JPH04321696A - 1−ハロゲノ−2−デオキシアミノ糖の製法 - Google Patents
1−ハロゲノ−2−デオキシアミノ糖の製法Info
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- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は抗腫瘍活性を示す化合物
の中間体の製法に関する。
の中間体の製法に関する。
【従来の技術】糖のハロゲン化法としては、臭化水素酸
−酢酸等によるブロム化、チオニルクロリド法、アセチ
ルクロリド等によるクロル化反応が一般的な方法がある
。しかしながら、糖が多くの官能基を有している場合、
例えば、一般式(I)で表わされるように、エステル基
、リン酸エステル基、ベンジルエーテル基及びアミノ基
等を有する場合には、それらの反応条件が強酸性である
ため、原料の分解や副反応を招くため、それらの方法が
適用できない場合がある。実際に、臭化水素酸−酢酸に
よるブロム化反応を式(Ia)に示す化合物に適用する
と、脱ベンジル化や糖3位の脂肪酸の分解等の反応がブ
ロム化反応と競争的に起こり、実質的合成法としては不
向きであった。 (式中、Y1は水酸基の保護基を意味し、Bnはベンジ
ル基を意味する。)
−酢酸等によるブロム化、チオニルクロリド法、アセチ
ルクロリド等によるクロル化反応が一般的な方法がある
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例えば、一般式(I)で表わされるように、エステル基
、リン酸エステル基、ベンジルエーテル基及びアミノ基
等を有する場合には、それらの反応条件が強酸性である
ため、原料の分解や副反応を招くため、それらの方法が
適用できない場合がある。実際に、臭化水素酸−酢酸に
よるブロム化反応を式(Ia)に示す化合物に適用する
と、脱ベンジル化や糖3位の脂肪酸の分解等の反応がブ
ロム化反応と競争的に起こり、実質的合成法としては不
向きであった。 (式中、Y1は水酸基の保護基を意味し、Bnはベンジ
ル基を意味する。)
【0002】
【発明が解決しようとする課題】従来の糖のハロゲン化
法は前記のような欠点があったが、安定性のよくない基
質の場合でも分解することなく、より緩和な条件で2−
デオキシアミノ糖の1−O−位をハロゲン化する効率的
な方法を見出すことが本発明の目的である。非プロトン
性溶媒中で、ジハロゲノメチレンジメチルアンモニウム
ハロゲナイドを用いることにより、高収率で1−ハロゲ
ノ体である化合物(II)及び/又は化合物(III)
を得る方法を見出し、本発明を完成した。
法は前記のような欠点があったが、安定性のよくない基
質の場合でも分解することなく、より緩和な条件で2−
デオキシアミノ糖の1−O−位をハロゲン化する効率的
な方法を見出すことが本発明の目的である。非プロトン
性溶媒中で、ジハロゲノメチレンジメチルアンモニウム
ハロゲナイドを用いることにより、高収率で1−ハロゲ
ノ体である化合物(II)及び/又は化合物(III)
を得る方法を見出し、本発明を完成した。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式I(式中
の記号は次の意味を有する。R1及びR2は同一又は異
なり、水素原子、置換基を有することもあるアシル基、
置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有する
こともあるアラルキル基、置換基を有することもあるア
ルキルオキシカルボニル基、置換基を有することもある
ベンジルオキシカルボニル基または置換基を有すること
もあるフェニルオキシカルボニル基を意味するか、R1
とR2が一緒になって置換基を有することもあるベンジ
リデン基またはR1とR2が一緒になって置換基を有す
ることもあるフタロイル基を意味することがある。R3
は、水素原子、置換基を有することもあるアシル基、置
換基を有することもあるアルキル基、置換基を有するこ
ともあるアラルキル基、置換基を有することもあるアル
キルオキシカルボニル基、置換基を有することもあるベ
ンジルオキシカルボニル基または置換基を有することも
あるフェニルオキシカルボニル基を意味する。 R4は、水素原子、置換基を有することもあるアシル基
、置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有す
ることもあるアラルキル基、置換基を有することもある
アルキルオキシカルボニル基、置換基を有することもあ
るベンジルオキシカルボニル基、置換基を有することも
あるフェニルオキシカルボニル基または保護されたホス
ホノ基を意味する。R5は、水素原子置換基を有するこ
ともあるアシル基、置換基を有することもあるアルキル
基、置換基を有することもあるアラルキル基、置換基を
有することもあるアルキルオキシカルボニル基、置換基
を有することもあるベンジルオキシカルボニル基または
置換基を有することもあるフェニルオキシカルボニル基
を意味する。)で示されるアミノ糖を、ジハロゲノメチ
レンジメチルアンモニウムハロゲナイドと反応させるこ
とを特徴とする、一般式II で表わされる化合物及び/又は一般式IIIで表わされ
る化合物の製造法に関する。
の記号は次の意味を有する。R1及びR2は同一又は異
なり、水素原子、置換基を有することもあるアシル基、
置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有する
こともあるアラルキル基、置換基を有することもあるア
ルキルオキシカルボニル基、置換基を有することもある
ベンジルオキシカルボニル基または置換基を有すること
もあるフェニルオキシカルボニル基を意味するか、R1
とR2が一緒になって置換基を有することもあるベンジ
リデン基またはR1とR2が一緒になって置換基を有す
ることもあるフタロイル基を意味することがある。R3
は、水素原子、置換基を有することもあるアシル基、置
換基を有することもあるアルキル基、置換基を有するこ
ともあるアラルキル基、置換基を有することもあるアル
キルオキシカルボニル基、置換基を有することもあるベ
ンジルオキシカルボニル基または置換基を有することも
あるフェニルオキシカルボニル基を意味する。 R4は、水素原子、置換基を有することもあるアシル基
、置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有す
ることもあるアラルキル基、置換基を有することもある
アルキルオキシカルボニル基、置換基を有することもあ
るベンジルオキシカルボニル基、置換基を有することも
あるフェニルオキシカルボニル基または保護されたホス
ホノ基を意味する。R5は、水素原子置換基を有するこ
ともあるアシル基、置換基を有することもあるアルキル
基、置換基を有することもあるアラルキル基、置換基を
有することもあるアルキルオキシカルボニル基、置換基
を有することもあるベンジルオキシカルボニル基または
置換基を有することもあるフェニルオキシカルボニル基
を意味する。)で示されるアミノ糖を、ジハロゲノメチ
レンジメチルアンモニウムハロゲナイドと反応させるこ
とを特徴とする、一般式II で表わされる化合物及び/又は一般式IIIで表わされ
る化合物の製造法に関する。
【0004】(上記式中、R1、R2、R3、R4及び
R5は前記に同じ。Xはハロゲン原子を意味し、R6は
、式−A1、−ZA2、−(CH2)n1CH(Q)−
N(Q1)−COA1、−(CH2)n1CH(Q)−
N(Q1)−COZA2、−(CH2)n2OCOA1
、−(CH2)n2OCOZA2、 −(CH2)n
2COA1、−(CH2)n2COZA2、−(CH2
)n2CO(CH2)n3N(Q1)COA1もしくは
−(CH2)n2CO(CH2)n3N(Q1)COZ
A2で表わされる基を意味する。A1は1つ以上のハロ
ゲン原子もしくは保護基を有する1つ以上の水酸基が置
換することもある炭素数1〜30のアルキル基、置換基
を有することもあるフェニル基、置換基を有することも
あるベンジル基または水素原子を、A2は保護基を有す
る水酸基が置換することもある炭素数3〜12の環状ア
ルキル基を、Qは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基
、−CONH2、−COOY4又は−CH2OY5を(
Y4はカルボキシル基の保護基を、Y5は水酸基の保護
基を意味する。)Zは炭素数1〜9のアルキレン基を、
Q1は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を、n
1は0〜10の整数を、n2及びn3はそれぞれ1〜2
0の整数を意味する。)
R5は前記に同じ。Xはハロゲン原子を意味し、R6は
、式−A1、−ZA2、−(CH2)n1CH(Q)−
N(Q1)−COA1、−(CH2)n1CH(Q)−
N(Q1)−COZA2、−(CH2)n2OCOA1
、−(CH2)n2OCOZA2、 −(CH2)n
2COA1、−(CH2)n2COZA2、−(CH2
)n2CO(CH2)n3N(Q1)COA1もしくは
−(CH2)n2CO(CH2)n3N(Q1)COZ
A2で表わされる基を意味する。A1は1つ以上のハロ
ゲン原子もしくは保護基を有する1つ以上の水酸基が置
換することもある炭素数1〜30のアルキル基、置換基
を有することもあるフェニル基、置換基を有することも
あるベンジル基または水素原子を、A2は保護基を有す
る水酸基が置換することもある炭素数3〜12の環状ア
ルキル基を、Qは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基
、−CONH2、−COOY4又は−CH2OY5を(
Y4はカルボキシル基の保護基を、Y5は水酸基の保護
基を意味する。)Zは炭素数1〜9のアルキレン基を、
Q1は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を、n
1は0〜10の整数を、n2及びn3はそれぞれ1〜2
0の整数を意味する。)
【0005】化合物(I)、化
合物(II)及び化合物(III)の置換基について説
明する。置換基を有することもあるアシル基としては、
次の式で表わされるものを例示することができる。−C
OA1、 −COZA2、 −CO(CH2)n1
CH(Q)−N(Q1)−COA1、−CO(CH2)
n1CH(Q)−N(Q1)−COZA2、 −CO
(CH2)n2OCOA1、−CO(CH2)n2OC
OZA2、 −CO(CH2)n2COA1、−CO
(CH2)n2COZA2、−CO(CH2)n2CO
(CH2)n3N(Q1)COA1または−CO(CH
2)n2CO(CH2)n3N(Q1)COZA2
(A1は1つ以上のハロゲン原子もしくは保護
された1つ以上の水酸基を有することもある炭素数1〜
30のアルキル基、置換基を有することもあるフェニル
基、置換基を有することもあるベンジル基または水素原
子を、A2は保護基を有する水酸基が置換することもあ
る炭素数3〜12の環状アルキル基を、Qは水素、炭素
数1〜6のアルキル基、−CONH2、−COOY4又
は−CH2OY5を(Y4はカルボキシル基の保護基を
、Y5は水酸基の保護基を意味する。)Zは炭素数1〜
9のアルキレン基を、Q1は水素原子又は炭素数1〜2
0のアルキル基を、n1は0〜10の整数を、n2及び
n3はそれぞれ1〜20の整数を意味する。)
合物(II)及び化合物(III)の置換基について説
明する。置換基を有することもあるアシル基としては、
次の式で表わされるものを例示することができる。−C
OA1、 −COZA2、 −CO(CH2)n1
CH(Q)−N(Q1)−COA1、−CO(CH2)
n1CH(Q)−N(Q1)−COZA2、 −CO
(CH2)n2OCOA1、−CO(CH2)n2OC
OZA2、 −CO(CH2)n2COA1、−CO
(CH2)n2COZA2、−CO(CH2)n2CO
(CH2)n3N(Q1)COA1または−CO(CH
2)n2CO(CH2)n3N(Q1)COZA2
(A1は1つ以上のハロゲン原子もしくは保護
された1つ以上の水酸基を有することもある炭素数1〜
30のアルキル基、置換基を有することもあるフェニル
基、置換基を有することもあるベンジル基または水素原
子を、A2は保護基を有する水酸基が置換することもあ
る炭素数3〜12の環状アルキル基を、Qは水素、炭素
数1〜6のアルキル基、−CONH2、−COOY4又
は−CH2OY5を(Y4はカルボキシル基の保護基を
、Y5は水酸基の保護基を意味する。)Zは炭素数1〜
9のアルキレン基を、Q1は水素原子又は炭素数1〜2
0のアルキル基を、n1は0〜10の整数を、n2及び
n3はそれぞれ1〜20の整数を意味する。)
【0006】置換基を有することもあるアルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、第三ブチル基等をあげることが
できる。
ては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、第三ブチル基等をあげることが
できる。
【0007】置換基を有することもあるアラルキル基と
しては、ベンジル基、p−メトキシベンジル基のごとき
アルコキシベンジル基、p−クロルベンジル基等のハロ
ゲノベンジル基、p−メチルベンジル基のごときアルキ
ルベンジル基等をあげることができる。置換基を有する
こともあるアルキルオキシカルボニル基としては、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、第三ブトキ
シカルボニル基及びトリクロロエトキシカルボニル基の
ごときハロゲノアルコキシカルボニル基等をあげること
ができる。
しては、ベンジル基、p−メトキシベンジル基のごとき
アルコキシベンジル基、p−クロルベンジル基等のハロ
ゲノベンジル基、p−メチルベンジル基のごときアルキ
ルベンジル基等をあげることができる。置換基を有する
こともあるアルキルオキシカルボニル基としては、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、第三ブトキ
シカルボニル基及びトリクロロエトキシカルボニル基の
ごときハロゲノアルコキシカルボニル基等をあげること
ができる。
【0008】置換基を有することもあるベンジルオキシ
カルボニル基としては、p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基のごときアルコキシベンジルオキシカルボニ
ル基、p−クロルベンジルオキシカルボニル基のごとき
ハロゲノベンジルオキシカルボニル基及びp−メチルベ
ンジルオキシカルボニル基のごときアルキルベンジルオ
キシカルボニル基等をあげることができる。置換基を有
することもあるフェニルオキシカルボニル基としては、
p−メトキシフェニルオキシカルボニル基のごときアル
コキシフェニルオキシカルボニル基、p−クロルフェニ
ルオキシカルボニル基のごときハロゲノフェニルオキシ
カルボニル基及びp−メチルフェニルオキシカルボニル
基のごときアルキルフェニルオキシカルボニル基等をあ
げることができる。R1及びR2が一緒になった置換基
を有することもあるベンジリデン基としては、p−ニト
ロベンジリデン基及びp−クロロベンジリデン基等をあ
げることができる。保護されたホスホノ基としては、ジ
メチルホスホノ基、ジエチルホスホノ基、ベンジルホス
ホノ基およびフェニルホスホノ基等をあげることができ
る。
カルボニル基としては、p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基のごときアルコキシベンジルオキシカルボニ
ル基、p−クロルベンジルオキシカルボニル基のごとき
ハロゲノベンジルオキシカルボニル基及びp−メチルベ
ンジルオキシカルボニル基のごときアルキルベンジルオ
キシカルボニル基等をあげることができる。置換基を有
することもあるフェニルオキシカルボニル基としては、
p−メトキシフェニルオキシカルボニル基のごときアル
コキシフェニルオキシカルボニル基、p−クロルフェニ
ルオキシカルボニル基のごときハロゲノフェニルオキシ
カルボニル基及びp−メチルフェニルオキシカルボニル
基のごときアルキルフェニルオキシカルボニル基等をあ
げることができる。R1及びR2が一緒になった置換基
を有することもあるベンジリデン基としては、p−ニト
ロベンジリデン基及びp−クロロベンジリデン基等をあ
げることができる。保護されたホスホノ基としては、ジ
メチルホスホノ基、ジエチルホスホノ基、ベンジルホス
ホノ基およびフェニルホスホノ基等をあげることができ
る。
【0009】Y4におけるカルボキシル基の保護基とし
ては、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルコキシ基等の
置換基を有することもあるベンジル基のごとき加水分解
反応で除去可能なもの及び低級アルキル基等を挙げるこ
とができる。Y5またはA1における水酸基の保護基と
しては、前述の、置換基を有することもあるアシル基、
置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有する
こともあるアラルキル基、置換基を有することもあるア
ルキルオキシカルボニル基、置換基を有することもある
ベンジルオキシカルボニル基および置換基を有すること
もあるフェニルオキシカルボニル基をあげることができ
る。
ては、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アルコキシ基等の
置換基を有することもあるベンジル基のごとき加水分解
反応で除去可能なもの及び低級アルキル基等を挙げるこ
とができる。Y5またはA1における水酸基の保護基と
しては、前述の、置換基を有することもあるアシル基、
置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有する
こともあるアラルキル基、置換基を有することもあるア
ルキルオキシカルボニル基、置換基を有することもある
ベンジルオキシカルボニル基および置換基を有すること
もあるフェニルオキシカルボニル基をあげることができ
る。
【0010】次に、本発明の製造法について詳細に説明
する。すなわち、化合物(I)とジハロゲノメチレンジ
メチルアンモニウムハロゲナイド(例えばホスゲンイミ
ニウムクロライド)(V)と反応させるとき、糖2位の
アミノ基の置換基R1及びR2が前記の置換基の中でア
シル基以外の場合は、1−ハロゲノ体(II)が生成す
る。一方、R1及びR2がアシル基である場合、すなわ
ち、2位アミノ基の置換基がアシル基の場合は、上述と
同様の条件下で1−ハロゲノ体(II)とオキサゾリン
体(III)の混合物が得られる。この反応の溶媒とし
ては、通常非プロトン性溶媒が用いられ、好ましくはク
ロロホルム、ジクロルメタン又はジクロルエタン等のハ
ロゲン系溶媒が用いられ、反応は−50℃から50℃で
行うのが好ましく、通常0℃乃至室温で行ない、ジハロ
ゲノメチレンジメチルアンモニウムハロゲナイド(V)
は通常1〜3当量を使用する。
する。すなわち、化合物(I)とジハロゲノメチレンジ
メチルアンモニウムハロゲナイド(例えばホスゲンイミ
ニウムクロライド)(V)と反応させるとき、糖2位の
アミノ基の置換基R1及びR2が前記の置換基の中でア
シル基以外の場合は、1−ハロゲノ体(II)が生成す
る。一方、R1及びR2がアシル基である場合、すなわ
ち、2位アミノ基の置換基がアシル基の場合は、上述と
同様の条件下で1−ハロゲノ体(II)とオキサゾリン
体(III)の混合物が得られる。この反応の溶媒とし
ては、通常非プロトン性溶媒が用いられ、好ましくはク
ロロホルム、ジクロルメタン又はジクロルエタン等のハ
ロゲン系溶媒が用いられ、反応は−50℃から50℃で
行うのが好ましく、通常0℃乃至室温で行ない、ジハロ
ゲノメチレンジメチルアンモニウムハロゲナイド(V)
は通常1〜3当量を使用する。
【0011】本発明方法で得られる化合物(II)及び
化合物(III)は、既知のグリコシル化反応を用いる
ことにより、種々の2−デオキシアミノグルコピラノシ
ドに誘導することができる。すなわち、化合物(II)
及び化合物(III)は抗腫瘍効果を有する式(IV)
に表わされるリピッドA誘導体の中間体として重要な化
合物である。 (式中、Rは、−Z3P(O)(OH)2 又は−C
H(Z1COOH)(Z2COOH)を、Z1、Z2及
びZ3は、炭素数1〜6のアルキレン基を意味し、R1
1、R12、R13及びR14は、それぞれ−COA1
1、−COZA21、−CO(CH2)n1C(Q)H
−N(Q1)−COZA11、−CO(CH2)n1C
(Q)H−N(Q1)−COZA21、−CO(CH2
)n2OCOA11、−CO(CH2)n2OCOA2
1、−CO(CH2)n2COA11、−CO(CH2
)n2COZA21、−CO(CH2)n2CO(CH
2)n3N(Q1)COA11又は−CO(CH2)n
2CO(CH2)n3N(Q1)COZA21を、A1
1は1つ以上の水酸基を有することもある炭素数1〜3
0のアルキル基を、A21は1つ以上の水酸基を有する
こともある炭素数3〜12の環状アルキル基を、Qは水
素、炭素数1〜6のアルキル基、−CONH2,−CO
OH又は−CH2OHを、Zは炭素数1〜9のアルキレ
ン基を、Q1は水素又は炭素数1〜20のアルキル基を
、n1は1〜10の整数を、n2及びn3はそれぞれ1
〜20の整数を意味する。)
化合物(III)は、既知のグリコシル化反応を用いる
ことにより、種々の2−デオキシアミノグルコピラノシ
ドに誘導することができる。すなわち、化合物(II)
及び化合物(III)は抗腫瘍効果を有する式(IV)
に表わされるリピッドA誘導体の中間体として重要な化
合物である。 (式中、Rは、−Z3P(O)(OH)2 又は−C
H(Z1COOH)(Z2COOH)を、Z1、Z2及
びZ3は、炭素数1〜6のアルキレン基を意味し、R1
1、R12、R13及びR14は、それぞれ−COA1
1、−COZA21、−CO(CH2)n1C(Q)H
−N(Q1)−COZA11、−CO(CH2)n1C
(Q)H−N(Q1)−COZA21、−CO(CH2
)n2OCOA11、−CO(CH2)n2OCOA2
1、−CO(CH2)n2COA11、−CO(CH2
)n2COZA21、−CO(CH2)n2CO(CH
2)n3N(Q1)COA11又は−CO(CH2)n
2CO(CH2)n3N(Q1)COZA21を、A1
1は1つ以上の水酸基を有することもある炭素数1〜3
0のアルキル基を、A21は1つ以上の水酸基を有する
こともある炭素数3〜12の環状アルキル基を、Qは水
素、炭素数1〜6のアルキル基、−CONH2,−CO
OH又は−CH2OHを、Zは炭素数1〜9のアルキレ
ン基を、Q1は水素又は炭素数1〜20のアルキル基を
、n1は1〜10の整数を、n2及びn3はそれぞれ1
〜20の整数を意味する。)
【0012】次に、原料化
合物(I)の製造方法について説明する。 (式中、Y1は水素、炭素数1〜3基のアルキル基若し
くはハロゲン原子で置換されることもあるベンジル基、
アルキル基、アルケニル基を、Y2はホスホノ基の保護
基を、Y3は水素、水酸基の保護基又はベンジル基を、
Q3は置換基を有することもあるベンジリデン基を意味
し、R7はアシル基を意味する。R1、R2及びR3は
前記に同じ。)
合物(I)の製造方法について説明する。 (式中、Y1は水素、炭素数1〜3基のアルキル基若し
くはハロゲン原子で置換されることもあるベンジル基、
アルキル基、アルケニル基を、Y2はホスホノ基の保護
基を、Y3は水素、水酸基の保護基又はベンジル基を、
Q3は置換基を有することもあるベンジリデン基を意味
し、R7はアシル基を意味する。R1、R2及びR3は
前記に同じ。)
【0013】化合物(X)をテトラヒドロフラン(TH
F)、ジエチルエーテル等の非プロトン性溶媒に溶解し
、1〜10当量の水素化シアノホウ素ナトリウム(Na
BH3CN)を加え、その後、ジオキサン中に4M塩化
水素を含む溶液(塩化水素−ジオキサン溶液)又はジエ
チルエーテル中に4Mの塩化水素を含む溶液を加えて反
応を行い、化合物(XI)を得る。この反応は、通常−
20゜C乃至室温で行ない、好ましくは0゜C付近で行
う。本反応はGaregg等の方法(Carbohyd
r.Res.,93:C10,1980)が参考にでき
る。化合物(XI)はメチレンクロライド等の塩素系溶
媒又はトルエン等の非プロトン性溶媒中三級アミン等の
塩基存在下で、一般式(Y2O)2PO−X3(式中、
X3はハロゲン原子を意味し、Y2は前記に同じ。)で
示される化合物と反応させることにより、式(X11)
の化合物を製造することができる。
F)、ジエチルエーテル等の非プロトン性溶媒に溶解し
、1〜10当量の水素化シアノホウ素ナトリウム(Na
BH3CN)を加え、その後、ジオキサン中に4M塩化
水素を含む溶液(塩化水素−ジオキサン溶液)又はジエ
チルエーテル中に4Mの塩化水素を含む溶液を加えて反
応を行い、化合物(XI)を得る。この反応は、通常−
20゜C乃至室温で行ない、好ましくは0゜C付近で行
う。本反応はGaregg等の方法(Carbohyd
r.Res.,93:C10,1980)が参考にでき
る。化合物(XI)はメチレンクロライド等の塩素系溶
媒又はトルエン等の非プロトン性溶媒中三級アミン等の
塩基存在下で、一般式(Y2O)2PO−X3(式中、
X3はハロゲン原子を意味し、Y2は前記に同じ。)で
示される化合物と反応させることにより、式(X11)
の化合物を製造することができる。
【0014】次に、化合物(XII)の2位のアミノ基
の保護基を通常の方法で除去して化合物(XIII)に
導く。例えば、R1又はR2がトリクロロエトキシカル
ボニル基の場合は、酢酸中、亜鉛で処理する。これを、
一般式R7OHで示されるカルボン酸と常法にて縮合さ
せて化合物(XIV)を得る。化合物(XIII)をメ
チレンクロライド等の塩素系溶媒又はトルエン等の非プ
ロトン性溶媒に溶解し、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ドの存在下で、ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒ
ドロキシサクシンイミド又はN−ヒドロキシ−5−ノル
ボルネン−2,3−ジカルボン酸イミド等の活性エステ
ル化剤とカルボン酸(R7OH)を加えて反応させ、1
−O−位の脱保護を行い、化合物(I)を製造する。原
料化合物を得る最終工程として、化合物(XIV)又は
化合物(XII)の1−0−位(Y1)の脱保護の後、
それぞれ、原料化合物(I)又は(Ia)を得る。
の保護基を通常の方法で除去して化合物(XIII)に
導く。例えば、R1又はR2がトリクロロエトキシカル
ボニル基の場合は、酢酸中、亜鉛で処理する。これを、
一般式R7OHで示されるカルボン酸と常法にて縮合さ
せて化合物(XIV)を得る。化合物(XIII)をメ
チレンクロライド等の塩素系溶媒又はトルエン等の非プ
ロトン性溶媒に溶解し、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ドの存在下で、ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒ
ドロキシサクシンイミド又はN−ヒドロキシ−5−ノル
ボルネン−2,3−ジカルボン酸イミド等の活性エステ
ル化剤とカルボン酸(R7OH)を加えて反応させ、1
−O−位の脱保護を行い、化合物(I)を製造する。原
料化合物を得る最終工程として、化合物(XIV)又は
化合物(XII)の1−0−位(Y1)の脱保護の後、
それぞれ、原料化合物(I)又は(Ia)を得る。
【0015】
【実施例1】6−O−ベンジル−1−クロロ−3−0−
ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニル)−D−グルコサミン 4−ジフ
ェニルホスフェート(2): (−GlyC12=−COCH2NH−CO(CH2)
10CH3; −Troc=−CO−OCH2CCl
3) 6−O−ベンジル−3−0−(N−ドデカノイルグリシ
ル)−N−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニ
ル)−D−グルコサミン 4−ジフェニルホスフェー
ト (2)の588mgをメチレンクロライド10m
lに溶解し、氷冷しながらホスゲンイミニウムクロライ
ド313mgを加えた。試薬添加後、室温に戻し、4.
5時間攪拌した。反応後、飽和重曹水を加え、メチレン
クロライドで抽出した。次に、有機層を飽和食塩水で洗
浄し、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒を留去して黄色油状
物を得た。さらに、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、淡黄色油状物の化合物(2) 5
66.3mgを得た。
ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニル)−D−グルコサミン 4−ジフ
ェニルホスフェート(2): (−GlyC12=−COCH2NH−CO(CH2)
10CH3; −Troc=−CO−OCH2CCl
3) 6−O−ベンジル−3−0−(N−ドデカノイルグリシ
ル)−N−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニ
ル)−D−グルコサミン 4−ジフェニルホスフェー
ト (2)の588mgをメチレンクロライド10m
lに溶解し、氷冷しながらホスゲンイミニウムクロライ
ド313mgを加えた。試薬添加後、室温に戻し、4.
5時間攪拌した。反応後、飽和重曹水を加え、メチレン
クロライドで抽出した。次に、有機層を飽和食塩水で洗
浄し、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒を留去して黄色油状
物を得た。さらに、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、淡黄色油状物の化合物(2) 5
66.3mgを得た。
【0016】
【実施例2】6−O−ベンシル−1−クロル−3−0−
(N−ドデカノイルグリシル)−N−テトラデカノイル
−D−グルコサミン 4−ジフェニルホスフェート(
4): 6−O−ベンジル−3−0−(N−ドデカノイルグリシ
ル)−N−テトラデカノイル−D−グルコサミン 4
−ジフェニルホスフェー卜 (3)の100mgをメ
チレンクロライド2mlに溶解し、氷冷しながらホスゲ
ンイミニウムクロライド53mgを加えた。本試薬添加
後、室温に戻し、1.5時間攪拌した。反応後、飽和重
曹水を加え、メチレンクロライドで抽出した。次に、有
機層を飽和食塩水で洗浄、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒
を留去して黄色油状物を得た。さらに、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(4)5
6.9mg及び2−トリデカニル−4,5−[6’−O
−ベンジル−3’−O−(N−ドデカノイルグリシル)
−2’−デオキシ−α−D−グルコピラノ]−△2−オ
キサゾリン 4’−ジフェニルホスフェイト 化合
物(5)25.3mgを得た。
(N−ドデカノイルグリシル)−N−テトラデカノイル
−D−グルコサミン 4−ジフェニルホスフェート(
4): 6−O−ベンジル−3−0−(N−ドデカノイルグリシ
ル)−N−テトラデカノイル−D−グルコサミン 4
−ジフェニルホスフェー卜 (3)の100mgをメ
チレンクロライド2mlに溶解し、氷冷しながらホスゲ
ンイミニウムクロライド53mgを加えた。本試薬添加
後、室温に戻し、1.5時間攪拌した。反応後、飽和重
曹水を加え、メチレンクロライドで抽出した。次に、有
機層を飽和食塩水で洗浄、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒
を留去して黄色油状物を得た。さらに、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(4)5
6.9mg及び2−トリデカニル−4,5−[6’−O
−ベンジル−3’−O−(N−ドデカノイルグリシル)
−2’−デオキシ−α−D−グルコピラノ]−△2−オ
キサゾリン 4’−ジフェニルホスフェイト 化合
物(5)25.3mgを得た。
【0017】
【実施例3】1−クロロ−3,4,6−O−トリアセチ
ル−N−(2,4−ジニトロフェニル)−D−グルコサ
ミン(7): 3,4,6−O−トリアセチル−N−(2,4−ジニト
ロフェニル)−D−グルコサミン (6)の50mg
をメチレンクロライド2mlに溶解し、氷冷しながらホ
スゲンイミニウムクロライド50mgを加えた。本試薬
添加後、徐々に室温に戻し、6時間攪拌した。反応後に
水を加え、メチレンクロライドで抽出した。次に、有機
層を飽和食塩水で洗浄し、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒
を留去して黄色油状物を得た。さらに、残渣を分取用薄
層クロマトグラフィーで精製し、淡黄色油状物である化
合物(7)49.0mgを得た。
ル−N−(2,4−ジニトロフェニル)−D−グルコサ
ミン(7): 3,4,6−O−トリアセチル−N−(2,4−ジニト
ロフェニル)−D−グルコサミン (6)の50mg
をメチレンクロライド2mlに溶解し、氷冷しながらホ
スゲンイミニウムクロライド50mgを加えた。本試薬
添加後、徐々に室温に戻し、6時間攪拌した。反応後に
水を加え、メチレンクロライドで抽出した。次に、有機
層を飽和食塩水で洗浄し、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒
を留去して黄色油状物を得た。さらに、残渣を分取用薄
層クロマトグラフィーで精製し、淡黄色油状物である化
合物(7)49.0mgを得た。
【0018】
【実施例4】1−クロロ−3,4,6−O−トリアセチ
ル−N−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
)−D−グルコサミン(9); 3,4,6−O−トリアセチル−N−(2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン
(8)の60mgをメチレンクロライド2mlに溶解し
、氷浴で冷却しながらホスゲンイミニウムクロライド6
0mgを加えた。その後、徐々に室温に戻し、同温にて
2時間攪拌した。反応後、水を加えて過剰の試薬を分解
し、メチレンクロライドで抽出した。次に有機層を飽和
食塩水で洗浄、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒を留去して
黄色油状物を得た。さらに、残渣を分取用薄層クロマト
グラフィーで精製し、淡黄色油状物である化合物(9)
53.4mgを得た。
ル−N−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
)−D−グルコサミン(9); 3,4,6−O−トリアセチル−N−(2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン
(8)の60mgをメチレンクロライド2mlに溶解し
、氷浴で冷却しながらホスゲンイミニウムクロライド6
0mgを加えた。その後、徐々に室温に戻し、同温にて
2時間攪拌した。反応後、水を加えて過剰の試薬を分解
し、メチレンクロライドで抽出した。次に有機層を飽和
食塩水で洗浄、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒を留去して
黄色油状物を得た。さらに、残渣を分取用薄層クロマト
グラフィーで精製し、淡黄色油状物である化合物(9)
53.4mgを得た。
【0019】
【参考例1】2−ベンジルオキシカルボニル−1−(ベ
ンジルオキシカルボニルメチル)エチル 2−デオキ
シ−6−0−(6′−O−ベンジル−2′−デオキシ−
3′−0−ドデカノイルグリシル−2′−テトラデカノ
イルアミノ−β−D−グルコピラノシル)−3−0−ド
デカノイルグリシル−2−テトラデカノイルアミノ−α
−D−グルコピラノシド 4′−ジフェニルホスフェ
イト(12):ナス型フラスコにモレキュラーシーブス
4A(粉末)500mgと塩化亜鉛73mgとを入れ、
乾燥した。これに、ジクロルメタン10mlに溶解した
化合物(11)456mgと黄色油状物の残渣(8)4
57mgを加え、加熱還流下、7時間反応した。原料の
消失をTLC(クロロホルム:メタノール=20:1)
で確認後、不溶物をセライトで濾去し、ジクロルメタン
で洗浄した。次に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム及
び飽和食塩水で洗浄し、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒を
留去して淡黄色粉末結晶の化合物(12)426mgを
得た。
ンジルオキシカルボニルメチル)エチル 2−デオキ
シ−6−0−(6′−O−ベンジル−2′−デオキシ−
3′−0−ドデカノイルグリシル−2′−テトラデカノ
イルアミノ−β−D−グルコピラノシル)−3−0−ド
デカノイルグリシル−2−テトラデカノイルアミノ−α
−D−グルコピラノシド 4′−ジフェニルホスフェ
イト(12):ナス型フラスコにモレキュラーシーブス
4A(粉末)500mgと塩化亜鉛73mgとを入れ、
乾燥した。これに、ジクロルメタン10mlに溶解した
化合物(11)456mgと黄色油状物の残渣(8)4
57mgを加え、加熱還流下、7時間反応した。原料の
消失をTLC(クロロホルム:メタノール=20:1)
で確認後、不溶物をセライトで濾去し、ジクロルメタン
で洗浄した。次に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム及
び飽和食塩水で洗浄し、ボウ硝で乾燥後、減圧下溶媒を
留去して淡黄色粉末結晶の化合物(12)426mgを
得た。
【0020】
【参考例2】2−カルボキシ−1−(カルボキシメチル
)エチル 2−デオキシ−6−0−(2′−デオキシ
−3′−0−ドデカノイルグリシル−2′−テトラデカ
ノイルアミノ−β−D−グルコピラノシル)−3−0−
ドデカノイルグリシル−2−テトラデカノイルアミノ−
α−D−グルコピラノシド 4′−ジフェニルホスフ
ェイト(13):化合物(12)100 mgに10
% パラジウム炭素(Pd−C)100mg及び二酸
化白金(PtO2)100mg更に、THF−H2O(
9:1)10mlを加え、40℃の温浴中で、水素気流
下、加水素分解を行なった。30分毎に、TLCで反応
の進行を確認し、二酸化白金100mgずつ追加しなが
ら4.5時間反応(合計5回追加)した。反応終了後、
触媒を濾去し、反応溶媒を減圧にて留去し、白色粉末化
合物(13)55.6mgを得た。
)エチル 2−デオキシ−6−0−(2′−デオキシ
−3′−0−ドデカノイルグリシル−2′−テトラデカ
ノイルアミノ−β−D−グルコピラノシル)−3−0−
ドデカノイルグリシル−2−テトラデカノイルアミノ−
α−D−グルコピラノシド 4′−ジフェニルホスフ
ェイト(13):化合物(12)100 mgに10
% パラジウム炭素(Pd−C)100mg及び二酸
化白金(PtO2)100mg更に、THF−H2O(
9:1)10mlを加え、40℃の温浴中で、水素気流
下、加水素分解を行なった。30分毎に、TLCで反応
の進行を確認し、二酸化白金100mgずつ追加しなが
ら4.5時間反応(合計5回追加)した。反応終了後、
触媒を濾去し、反応溶媒を減圧にて留去し、白色粉末化
合物(13)55.6mgを得た。
【0021】
【参考例3】1−0−アリル−6−0−ベンジル−3−
O−ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン(15)
: 1−0−アリル−4,6−0−ベンジリデンン−3−0
−ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリクロ
ロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン(14)
5.0gをTHF100mlに溶解し、水素化シアノ
ホウ素ナトリウム(NaBH3CN)4.35gとモレ
キュラーシーブス4Aを加え、氷冷下攪拌した。次に、
4M塩化水素−ジオキサン溶液約8mlを加え(HCN
ガス発生)、pH1〜2であることを確認後、氷冷下で
30分攪拌した。TLCで反応の終了を確認した後飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて過剰の試薬を分解(
HCNガス発生)した。溶媒を留去後、ジクロルメタン
で抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で洗浄、ボウ硝で乾燥した後、抽出溶媒を留去して粗
晶を得た。さらに、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、無色粉末結晶の化合物(15) 3.
83gを得た。
O−ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン(15)
: 1−0−アリル−4,6−0−ベンジリデンン−3−0
−ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリクロ
ロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン(14)
5.0gをTHF100mlに溶解し、水素化シアノ
ホウ素ナトリウム(NaBH3CN)4.35gとモレ
キュラーシーブス4Aを加え、氷冷下攪拌した。次に、
4M塩化水素−ジオキサン溶液約8mlを加え(HCN
ガス発生)、pH1〜2であることを確認後、氷冷下で
30分攪拌した。TLCで反応の終了を確認した後飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて過剰の試薬を分解(
HCNガス発生)した。溶媒を留去後、ジクロルメタン
で抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で洗浄、ボウ硝で乾燥した後、抽出溶媒を留去して粗
晶を得た。さらに、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、無色粉末結晶の化合物(15) 3.
83gを得た。
【0022】
【参考例4】1−0−アリル−6−0−ベンジル−3−
0−ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン 4−
ジフェニルホスフェイト(16): 1−0−アリル−6−0−ベンジル−3−0−ドデカノ
イルグリシル−2−N−トリクロロエトキシカルボニル
−D−グルコサミン (15)の3.83gをジクロ
ルメタン40mlに溶解し、ピリジン 2.1ml、
ジメチルアミノピリジン(DMAP)970mg及びジ
フェニルホスホクロリデート 2.13g(1.64
ml)を氷冷下加えた。次に、徐々に室温に戻し、1.
5時間攪拌した。TLCで反応の終了を確認後、溶媒を
留去して、残渣を酢酸エチルエステルに溶解した。さら
に、1N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和
食塩水で洗浄し、ボウ硝で乾燥した後溶媒を留去して淡
黄色油状物5.83gを得た。さらにまた、フラッシュ
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3)に
て精製し、n−ヘキサンで結晶化し、白色結晶の化合物
(16) 4.67gを得た。
0−ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン 4−
ジフェニルホスフェイト(16): 1−0−アリル−6−0−ベンジル−3−0−ドデカノ
イルグリシル−2−N−トリクロロエトキシカルボニル
−D−グルコサミン (15)の3.83gをジクロ
ルメタン40mlに溶解し、ピリジン 2.1ml、
ジメチルアミノピリジン(DMAP)970mg及びジ
フェニルホスホクロリデート 2.13g(1.64
ml)を氷冷下加えた。次に、徐々に室温に戻し、1.
5時間攪拌した。TLCで反応の終了を確認後、溶媒を
留去して、残渣を酢酸エチルエステルに溶解した。さら
に、1N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和
食塩水で洗浄し、ボウ硝で乾燥した後溶媒を留去して淡
黄色油状物5.83gを得た。さらにまた、フラッシュ
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3)に
て精製し、n−ヘキサンで結晶化し、白色結晶の化合物
(16) 4.67gを得た。
【0023】
【参考例5】6−0−ベンジル−1−ハイドロキシ−3
−0−ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリ
クロロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン4−ジ
フェニルホスフェイト(1): 1−0−アリル−6−0−ベンジル−3−0−ドデカノ
イルグリシル−N−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニル)−D−グルコサミン 4−ジフェニルホ
スフェイト(16)の175mgを酢酸5mlに溶解し
、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 6
5mgを加えてアルゴン置換を行なった。次に、80℃
の油浴中で30分間攪拌し、反応させた。反応終了後、
溶媒を留去し、残渣をフラッシュシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(CHCl3〜CHCl3:aceto
ne=20:1)にて精製し、n−ヘキサンで結晶化し
て、白色結晶の化合物(1)120.4 mgを得た
。
−0−ドデカノイルグリシル−N−(2,2,2−トリ
クロロエトキシカルボニル)−D−グルコサミン4−ジ
フェニルホスフェイト(1): 1−0−アリル−6−0−ベンジル−3−0−ドデカノ
イルグリシル−N−(2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニル)−D−グルコサミン 4−ジフェニルホ
スフェイト(16)の175mgを酢酸5mlに溶解し
、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 6
5mgを加えてアルゴン置換を行なった。次に、80℃
の油浴中で30分間攪拌し、反応させた。反応終了後、
溶媒を留去し、残渣をフラッシュシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(CHCl3〜CHCl3:aceto
ne=20:1)にて精製し、n−ヘキサンで結晶化し
て、白色結晶の化合物(1)120.4 mgを得た
。
【0024】
【発明の効果】本発明にかかわる式(I)の製造法は、
優れた抗腫瘍活性を有する式(IV)で示される化合物
の製造中間体の製造法であるばかりでなく、2−デオキ
シアミノ糖の1位をハロゲン化する方法として優れたも
のである。
優れた抗腫瘍活性を有する式(IV)で示される化合物
の製造中間体の製造法であるばかりでなく、2−デオキ
シアミノ糖の1位をハロゲン化する方法として優れたも
のである。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式I (式中の記号は次の意味を有する。R1及びR2は同一
又は異なり、水素原子、置換基を有することもあるアシ
ル基、置換基を有することもあるアルキル基、置換基を
有することもあるアラルキル基、置換基を有することも
あるアルキルオキシカルボニル基、置換基を有すること
もあるベンジルオキシカルボニル基または置換基を有す
ることもあるフェニルオキシカルボニル基を意味するか
、R1とR2が一緒になって置換基を有することもある
ベンジリデン基またはR1とR2が一緒になって置換基
を有することもあるフタロイル基を意味することがある
。R3は、水素原子、置換基を有することもあるアシル
基、置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有
することもあるアラルキル基、置換基を有することもあ
るアルキルオキシカルボニル基、置換基を有することも
あるベンジルオキシカルボニル基または置換基を有する
こともあるフェニルオキシカルボニル基を意味する。 R4は、水素原子、置換基を有することもあるアシル基
、置換基を有することもあるアルキル基、置換基を有す
ることもあるアラルキル基、置換基を有することもある
アルキルオキシカルボニル基、置換基を有することもあ
るベンジルオキシカルボニル基、置換基を有することも
あるフェニルオキシカルボニル基または保護されたホス
ホノ基を意味する。R5は、水素原子置換基を有するこ
ともあるアシル基、置換基を有することもあるアルキル
基、置換基を有することもあるアラルキル基、置換基を
有することもあるアルキルオキシカルボニル基、置換基
を有することもあるベンジルオキシカルボニル基または
置換基を有することもあるフェニルオキシカルボニル基
を意味する。)で示されるアミノ糖を、ジハロゲノメチ
レンジメチルアンモニウムハロゲナイドと反応させるこ
とを特徴とする、一般式II で表わされる化合物及び/又は一般式IIIで表わされ
る化合物の製造法。(上記式中、R1、R2、R3、R
4及びR5は前記に同じ。Xはハロゲン原子を意味し、
R6は、式−A1、−ZA2、−(CH2)n1CH(
Q)−N(Q1)−COA1、−(CH2)n1CH(
Q)−N(Q1)−COZA2、−(CH2)n2OC
OA1、−(CH2)n2OCOZA2、 −(CH
2)n2COA1、−(CH2)n2COZA2、−(
CH2)n2CO(CH2)n3N(Q1)COA1も
しくは−(CH2)n2CO(CH2)n3N(Q1)
COZA2で表わされる基を意味する。A1は1つ以上
のハロゲン原子もしくは保護基を有する1つ以上の水酸
基が置換することもある炭素数1〜30のアルキル基、
置換基を有することもあるフェニル基、置換基を有する
こともあるベンジル基または水素原子を、A2は保護基
を有する水酸基が置換することもある炭素数3〜12の
環状アルキル基を、Qは水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基、−CONH2、−COOY4又は−CH2OY
5を(Y4はカルボキシル基の保護基を、Y5は水酸基
の保護基を意味する。)Zは炭素数1〜9のアルキレン
基を、Q1は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基
を、n1は0〜10の整数を、n2及びn3はそれぞれ
1〜20の整数を意味する。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12320491A JPH04321696A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 1−ハロゲノ−2−デオキシアミノ糖の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12320491A JPH04321696A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 1−ハロゲノ−2−デオキシアミノ糖の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04321696A true JPH04321696A (ja) | 1992-11-11 |
Family
ID=14854777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12320491A Pending JPH04321696A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 1−ハロゲノ−2−デオキシアミノ糖の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04321696A (ja) |
-
1991
- 1991-03-04 JP JP12320491A patent/JPH04321696A/ja active Pending
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