
あり、このISを加熱飽和電流値と称することにす
る。
温度TSを示したもので、表面温度TSと中心温度
TCとの間に温度差Tdが存在する間は、温度勾配
があることになり、ヒータ16からの熱量は前記
した過程によりワーク14の内部に吸収される。
ところでt1時点以降において、ヒータ16の供給
電流Iによる発熱量は主としてワーク14の内部
温度の昇温、すなわち前記温度差Tdをゼロに近
付けるのに消費され、Td=0となるt2時点にお
いては、炉内温度〈ワーク14の表面温度TS〉、
その中心部の温度TCのいずれもが所定の焼入れ
温度THとなり、このt2時点における供給電流Iに
よるヒータ16の発熱量は、加熱炉11から密閉
室13、もしくは外界へ放射伝熱によつて放出さ
れるわずかの熱量、いいかえれば外乱に対応し、
炉内温度を所定温度THに維持するのに消費され
ることとなる。この装置においては、加熱炉11
の運転時には加熱炉11、密閉室13はいずれも
真空状態に保持されるとともに、加熱炉11の外
界との断熱に対しては十分に配慮されているの
で、前記した加熱炉11から外部への放熱量は一
定であり、外乱の安定した制御系として構成され
ていることから、前記したt2時点以降の供給電流
Iはもはや変化せず一定値を保持する。そしてこ
の値ISはワーク14の熱容量とは無関係であり、
所定加熱温度THのみによつてきめられるもので
あり、このISを加熱飽和電流値と称することにす
る。
さて前記した加熱電流Iの変化は、メータリレ
ー式電流計35の指針の動きによつて示されるか
ら、設定指針35′を加熱炉11の運転開始後に
加熱飽和電流値ISに一致させてセツトしておけ
ば、加熱電流値Iの飽和時点t2においてメータリ
レー式電流計35によりスイツチ34を作動させ
ることができる。すなわち、ワーク14が加熱昇
温させられ、その中心部の温度が所定温度THに
到達した時点t2において遅滞なく、この装置によ
つてワーク14をつぎの工程へ移行させることが
できる。この場合第2図に示したtaが前記した最
適保持時間に外ならない。
ー式電流計35の指針の動きによつて示されるか
ら、設定指針35′を加熱炉11の運転開始後に
加熱飽和電流値ISに一致させてセツトしておけ
ば、加熱電流値Iの飽和時点t2においてメータリ
レー式電流計35によりスイツチ34を作動させ
ることができる。すなわち、ワーク14が加熱昇
温させられ、その中心部の温度が所定温度THに
到達した時点t2において遅滞なく、この装置によ
つてワーク14をつぎの工程へ移行させることが
できる。この場合第2図に示したtaが前記した最
適保持時間に外ならない。
ところで、前記したメータリレー式電流計35
の指定指針35′のセツトについては、加熱飽和
電流値ISは、所定加熱温度THのみによつてきめら
れる加熱炉11のもつ固有値であるので、炉内に
ワーク14を収容することなく、炉11を所定加
熱温度THにて運転し、データをとつてIS値を予め
決定しておけばよい。
の指定指針35′のセツトについては、加熱飽和
電流値ISは、所定加熱温度THのみによつてきめら
れる加熱炉11のもつ固有値であるので、炉内に
ワーク14を収容することなく、炉11を所定加
熱温度THにて運転し、データをとつてIS値を予め
決定しておけばよい。
t2時点におけるスイツチ34の作動によつて、
ドアー17の開扉、プツシヤー・プル搬送機構2
6によるエレベータ18のレール21上へのワー
ク14の引出し、ヒータ16への通電しや断、エ
レベータ18を下降させ、ワーク14を油タンク
12の焼入れ油に浸漬することによる冷却などの
シーケンス動作を順次行わせ、ワーク14に対す
る均一な焼入れ硬化処理が熱エネルギーならびに
時間をできるだけ無駄にすることなく行われる。
ドアー17の開扉、プツシヤー・プル搬送機構2
6によるエレベータ18のレール21上へのワー
ク14の引出し、ヒータ16への通電しや断、エ
レベータ18を下降させ、ワーク14を油タンク
12の焼入れ油に浸漬することによる冷却などの
シーケンス動作を順次行わせ、ワーク14に対す
る均一な焼入れ硬化処理が熱エネルギーならびに
時間をできるだけ無駄にすることなく行われる。
以上の説明においてはワーク14を均一に焼入
れ硬化する熱処理の1例について説明したが、た
とえば炭素鋼被処理材料のオーステナイト状態に
おいてその中に固溶する炭化物の量をコントロー
ルしたり、そのオーステナイト粒子の成長をコン
トロールしたりするといつたことが必要な熱処理
に対して前記被処理材料を所定温度にて前記した
最適保持時間taより長く保持しなけばならないよ
うな場合においても、最適保持時間taより長く保
持する余分な時間のみを規制するタイマーを別に
設け、このタイマーをスイツチ34によつてまず
作動させ、以下所要のシーケンス動作を前記タイ
マーの作動により行わせるようにすれば前記の場
合と同じく熱エネルギーならびに時間を無駄に消
費することなく、ワーク14に所定の加熱を施す
ことができる。
れ硬化する熱処理の1例について説明したが、た
とえば炭素鋼被処理材料のオーステナイト状態に
おいてその中に固溶する炭化物の量をコントロー
ルしたり、そのオーステナイト粒子の成長をコン
トロールしたりするといつたことが必要な熱処理
に対して前記被処理材料を所定温度にて前記した
最適保持時間taより長く保持しなけばならないよ
うな場合においても、最適保持時間taより長く保
持する余分な時間のみを規制するタイマーを別に
設け、このタイマーをスイツチ34によつてまず
作動させ、以下所要のシーケンス動作を前記タイ
マーの作動により行わせるようにすれば前記の場
合と同じく熱エネルギーならびに時間を無駄に消
費することなく、ワーク14に所定の加熱を施す
ことができる。
また、この実施例装置においては、SCR調整
器32からの出力電流Iの供給回路に変流器33
を介してメータリレー式電流計35を接続してい
るが、前記出力電流Iは、温度調節計31からの
操作電流iと比例関係にあることから、メータリ
レー電流計35を前記操作電流回路に直接接続
し、スイツチ34を前記同様に作動させるように
することも可能である。
器32からの出力電流Iの供給回路に変流器33
を介してメータリレー式電流計35を接続してい
るが、前記出力電流Iは、温度調節計31からの
操作電流iと比例関係にあることから、メータリ
レー電流計35を前記操作電流回路に直接接続
し、スイツチ34を前記同様に作動させるように
することも可能である。
以上の説明において明らかなようにこの発明に
かかる熱処理装置においては、その加熱炉によつ
て被熱処理材料を所定温度に加熱するに際して、
被熱処理材料の表面温度が前記所定温度に到達し
た時点から、その中心部の温度が前記所定温度に
到達する時点までの経過時だけ前記所定温度にて
被熱処理材料を加熱保持するようにされているこ
とから、被熱処理材料の所定温度における保持時
間を最適にとつた加熱を行うことが可能であり、
被熱処理材料の熱処理時の加熱に要する熱エネル
ギーならびに時間の無駄を排除することができ
る。
かかる熱処理装置においては、その加熱炉によつ
て被熱処理材料を所定温度に加熱するに際して、
被熱処理材料の表面温度が前記所定温度に到達し
た時点から、その中心部の温度が前記所定温度に
到達する時点までの経過時だけ前記所定温度にて
被熱処理材料を加熱保持するようにされているこ
とから、被熱処理材料の所定温度における保持時
間を最適にとつた加熱を行うことが可能であり、
被熱処理材料の熱処理時の加熱に要する熱エネル
ギーならびに時間の無駄を排除することができ
る。
なお、この発明は前記実施例装置に限定される
ものでなく、その加熱炉が被熱処理材料の所定温
度における加熱時に炉外へ放出する熱量に変動を
生じないものであればこのような加熱炉を備えた
熱処理装置に対しても適用することができる。
ものでなく、その加熱炉が被熱処理材料の所定温
度における加熱時に炉外へ放出する熱量に変動を
生じないものであればこのような加熱炉を備えた
熱処理装置に対しても適用することができる。
第1図はこの発明にかかる実施例装置全体の構
成を示す模式説明図、第2図はこの装置の加熱炉
におけるヒータへの供給電流と前記炉内に収容さ
れた被処理材料の温度との関係を時間経過につい
て示したグラフである。 11……加熱炉(真空加熱炉)、16……電気
ヒータ、30……温度センサー、31……PID演
算回路を備えた温度調節計、32……SCR調整
器、33……変流器、34……スイツチ、35…
…メータリレー式電流計、i……操作電流、I…
…ヒータへの供給電流、TS……被処理材料の表
面温度(炉内温度)、TC……被処理材料の中心部
の温度、ta……加熱最適保持時間、t2……飽和時
点。
成を示す模式説明図、第2図はこの装置の加熱炉
におけるヒータへの供給電流と前記炉内に収容さ
れた被処理材料の温度との関係を時間経過につい
て示したグラフである。 11……加熱炉(真空加熱炉)、16……電気
ヒータ、30……温度センサー、31……PID演
算回路を備えた温度調節計、32……SCR調整
器、33……変流器、34……スイツチ、35…
…メータリレー式電流計、i……操作電流、I…
…ヒータへの供給電流、TS……被処理材料の表
面温度(炉内温度)、TC……被処理材料の中心部
の温度、ta……加熱最適保持時間、t2……飽和時
点。
Claims (1)
- 1 電気ヒータと温度センサーとを加熱炉の内部
に有し、前記温度センサーからの検出信号を被熱
処理材料の所定加熱温度に対応する設定値と比較
し、その偏差を小ならしめ、両者を一致させるよ
うに前記電気ヒータへの供給電流を連続的に制御
し、被熱処理材料を前記所定温度に加熱昇温させ
るようにした加熱炉に併せて冷却装置を備えた熱
処理装置において、前記電気ヒータへの電流供給
回路に、電気ヒータへの供給電流値を計測し、供
給電流値の変化が停止する飽和値として予め設定
された電流値を計測した時点で、前記被熱処理材
料の所定温度における加熱保持を停止させるため
のスイツチを作動させる電流計を接続したことを
特徴とする熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2938282A JPS58147523A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2938282A JPS58147523A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | 熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58147523A JPS58147523A (ja) | 1983-09-02 |
| JPH0432130B2 true JPH0432130B2 (ja) | 1992-05-28 |
Family
ID=12274582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2938282A Granted JPS58147523A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58147523A (ja) |
-
1982
- 1982-02-24 JP JP2938282A patent/JPS58147523A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58147523A (ja) | 1983-09-02 |
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