JPH04324139A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
- Publication number
- JPH04324139A JPH04324139A JP11942091A JP11942091A JPH04324139A JP H04324139 A JPH04324139 A JP H04324139A JP 11942091 A JP11942091 A JP 11942091A JP 11942091 A JP11942091 A JP 11942091A JP H04324139 A JPH04324139 A JP H04324139A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- objective lens
- lens
- astigmatism
- exposure
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- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、光ディスク原盤露光装置に関し
、より詳細には、光ディスク原盤露光装置における可変
スポット形状光学系に関する。
、より詳細には、光ディスク原盤露光装置における可変
スポット形状光学系に関する。
【０００２】
【従来技術】従来、所望のピット形状を得るために光学
系を多く調整していた。例えば、溝だれの少ない小さな
ピットを得るためには対物レンズ入射光径を大きくした
り、反対の場合は入射光径を小さくし、見かけのＮＡ（
開口数：光学系の明るさ及び解像力に関係する性能を表
す量）を小さくしたり、必要形状を得るためには、シリ
ンドリカルレンズやスリットを用いて強度分布を変えて
溝形状を得ていた。
系を多く調整していた。例えば、溝だれの少ない小さな
ピットを得るためには対物レンズ入射光径を大きくした
り、反対の場合は入射光径を小さくし、見かけのＮＡ（
開口数：光学系の明るさ及び解像力に関係する性能を表
す量）を小さくしたり、必要形状を得るためには、シリ
ンドリカルレンズやスリットを用いて強度分布を変えて
溝形状を得ていた。
【０００３】例えば、特公昭６１−６１４５１号公報に
提案されている「光学的記録装置」は、良好なフォーカ
ス状態のビームスポットが得られるようにするために、
光学系の調整が容易に行なえるようにしたものである。 このように従来は、調整された光学系で、所望の溝を得
ていたが、溝形状を同一の装置内で変化させたい場合は
、光学系が固定で一品一様となっているため、再度光学
素子の配置や異なる光学素子の組み換え等の調整を行な
う必要がある。光学系の調整は光軸変化が伴い、その光
軸変化による条件出し等が必要となり、多大な時間を要
していた。
提案されている「光学的記録装置」は、良好なフォーカ
ス状態のビームスポットが得られるようにするために、
光学系の調整が容易に行なえるようにしたものである。 このように従来は、調整された光学系で、所望の溝を得
ていたが、溝形状を同一の装置内で変化させたい場合は
、光学系が固定で一品一様となっているため、再度光学
素子の配置や異なる光学素子の組み換え等の調整を行な
う必要がある。光学系の調整は光軸変化が伴い、その光
軸変化による条件出し等が必要となり、多大な時間を要
していた。
【０００４】
【目的】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、同一装置内における固定光学系で種々の溝形状
が容易に得られるようにした光ディスク原盤露光装置を
提供することを目的としてなされたものである。
もので、同一装置内における固定光学系で種々の溝形状
が容易に得られるようにした光ディスク原盤露光装置を
提供することを目的としてなされたものである。
【０００５】
【構成】本発明は、上記目的を達成するために、（１）
露光用レーザ光源と、該露光用レーザ光源からのレーザ
光の光量変調を行う光量変調器と、該光量変調器により
光量変調されたレーザ光を所定の光量の信号光とする信
号変調器と、該信号変調器による信号光を入射する対物
レンズのアクチュエータとから成り、露光光学系内にお
いて、一定焦点を保ちながら、フォトレジスト基板上に
一定のスポット形状の潜像を形成し、該スポット形状が
前記対物レンズ下で非点収差をもった形状であること、
更には、（２）前記対物レンズ入射前にレンズ及びシリ
ンドリカルレンズを設け、非点収差の出る距離を接近さ
せ、ほぼ真円に近い出射光となるレンズをその後に設け
、前記対物レンズに入射させ、該対物レンズ下で非点収
差を得ること、更には、（３）前記対物レンズに入射さ
せるための反射ミラーをわずかに円筒ミラーとし、前記
対物レンズ下で非点収差をもたせるようにしたこと、更
には、（４）非点収差をもったスポットにおいて光軸方
向に露光位置を自由に設定できることを特徴としたもの
である。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
露光用レーザ光源と、該露光用レーザ光源からのレーザ
光の光量変調を行う光量変調器と、該光量変調器により
光量変調されたレーザ光を所定の光量の信号光とする信
号変調器と、該信号変調器による信号光を入射する対物
レンズのアクチュエータとから成り、露光光学系内にお
いて、一定焦点を保ちながら、フォトレジスト基板上に
一定のスポット形状の潜像を形成し、該スポット形状が
前記対物レンズ下で非点収差をもった形状であること、
更には、（２）前記対物レンズ入射前にレンズ及びシリ
ンドリカルレンズを設け、非点収差の出る距離を接近さ
せ、ほぼ真円に近い出射光となるレンズをその後に設け
、前記対物レンズに入射させ、該対物レンズ下で非点収
差を得ること、更には、（３）前記対物レンズに入射さ
せるための反射ミラーをわずかに円筒ミラーとし、前記
対物レンズ下で非点収差をもたせるようにしたこと、更
には、（４）非点収差をもったスポットにおいて光軸方
向に露光位置を自由に設定できることを特徴としたもの
である。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
【０００６】図１は、本発明による光ディスク原盤露光
装置の一実施例を説明するための構成図で、図中、１は
露光用レーザ光源、２はビームスプリッター、３はミラ
ー、４ａ，４ｂは光量変調器、５，６はミラー、７ａ，
７ｂは絞り込みレンズ、８ａ，８ｂは信号変調器、９ａ
，９ｂはレンズ、１０，１１，１２はミラー、１３はλ
／２板、１４は偏向ビームスプリッター（ＰＢＳ）、１
５はミラー、１６はレンズアクチュエータ、１７はフォ
トレジスト基板、１８は対物レンズである。
装置の一実施例を説明するための構成図で、図中、１は
露光用レーザ光源、２はビームスプリッター、３はミラ
ー、４ａ，４ｂは光量変調器、５，６はミラー、７ａ，
７ｂは絞り込みレンズ、８ａ，８ｂは信号変調器、９ａ
，９ｂはレンズ、１０，１１，１２はミラー、１３はλ
／２板、１４は偏向ビームスプリッター（ＰＢＳ）、１
５はミラー、１６はレンズアクチュエータ、１７はフォ
トレジスト基板、１８は対物レンズである。
【０００７】通常、露光機は２ビーム光学系であり、露
光用レーザ光源１から出たレーザ光はビームスプリッタ
ー２により２分割され、分割されたレーザ光の一方はミ
ラー３を介し、それぞれ光量変調器４ａ，４ｂで光量変
調され、高速化のためにレーザ光を絞り込むレンズ７ａ
，７ｂを通過した後、信号変調器８ａ，８ｂを介して所
定光量の信号光となるレンズ９ａ，９ｂを介し、拡大，
縮小の光径が得られ、それぞれミラー１０，１２とミラ
ー１１を介し、ミラー１０，１２を介したレーザ光はλ
／２板１３を介してミラー１１を介したレーザ光とＰＢ
Ｓ１４で合成され、ミラー１５によって対物レンズ１８
に入射する。対物レンズ１８はレンズアクチュエータ１
６であり、フォトレジスト基板１７上にフォーカスサー
ボ（図示せず）によって常に一定のスポット形状が保た
れ、フォトレジスト内に潜像を形成する。本発明の実施
例は光学系内において非点収差のある光束をもつことを
特徴とする。
光用レーザ光源１から出たレーザ光はビームスプリッタ
ー２により２分割され、分割されたレーザ光の一方はミ
ラー３を介し、それぞれ光量変調器４ａ，４ｂで光量変
調され、高速化のためにレーザ光を絞り込むレンズ７ａ
，７ｂを通過した後、信号変調器８ａ，８ｂを介して所
定光量の信号光となるレンズ９ａ，９ｂを介し、拡大，
縮小の光径が得られ、それぞれミラー１０，１２とミラ
ー１１を介し、ミラー１０，１２を介したレーザ光はλ
／２板１３を介してミラー１１を介したレーザ光とＰＢ
Ｓ１４で合成され、ミラー１５によって対物レンズ１８
に入射する。対物レンズ１８はレンズアクチュエータ１
６であり、フォトレジスト基板１７上にフォーカスサー
ボ（図示せず）によって常に一定のスポット形状が保た
れ、フォトレジスト内に潜像を形成する。本発明の実施
例は光学系内において非点収差のある光束をもつことを
特徴とする。
【０００８】図２（ａ）〜（ｄ）は、スポット形状を示
す図である。光軸に垂直な面内のＸ方向を実線、Ｙ方向
を点線で表わすと、光軸方向の位置において、図２（ｂ
）がα，図２（ｃ）がβ，図２（ｄ）がγのスポットが
得られる。Ｘ方向をフォトレジスト基板の円周方向、Ｙ
方向を半径方向とすると溝の断面形状はそれぞれ図２（
ｂ）がα′，図２（ｃ）がβ′，図２（ｄ）がγ′の形
状が得られる。上述したように、対物レンズ下での露光
位置を決定することで種々の形状を選定することが可能
である。露光位置の決定はフォーカスサーボのオフセッ
ト、いわゆるバイアス電圧を付加することによって所望
の位置が得られる。
す図である。光軸に垂直な面内のＸ方向を実線、Ｙ方向
を点線で表わすと、光軸方向の位置において、図２（ｂ
）がα，図２（ｃ）がβ，図２（ｄ）がγのスポットが
得られる。Ｘ方向をフォトレジスト基板の円周方向、Ｙ
方向を半径方向とすると溝の断面形状はそれぞれ図２（
ｂ）がα′，図２（ｃ）がβ′，図２（ｄ）がγ′の形
状が得られる。上述したように、対物レンズ下での露光
位置を決定することで種々の形状を選定することが可能
である。露光位置の決定はフォーカスサーボのオフセッ
ト、いわゆるバイアス電圧を付加することによって所望
の位置が得られる。
【０００９】図３は、本発明の実施例１を示す図で、図
中、１９，２１は一定焦点のレンズ、２０はシリンドリ
カルレンズである。図１に示した信号変調器の後でそれ
ぞれの軸または合成後に、一定焦点のレンズ１９，シリ
ンドリカルレンズ２０を配置し、その後に略真円となる
ような出射光となるようなレンズ２１を組み合わせによ
って非点収差をもつ光束を得ることができる。図４は、
本発明の実施例２を示す図で、図中、１５ａは円筒ミラ
ーである。通常の光学系において、例えば図１の対物レ
ンズに入射させるミラー１５をわずかに円筒ミラー１５
ａとすることで非点収差光束を得ることができる。
中、１９，２１は一定焦点のレンズ、２０はシリンドリ
カルレンズである。図１に示した信号変調器の後でそれ
ぞれの軸または合成後に、一定焦点のレンズ１９，シリ
ンドリカルレンズ２０を配置し、その後に略真円となる
ような出射光となるようなレンズ２１を組み合わせによ
って非点収差をもつ光束を得ることができる。図４は、
本発明の実施例２を示す図で、図中、１５ａは円筒ミラ
ーである。通常の光学系において、例えば図１の対物レ
ンズに入射させるミラー１５をわずかに円筒ミラー１５
ａとすることで非点収差光束を得ることができる。
【００１０】
【効果】以上の説明から明らかなように、本発明による
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：固定光学系でも非点収
差をもつ光束のため、対物レンズ下光軸方向の位置によ
り種々のスポット形状が得られるため、光学調整なしに
種々の溝形状が得られる露光位置を選ぶだけで種々の溝
形状が得られるため、同一装置でも短時間に選択できる
。 （２）請求項２に対応する効果：レンズの焦点距離を予
じめ設定することができるため、必要な溝形状が予じめ
判っているなら対物レンズ下での形状の大きさと軸方向
の範囲の設定が可能である。 （３）請求項３に対応する効果：ミラーのみで非点収差
のできるため、比較的容易に光軸出しが可能である。こ
のため、ミラー交換による調整の短時間に行なえる。 （４）請求項４に対応する効果：フォーカスサーボ回路
でオフセット、いわゆるバイアス電圧を付加するだけで
光軸方向の位置が容易に設定でき、しかも位置制御は非
常に小さな範囲のため、略アナログ的にスポット形状が
得られる。
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：固定光学系でも非点収
差をもつ光束のため、対物レンズ下光軸方向の位置によ
り種々のスポット形状が得られるため、光学調整なしに
種々の溝形状が得られる露光位置を選ぶだけで種々の溝
形状が得られるため、同一装置でも短時間に選択できる
。 （２）請求項２に対応する効果：レンズの焦点距離を予
じめ設定することができるため、必要な溝形状が予じめ
判っているなら対物レンズ下での形状の大きさと軸方向
の範囲の設定が可能である。 （３）請求項３に対応する効果：ミラーのみで非点収差
のできるため、比較的容易に光軸出しが可能である。こ
のため、ミラー交換による調整の短時間に行なえる。 （４）請求項４に対応する効果：フォーカスサーボ回路
でオフセット、いわゆるバイアス電圧を付加するだけで
光軸方向の位置が容易に設定でき、しかも位置制御は非
常に小さな範囲のため、略アナログ的にスポット形状が
得られる。
【図１】 本発明による光ディスク原盤露光装置の一
実施例を説明するための構成図である。
実施例を説明するための構成図である。
【図２】 スポット形状を示す図である。
【図３】 本発明の具体例を示す図である。
【図４】 本発明の他の具体例を示す図である。
【符号の説明】
１…露光用レーザ光源、２…ビームスプリッター、３…
ミラー、４ａ，４ｂ…光量変調器、５，６…ミラー、７
ａ，７ｂ…絞り込みレンズ、８ａ，８ｂ…信号変調器、
９ａ，９ｂ…レンズ、１０，１１，１２…ミラー、１３
…λ／２板、１４…偏向ビームスプリッター（ＰＢＳ）
、１５…ミラー、１６…レンズアクチュエータ、１７…
フォトレジスト基板、１８…対物レンズ。
ミラー、４ａ，４ｂ…光量変調器、５，６…ミラー、７
ａ，７ｂ…絞り込みレンズ、８ａ，８ｂ…信号変調器、
９ａ，９ｂ…レンズ、１０，１１，１２…ミラー、１３
…λ／２板、１４…偏向ビームスプリッター（ＰＢＳ）
、１５…ミラー、１６…レンズアクチュエータ、１７…
フォトレジスト基板、１８…対物レンズ。
Claims (4)
- 【請求項１】 露光用レーザ光源と、該露光用レーザ
光源からのレーザ光の光量変調を行う光量変調器と、該
光量変調器により光量変調されたレーザ光を所定の光量
の信号光とする信号変調器と、該信号変調器による信号
光を入射する対物レンズのアクチュエータとから成り、
露光光学系内において、一定焦点を保ちながら、フォト
レジスト基板上に一定のスポット形状の潜像を形成し、
該スポット形状が前記対物レンズ下で非点収差をもった
形状であることを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項２】 前記対物レンズ入射前にレンズとシリ
ンドリカルレンズを設け、非点収差の出る距離を接近さ
せ、ほぼ真円に近い出射光となるレンズをその後に設け
、前記対物レンズに入射させ、該対物レンズ下で非点収
差を得ることを特徴とする請求項１記載の光ディスク原
盤露光装置。 - 【請求項３】 前記対物レンズに入射させるための反
射ミラーをわずかに円筒ミラーとし、前記対物レンズ下
で非点収差をもたせるようにしたことを特徴とする請求
項１記載の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項４】 非点収差をもったスポットにおいて光
軸方向に露光位置を自由に設定できることを特徴とする
請求項１記載の光ディスク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11942091A JPH04324139A (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11942091A JPH04324139A (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04324139A true JPH04324139A (ja) | 1992-11-13 |
Family
ID=14761021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11942091A Pending JPH04324139A (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04324139A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999053488A1 (en) * | 1998-04-08 | 1999-10-21 | Seiko Epson Corporation | Method and apparatus for exposing master disk for optical disk |
-
1991
- 1991-04-23 JP JP11942091A patent/JPH04324139A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999053488A1 (en) * | 1998-04-08 | 1999-10-21 | Seiko Epson Corporation | Method and apparatus for exposing master disk for optical disk |
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