JPH0432525A - 活性金属のプラズマ溶解方法 - Google Patents
活性金属のプラズマ溶解方法Info
- Publication number
- JPH0432525A JPH0432525A JP13778890A JP13778890A JPH0432525A JP H0432525 A JPH0432525 A JP H0432525A JP 13778890 A JP13778890 A JP 13778890A JP 13778890 A JP13778890 A JP 13778890A JP H0432525 A JPH0432525 A JP H0432525A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- melting
- plasma
- raw material
- wall material
- active metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002844 melting Methods 0.000 title claims abstract description 89
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 64
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 31
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 88
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 81
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 51
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 244000201986 Cassia tora Species 0.000 description 1
- 108091006629 SLC13A2 Proteins 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- NCAIGTHBQTXTLR-UHFFFAOYSA-N phentermine hydrochloride Chemical compound [Cl-].CC(C)([NH3+])CC1=CC=CC=C1 NCAIGTHBQTXTLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000010313 vacuum arc remelting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は、スポンジ材および/または切屑材を含む活性
金属のプラズマ溶解方法に係わり、詳細にはチタン、ジ
ルコニウム等、あるいは希土類元素等の活性金属からな
る鋳塊を得るに際して、スプラソシュ現象と呼ばれる溶
滴飛散現象、原料の飛散による製品歩留りの低下、スポ
ンジ状活性金属に残留している塩化物等の蒸発による真
空排気系統の汚染等をはじめとする種々のトラブルを効
果的に防止することのできる活性金属のプラズマ溶解方
法に関するものである。
金属のプラズマ溶解方法に係わり、詳細にはチタン、ジ
ルコニウム等、あるいは希土類元素等の活性金属からな
る鋳塊を得るに際して、スプラソシュ現象と呼ばれる溶
滴飛散現象、原料の飛散による製品歩留りの低下、スポ
ンジ状活性金属に残留している塩化物等の蒸発による真
空排気系統の汚染等をはじめとする種々のトラブルを効
果的に防止することのできる活性金属のプラズマ溶解方
法に関するものである。
スポンジチタン等の活性金属の溶解には、従来より真空
アーク再溶解法(以下VAR法と称する)が汎用されて
いる。このVAR法は、予め活性金属からなる電極を製
造し、高真空下(10−2〜103torr程度)で電
極と水冷るつぼ内熔湯間にアークを発生させ、アーク熱
により電極を溶解させる方法である。ところがこのVA
R法では上述したように溶解に先立ち活性金属からなる
電極を製造する必要があり、また電極製造を含めて工程
が煩雑で生産性が低いという難点があった。
アーク再溶解法(以下VAR法と称する)が汎用されて
いる。このVAR法は、予め活性金属からなる電極を製
造し、高真空下(10−2〜103torr程度)で電
極と水冷るつぼ内熔湯間にアークを発生させ、アーク熱
により電極を溶解させる方法である。ところがこのVA
R法では上述したように溶解に先立ち活性金属からなる
電極を製造する必要があり、また電極製造を含めて工程
が煩雑で生産性が低いという難点があった。
一方、近年、真空技術の進歩および高エネルギ利用技術
の発達に伴いプラズマ溶解方法を利用したプラズマ溶解
・鋳造方法がvE案され注目されている。この方法は、
不活性ガス雰囲気下、または真空下(760〜1O−2
torr程度)で溶解原料にプラズマを照射して溶解し
、得られた溶湯を順次水冷鋳型へ供給して鋳塊を得る方
法である。この方法であれば、電極を製造することなく
、スクラップ等の切屑状活性金属原料(以下切屑材と称
する)やスポンジ状活性金属原料(以下スポンジ材と称
する)をそのままの形態で溶解原料としてプラズマ?容
解することができる。
の発達に伴いプラズマ溶解方法を利用したプラズマ溶解
・鋳造方法がvE案され注目されている。この方法は、
不活性ガス雰囲気下、または真空下(760〜1O−2
torr程度)で溶解原料にプラズマを照射して溶解し
、得られた溶湯を順次水冷鋳型へ供給して鋳塊を得る方
法である。この方法であれば、電極を製造することなく
、スクラップ等の切屑状活性金属原料(以下切屑材と称
する)やスポンジ状活性金属原料(以下スポンジ材と称
する)をそのままの形態で溶解原料としてプラズマ?容
解することができる。
ところで、上記プラズマ溶解・鋳造方法は種々の長所を
有する反面、特にスポンジチタンの如きスポンジ材を溶
解原料として用いた場合には、溶解時に溶湯が発砲状態
を呈しつつ飛散するという極めて好ましくない現象(ス
プランシュ現象と称する)が発生し、同時に溶解原料か
ら多量の塩化物(MgC1z、 NaC1等)が蒸発
し、溶解炉の内壁、真空排気系統の排気弁や排気ポンプ
などに付着する。またスクラップ等を小さな切屑状に加
工した切屑材を溶解原料として用いた場合には、切屑材
にプラズマを照射した際、プラズマの噴射力によって小
さく加工された切屑材が飛散する現象が発生する。この
ような弊害により、溶解時における歩留りの低下を招く
ばかりでなく、飛散した溶滴、塩化物および蒸発物等が
溶解炉の内壁等に付着して高真空引きを阻害したり、プ
ラズマ照射千等に付着して操業上のトラブルを誘発する
、あるいは真空排気系統の油拡散ポンプやロークリポン
プ等のオイルを汚染するといった多くのトラブルを引き
起こす。
有する反面、特にスポンジチタンの如きスポンジ材を溶
解原料として用いた場合には、溶解時に溶湯が発砲状態
を呈しつつ飛散するという極めて好ましくない現象(ス
プランシュ現象と称する)が発生し、同時に溶解原料か
ら多量の塩化物(MgC1z、 NaC1等)が蒸発
し、溶解炉の内壁、真空排気系統の排気弁や排気ポンプ
などに付着する。またスクラップ等を小さな切屑状に加
工した切屑材を溶解原料として用いた場合には、切屑材
にプラズマを照射した際、プラズマの噴射力によって小
さく加工された切屑材が飛散する現象が発生する。この
ような弊害により、溶解時における歩留りの低下を招く
ばかりでなく、飛散した溶滴、塩化物および蒸発物等が
溶解炉の内壁等に付着して高真空引きを阻害したり、プ
ラズマ照射千等に付着して操業上のトラブルを誘発する
、あるいは真空排気系統の油拡散ポンプやロークリポン
プ等のオイルを汚染するといった多くのトラブルを引き
起こす。
特にIjgC]。は吸湿性が高いので、操業中断時に溶
解炉内を大気に曝すと象、速に吸湿し、操業再開時の真
空引きを著しく阻害する。よって上記のトラブルを避け
るためには頻繁に付着物の除去等のメンテナンス作業を
しなければならない。
解炉内を大気に曝すと象、速に吸湿し、操業再開時の真
空引きを著しく阻害する。よって上記のトラブルを避け
るためには頻繁に付着物の除去等のメンテナンス作業を
しなければならない。
そこで、本発明は、上記問題点を解決するためになした
ものであって、その目的は、スポンジ材および/または
切屑材を含む活性金属原料をプラズマ溶解するに際し、
スポンジ材、切屑材および溶湯小滴等が広い範囲に飛散
するのを防止し溶解歩留りを向上させ、かつ塩化物およ
び蒸発物等の付着による操業上のトラブルを防止すると
共に、付着物の除去等のメンテナンスを容易にし安定し
た操業を保証し得る活性金属のプラズマ溶解方法を提供
しようとするものである。
ものであって、その目的は、スポンジ材および/または
切屑材を含む活性金属原料をプラズマ溶解するに際し、
スポンジ材、切屑材および溶湯小滴等が広い範囲に飛散
するのを防止し溶解歩留りを向上させ、かつ塩化物およ
び蒸発物等の付着による操業上のトラブルを防止すると
共に、付着物の除去等のメンテナンスを容易にし安定し
た操業を保証し得る活性金属のプラズマ溶解方法を提供
しようとするものである。
〔課題を解決するための手段]
上記目的を達成するため、本発明に係わる活性金属のプ
ラズマ溶解方法の第一の発明は、スポンジ材および/ま
たは切屑材を含む活性金属原料をプラズマ溶解する方法
であって、溶解用容器におけるプラズマ照射領域を囲繞
する如く、内側面に原料と同種の活性金属からなる部材
を装備した耐熱性壁材を溶解用容器上に立設してプラズ
マ溶解するものである。また第二の発明は、スポンジ材
および/または切屑材を含む活性金属原料をプラズマ溶
解する方法であって、溶解用容器におけるプラズマ照射
領域を囲繞する如く耐熱性壁材を溶解用容器上に立設す
ると共に、この耐熱性壁材内に通じる排気系統を設けて
プラズマ溶解するものである。
ラズマ溶解方法の第一の発明は、スポンジ材および/ま
たは切屑材を含む活性金属原料をプラズマ溶解する方法
であって、溶解用容器におけるプラズマ照射領域を囲繞
する如く、内側面に原料と同種の活性金属からなる部材
を装備した耐熱性壁材を溶解用容器上に立設してプラズ
マ溶解するものである。また第二の発明は、スポンジ材
および/または切屑材を含む活性金属原料をプラズマ溶
解する方法であって、溶解用容器におけるプラズマ照射
領域を囲繞する如く耐熱性壁材を溶解用容器上に立設す
ると共に、この耐熱性壁材内に通じる排気系統を設けて
プラズマ溶解するものである。
上記第一の発明では、内側面に原料と同種の活性金属か
らなる部材を装備した耐熱性壁材を、溶解用容器におけ
るプラズマ照射領域を囲繞する如く溶解用容器上に立設
することにより、プラズマ照射によって飛散する溶湯の
小滴、スポンジ材および/または切屑材の小片は、耐熱
性壁材の内側面に装備した部材に付着捕捉される他、大
部分は溶解用容器内に還流されるので、溶解炉内への飛
散が防止され溶解歩留りが向上すると共に、小片等の飛
散物の付着による操業上のトラブルも低減される。さら
に、飛散した溶湯の小滴や、スポンジ材および/または
切屑材の小片を付着捕捉させた部材は、溶解毎に取り替
え切屑材に加工して同種の活性金属の別溶解時に溶解す
ることができ、より溶解歩留りを向上させたプラズマ溶
解が行える。また、塩化物および蒸発物等も、一部が耐
熱性壁材の内側面に装備した部材、あるいは耐熱性壁材
の内側面に捕捉されるので、これらの溶解炉内への付着
も少なくなり操業上のトラブルが低減できる。
らなる部材を装備した耐熱性壁材を、溶解用容器におけ
るプラズマ照射領域を囲繞する如く溶解用容器上に立設
することにより、プラズマ照射によって飛散する溶湯の
小滴、スポンジ材および/または切屑材の小片は、耐熱
性壁材の内側面に装備した部材に付着捕捉される他、大
部分は溶解用容器内に還流されるので、溶解炉内への飛
散が防止され溶解歩留りが向上すると共に、小片等の飛
散物の付着による操業上のトラブルも低減される。さら
に、飛散した溶湯の小滴や、スポンジ材および/または
切屑材の小片を付着捕捉させた部材は、溶解毎に取り替
え切屑材に加工して同種の活性金属の別溶解時に溶解す
ることができ、より溶解歩留りを向上させたプラズマ溶
解が行える。また、塩化物および蒸発物等も、一部が耐
熱性壁材の内側面に装備した部材、あるいは耐熱性壁材
の内側面に捕捉されるので、これらの溶解炉内への付着
も少なくなり操業上のトラブルが低減できる。
上記第二の発明では、耐熱性壁材を溶解用容器における
プラズマ照射頭載を囲繞する如く溶解用容器上に立設す
ると共に、耐熱性壁材内に通じる排気系統を装備するこ
とにより、プラズマ照射によって飛散する溶湯の小滴、
スポンジ材および/または切屑材の小片は、耐熱性壁材
に付着捕捉される他、大部分は溶解用容器内に還流され
るので、溶解炉内への飛散が防止され溶解歩留りが向上
すると共に、小片等の飛散物の付着による操業上のトラ
ブルも低減される。溶解炉内壁への飛散が防止され溶解
歩留りが向上する。また、特にスポンジチタンの如きス
ポンジ材を用いた場合に発生する塩化物および蒸発物等
は排気系統より排出され、従ってこれらによる溶解炉内
および真空排気系統等への付着汚染が防止され、これに
より操業上のトラブルが防止されると共に、付着物の除
去等のメンテナンスが容易になる。また、前記排気系統
内には塩化物等捕捉用トランプを交換可能に装備すると
よい。これにより排気系統が保護され排気系統のメンテ
ナンスが容易になる。さらに、耐熱性壁材の内側面には
原料と同種の活性金属からなる部材を装備するとよい。
プラズマ照射頭載を囲繞する如く溶解用容器上に立設す
ると共に、耐熱性壁材内に通じる排気系統を装備するこ
とにより、プラズマ照射によって飛散する溶湯の小滴、
スポンジ材および/または切屑材の小片は、耐熱性壁材
に付着捕捉される他、大部分は溶解用容器内に還流され
るので、溶解炉内への飛散が防止され溶解歩留りが向上
すると共に、小片等の飛散物の付着による操業上のトラ
ブルも低減される。溶解炉内壁への飛散が防止され溶解
歩留りが向上する。また、特にスポンジチタンの如きス
ポンジ材を用いた場合に発生する塩化物および蒸発物等
は排気系統より排出され、従ってこれらによる溶解炉内
および真空排気系統等への付着汚染が防止され、これに
より操業上のトラブルが防止されると共に、付着物の除
去等のメンテナンスが容易になる。また、前記排気系統
内には塩化物等捕捉用トランプを交換可能に装備すると
よい。これにより排気系統が保護され排気系統のメンテ
ナンスが容易になる。さらに、耐熱性壁材の内側面には
原料と同種の活性金属からなる部材を装備するとよい。
これにより第一の発明で述べたと同様に、プラズマ照射
によって飛散する溶湯の小滴、スポンジ材および/また
は切屑材の小片が付着捕捉でき、この部材を、溶解毎に
取り替え切屑材に加工して同種の活性金属の別溶解時に
溶解することにより、より溶解歩留りを向上させたプラ
ズマ溶解が行える。
によって飛散する溶湯の小滴、スポンジ材および/また
は切屑材の小片が付着捕捉でき、この部材を、溶解毎に
取り替え切屑材に加工して同種の活性金属の別溶解時に
溶解することにより、より溶解歩留りを向上させたプラ
ズマ溶解が行える。
尚、耐熱性壁材の内側面に装備する原料と同種の活性金
属からなる部材の形態は、特に限定するものではないが
、素材を筒状に機械加工したものあるいは板状のスクラ
ップ材を耐熱性壁材の内側面に装備してもよい。
属からなる部材の形態は、特に限定するものではないが
、素材を筒状に機械加工したものあるいは板状のスクラ
ップ材を耐熱性壁材の内側面に装備してもよい。
(実 施 例〕
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
実−施一」[−上
第1図は、本発明に係わるプラズマ溶解方法を適用した
プラズマ溶解・鋳造装置の概略断面説明図である。回に
おいて、 1はシールドケース、2はプラズマトーチ、
3は原料供給ホッパ、4は原料溶解用容器、5は真空排
気系統、6は円筒型耐熱性壁材、7は鋳片引抜装置、8
は直流電源、9はプラズマ炎、10は鋳片、11は活性
金属原料、12は金属溶湯、13はシュータ−114は
原料と同一組成の壁材を各々示す。
プラズマ溶解・鋳造装置の概略断面説明図である。回に
おいて、 1はシールドケース、2はプラズマトーチ、
3は原料供給ホッパ、4は原料溶解用容器、5は真空排
気系統、6は円筒型耐熱性壁材、7は鋳片引抜装置、8
は直流電源、9はプラズマ炎、10は鋳片、11は活性
金属原料、12は金属溶湯、13はシュータ−114は
原料と同一組成の壁材を各々示す。
このように構成された装置を使用し、先ず、シールドケ
ース]内を、真空排気系統5を作動させて真空雰囲気下
のもとてArガスを封入し大気圧近くにした後、再び真
空排気系統5により減圧不活性ガス雰囲気にする。この
後、Mg還元スポンジチタン20%(塩化物含有量50
0ppm) 、および切削屑80%を略均等に混合した
活性金属原料11を、原料供給ホッパ3よりシュータ−
13を介して鋳型を兼用する原料溶解用容器4に投入し
ながらプラズマトーチ2によりプラズマ溶解を行った。
ース]内を、真空排気系統5を作動させて真空雰囲気下
のもとてArガスを封入し大気圧近くにした後、再び真
空排気系統5により減圧不活性ガス雰囲気にする。この
後、Mg還元スポンジチタン20%(塩化物含有量50
0ppm) 、および切削屑80%を略均等に混合した
活性金属原料11を、原料供給ホッパ3よりシュータ−
13を介して鋳型を兼用する原料溶解用容器4に投入し
ながらプラズマトーチ2によりプラズマ溶解を行った。
溶解後、耐火性壁材6の表面を観察した結果、金属溶湯
12に近い原料と同一組成の壁材】4の下方部ではプラ
ズマ炎9による飛散した切屑材が積層しており、スプラ
ッシュ現象による飛散した溶湯の付着は壁材14の下方
部で多く見られ、上方部Cコ行くにつれてその量は少な
くなり、この例では丸型溶解用容器4の直径が100m
mであり、耐火性壁材6の飛散溶湯は溶湯湯面から48
0mm高さではほとんど見られなく、従って耐火性壁材
6の高さとしては溶解用容器4の内径の5倍以上で十分
に飛散物の捕捉が可能である。また壁材14に覆い隠さ
れている耐火性壁材6の内側部分では飛散i8湯の付着
は全く無く、壁材14に覆い呼されていない壁材6の上
部においては若干の飛散溶湯の付着が見られた。さらに
耐火性壁材6の上方部では上方へ蒸発して行く塩化物等
の汚染が多く見られ、壁材14の溶湯表面近くでは塩化
物等の汚染は耐火性壁材6の上方部に比べて少なかった
。またこの壁材6を設置することでシールドケース1、
プラズマトーチ2、原料供給ホッパ3、真空排気系統5
への塩化物等の1発物による汚染は壁材6を設置しない
場合に比べかなり低減された。この時の溶解歩留りは、
溶製された鋳塊重量を供給原料重量で除し百分率で表す
と、壁材14を設けなかった場合の93%に比べ5%向
上して98%であった。
12に近い原料と同一組成の壁材】4の下方部ではプラ
ズマ炎9による飛散した切屑材が積層しており、スプラ
ッシュ現象による飛散した溶湯の付着は壁材14の下方
部で多く見られ、上方部Cコ行くにつれてその量は少な
くなり、この例では丸型溶解用容器4の直径が100m
mであり、耐火性壁材6の飛散溶湯は溶湯湯面から48
0mm高さではほとんど見られなく、従って耐火性壁材
6の高さとしては溶解用容器4の内径の5倍以上で十分
に飛散物の捕捉が可能である。また壁材14に覆い隠さ
れている耐火性壁材6の内側部分では飛散i8湯の付着
は全く無く、壁材14に覆い呼されていない壁材6の上
部においては若干の飛散溶湯の付着が見られた。さらに
耐火性壁材6の上方部では上方へ蒸発して行く塩化物等
の汚染が多く見られ、壁材14の溶湯表面近くでは塩化
物等の汚染は耐火性壁材6の上方部に比べて少なかった
。またこの壁材6を設置することでシールドケース1、
プラズマトーチ2、原料供給ホッパ3、真空排気系統5
への塩化物等の1発物による汚染は壁材6を設置しない
場合に比べかなり低減された。この時の溶解歩留りは、
溶製された鋳塊重量を供給原料重量で除し百分率で表す
と、壁材14を設けなかった場合の93%に比べ5%向
上して98%であった。
尚、上記実施例では耐火性壁材6の形状として円筒型の
ものを例に説明したが、形状が角筒型(四角形または多
角形)であってもよい。また第2回に示すように、上方
部15の形状は円錐状あるいはL字状に絞ったもの、ま
たは単に蓋をした形状であってもよい。
ものを例に説明したが、形状が角筒型(四角形または多
角形)であってもよい。また第2回に示すように、上方
部15の形状は円錐状あるいはL字状に絞ったもの、ま
たは単に蓋をした形状であってもよい。
実−五一別−1
第3図は、本発明に係わるプラズマ溶解方法を適用した
別態様のプラズマ溶解・鋳造装置の概略断面説明図であ
る。図において、1はシールドケース、2a、 2bは
プラズマトーチ、3は原料供給ホッパ、4は原料溶解用
容器、5は炉内の真空排気系統、6は耐熱性壁材、7は
鋳片引抜装置、8a。
別態様のプラズマ溶解・鋳造装置の概略断面説明図であ
る。図において、1はシールドケース、2a、 2bは
プラズマトーチ、3は原料供給ホッパ、4は原料溶解用
容器、5は炉内の真空排気系統、6は耐熱性壁材、7は
鋳片引抜装置、8a。
8bは直流電源、9はプラズマ炎、10は鋳片、11は
活性金属原料、12は金属溶湯、13はシュータ−15
は水冷鋳型、16は水冷せき、17は塩化物捕捉用トラ
ップ、18は耐熱性壁材6内の排気系統を各々示し、塩
化物捕捉用トラップ17は、耐熱性壁材6の開口部に接
続して設けられた排気系統1日の排気管路19内に装備
され、排気系統18の吸引によって活性金属原料11特
にスポンジ材に残留しているMgC1z、 NaCl
等の塩化物を捕捉するものである。
活性金属原料、12は金属溶湯、13はシュータ−15
は水冷鋳型、16は水冷せき、17は塩化物捕捉用トラ
ップ、18は耐熱性壁材6内の排気系統を各々示し、塩
化物捕捉用トラップ17は、耐熱性壁材6の開口部に接
続して設けられた排気系統1日の排気管路19内に装備
され、排気系統18の吸引によって活性金属原料11特
にスポンジ材に残留しているMgC1z、 NaCl
等の塩化物を捕捉するものである。
このように構成された装置を使用し、先ず、シールドケ
ースl内を、真空排気系統5を作動させて真空雰囲気下
のもとでArガスを封入し大気圧近くにした後、再び真
空排気系統5により減圧不活性′ガス雰囲気にする。こ
の後、Na還元スポンジチタン85%(塩化物含有31
500ppm) 、および切削屑15%を略均等に混合
した活性金属原料11を、原料供給ホッパ3よりシュー
タ−13を介して原料溶解用容器4に投入しながらプラ
ズマトーチ2aからのプラズマ炎9を原料11に照射し
てプラズマ溶解を行った。この溶解により得られた溶湯
12を、溶滓等の浮遊物の流出を水冷せき16で防ぎな
がら水冷鋳型15に注湯すると共に、水冷鋳型15に注
湯された溶湯上面をプラズマトーチ2bで加熱しつつ鋳
造した。
ースl内を、真空排気系統5を作動させて真空雰囲気下
のもとでArガスを封入し大気圧近くにした後、再び真
空排気系統5により減圧不活性′ガス雰囲気にする。こ
の後、Na還元スポンジチタン85%(塩化物含有31
500ppm) 、および切削屑15%を略均等に混合
した活性金属原料11を、原料供給ホッパ3よりシュー
タ−13を介して原料溶解用容器4に投入しながらプラ
ズマトーチ2aからのプラズマ炎9を原料11に照射し
てプラズマ溶解を行った。この溶解により得られた溶湯
12を、溶滓等の浮遊物の流出を水冷せき16で防ぎな
がら水冷鋳型15に注湯すると共に、水冷鋳型15に注
湯された溶湯上面をプラズマトーチ2bで加熱しつつ鋳
造した。
このような形式の活性金属のプラズマ溶解方法であって
も、上記実施例1と同様に、飛散するスポンジ材や溶湯
は壁材6によって捕捉され、壁材6の下方部内面に多く
積層していた。またこの時の溶解歩留りは、比較のため
に壁材6を設けずに行った場合の溶解歩留りが塩化物の
蒸発が大きく85%であったのに対し、94%と大きく
向上していた。また塩化物捕捉用トラ・7プ17は、円
筒二重管構造からなり表面積380 cfの着脱容品な
カセット方式のものを排気系統18の排気管路19内に
装備して使用したが、その表面には塩化物等の蒸発物が
多量に付着捕捉されていた。尚、塩化物捕捉用トラ・7
プ17の構造は上記に限定されるものではなく、例えば
多数の貫通孔を有する多孔板等が適用できる。
も、上記実施例1と同様に、飛散するスポンジ材や溶湯
は壁材6によって捕捉され、壁材6の下方部内面に多く
積層していた。またこの時の溶解歩留りは、比較のため
に壁材6を設けずに行った場合の溶解歩留りが塩化物の
蒸発が大きく85%であったのに対し、94%と大きく
向上していた。また塩化物捕捉用トラ・7プ17は、円
筒二重管構造からなり表面積380 cfの着脱容品な
カセット方式のものを排気系統18の排気管路19内に
装備して使用したが、その表面には塩化物等の蒸発物が
多量に付着捕捉されていた。尚、塩化物捕捉用トラ・7
プ17の構造は上記に限定されるものではなく、例えば
多数の貫通孔を有する多孔板等が適用できる。
[発明の効果〕
上述したように、本発明に係わる活性金属のプラズマ溶
解方法によれば、溶解原料としてスポンジ材および/ま
たは切屑材を含む活性金属原料を用いて、これら原料の
飛散による溶解歩留りを低下させることなく、溶解効率
を向上させたプラズマ溶解ができる。さらに、飛散する
原料や?8湯、および溶湯からの塩化物等の蒸発物のプ
ラズマトーチや炉内壁等への付着が効果的に抑制でき、
真空排気装置の故障やプラズマトーチ詰まり、および付
着物の異なる溶湯内への落下といった操業上のトラブル
が減少し、また塩化物等の回収除去が容易にでき、生産
性が向上できる。
解方法によれば、溶解原料としてスポンジ材および/ま
たは切屑材を含む活性金属原料を用いて、これら原料の
飛散による溶解歩留りを低下させることなく、溶解効率
を向上させたプラズマ溶解ができる。さらに、飛散する
原料や?8湯、および溶湯からの塩化物等の蒸発物のプ
ラズマトーチや炉内壁等への付着が効果的に抑制でき、
真空排気装置の故障やプラズマトーチ詰まり、および付
着物の異なる溶湯内への落下といった操業上のトラブル
が減少し、また塩化物等の回収除去が容易にでき、生産
性が向上できる。
第F図は、本発明に係わるプラズマ溶解方法を適用した
プラズマ溶解・鋳造装置の概略断面説明図、第2図は、
本発明に係わる耐熱性壁材の断面説明図、第3図は、本
発明に係わるプラズマ溶解方法を適用した別態様のプラ
ズマ溶解・鋳造装置の概略断面説明図である。 1 シールドケース 3 原料供給ホッパ2 2a、
2b プラズマトーチ 4 原料溶解用容器 5 真空排気系統6 耐熱性壁
材 7 鋳片引抜装置8、8a、 8b 直流
電源 9 プラズマ炎10 鋳片 11
活性金属原料12 金属溶湯 13
シュータ−14原料と同一組成の壁材 15 水冷鋳型 16 水冷せき17
塩化物捕捉用トラップ 18 排気系統 19 排気管路特許出願
人 株式会社神戸製鋼所
プラズマ溶解・鋳造装置の概略断面説明図、第2図は、
本発明に係わる耐熱性壁材の断面説明図、第3図は、本
発明に係わるプラズマ溶解方法を適用した別態様のプラ
ズマ溶解・鋳造装置の概略断面説明図である。 1 シールドケース 3 原料供給ホッパ2 2a、
2b プラズマトーチ 4 原料溶解用容器 5 真空排気系統6 耐熱性壁
材 7 鋳片引抜装置8、8a、 8b 直流
電源 9 プラズマ炎10 鋳片 11
活性金属原料12 金属溶湯 13
シュータ−14原料と同一組成の壁材 15 水冷鋳型 16 水冷せき17
塩化物捕捉用トラップ 18 排気系統 19 排気管路特許出願
人 株式会社神戸製鋼所
Claims (4)
- (1)スポンジ材および/または切屑材を含む活性金属
原料をプラズマ溶解する方法であって、溶解用容器にお
けるプラズマ照射領域を囲繞する如く、内側面に原料と
同種の活性金属からなる部材を装備した耐熱性壁材を溶
解用容器上に立設してプラズマ溶解することを特徴とす
る活性金属のプラズマ溶解方法。 - (2)スポンジ材および/または切屑材を含む活性金属
原料をプラズマ溶解する方法であって、溶解用容器にお
けるプラズマ照射領域を囲繞する如く耐熱性壁材を溶解
用容器上に立設すると共に、この耐熱性壁材内に通じる
排気系統を設けてプラズマ溶解することを特徴とする活
性金属のプラズマ溶解方法。 - (3)排気系統内に塩化物等捕捉用トラップが装備され
ていることを特徴とする第2請求項に記載の活性金属の
プラズマ溶解方法。 - (4)耐熱性壁材の内側面に原料と同種の活性金属から
なる部材が装備されていることを特徴とする第2請求項
または第3請求項に記載の活性金属のプラズマ溶解方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13778890A JPH0432525A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 活性金属のプラズマ溶解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13778890A JPH0432525A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 活性金属のプラズマ溶解方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0432525A true JPH0432525A (ja) | 1992-02-04 |
Family
ID=15206863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13778890A Pending JPH0432525A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 活性金属のプラズマ溶解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0432525A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05291227A (ja) * | 1992-01-14 | 1993-11-05 | Kokusai Denki Erutetsuku:Kk | 圧電駆動形超音波洗浄装置 |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP13778890A patent/JPH0432525A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05291227A (ja) * | 1992-01-14 | 1993-11-05 | Kokusai Denki Erutetsuku:Kk | 圧電駆動形超音波洗浄装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11108556A (ja) | チタン精錬用ストレート炉床式炉 | |
| US20120230860A1 (en) | Purification process | |
| CN115874055A (zh) | 一种含铝钛合金屑料的回收重熔方法 | |
| WO2010068140A1 (ru) | Способ и устройство электронно- лучевой или плазменной плавки из кристаллизатора в кристаллизатор | |
| EP0248459B1 (en) | Method and apparatus for purifying a light metal melt, in particular aluminium | |
| RU2263721C2 (ru) | Способ получения слитков | |
| JPH0432525A (ja) | 活性金属のプラズマ溶解方法 | |
| JP5215168B2 (ja) | 二次精錬スラグの再生及び電気アーク炉による製鋼プロセスでのリサイクルのための方法及び装置 | |
| RU2355791C2 (ru) | Способ изготовления слитков высокореакционных металлов и сплавов и вауумная дуговая печь для изготовления слитков высокореакционных металлов и сплавов | |
| JPH06235028A (ja) | アルミニウムスクラップを溶融し浮滓を除去する方法 | |
| US5171357A (en) | Vacuum processing of particulate reactive metal | |
| JPS6277429A (ja) | 電子ビ−ム溶解方法 | |
| JPH11242098A (ja) | 溶解・造塊装置および溶解、造塊法 | |
| US4033760A (en) | Aluminum dross recovery method | |
| JPH04504283A (ja) | 中圧電子ビーム炉 | |
| JPS62156233A (ja) | 電子ビ−ム溶解方法 | |
| JP7256385B2 (ja) | チタン合金鋳塊の製造方法および製造装置 | |
| JP2005343779A (ja) | 電子ビームを用いたスクラップシリコンの精錬装置 | |
| JPH03271333A (ja) | 活性金属のプラズマ溶解方法 | |
| JPS6277427A (ja) | 電子ビ−ム溶解・鋳造装置 | |
| US4039173A (en) | Aluminum dross recovery method | |
| JPH0421727A (ja) | チタン鋳塊の製造方法および装置 | |
| CN114134334A (zh) | 利用电子束炉提纯废钛屑生产钛锭的方法 | |
| JPS6277430A (ja) | 電子ビ−ム溶解・鋳造装置 | |
| JP4652537B2 (ja) | チタン又はチタン合金製スクラップの溶解方法 |