JPH04212734A - 光ディスクおよび光ディスク用塗料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、帯電防止効果および耐擦
傷性が付与された透明導電膜を有する光ディスクおよび
この透明導電膜を光ディスク基板および／または記録層
面上に形成するための導電膜用塗料組成物に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】光ディスクとは、光によって情報
が記録、再生されるディスクを総称しており、このよう
な光ディスクとしてたとえば光磁気ディスク、相転移型
ディスクなどの消去可能型光ディスク、追記可能型光デ
ィスク、レーザーディスク、コンパクト・ディスクなど
の再生専用型光ディスクなどが知られている。

【０００３】光ディスクは、基本的には透明基板と、該
基板の上に形成された記録層とから構成されている。通
常、情報の記録および再生は、レーザー光を記録層が形
成された面とは反対側から透明基板を介して照射し、記
録層に生じた反射率あるいはカー回転角などの変化を読
取ることのよって行われている。

【０００４】したがって、透明基板は、通常ガラスある
いは合成樹脂から形成されているが、量産性、コスト面
、あるいは取り扱いやすさなどから、そのほとんどは合
成樹脂製である。基板形成用合成樹脂としては、たとえ
ばポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、エポ
キシ樹脂、ポリオレフィンなどが用いられている。

【０００５】これらの合成樹脂製基板は、一般に表面硬
度が低く基板表面が傷がつきやすいため、情報の記録、
再生時にエラーの発生原因となる問題点があった。また
、これらの合成樹脂は帯電しやすく、ゴミやホコリが付
着しやすい。光ディスク上に付着したゴミやホコリによ
ってレーザー光が散乱され、記録および再生時にエラー
が発生しやすいという問題点があった。

【０００６】ところで特開平１ー１６１０２７号公報に
は、透明樹脂表面上に、帯電防止性を有する硬化膜を形
成するための硬化性組成物が提案されている。すなわち
、該公報には、 （Ａ）アクロイル基またはメタクロイル基を分子中に２
個以上含有する化合物 （Ｂ）帯電防止剤（界面活性剤） （Ｃ）有機ケイ素化合物の加水分解物によって表面を処
理した無機充填剤 からなる硬化性組成物が開示されており、この硬化性組
成物をポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、
ポリ塩化ビニルなどの透明樹脂上に塗布硬化させると、
透明性を損なうことなく透明樹脂に帯電防止性および耐
擦傷性を付与しうることが教示されている。

【０００７】しかしながら、この硬化性組成物をポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレート、エポキシ樹脂
、ポリオレフィンなどのディスク基板上に塗布硬化させ
て帯電防止膜を形成しても、その帯電防止能力は低湿度
条件下では著しく低下するなど環境依存性が高く、また
永続性に劣るなどの問題点があった。

【０００８】

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に伴う
問題点を解消しようとするものであって、透明性に優れ
、しかも環境の変化に依存することのない永続性に優れ
た帯電防止能力を有し、かつ耐擦傷性に優れた透明導電
膜を有する光ディスクを提供することを目的としている
。

【０００９】

【発明の概要】本発明に係る光ディスクは、透明基板上
に記録層が設けられてなる光ディスクにおいて、透明基
板の光透過面および／または記録層面上に、電磁波照射
硬化性樹脂および導電性金属化合物粒子からなる透明導
電膜を有することを特徴としている。

【００１０】また本発明に係る光ディスク用塗料組成物
は、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化
亜鉛およびフッ化マグネシウム、異種元素がドープされ
た酸化スズ、異種元素がドープされた酸化インジウム、
異種元素がドープされた酸化アンチモン、異種元素がド
ープされた酸化亜鉛および異種元素がドープされたフッ
化マグネシウムとからなる群から選択される少なくとも
１種の化合物を含み、かつ平均粒子径が０．４μｍ以下
である導電性金属化合物粒子と、電磁波照射硬化性樹脂
とからなり、導電性金属化合物粒子と電磁波照射硬化性
樹脂との合計量を１００％とした場合に、導電性金属化
合物粒子が５〜９０重量％の量で、電磁波照射硬化性樹
脂が９５〜１０重量％の量で存在していることを特徴と
している。

【００１１】このような組成物を塗布して得られた透明
導電膜を有する光ディスクは、透明性に優れるとともに
、帯電防止性に優れ、かつ耐擦傷性にも優れている。

【００１２】

【発明の具体的説明】以下に本発明に係る光ディスクお
よび光ディスク用塗料組成物について具体的に説明する
。

【００１３】本発明に係る光ディスク１は、第１の実施
態様として図１に示すように、透明基板２と、この基板
２上に設けられた記録層３とからなり、基板２の透過面
上には、透明導電膜４ａが設けられている。

【００１４】また本発明に係る光ディスク１は、第２の
実施態様として図２に示すように、透明基板２と、この
基板２上に設けられた記録層３とからなり、記録層３面
上には、透明導電膜４ｂが設けられている。このような
第２の実施態様の光ディスクにおいて、記録層３と透明
導電膜４ｂとの間には、保護膜が設けられていてもよい
。

【００１５】さらに本発明に係る光ディスク１は、第３
の実施態様として図３に示すように、透明基板２と、こ
の基板２上に設けられた記録層３とからなり、基板２の
透過面上には透明導電膜４ａが設けられ、かつ記録層３
面上には透明導電膜４ｂが設けられている。このような
第３の実施態様の光ディスクにおいて、記録層３と透明
導電膜４ｂとの間には、保護膜が設けられていてもよい
。

【００１６】本発明で用いられる透明基板２の樹脂材料
としては、具体的には、ポリカーボネート、ポリメチル
メタクリレート、エポキシ樹脂、ポリオレフィンなどを
挙げることができる。また、透明基板２として、ガラス
を使用することもできる。

【００１７】上記のような４ａまたは４ｂで示される透
明導電膜は、電磁波照射硬化性樹脂と導電性金属化合物
粒子とから構成されている。電磁波照射硬化性樹脂は、
紫外線あるいは電子線などの照射によって硬化する樹脂
であり、たとえば、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹
脂などが用いられる。具体的にはたとえば、不飽和ポリ
エステル系樹脂、ポリエーテルアクリレート、ポリエス
テルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンア
クリレート、スピロアセタールアクリレートなどのアク
リレート系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリチオール
系樹脂、エポキシ系樹脂などを挙げることができる。

【００１８】本発明で用いられる導電性金属化合物粒子
は、透明導電膜に帯電防止効果すなわち導電性を付与す
るための成分である。さらに透明導電膜４ａが基板２の
光透過面上に設けられる場合、この透明導電膜４ａを形
成する導電性金属化合物粒子には、基板２の透明性を低
下させない性質が要求される。このような導電性金属化
合物粒子を含む透明導電膜４ａでは、光透過率が６０％
以上、好ましくは８０％以上であることが望ましい。

【００１９】本発明では、上記のような導電性金属化合
物粒子として、具体的には、酸化スズ、酸化インジウム
、酸化アンチモン、酸化亜鉛およびフッ化マグネシウム
あるいは、異種元素がドープされた酸化スズ、異種元素
がドープされた酸化インジウム、異種元素がドープされ
た酸化アンチモン、異種元素がドープされた酸化亜鉛お
よび異種元素がドープされたフッ化マグネシウムとから
なる群から選択された少なくとも１種が用いられる。

【００２０】ドープされる元素としてはＳｉ、Ｚｒ、Ｓ
ｎ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｆｅ、Ｐ、Ｂ、Ｓｂ、Ｔ
ｅなどが挙げられる。これらのうち、特に　　酸化スズ
またはＳｂ、Ｐ、Ｚｎ、Ｔｅなど異種の元素がドープさ
れた酸化スズ、酸化インジウムまたはＳｎがドープされ
た酸化インジウム、酸化アンチモンまたはＳｉ、Ｚｎ、
Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐ、Ｂ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｆｅなどの異種元素
がドープされた酸化アンチモンが好ましい。

【００２１】光ディスクの読み取りあるいは書き込みは
、通常波長約７８０〜８５０ｎｍのレーザー光を照射し
て行われるため、光ディスクは上記波長光の透過率が高
いことが望ましい。そして光透過面上に設けられる透明
導電膜４ａには、該膜４ａ中に含まれる金属化合物粒子
によって記録および再生時にエラーを発生させないため
、金属化合物粒子はレーザー光を散乱させない程度微細
であることが望ましい。このため導電性金属化合物粒子
の粒径は０．４μｍ以下、好ましくは０．００５〜０．
２μｍであることが望ましい。

【００２２】このような導電性金属化合物粒子は、たと
えば、先に本出願人が出願した特開昭６２−１８３８５
０号公報、特開昭６２−２３０６１７号公報、特開昭６
３−１１５１９号公報などに記載された製造方法によっ
て得られる。

【００２３】上記のような透明導電膜の膜厚は特に限定
されないが、０．２〜２０μｍ好ましくは２〜３μｍで
あることが望ましい。本発明に係る導電性金属化合物粒
子を含有する透明導電膜は表面抵抗値が１０７　Ω／□
〜１０１２Ω／□であり、優れた帯電防止効果を有して
いる。

【００２４】本発明に係る透明導電膜では、電磁波照射
硬化性樹脂成分は９５〜１０重量％好ましくは８０〜２
０重量％、導電性金属化合物粒子成分は５〜９０重量％
好ましくは２０〜８０重量％の量で含まれていることが
望ましい。

【００２５】この透明導電膜は、後述するように上記以
外の成分を含んでいてもよい。本発明に係る光ディスク
１においては、透明基板２上に設けられる記録層３は種
々の型式であっても用いることができ、たとえばリード
オンリー型記録層、ライトワンス型記録層、リライタブ
ル型記録層でもよい。

【００２６】本発明では、透明基板２の光透過面および
／または記録層面上に透明導電膜を設けるには、以下に
説明するような光ディスク用塗料組成物を基板上にスピ
ンコート法、ディップ法などにより塗布した後、紫外線
あるいは電子線などの電磁波を照射して硬化させればよ
い。

【００２７】光ディスク用塗料組成物は、９５〜１０重
量％の電磁波照射硬化性樹脂と、５〜９０重量％の導電
性金属化合物粒子と、必要に応じて有機溶媒とを含んで
形成されている。

【００２８】有機溶媒としては、イソプロピルアルコー
ル、ｎ−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチルな
どのカルボン酸エステル類、キシレン、トルエンなどの
芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトンなどのケトン類を用いることができる。

【００２９】このような有機溶媒を用いる場合は、電磁
波照射硬化性樹脂と導電性金属化合物粒子との合計重量
１００重量部に対して、１０〜１０００重量部、好まし
くは２０〜４００重量部の量で用いられることが望まし
い。

【００３０】また本発明に係る透明導電性塗料組成物は
、耐擦傷性を向上させるためにコロイダルシリカ、コロ
イダルアルミナなどの無機充填剤を含有することができ
る。上述したような透明導電性塗料組成物をディスク基
板表面に塗布硬化してなる透明導電膜を有する光ディス
クは、帯電減衰率（半減期）が速く、表面抵抗値が低く
、光透過率に優れ、表面硬度が高いという特性を有して
いる。特に帯電減衰率（半減期）は導電性金属化合物粒
子を含有しない硬化性樹脂の塗膜に比べて顕著に改善さ
れ、また表面抵抗値も同条件で著しく改良された。

【００３１】

【発明の効果】本発明に係る光ディスクは、透明導電膜
を有し、この透明導電膜は電磁波照射硬化性樹脂と導電
性金属化合物粒子を含有しているので、永続性に優れる
とともに湿度などの環境の変化に左右されない安定な帯
電防止効果を有し、ゴミやホコリの付着が防止される。 さらに基板表面は、耐擦傷性に優れているため、傷に起
因する記録および再生時のエラーを減らすことができる
。

【００３２】また、本発明に係る光ディスク用塗料組成
物は、透明基板の記録層面上に直接または保護膜を介し
て塗布しても、記録層を腐蝕させたりすることがなく、
透明基板の光透過面上だけでなく、記録層面上にも塗布
して透明導電膜を形成することができる。

【００３３】以下、本発明を実施例により説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

【００３４】

【実施例１】イソプロピルアルコール２６０ｇに、アク
リルウレタン系紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学製．
ユニデック１７−８２４）４０ｇと導電性酸化スズ（触
媒化成工業株式会社製．ＥＬＣＯＭ　　ＴＬ３０）７５
ｇとを添加した。その後、この溶液をボールミルで２４
時間混合して均一に分散させて透明導電性塗料組成物を
調製した。この透明導電性塗料組成物中の導電性酸化ス
ズの平均粒子径は０．１μｍであった。

【００３５】得られた塗料組成物を厚さ１ｍｍのポリカ
ーボネート板にスピンコート法により塗布し、紫外線照
射装置により塗膜組成物を硬化させ、基板上に膜厚２μ
ｍの導電膜を形成し、透明導電膜を有する光ディスク基
板を得た。

【００３６】得られた光ディスク基板の導電膜面の表面
抵抗（Ω／□）を電極セル（ＹＨＰ製）で測定し、鉛筆
硬度をＪＩＳ−Ｋ−５４００にしたがって測定し、さら
に導電膜面の帯電減衰半減期を帯電減衰率測定装置（春
日電気製）で測定した。また、ゴミ付着性は、柔らかい
布で導電膜面を１０回こすり、直に紙の上に置かれたタ
バコの灰の上０．５ｃｍまで近づけ約１０秒間静止させ
た後、灰の付着具合いを目視で３段階に判定した。そし
て、得られた光ディスク基板の波長８２０ｎｍにおける
光透過率（Ｔ％）を分光光度計（日立製作所製）で測定
した。

【００３７】結果を表１に示す。

【００３８】

【実施例２】エチルセロソルブ１２０ｇにアクリルウレ
タン系紫外線硬化樹脂（大八化学製ＤＨ７０８）４０ｇ
と導電性酸化インジウム（触媒化成工業株式会社製．Ｅ
ＬＣＯＭ　　ＴＬ１３０）６６ｇを添加した。その後、
この溶液をボールミルで１８時間混合して均一に分散さ
せて透明導電性塗料組成物を調製した。この透明導電性
塗料組成物中の導電性酸化スズの平均粒子径は０．１５
μｍであった。

【００３９】得られた塗料組成物を用いて実施例１と同
様にして、基板上に膜厚２μｍの透明導電膜を形成し、
表面抵抗、鉛筆硬度、帯電減衰半減期、ゴミ付着性、光
透過率を測定した。

【００４０】結果を表１に示す。

【００４１】

【実施例３】ｎ−ブタノール６５ｇにエポキシウレタン
系紫外線硬化樹脂（日本化薬製ＩＣＵ−１２０）４０ｇ
と導電性酸化スズ（触媒化成工業株式会社製．ＥＬＣＯ
Ｍ−ＴＬ３０）７５ｇとを添加した。さらにこの溶液に
オルガノシリカゾル（触媒化成工業株式会社製．ＯＳＣ
ＡＬ１４３２）９０ｇを添加した。その後、この溶液を
サンドミルで１時間混合して均一に分散させて透明導電
性塗料組成物を調製した。この透明導電性塗料組成物中
の導電性酸化スズの平均粒子径は０．２μｍであった。

【００４２】得られた塗料組成物を用いて実施例１と同
様にして、基板上に膜厚２μｍの透明導電膜を形成し、
表面抵抗、鉛筆硬度、帯電減衰半減期、ゴミ付着性、光
透過率を測定した。

【００４３】結果を表１に示す。

【００４４】

【実施例４】紫外線硬化樹脂（大八化学製．ＤＨ７００
，樹脂固形分２０重量％）７０ｇと、メチルアルコール
を分散媒とする酸化アンチモンゾル（平均粒子径２５ｎ
ｍ，濃度２０重量％）３０ｇを混合し、透明導電性塗料
組成物を調製した。得られた厚さ１ｍｍの透明導電性塗
料組成物は、波長８２０ｎｍにおける光透過率が９２％
であった。

【００４５】この塗料組成物を厚さ１ｍｍのポリカーボ
ネート板にＮｏ．２バーコーターにより塗布し、紫外線
照射装置を用いて紫外線を照射し、基板上に膜厚３μｍ
の導電膜を形成した。

【００４６】得られた透明導電膜を有する光ディスクの
表面抵抗、鉛筆硬度、帯電減衰半減期、ゴミ付着性、光
透過率を実施例と同様にして測定した。結果を表１に示
す。

【００４７】

【実施例５】実施例４において、さらにイソプロピルア
ルコールを分散媒とするシリカゾル（平均粒子径１０ｎ
ｍ，濃度２０重量％）１０ｇを添加し、光透過率９０％
の透明導電性塗料組成物を得た以外は実施例４と同様に
して透明導電膜を有する光ディスクを得た。

【００４８】結果を表１に示す。

【００４９】

【実施例６】実施例４において、さらにメチルセロソル
ブを分散媒とする酸化スズゾル（平均粒子径１０ｎｍ，
濃度２０重量％）１０ｇを添加し、光透過率８０％の透
明導電性塗料組成物を得た以外は実施例４と同様にして
透明導電膜を有する光ディスクを得た。

【００５０】結果を表１に示す。

【００５１】

【実施例７】実施例４において、さらにメチルセロソル
ブを分散媒とするフッ化マグネシウムゾル（平均粒子径
４０ｎｍ，濃度１０重量％）２０ｇを添加し、光透過率
８５％の透明導電性塗料組成物を得た以外は実施例４と
同様にして透明導電膜を有する光ディスク基板を得た。

【００５２】結果を表１に示す。

【００５３】

【比較例１】アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂４０ｇ
をイソプロピルアルコール７０ｇで希釈した塗布液を厚
さ１ｍｍのポリカーボネート板にスピンコート法により
塗布し、紫外線照射装置により紫外線を照射して硬化さ
せ、基板上に膜厚２μｍの導電膜を形成し、導電膜を有
する光ディスクを得た。

【００５４】結果を表１に示す。

【００５５】

【比較例２】アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂４０ｇ
に４級アンモニウム塩４ｇを添加し、ｎ−ブタノール７
０ｇで希釈した塗布液を調製し、比較例１と同様にして
、基板上に膜厚２μｍの導電膜を形成し、導電膜を有す
る光ディスクを得た。

【００５６】結果を表１に示す。

【００５７】

【表１】

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明に係る光ディスク第１の実施態
様における光ディスクの断面図である。

【図２】図２は、本発明に係る光ディスク第２の実施態
様における光ディスクの断面図である。

【図３】図３は、本発明に係る光ディスク第３の実施態
様における光ディスクの断面図である。

【符号の説明】

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基板上に記録層が設けられてなる光デ
   ィスクにおいて、透明基板の光透過面および／または記
   録層面上に、電磁波照射硬化性樹脂および導電性金属化
   合物粒子からなる透明導電膜を有することを特徴とする
   光ディスク。
2. 【請求項２】導電性金属化合物粒子が酸化スズ、酸化イ
   ンジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛およびフッ化マグ
   ネシウム、異種元素がドープされた酸化スズ、異種元素
   がドープされた酸化インジウム、異種元素がドープされ
   た酸化アンチモン、異種元素がドープされた酸化亜鉛お
   よび異種元素がドープされたフッ化マグネシウムとから
   なる群から選択される少なくとも１種の化合物であるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の光ディスク。
3. 【請求項３】導電性金属化合物粒子の平均粒子径が、０
   ．４μｍ以下である請求項１または２に記載の光ディス
   ク。
4. 【請求項４】透明導電膜が、９５〜１０重量％の電磁波
   照射硬化性樹脂と、５〜９０重量％の導電性金属化合物
   粒子とからなる請求項１ないし３のいずれかに記載の光
   ディスク。
5. 【請求項５】酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモ
   ン、酸化亜鉛およびフッ化マグネシウム、異種元素がド
   ープされた酸化スズ、異種元素がドープされた酸化イン
   ジウム、異種元素がドープされた酸化アンチモン、異種
   元素がドープされた酸化亜鉛および異種元素がドープさ
   れたフッ化マグネシウムとからなる群から選択される少
   なくとも１種の化合物を含み、かつ平均粒子径が０．４
   μｍ以下である導電性金属化合物粒子と、電磁波照射硬
   化性樹脂とからなり、導電性金属化合物粒子と電磁波照
   射硬化性樹脂との合計量を１００％とした場合に、導電
   性金属化合物粒子が５〜９０重量％の量で、電磁波照射
   硬化性樹脂が９５〜１０重量％の量で存在していること
   を特徴とする光ディスク用塗料組成物。