JPH0432781B2 - - Google Patents
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- JPH0432781B2 JPH0432781B2 JP19950887A JP19950887A JPH0432781B2 JP H0432781 B2 JPH0432781 B2 JP H0432781B2 JP 19950887 A JP19950887 A JP 19950887A JP 19950887 A JP19950887 A JP 19950887A JP H0432781 B2 JPH0432781 B2 JP H0432781B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- frit
- glaze
- firing
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Glass Compositions (AREA)
Description
[産業上の利用分野]
本発明はタイル釉薬用フリツトに係り、特に内
装用タイルを1回の焼成のみで製造する、所謂一
度焼きに用いるタイル釉薬用フリツトに関する。 [従来の技術] 従来より、内装用タイルは2回焼成過程を経
る、所謂二度焼により製造されている。即ち、従
来の内装用タイルは、坏土の成形及び乾燥の後、
第1回目の焼成(素焼き)を行ない、冷却後、こ
の素焼きタイルに釉掛けし、第2回目の焼成を行
うことにより製造されている。 このように内装用タイルの場合に二度焼きする
理由は次の通りである。外装用タイルに比べ、内
装用タイルは厚く釉掛けする必要があるのである
が、仮に一度焼きするために坏土成形体(圧粉
体)に厚く釉掛けすると、焼成過程において坏土
から発生するガスが釉層を通過しにくくなり、半
溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破り、釉
層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ビンホー
ル、亀裂等が生じてしまうのである。 即ち、坏土成形体(素地)を焼成するプロセス
においては、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の
熱分解や有機物質の燃焼に伴つてガスが発生す
る。このガス発生は、極めてゆつくりと昇温する
場合には700〜800℃程度で完了するのであるが、
ローラーハースキルン等を採用する高生産効率製
造法の下では昇温速度が大であり、上記ガス発生
反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超える領域に
までずれ込むようになる。殊に、成形体内部にお
いては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲
温度が1100℃になつてもガス発生反応が継続して
いる場合すらある。 従来のタイル用釉薬においては、1000℃前後程
度から急速に軟化を開始し、溶融状態となつてタ
イル素地表面を覆うようになるのであるが、この
ように溶けた釉が表面を覆つた後でも前記の如く
素地内部からガスが発生してくることになると前
記の泡吹き現象が生じてしまうのである。 二度焼き方式によれば、素地は素焼品となつて
おり、2度目の焼成時には素地からのガス発生は
無く、厚く釉掛けしても泡吹き現象が発生せず、
光沢に富み奇麗な平坦施釉面を有する内装用タイ
ルが製造される。 [発明が解決しようとする問題点] 叙上の如く、従来の釉薬を用いて内装用タイル
を一度焼き方式にて製造しようとすると、泡吹き
現象が生じ、およそ製品とするには適わない釉面
となつてしまつていた。 そのため、従来では、内装用タイルは二度焼き
によらざるを得ず、それだけ焼成燃料コストが高
く、焼成の手間等も嵩み、生産性が低いものとな
つていた。 [問題点を解決するための手段] 本発明は、一度焼きにて内装用タイルを製造す
ることを可能とするためのタイル釉薬用フリツト
を提供するものであり、このフリツトは SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、BaO、SrO及びZnOの1種又は2種以上
合計で0〜10重量% を含むものである。 [作用] かかる本発明のフリツトにおいては、アルカリ
金属の酸化物及びB2O3成分が微量であり、軟化
開始点よりも高い温度に加熱しても粘性低下が緩
慢であり、軟化開始温度よりも相当高温にならな
いと素地表面を全面的に、所謂べたつと覆うよう
にはならない。即ち、素地内部からガスが発生し
ても、このガスはフリツト粒子の間を通り抜けて
外部に容易に抜け出すことができるようになり、
泡吹き現象が防止される。 以下、本発明のフリツト各成分の作用をその好
ましい態様と共に詳細に説明する。 本発明のフリツトにおいて、SiO2、Al2O3は高
軟化点フリツトを構成する主成分であり、アルミ
ノシリケート系ガラスの骨格部分を構成する。 また、CaOとアルカリ金属の酸化物(以下、
R2Oと略)とは、それぞれ上記アルミノシリケー
トのネツトワークを部分的に断ち切り、そのガラ
ス化を促進し、軟化開始温度を低下させる作用を
有する。 本発明において、SiO2は55〜65重量%(以下
%と略)、Al2O3は10〜18%、CaOは18〜25%、
R2Oは0.5〜4%が好適であり、それぞれ上記範
囲を逸脱するとフリツトの軟化温度が過度になつ
て泡吹き現象をもたらしたり、逆に軟化温度が過
度に高くなつて素地焼成後においても釉が十分に
は溶けない事態が生じる。特に好ましい範囲は、
SiO260〜64%、Al2O312〜16%、CaO19〜23%、
R2O1〜3%である。なお、Li2Oはなくてもよい
が、二度焼に準ずる釉面の平滑性を得るためには
添加するのが好ましい。このLi2Oの含有%は0.5
〜1.5%の範囲が好ましい。0.5%未満では平滑性
の改善効果が少なく、1.5%を超えると釉面にピ
ンホールが出易くなる。 本発明のフリツトは、B2O3、MgO、ZnO、
SrO及びBaOを含んでも良い。これらの酸化物を
必要に応じ含有させることにより、フリツトの軟
化点を低下させることができる。これらの酸化物
は、過度に多く含有するとフリツトの軟化点が過
度に低下し、また軟化開始後急速にフリツトの粘
性を低下させるようになるので、B2O3は2%以
下とりわけ1%以下、MgOは5%以下とりわけ
3%以下、ZnOは5%以下とりわけ3%以下、
SrOは5%以下とりわけ3%以下、BaOは5%以
下とりわけ3%以下とするのが好ましい。なお、
MgO、BaO、SrO及びZnOは合量でも10%以下
とする。 本発明のフリツトは、素地の隠蔽力を付与する
ZrO2を10%以下含有していても良い。 本発明のフリツトは、さらに必要に応じ他の
BaO等の酸化物や塩化物、硫酸塩等の化合物を
含んでも良いが、それらは合量でも3%以下とり
わけ1%以下とするのが好ましい。 本発明のフリツトは常法に従い、通常のフリツ
ト用原料を調合及び溶融後、冷却し、次いで粉砕
することにより製造することができる。 本発明のフリツトは水、アルコールその他適宜
の液体に分散させて釉薬とされるが、この際、長
石、粘土、ジルコン(珪酸ジルコニウム)、珪砂、
アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸バリウム
等を併用し、さらに適宜の顔料等を併用しても良
い。 [実施例] 以下、本発明を実施例及び比較例に基いてさら
に詳細に説明する。 なお、以下の実施例及び比較例において、タイ
ル用の坏土成形体としては次のものを用いた。 即ち、ろう石45重量部、粘土40重量部、石炭石
10重量部及びシヤモツト5重量部をボールミル粉
砕、混合し、水分を加え、350Kg/cm2で成形し、
これを乾燥したものである。この成形体(素地)
の大きさは10cm×10cm×0.5cmである。 また、この成形体を焼成するには全長25mのロ
ーラーハースキルンを用い、走行速度1.0m/分、
焼成帯最高温度1190℃とした。 実施例 1 原料として長石、珪石、石炭石を採用し、これ
らを乾燥、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中
で1400℃にて1時間溶融した後急冷し、フリツト
とした。このフリツトの化学組成を第1表に示
す。 このフリツト70重量部に対し長石15重量部、粘
土2重量部、ジルコン13重量部を加え、ボールミ
ルにて混合した。これに水33重量部とカルボン酸
系分散剤0.20重量部を加え、さらにボールミル中
で混合し、泥しよう釉とした。 この泥しよう釉を幕掛け法により前記成形体表
面に乾燥後の厚さが0.6mm程度となるように塗付
し、乾燥後焼成した。 焼成後、タイルを観察したところ、釉面は泡吹
きは全くなく、平坦で光沢を帯び、厚い釉薬層を
有する高級感に富む内装用タイルであることが認
められた。 実施例 2〜8 実施例1において原料の配合比を変更すること
により、また原料としてさらにジルコン、ホウ
砂、マグネシア、酸化亜鉛を付加すること以外は
同様にして第1表に示す組成のフリツトを製造し
た。そして、これらのフリツトを用い、実施例1
と同様にして泥しよう釉とし、成形体に塗付し乾
燥及び焼成を行なつた。 その結果いずれも実施例1と同様に優れた表面
性状を有する内装用タイルが製造された。 比較例 1,2,3,4 組成を第1表に示す通りとしたこと以外は上記
実施例と同様にしてフリツトを製造し、同様に泥
しよう釉とし、成形体に塗付し乾燥及び焼成を行
なつた。その結果、いずれも釉薬層に泡吹きが生
じた。 比較例 5 長石43重量部、珪砂6.5重量部、粘土4.0重量
部、石炭13.0重量部を調合することにより第1表
に示す組成の釉薬(生釉)を製造した。これを泥
しようにして成形体に塗付し、乾燥及び焼成を行
なつたところ、釉薬層に泡吹きが生じた。
装用タイルを1回の焼成のみで製造する、所謂一
度焼きに用いるタイル釉薬用フリツトに関する。 [従来の技術] 従来より、内装用タイルは2回焼成過程を経
る、所謂二度焼により製造されている。即ち、従
来の内装用タイルは、坏土の成形及び乾燥の後、
第1回目の焼成(素焼き)を行ない、冷却後、こ
の素焼きタイルに釉掛けし、第2回目の焼成を行
うことにより製造されている。 このように内装用タイルの場合に二度焼きする
理由は次の通りである。外装用タイルに比べ、内
装用タイルは厚く釉掛けする必要があるのである
が、仮に一度焼きするために坏土成形体(圧粉
体)に厚く釉掛けすると、焼成過程において坏土
から発生するガスが釉層を通過しにくくなり、半
溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破り、釉
層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ビンホー
ル、亀裂等が生じてしまうのである。 即ち、坏土成形体(素地)を焼成するプロセス
においては、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の
熱分解や有機物質の燃焼に伴つてガスが発生す
る。このガス発生は、極めてゆつくりと昇温する
場合には700〜800℃程度で完了するのであるが、
ローラーハースキルン等を採用する高生産効率製
造法の下では昇温速度が大であり、上記ガス発生
反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超える領域に
までずれ込むようになる。殊に、成形体内部にお
いては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲
温度が1100℃になつてもガス発生反応が継続して
いる場合すらある。 従来のタイル用釉薬においては、1000℃前後程
度から急速に軟化を開始し、溶融状態となつてタ
イル素地表面を覆うようになるのであるが、この
ように溶けた釉が表面を覆つた後でも前記の如く
素地内部からガスが発生してくることになると前
記の泡吹き現象が生じてしまうのである。 二度焼き方式によれば、素地は素焼品となつて
おり、2度目の焼成時には素地からのガス発生は
無く、厚く釉掛けしても泡吹き現象が発生せず、
光沢に富み奇麗な平坦施釉面を有する内装用タイ
ルが製造される。 [発明が解決しようとする問題点] 叙上の如く、従来の釉薬を用いて内装用タイル
を一度焼き方式にて製造しようとすると、泡吹き
現象が生じ、およそ製品とするには適わない釉面
となつてしまつていた。 そのため、従来では、内装用タイルは二度焼き
によらざるを得ず、それだけ焼成燃料コストが高
く、焼成の手間等も嵩み、生産性が低いものとな
つていた。 [問題点を解決するための手段] 本発明は、一度焼きにて内装用タイルを製造す
ることを可能とするためのタイル釉薬用フリツト
を提供するものであり、このフリツトは SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、BaO、SrO及びZnOの1種又は2種以上
合計で0〜10重量% を含むものである。 [作用] かかる本発明のフリツトにおいては、アルカリ
金属の酸化物及びB2O3成分が微量であり、軟化
開始点よりも高い温度に加熱しても粘性低下が緩
慢であり、軟化開始温度よりも相当高温にならな
いと素地表面を全面的に、所謂べたつと覆うよう
にはならない。即ち、素地内部からガスが発生し
ても、このガスはフリツト粒子の間を通り抜けて
外部に容易に抜け出すことができるようになり、
泡吹き現象が防止される。 以下、本発明のフリツト各成分の作用をその好
ましい態様と共に詳細に説明する。 本発明のフリツトにおいて、SiO2、Al2O3は高
軟化点フリツトを構成する主成分であり、アルミ
ノシリケート系ガラスの骨格部分を構成する。 また、CaOとアルカリ金属の酸化物(以下、
R2Oと略)とは、それぞれ上記アルミノシリケー
トのネツトワークを部分的に断ち切り、そのガラ
ス化を促進し、軟化開始温度を低下させる作用を
有する。 本発明において、SiO2は55〜65重量%(以下
%と略)、Al2O3は10〜18%、CaOは18〜25%、
R2Oは0.5〜4%が好適であり、それぞれ上記範
囲を逸脱するとフリツトの軟化温度が過度になつ
て泡吹き現象をもたらしたり、逆に軟化温度が過
度に高くなつて素地焼成後においても釉が十分に
は溶けない事態が生じる。特に好ましい範囲は、
SiO260〜64%、Al2O312〜16%、CaO19〜23%、
R2O1〜3%である。なお、Li2Oはなくてもよい
が、二度焼に準ずる釉面の平滑性を得るためには
添加するのが好ましい。このLi2Oの含有%は0.5
〜1.5%の範囲が好ましい。0.5%未満では平滑性
の改善効果が少なく、1.5%を超えると釉面にピ
ンホールが出易くなる。 本発明のフリツトは、B2O3、MgO、ZnO、
SrO及びBaOを含んでも良い。これらの酸化物を
必要に応じ含有させることにより、フリツトの軟
化点を低下させることができる。これらの酸化物
は、過度に多く含有するとフリツトの軟化点が過
度に低下し、また軟化開始後急速にフリツトの粘
性を低下させるようになるので、B2O3は2%以
下とりわけ1%以下、MgOは5%以下とりわけ
3%以下、ZnOは5%以下とりわけ3%以下、
SrOは5%以下とりわけ3%以下、BaOは5%以
下とりわけ3%以下とするのが好ましい。なお、
MgO、BaO、SrO及びZnOは合量でも10%以下
とする。 本発明のフリツトは、素地の隠蔽力を付与する
ZrO2を10%以下含有していても良い。 本発明のフリツトは、さらに必要に応じ他の
BaO等の酸化物や塩化物、硫酸塩等の化合物を
含んでも良いが、それらは合量でも3%以下とり
わけ1%以下とするのが好ましい。 本発明のフリツトは常法に従い、通常のフリツ
ト用原料を調合及び溶融後、冷却し、次いで粉砕
することにより製造することができる。 本発明のフリツトは水、アルコールその他適宜
の液体に分散させて釉薬とされるが、この際、長
石、粘土、ジルコン(珪酸ジルコニウム)、珪砂、
アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸バリウム
等を併用し、さらに適宜の顔料等を併用しても良
い。 [実施例] 以下、本発明を実施例及び比較例に基いてさら
に詳細に説明する。 なお、以下の実施例及び比較例において、タイ
ル用の坏土成形体としては次のものを用いた。 即ち、ろう石45重量部、粘土40重量部、石炭石
10重量部及びシヤモツト5重量部をボールミル粉
砕、混合し、水分を加え、350Kg/cm2で成形し、
これを乾燥したものである。この成形体(素地)
の大きさは10cm×10cm×0.5cmである。 また、この成形体を焼成するには全長25mのロ
ーラーハースキルンを用い、走行速度1.0m/分、
焼成帯最高温度1190℃とした。 実施例 1 原料として長石、珪石、石炭石を採用し、これ
らを乾燥、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中
で1400℃にて1時間溶融した後急冷し、フリツト
とした。このフリツトの化学組成を第1表に示
す。 このフリツト70重量部に対し長石15重量部、粘
土2重量部、ジルコン13重量部を加え、ボールミ
ルにて混合した。これに水33重量部とカルボン酸
系分散剤0.20重量部を加え、さらにボールミル中
で混合し、泥しよう釉とした。 この泥しよう釉を幕掛け法により前記成形体表
面に乾燥後の厚さが0.6mm程度となるように塗付
し、乾燥後焼成した。 焼成後、タイルを観察したところ、釉面は泡吹
きは全くなく、平坦で光沢を帯び、厚い釉薬層を
有する高級感に富む内装用タイルであることが認
められた。 実施例 2〜8 実施例1において原料の配合比を変更すること
により、また原料としてさらにジルコン、ホウ
砂、マグネシア、酸化亜鉛を付加すること以外は
同様にして第1表に示す組成のフリツトを製造し
た。そして、これらのフリツトを用い、実施例1
と同様にして泥しよう釉とし、成形体に塗付し乾
燥及び焼成を行なつた。 その結果いずれも実施例1と同様に優れた表面
性状を有する内装用タイルが製造された。 比較例 1,2,3,4 組成を第1表に示す通りとしたこと以外は上記
実施例と同様にしてフリツトを製造し、同様に泥
しよう釉とし、成形体に塗付し乾燥及び焼成を行
なつた。その結果、いずれも釉薬層に泡吹きが生
じた。 比較例 5 長石43重量部、珪砂6.5重量部、粘土4.0重量
部、石炭13.0重量部を調合することにより第1表
に示す組成の釉薬(生釉)を製造した。これを泥
しようにして成形体に塗付し、乾燥及び焼成を行
なつたところ、釉薬層に泡吹きが生じた。
【表】
【表】
なお、実施例1の釉及び比較例5で調合した生
釉を圧力10Kg/cm2で直径0.2cm、高さ0.3cmの円柱
体(以下、ボタンという。)に成形し、これらを
昇温速度10℃/minにて空気雰囲気下で常温から
1200℃まで加熱し、ボタンの高さの経時変化をマ
イクロスコープにて測定した。その結果を第1図
に示す。 第1図より、生釉は1040℃位から急速に軟化を
開始し、その後の粘性低下も急であることが認め
られる。これに対し、実施例1の釉は、約900℃
位で軟化を開始するものの、その後の粘性低下は
極めて緩慢であり、1100℃〜1150℃の高温域にお
いても相当の高粘性であることが認められる。な
お、図中、横軸は温度である。縦軸は、ボタンの
高さ(焼成前の高さを100とした時の各温度での
ボタンの高さ)を示している。このように本発明
に係るフリツトは高温域でも高粘性であるため、
焼成時に成形体から発生するガスがフリツト粒子
同志の間を容易に通過するようになり、釉薬層の
泡吹き現象が確実に防止されることが裏付けられ
た。なお、本発明のフリツトは、成形体からのガ
ス発生が終了する焼成帯の最高温度付近において
は十分に軟化し、素地の表面を均一に覆うように
なる。 [効果] 以上の実施例及び比較例からも明らかな通り、
本発明のフリツトを用いることにより美麗な厚掛
けした釉薬層を有するタイルが一度焼きにして製
造される。従つて、本発明のフリツトを採用する
ことにより内装用タイルの製造コストが大幅に低
減される。
釉を圧力10Kg/cm2で直径0.2cm、高さ0.3cmの円柱
体(以下、ボタンという。)に成形し、これらを
昇温速度10℃/minにて空気雰囲気下で常温から
1200℃まで加熱し、ボタンの高さの経時変化をマ
イクロスコープにて測定した。その結果を第1図
に示す。 第1図より、生釉は1040℃位から急速に軟化を
開始し、その後の粘性低下も急であることが認め
られる。これに対し、実施例1の釉は、約900℃
位で軟化を開始するものの、その後の粘性低下は
極めて緩慢であり、1100℃〜1150℃の高温域にお
いても相当の高粘性であることが認められる。な
お、図中、横軸は温度である。縦軸は、ボタンの
高さ(焼成前の高さを100とした時の各温度での
ボタンの高さ)を示している。このように本発明
に係るフリツトは高温域でも高粘性であるため、
焼成時に成形体から発生するガスがフリツト粒子
同志の間を容易に通過するようになり、釉薬層の
泡吹き現象が確実に防止されることが裏付けられ
た。なお、本発明のフリツトは、成形体からのガ
ス発生が終了する焼成帯の最高温度付近において
は十分に軟化し、素地の表面を均一に覆うように
なる。 [効果] 以上の実施例及び比較例からも明らかな通り、
本発明のフリツトを用いることにより美麗な厚掛
けした釉薬層を有するタイルが一度焼きにして製
造される。従つて、本発明のフリツトを採用する
ことにより内装用タイルの製造コストが大幅に低
減される。
第1図は実施例における測定結果を示すグラフ
である。
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、BaO、SrO及びZnOの1種又は2種以上
合計で0〜10重量% を含むタイル釉薬用フリツト。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19950887A JPS6442340A (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Frit for tile glaze |
| DE8888307217T DE3877278T2 (de) | 1987-08-10 | 1988-08-04 | Verfahren zur herstellung von fliesen mit einer einzigen brennstufe. |
| ES198888307217T ES2037836T3 (es) | 1987-08-10 | 1988-08-04 | Metodo de produccion de azulejos. |
| EP88307217A EP0303402B1 (en) | 1987-08-10 | 1988-08-04 | Method of producing tiles by single firing |
| KR1019880010166A KR910003251B1 (ko) | 1987-08-10 | 1988-08-10 | 타일용 유약 및 타일의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19950887A JPS6442340A (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Frit for tile glaze |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6442340A JPS6442340A (en) | 1989-02-14 |
| JPH0432781B2 true JPH0432781B2 (ja) | 1992-06-01 |
Family
ID=16408984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19950887A Granted JPS6442340A (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Frit for tile glaze |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6442340A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04349144A (ja) * | 1991-05-24 | 1992-12-03 | Inax Corp | 超光沢釉 |
| CN112979271B (zh) * | 2021-03-24 | 2022-11-04 | 江西金唯冠建材有限公司 | 一种轻质高强纯色抛釉砖的制备方法 |
-
1987
- 1987-08-10 JP JP19950887A patent/JPS6442340A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6442340A (en) | 1989-02-14 |
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