JPH04326096A - 粒子加速器用ターゲット本体及び放射性同位元素の製造方法 - Google Patents

粒子加速器用ターゲット本体及び放射性同位元素の製造方法

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JPH04326096A
JPH04326096A JP9687491A JP9687491A JPH04326096A JP H04326096 A JPH04326096 A JP H04326096A JP 9687491 A JP9687491 A JP 9687491A JP 9687491 A JP9687491 A JP 9687491A JP H04326096 A JPH04326096 A JP H04326096A
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JP
Japan
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target
target body
silver
particle accelerator
copper
Prior art date
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Pending
Application number
JP9687491A
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English (en)
Inventor
Teruo Inoue
井上 照夫
Takao Yamamoto
山本 卓男
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Fujifilm RI Pharma Co Ltd
Original Assignee
Fujifilm RI Pharma Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はサイクロトロン等の粒子
加速器用ターゲット本体及び該ターゲット本体を用いる
放射性同位元素の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、斯かるターゲット本体の素材とし
ては、エネルギー照射時に発生する熱を考慮し、冷却効
果を上げるため、熱伝導に優れた銅が多く使用されてい
る。而して、放射性同位元素の製造に際しては、一般に
はターゲットの冷却効率の点から銅板をターゲット本体
とし、その表面にターゲット物質をメッキして安定な金
属としたものが通常固体ターゲットとして用いられてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】放射性同位元素を高純
度かつ高収率で製造するために、多くの場合、濃縮同位
体がターゲット物質として使用される。然るとき、濃縮
同位体は、その製造に多大の労力と時間を必要とする結
果、価格が極めて高価なものである。そのため、ターゲ
ット物質に荷電粒子を照射し、目的の放射性同位元素を
分離した後に、濃縮同位体を化学的に分離・精製する回
収作業が必要となる。
【0004】然るところ、従来の如き銅製ターゲット本
体を用いた場合には、陽子との低エネルギー側での核反
応により、銅による65Cu(p,n)65Zn反応に
よって半減期244日と長く、しかもγ線放出エネルギ
ーが1115keV と高い65Znが生成するので、
濃縮同位体の回収作業上、大きな問題となっていた。
【0005】特に、67Gaを製造する場合には、濃縮
同位体である68Zn中への65Znの混入が避けられ
ないところ、68Znと65Znの化学分離は事実上不
可能であり、放射性同位元素製造上大きな障害となって
いたのが実状であった。
【0006】そこで、本発明者は斯かる銅製ターゲット
本体がもたらす問題を解決すべく種々研究を重ねた結果
、ターゲット本体を銀製又は銀メッキ製とすれば、優れ
た熱伝導性によりターゲット本体の冷却効果を上げ得る
と共に、陽子との核反応によって長半減期の核種が生成
せず、しかも物理・化学的に安定(HCl などの酸に
よって溶解されない)であるため、核反応によって生成
した核種が酸によるターゲット本体処理の際に溶解され
ず、極めて工業的に有利に放射性同位元素を製造し得る
ことを見い出し、本発明を完成した。
【0007】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は銀製
又は銀メッキ製としたことを特徴とする粒子加速器用タ
ーゲット本体及び該ターゲット本体表面に目的とする放
射性同位元素に対応するターゲット原料をメッキして得
た粒子加速器用ターゲットを用いることを特徴とする放
射性同位元素の製造方法である。
【0008】本発明に於てターゲット本体を銀メッキ製
として実施する場合、その基体は銅製、換言すれば銅製
基体の表面に銀メッキを施してターゲット本体とするの
が好ましい。ここに銀メッキ層の厚さとしては10〜2
0μm程度で十分である。
【0009】尚、本発明に於て、ターゲット本体を銀メ
ッキ製とした場合には、コストの面のみならず副反応に
よって生成する放射性核種の生成率の点で全てを銀製と
したターゲット本体に比し良い結果が得られる。
【0010】本発明によれば、斯かる銀製又は銀メッキ
製ターゲット本体の表面に、目的とする放射性同位元素
に対応するターゲット原料をそれぞれメッキして得たタ
ーゲットを用いることにより、常法に従い各種の放射性
同位元素が製造される。
【0011】特に、上記の如き本発明ターゲット本体表
面に、ターゲット原料として68Znをメッキして得た
ターゲットを用いれば、67Gaを効率的に製造するこ
とができると共に、68Znを高収率で回収することが
できる。
【0012】また、同様に本発明ターゲット本体表面に
、ターゲット原料として112Cdをメッキして得たタ
ーゲットを用いれば、111Inを効率的に製造するこ
とができると共に、112Cdを高収率で回収すること
ができる。
【0013】
【実施例】以下実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
説明する。
【0014】実施例1 銅製基体の表面に銀メッキ(厚さ約10μm)を施して
得たターゲット本体を使用し、その表面に68Znメッ
キを施して67Ga製造用ターゲットとし、常法に従い
約30MeV の陽子ビームで20時間照射した。照射
終了後、当該68Znターゲット物質をHCl によっ
て溶解せしめた後、当該溶液中から化学分離方法に従い
67Gaを分離・精製した。
【0015】67Gaの分離後の残液(68Zn回収用
溶液)中に含まれる65Znの放射能量は約5mCi/
ターゲット本体であった。因に、銀メッキ製ターゲット
本体を用いることにより、本実施例の場合理論的には6
5Znは含まれないが、濃縮同位体自体に含まれている
不純物の66Zn、64Znとの核反応によって65Z
nが若干生成するものの、後述の比較例から明らかな如
く、その生成量は従来の1/4〜1/5程度と極めて微
量であった。
【0016】また、銀メッキ層の存在によりターゲット
基体たる銅がHCl により溶解されない結果、68Z
n回収用溶液中には元素として、Znのみが含まれてい
るので、68Znを回収する際には化学分離操作を必要
とせず、極めて簡単に、かつ高収率で回収することがで
きた(回収率99.8%)。
【0017】尚、回収された68Znは67Ga製造用
ターゲットとして銀メッキ製ターゲット本体にメッキさ
れ再使用される。
【0018】比較例1 銅製ターゲット本体(銀メッキ処理なし)を使用した以
外は実施例1と同様にして67Gaを分離・精製した。
【0019】67Gaの分離後の残液(68Zn回収用
溶液)中に含まれる65Znの放射能量は約20mCi
/ターゲット本体であった。
【0020】また、68Zn回収溶液中には、68Zn
ターゲット物質をHCl によって溶解する際に、HC
l とターゲット本体である銅との化学反応の結果、6
8Znと同時に銅も溶解されるので、Cu、Znの2元
素が含まれているため、イオン交換分離により、68Z
nを回収した(回収率85〜95%)。
【0021】
【発明の効果】本発明によれば、ターゲット本体の冷却
効果に優れ、しかも陽子との核反応によって長半減期の
核種が生成せず、かつ核反応によって生成した核種が酸
によるターゲット本体処理の際に溶解されることがない
ので、高価な濃縮同位体を容易かつ高収率で回収し得、
工業的に極めて有利に放射性同位元素を製造することが
できる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  銀製又は銀メッキ製としたことを特徴
    とする粒子加速器用ターゲット本体。
  2. 【請求項2】  請求項1記載のターゲット本体の表面
    に、目的とする放射性同位元素に対応するターゲット原
    料をメッキして得た粒子加速器用ターゲットを用いるこ
    とを特徴とする放射性同位元素の製造方法。
  3. 【請求項3】  銅製基体の表面に銀メッキして得たタ
    ーゲット本体の表面に、ターゲット原料として68Zn
    をメッキして得た粒子加速器用ターゲットを用いること
    を特徴とする67Gaの製造方法。
  4. 【請求項4】  銅製基体の表面に銀メッキして得たタ
    ーゲット本体の表面に、ターゲット原料として112C
    dをメッキして得た粒子加速器用ターゲットを用いるこ
    とを特徴とする111Inの製造方法。
JP9687491A 1991-04-26 1991-04-26 粒子加速器用ターゲット本体及び放射性同位元素の製造方法 Pending JPH04326096A (ja)

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Effective date: 19990223