JPH04325939A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JPH04325939A JPH04325939A JP3097283A JP9728391A JPH04325939A JP H04325939 A JPH04325939 A JP H04325939A JP 3097283 A JP3097283 A JP 3097283A JP 9728391 A JP9728391 A JP 9728391A JP H04325939 A JPH04325939 A JP H04325939A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は光ディスクに関し、さらに
詳しくは光ディスク装置内で回転する際の始動摩擦抵抗
が小さい光ディスクに関する。
詳しくは光ディスク装置内で回転する際の始動摩擦抵抗
が小さい光ディスクに関する。
【０００２】
【発明の技術的背景】光によって情報を記録、再生する
光ディスクは、用途により再生専用形、追記形、書換形
の３つのタイプに分類される。
光ディスクは、用途により再生専用形、追記形、書換形
の３つのタイプに分類される。
【０００３】また光ディスクは、基本的には透明基板と
、該基板の上に形成された記録層とからなり、透明基板
としては、ポリカーボネート、エポキシ、ポリメチルメ
タクリレートなどの合成樹脂、ガラスなどが用いられて
いる。
、該基板の上に形成された記録層とからなり、透明基板
としては、ポリカーボネート、エポキシ、ポリメチルメ
タクリレートなどの合成樹脂、ガラスなどが用いられて
いる。
【０００４】光ディスクの記録層に記録された情報を光
ディスク装置で再生する場合には、通常、レーザー光を
透明基板を通して記録層に照射し、記録層に生じた反射
率あるいはカー回転角などの変化を読取ることによって
行なわれている。
ディスク装置で再生する場合には、通常、レーザー光を
透明基板を通して記録層に照射し、記録層に生じた反射
率あるいはカー回転角などの変化を読取ることによって
行なわれている。
【０００５】光ディスク装置内で光ディスクが静止して
いる状態では、ヘッドスライダと光ディスク表面は接触
しているが、光ディスクを回転し始めるとヘッドスライ
ダは光ディスク表面との摺動過程を経て光ディスク表面
から浮上する。
いる状態では、ヘッドスライダと光ディスク表面は接触
しているが、光ディスクを回転し始めるとヘッドスライ
ダは光ディスク表面との摺動過程を経て光ディスク表面
から浮上する。
【０００６】従来、このヘッドスライダが光ディスク表
面から浮上する際に、高速回転しているヘッドスライダ
と光ディスクとの間に摩擦が生じ、光ディスク表面やヘ
ッドスライダ自体を傷つけることがあった。
面から浮上する際に、高速回転しているヘッドスライダ
と光ディスクとの間に摩擦が生じ、光ディスク表面やヘ
ッドスライダ自体を傷つけることがあった。
【０００７】
【発明の目的】本発明は、上記従来技術の問題点を解決
するためになされたものであって、光ディスク装置内で
光ディスクが回転し始める際に生じるヘッドスライダと
光ディスク表面との摩擦抵抗が小さい光ディスクを提供
することを目的としている。
するためになされたものであって、光ディスク装置内で
光ディスクが回転し始める際に生じるヘッドスライダと
光ディスク表面との摩擦抵抗が小さい光ディスクを提供
することを目的としている。
【０００８】さらに本発明は、帯電防止効果および耐擦
傷性にも優れた光ディスクを提供することをも目的とし
ている。
傷性にも優れた光ディスクを提供することをも目的とし
ている。
【０００９】
【発明の概要】本発明に係る光ディスクは、表面にＪＩ
Ｓ Ｂ０６０１に記載された方法により測定された中
心線平均粗さが０．０１μｍ〜２μｍである凹凸を有す
ることを特徴としている。
Ｓ Ｂ０６０１に記載された方法により測定された中
心線平均粗さが０．０１μｍ〜２μｍである凹凸を有す
ることを特徴としている。
【００１０】特にこのような特定の凹凸を表面に有する
光ディスクは、たとえば平均粒子径Ｄが、次式（１）Ｌ
／２μｍ＜Ｄ≦（Ｌ＋４）μｍ …（１
）（上記式中、Ｌは層の膜厚を示す。）で表され、７５
％以上がＤ（１±０．２）μｍの範囲にある球状粒子を
０．１重量％〜２０重量％含む層を記録層上に形成する
ことによって得られる。
光ディスクは、たとえば平均粒子径Ｄが、次式（１）Ｌ
／２μｍ＜Ｄ≦（Ｌ＋４）μｍ …（１
）（上記式中、Ｌは層の膜厚を示す。）で表され、７５
％以上がＤ（１±０．２）μｍの範囲にある球状粒子を
０．１重量％〜２０重量％含む層を記録層上に形成する
ことによって得られる。
【００１１】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係る光ディスクに
ついて具体的に説明する。本発明に係る光ディスクの１
例を第１図に示す。
ついて具体的に説明する。本発明に係る光ディスクの１
例を第１図に示す。
【００１２】この光ディスク１は、透明基板２と、この
基板２上に記録層３および球状粒子を含む層４が順次積
層されている。なお透明基板２、記録層３および球状粒
子を含む層４の種類等に応じて、透明基板２と記録層３
の間に接着層を設けてもよく、あるいは記録層３および
球状粒子を含む層４との間に保護膜を設けてもよい。
基板２上に記録層３および球状粒子を含む層４が順次積
層されている。なお透明基板２、記録層３および球状粒
子を含む層４の種類等に応じて、透明基板２と記録層３
の間に接着層を設けてもよく、あるいは記録層３および
球状粒子を含む層４との間に保護膜を設けてもよい。
【００１３】球状粒子を含む層４の表面にはＪＩＳ
Ｂ０６０１に記載された方法により測定された中心線平
均粗さが０．０１μｍ〜２μｍ、好ましくは０．０１μ
ｍ〜１．５μｍ、さらに好ましくは０．０３μｍ〜１．
０μｍである凹凸が形成されている。
Ｂ０６０１に記載された方法により測定された中心線平
均粗さが０．０１μｍ〜２μｍ、好ましくは０．０１μ
ｍ〜１．５μｍ、さらに好ましくは０．０３μｍ〜１．
０μｍである凹凸が形成されている。
【００１４】通常の光ディスク装置では、光ディスクの
記録面に記録された情報を再生している際に光ディスク
表面から浮上しているヘッドスライダと光ディスク表面
との離間距離は一般に２〜１０μｍである。したがって
光ディスク表面の上記中心線平均粗さ（Ｒａ）が２μｍ
を越えると、情報再生時にもヘッドスライダが光ディス
ク表面に接触し、ヘッドスライダおよび光ディスクが破
損する恐れがあるので好ましくない。
記録面に記録された情報を再生している際に光ディスク
表面から浮上しているヘッドスライダと光ディスク表面
との離間距離は一般に２〜１０μｍである。したがって
光ディスク表面の上記中心線平均粗さ（Ｒａ）が２μｍ
を越えると、情報再生時にもヘッドスライダが光ディス
ク表面に接触し、ヘッドスライダおよび光ディスクが破
損する恐れがあるので好ましくない。
【００１５】上述したような特定の凹凸を表面に有する
層４は、たとえば平均粒子径Ｄが、次式（１）Ｌ／２μ
ｍ＜Ｄ≦（Ｌ＋４）μｍ …（１）（上
記式中、Ｌは層の膜厚を示す。）で表され、７５％以上
がＤ（１±０．２）μｍの範囲にある球状粒子を０．１
重量％〜２０重量％、好ましくは１重量％〜１５重量％
含む塗膜形成材料によって形成することができる。また
この球状粒子を含む層の膜厚Ｌは通常３〜１５μｍの範
囲にある。なお膜厚Ｌは凹凸を有する表面の凹部に相当
する厚さを意味する。上記球状粒子の含有割合が０．１
重量％より少ない場合は、本発明の所望の効果が得られ
ず、また２０重量％より多い場合は、球状粒子を含む層
４の密着不良を生じやすくなるので望ましくない。球状
粒子の平均粒子径ＤがＬ／２μｍ以下である場合には層
４の表面に効果的な凹凸を形成することができないので
好ましくなく、また（Ｌ＋４）を越える場合には層４の
表面に形成される凹凸の中心線平均粗さが２μｍを越え
るので好ましくない。
層４は、たとえば平均粒子径Ｄが、次式（１）Ｌ／２μ
ｍ＜Ｄ≦（Ｌ＋４）μｍ …（１）（上
記式中、Ｌは層の膜厚を示す。）で表され、７５％以上
がＤ（１±０．２）μｍの範囲にある球状粒子を０．１
重量％〜２０重量％、好ましくは１重量％〜１５重量％
含む塗膜形成材料によって形成することができる。また
この球状粒子を含む層の膜厚Ｌは通常３〜１５μｍの範
囲にある。なお膜厚Ｌは凹凸を有する表面の凹部に相当
する厚さを意味する。上記球状粒子の含有割合が０．１
重量％より少ない場合は、本発明の所望の効果が得られ
ず、また２０重量％より多い場合は、球状粒子を含む層
４の密着不良を生じやすくなるので望ましくない。球状
粒子の平均粒子径ＤがＬ／２μｍ以下である場合には層
４の表面に効果的な凹凸を形成することができないので
好ましくなく、また（Ｌ＋４）を越える場合には層４の
表面に形成される凹凸の中心線平均粗さが２μｍを越え
るので好ましくない。
【００１６】本発明では、球状粒子として、シリカ、ア
ルミナ、チタニア、およびガラスなどの無機化合物から
なる球状粒子、あるいはポリエステル樹脂、ポリスチレ
ン樹脂などの合成樹脂からなる球状粒子などが挙げられ
る。特にシリカ球状粒子が、光ディスク表面の耐擦傷性
の向上に優れた効果を有するので好ましい。
ルミナ、チタニア、およびガラスなどの無機化合物から
なる球状粒子、あるいはポリエステル樹脂、ポリスチレ
ン樹脂などの合成樹脂からなる球状粒子などが挙げられ
る。特にシリカ球状粒子が、光ディスク表面の耐擦傷性
の向上に優れた効果を有するので好ましい。
【００１７】また球状粒子のマトリックスとなる塗膜形
成材料としては、シリコン化合物とビニール化合物との
混合物、紫外線硬化性樹脂組成物などの保護膜形成材料
が一般的に用いられる。紫外線硬化性樹脂組成物に用い
ることができる硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステ
ル系樹脂、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレ
ート、スピロアセタールアクリレートなどのアクリレー
ト系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリチオール系樹脂
、エポキシ系樹脂などが挙げられる。
成材料としては、シリコン化合物とビニール化合物との
混合物、紫外線硬化性樹脂組成物などの保護膜形成材料
が一般的に用いられる。紫外線硬化性樹脂組成物に用い
ることができる硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステ
ル系樹脂、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレ
ート、スピロアセタールアクリレートなどのアクリレー
ト系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリチオール系樹脂
、エポキシ系樹脂などが挙げられる。
【００１８】球状粒子を含む層４には、上述した球状粒
子および塗膜形成材料以外に、帯電防止効果を目的とし
てＳｎＯ２、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ５、Ｉｎ２Ｏ３−Ｓｎ
Ｏ２、ＳｎＯ２−Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ５などの導電性粉
末（コロイド粒子をも含む）、あるいは４級アンモニウ
ム塩などの界面活性剤系の帯電防止剤などを含有するこ
ともできる。
子および塗膜形成材料以外に、帯電防止効果を目的とし
てＳｎＯ２、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ５、Ｉｎ２Ｏ３−Ｓｎ
Ｏ２、ＳｎＯ２−Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ５などの導電性粉
末（コロイド粒子をも含む）、あるいは４級アンモニウ
ム塩などの界面活性剤系の帯電防止剤などを含有するこ
ともできる。
【００１９】このような層４は、前述の球状粒子と、必
要に応じて有機溶媒、導電性粉末などを含有する塗膜形
成材料、たとえば紫外線硬化性塗料をスピンコートなど
の通常の方法で記録層３面上に塗布した後硬化させて調
製される。
要に応じて有機溶媒、導電性粉末などを含有する塗膜形
成材料、たとえば紫外線硬化性塗料をスピンコートなど
の通常の方法で記録層３面上に塗布した後硬化させて調
製される。
【００２０】
【発明の効果】本発明の光ディスクは、表面に特定の凹
凸を有するため動摩擦係数が小さく、しかもシリカ球状
粒子と紫外線硬化性樹脂組成物などの塗膜形成材料とを
組合せて用いるなどにより耐擦傷性を向上することがで
き、さらには導電性粉末や帯電防止剤などを添加するこ
とにより表面抵抗値を低下させて帯電防止性を向上する
こともできるので、光ディスク装置内で光ディスクを回
転させて記録情報を再生する際に、光ディスクの表面や
ヘッドスライダに生じる損傷が防止できる。
凸を有するため動摩擦係数が小さく、しかもシリカ球状
粒子と紫外線硬化性樹脂組成物などの塗膜形成材料とを
組合せて用いるなどにより耐擦傷性を向上することがで
き、さらには導電性粉末や帯電防止剤などを添加するこ
とにより表面抵抗値を低下させて帯電防止性を向上する
こともできるので、光ディスク装置内で光ディスクを回
転させて記録情報を再生する際に、光ディスクの表面や
ヘッドスライダに生じる損傷が防止できる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２２】
【実施例１】アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂１００
重量部に平均粒径が５．５μｍであって、４．４〜６．
６μｍの範囲に８０％存在する球状シリカ５重量部とイ
ソプロピルアルコール（ＩＰＡ）４０重量部とを混合し
て塗布液を形成した。スピンコーターを用いて得られた
塗布液を１５００ｒｐｍで１０秒間基板と記録層とから
なる光ディスクの記録層上に塗布した。次いで塗布され
た塗膜に紫外線を照射して６μｍの厚さの層を形成した
。得られた光ディスク表面の中心線平均粗さをＪＩＳ
Ｂ０６０１に記載された方法により測定した。
重量部に平均粒径が５．５μｍであって、４．４〜６．
６μｍの範囲に８０％存在する球状シリカ５重量部とイ
ソプロピルアルコール（ＩＰＡ）４０重量部とを混合し
て塗布液を形成した。スピンコーターを用いて得られた
塗布液を１５００ｒｐｍで１０秒間基板と記録層とから
なる光ディスクの記録層上に塗布した。次いで塗布され
た塗膜に紫外線を照射して６μｍの厚さの層を形成した
。得られた光ディスク表面の中心線平均粗さをＪＩＳ
Ｂ０６０１に記載された方法により測定した。
【００２３】また、動摩擦係数は、協和界面科学（株）
社製の表面性試験機を用いて測定した。さらに光ディス
ク表面の表面抵抗および鉛筆硬度をも測定した。結果を
表１に示す。
社製の表面性試験機を用いて測定した。さらに光ディス
ク表面の表面抵抗および鉛筆硬度をも測定した。結果を
表１に示す。
【００２４】
【実施例２】ポリエステルアクリレート系紫外線硬化樹
脂１００重量部に平均粒径が８．８μｍであって、７．
０〜１０．６μｍの範囲に７８％存在する球状シリカ１
０重量部、導電性酸化錫（触媒化成工業（株）製 Ｅ
ＬＣＯＭ ＴＬ３０）６０重量部およびブタノール／１
ＰＡ混合溶剤５０重量部を加え、これらの混合物をサン
ドミルで１時間混合分散して塗布液を形成した。スピン
コーターを用いて得られた塗布液を１５００ｒｐｍで７
秒間基板と記録層とからなる光ディスクの記録層上に塗
布した。次いで塗布された塗膜に紫外線を照射して９μ
ｍの厚さの層を形成した。得られた光ディスク表面の中
心線平均粗さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を
実施例１と同様の方法で測定した。
脂１００重量部に平均粒径が８．８μｍであって、７．
０〜１０．６μｍの範囲に７８％存在する球状シリカ１
０重量部、導電性酸化錫（触媒化成工業（株）製 Ｅ
ＬＣＯＭ ＴＬ３０）６０重量部およびブタノール／１
ＰＡ混合溶剤５０重量部を加え、これらの混合物をサン
ドミルで１時間混合分散して塗布液を形成した。スピン
コーターを用いて得られた塗布液を１５００ｒｐｍで７
秒間基板と記録層とからなる光ディスクの記録層上に塗
布した。次いで塗布された塗膜に紫外線を照射して９μ
ｍの厚さの層を形成した。得られた光ディスク表面の中
心線平均粗さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を
実施例１と同様の方法で測定した。
【００２５】結果を表１に示す。
【００２６】
【実施例３】アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂１００
重量部に平均粒径が１２．０μｍであって、９．６〜１
４．４μｍの範囲に９０％存在する球状シリカ１３重量
部および導電性酸化錫（触媒化成工業（株）製 ＥＬ
ＣＯＭ ＴＬ３０Ｓ ）７５重量部を加え、これらの混
合物をボールミルで８時間混合分散して塗布液を形成し
た。スピンコーターを用いてこの塗布液を１５００ｒｐ
ｍで５秒間基板と記録層とからなる光ディスクの記録層
上に塗布した。 次いで塗布された塗膜に紫外線を照射して１１μｍの厚
さの層を形成した。得られた光ディスク表面の中心線平
均粗さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆高度を実施例
１と同様の方法で測定した。
重量部に平均粒径が１２．０μｍであって、９．６〜１
４．４μｍの範囲に９０％存在する球状シリカ１３重量
部および導電性酸化錫（触媒化成工業（株）製 ＥＬ
ＣＯＭ ＴＬ３０Ｓ ）７５重量部を加え、これらの混
合物をボールミルで８時間混合分散して塗布液を形成し
た。スピンコーターを用いてこの塗布液を１５００ｒｐ
ｍで５秒間基板と記録層とからなる光ディスクの記録層
上に塗布した。 次いで塗布された塗膜に紫外線を照射して１１μｍの厚
さの層を形成した。得られた光ディスク表面の中心線平
均粗さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆高度を実施例
１と同様の方法で測定した。
【００２７】結果を表１に示す。
【００２８】
【実施例４】アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂１００
重量部に平均粒径が３．１μｍであって、２．５〜３．
７μｍの範囲に８５％存在する球状シリカ１重量部を混
合して塗布液を形成した。スピンコーターを用いてこの
塗布液を１５００ｒｐｍで８秒間基板と記録層とからな
る光ディスクの記録層上に塗布した。次いで塗布された
塗膜に紫外線を照射して４μｍの厚さの層を形成した。 得られた光ディスク表面の中心線平均粗さ、動摩擦係数
、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例１と同様の方法で測
定した。
重量部に平均粒径が３．１μｍであって、２．５〜３．
７μｍの範囲に８５％存在する球状シリカ１重量部を混
合して塗布液を形成した。スピンコーターを用いてこの
塗布液を１５００ｒｐｍで８秒間基板と記録層とからな
る光ディスクの記録層上に塗布した。次いで塗布された
塗膜に紫外線を照射して４μｍの厚さの層を形成した。 得られた光ディスク表面の中心線平均粗さ、動摩擦係数
、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例１と同様の方法で測
定した。
【００２９】結果を表１に示す。
【００３０】
【比較例１】スピンコーターを用いてアクリルウレタン
系紫外線硬化樹脂を１５００ｒｐｍで７秒間基板と記録
層とからなる光ディスクの記録層上に塗布した。次いで
塗布された塗膜に紫外線を照射して６μｍの厚さの層を
形成した。得られた光ディスク表面の中心線平均粗さ、
動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例１と同様
の方法で測定した。
系紫外線硬化樹脂を１５００ｒｐｍで７秒間基板と記録
層とからなる光ディスクの記録層上に塗布した。次いで
塗布された塗膜に紫外線を照射して６μｍの厚さの層を
形成した。得られた光ディスク表面の中心線平均粗さ、
動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例１と同様
の方法で測定した。
【００３１】結果を表１に示す。
【００３２】
【比較例２】ポリエステルアクリレート系紫外線硬化樹
脂１００重量部に導電性酸化錫（触媒化成工業（株）製
ＥＬＣＯＭ ＴＬ３０）６０重量部およびＩＰＡ
４０重量部をサンドミルで１時間分散して塗布液を得
た。スピンコーターを用いてこの塗布液を１５００ｒｐ
ｍで５秒間基板と記録層とからなる光ディスクの記録層
上に塗布した。 次いで塗布された塗膜に紫外線を照射して９μｍの厚さ
の層を形成した。得られた光ディスク表面の中心線平均
粗さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例１
と同様の方法で測定した。
脂１００重量部に導電性酸化錫（触媒化成工業（株）製
ＥＬＣＯＭ ＴＬ３０）６０重量部およびＩＰＡ
４０重量部をサンドミルで１時間分散して塗布液を得
た。スピンコーターを用いてこの塗布液を１５００ｒｐ
ｍで５秒間基板と記録層とからなる光ディスクの記録層
上に塗布した。 次いで塗布された塗膜に紫外線を照射して９μｍの厚さ
の層を形成した。得られた光ディスク表面の中心線平均
粗さ、動摩擦係数、表面抵抗および鉛筆硬度を実施例１
と同様の方法で測定した。
【００３３】結果を表１に示す。
【００３４】
【表１】
【図１】 本発明に係る光ディスクの１例を示す断面
図である。
図である。
１…光ディスク、
２…透明基板、
３…記録層、
４…球状粒子を含む層。
Claims (2)
- 【請求項１】 表面にＪＩＳ Ｂ０６０１に記載さ
れた方法により測定された中心線平均粗さが０．０１μ
ｍ〜２μｍである凹凸を有することを特徴とする光ディ
スク。 - 【請求項２】 記録層と、この記録層上に０．１重量
％〜２０重量％の量で球状粒子を含む層とを有し、前記
球状粒子の平均粒子径Ｄが、次式（１） Ｌ／２μｍ＜Ｄ≦（Ｌ＋４）μｍ …（
１）（上記式中、Ｌは層の膜厚を示す。）で表され、前
記球状粒子の７５％以上がＤ（１±０．２）μｍの範囲
にあることを特徴とする請求項第１項記載の光ディスク
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09728391A JP3272742B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09728391A JP3272742B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04325939A true JPH04325939A (ja) | 1992-11-16 |
| JP3272742B2 JP3272742B2 (ja) | 2002-04-08 |
Family
ID=14188190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09728391A Expired - Lifetime JP3272742B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3272742B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6510126B1 (en) | 1998-10-12 | 2003-01-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical disc having textured structure, and a method of manufacturing the optical disc |
-
1991
- 1991-04-26 JP JP09728391A patent/JP3272742B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6510126B1 (en) | 1998-10-12 | 2003-01-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical disc having textured structure, and a method of manufacturing the optical disc |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3272742B2 (ja) | 2002-04-08 |
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