JPH0432808B2 - - Google Patents

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JPH0432808B2
JPH0432808B2 JP309584A JP309584A JPH0432808B2 JP H0432808 B2 JPH0432808 B2 JP H0432808B2 JP 309584 A JP309584 A JP 309584A JP 309584 A JP309584 A JP 309584A JP H0432808 B2 JPH0432808 B2 JP H0432808B2
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JP
Japan
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heptene
methyl
diol
trityloxy
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JP309584A
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JPS60146840A (ja
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Seiichi Takano
Kuniro Ogasawara
Masamichi Morimoto
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Kawaken Fine Chemicals Co Ltd
Original Assignee
Kawaken Fine Chemicals Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な光学活性体(2S,4R)−4−メ
チル−6−ヘプテン−1,2,4−トリオール
(以下トリオール体と略す)およびその製造方法
に関するものである。 本発明のトリオール体は医薬品の合成中間体と
して、また微生物発酵の際の添加剤として重要な
光学活性メバロラクトンの合成中間体として有用
な化合物である。例えば本発明の化合物から
(R)−メバロラクトンおよび(S)−メバロラク
トンへは、次図に示される反応式に従つて製造で
きる。 詳しくは参考例において説明する。 従来メバロラクトンの合成方法は特公昭47−
48386号公報および特開昭47−20116号公報に開示
された方法等、いくつかの文献が散見される。し
かし光学活性のメバロラクトンを選択的に合成す
る方法は、微生物発酵による方法(ta etal,J.
Org.Chem.47,2400(1982)およびC.J.Sih etal,
Tetrahedron Lett.−3415(1978)が報告されて
いるのみで純合成的に成功した例は知られていな
い。本発明者等は有機合成手法による光学活性な
メバロラクトンの不整合成方法につき鋭意研究の
結果、本発明に到達した。 すなわち本発明は、式〔1〕 で示される新規な光学活性体(2S,4R)−4−メ
チル−6−ヘプテン−1,2,4−トリオールお
よび次の反応工程からなるその製造方法である。 (1) (5S)−3−アリル−5−トリチルオキシメ
チルテトラヒドロフラン−2−オン〔2〕をオ
キソジペルオキシモリブデニウム・ピリジン・
ヘキサメチルホスホリツクスアミド(以下
MoOPHと略称す)で不整酸化し、(3R,5S)
−3−アリール−3−ヒドロキシ−5−トリチ
ルオキシメチルテトラヒドロフラン−2−〔3〕
−を得て、 (2) 更にこれに水素化リチウムアルミニウムを作
用させて開環し、(2S,4R)−ヒドロキシメチ
ル−1−トリチルオキシ−6−ヘプテン−2,
4−ジオール〔4〕を得て、 (3) 次いでこれにp−トルエンスルニルクロリド
を作用させて、(2S,4R)−4−トシルオキシ
メチル−1−トリチルオキシ−6−ヘプテン−
2,4−ジオール〔5〕を得て、 (4) 次いでこれを水素化リチウムアルミニウムの
存在下還元し、(2S,4R)−4−メチル−1−
トリチルオキシ−6−ヘプテン−2,4−ジオ
ール〔6〕として、 (5) 更にこれをメタノール中触媒量の塩酸で処理
してトリチル基をはずすことからなる式〔1〕
で示される(2S,4R)−4−メチル−6−ヘプ
テン−1,2,4−トリオールの製造方法。 これを反応式で図示すれば、次のようである。 本発明の出発原料である3−アリル−5−トリ
チルオキシメチルテトラヒドロフラン−2−オン
は、特開昭56−147780号公報に開示された方法に
よつてグルタミン酸から合成される。 本発明の第1工程で使われるMoOPHは、式 で示される構造を有する過酸化物であり、その製
造方法はE.Vedejs,J.Org.,43,188(1978)に記
載されている。また同文献にはカルボニル化合物
のα位炭素に水酸基をこのMoOPHによつて導入
する反応条件も記載されている。 本発明者等はこの特殊な酸化反応を3−アリル
−5−トリチルオキシメチルテトラヒドロ−2−
オンに施した場合、不整酸化反応が行われ、光学
活性な(3R,5S)−3−アリル−3−ヒドロキシ
−5−トリチルオキシメチルテトラヒドロフラン
−2−オンが好収率で得られる新規事実を見出
し、本発明の端緒とした。この反応機作について
は充分解明されているわけではないが、5位置換
のトリチルオキシメチル基のかさ高さにより、
MoOPHが高度に立体規制される為ではないかと
考えられる。 本発明の第2工程から第5工程までは、一般に
良く使われる有機合成反応であるので、詳しくは
実施例において説明する。 本発明の産業上利用される有利な点について略
述すると (1) 光学活性体を好収率で合成できる。 (2) 原料の入手が容易である。 (3) 本発明の化合物から光学活性なメバロラ
クトンをはじめとして光学活性な医薬品類が
合成可能である。 以下実施例及び参考例により本発明を詳細に説
明する。 実施例 1 (3R,5S)−3−アリル−3−ヒドロキシ−5
−トリチルオキシメチルテトラヒドロフラン−2
−オン〔3〕の製造 ジイソプロピルアミン6.36g(0.063モル)、n
−ブチルリチウム(10w/vヘキサン溶液)38.4
ml(0.060モル)、テトラヒドロフラン80mlより調
製したリチウムジイソプロピルアミドのテトラヒ
ドロフラン溶液にアルゴン気流下−78℃で3−ア
リル−5−トリチルオキシメチルテトラヒドロフ
ラン−2−オン〔2〕11.9g(0.030モル)のテ
トラヒドロフラン溶液60mlを加え1.5時間攪拌し
た。これをMoOPHのテトラヒドロフラン溶液
200mlにアルゴン気流下−78℃で加え2.5時間攪拌
した。これに飽和硫酸ナトリウム溶液50mlを加え
室温に戻した後エーテルで抽出する。有機層を飽
和食塩水100mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後溶媒を留去して粗生成物14.9gを得
た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(クロロホルム)で精製し、標題の化合物7.80g
を得た。分析値は次の通りで、収率は63%であつ
た。 NMRδ(ppm):2.17(m.2H.CH2 −CH−O)、
2.55(m.2H.CH2 −CH=)、3.30(m.2H.CH2
O)、4.50〜5.40(m.3H.CH−O,CH2 =CH)、
5.50〜6.30(m.1H.CH=CH2)、7.10〜7.60
(m.15H.arom−H)、 ΓIR(cm-1):3400(OH)、1765(C=O) Γ〔α〕D:+34.7°(C.O.60,CHCl3) 実施例 2 2S,4R)−4−ヒドロキシメチル−1−トリチ
ルオキシ−6−ヘプテン−2,4−ジオール
〔4〕の製造 水素化リチウムアルミニウム3.80g(0.10モ
ル)をテトラヒドロフラン50mlに懸濁させ、アル
ゴン気流下氷冷で前記〔3〕の化合物8.28g
(0.002モル)のテトラヒドロフラン溶液50mlを滴
下し30分間攪拌した。これに30%アンモニア水20
mlを加え折出したゲル上物質をセライトを用いて
別し、液を無水硫酸マグネシウムで乾燥の
後、溶媒を留去して粗精製物8.00gを得た。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(n−ヘ
キサン+エーテル)で精製し、標題の化合物4.55
gを得た。収率は54%、分析値は次の通りであつ
た。 ΓNMRδ(ppm):1.55(m.2H.CH2 −CH−O)、
2.33(d.2H.J=8Hz,CH2 −CH=)、3.03〜3.60
(m.7H、CH2 −O×2,OH×3)、3.87〜4.50
(m.1H.CH−O)、4.87〜5.27(m.2H.CH2 =CH)
5.60〜6.20(m.1H.CH=CH2) ΓIR(cm-1):3350(OH) Γ〔α〕D:+4.4°(C1.08,CHCl3) 実施例 3 (2S,4R)−4−トシルオキシメチル−1−ト
リチルオキン−6−ヘプテン−2,4−ジオール
〔5〕の製造 前記〔4〕の化合物3.76g(0.009モル)をピ
リジン50mlに溶解し、氷冷下p−トルエンスルホ
ニルクロライド12.9g(0.068モル)を加えて6
時間攪拌した。ピリジンを氷冷下真空ポンプを用
いて留去し、残渣をジクロロメタン100mlで抽出
した。これを水50ml、10%硫酸銅溶液50ml、水50
ml、飽和食塩水50mlで順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥の後、溶媒を留去して粗精製物
14.2gを得た。シリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(n−ヘキサン+酢酸エチル)によつて過剰
の−トルエンスルホニルクロリドを除き、標題の
化合物4.69gを得た。分析値は下記の如くであ
り、収率は91%であつた。 ΓNMRδ(ppm):1.55(d.2H.J=7Hz、CH2 −CH
−O)、2.38(s.3H.CH3)、2.30〜2.50(d.2H.CH2
CH=)、3.05(d.2H.J=6Hz、CH2 -0−CH−O)、
3.83(s.2H.CH2 −O)、4.00〜4.30(m.1H.CH
O)、4.70〜5.20(m.2H.CH2 =CH)、5.25〜6.10
(m.1H.CH=CH2)、7.10〜7.90(m.19H,arom−
H) ΓIR(cm-1):3500(OH) 実施例 4 (2S,4R)−4−メチル−1−トリチルオキシ
−6−ヘプテン−2,4−ジオール〔6〕の製造 水素化リチウムアルミニウム2.40g(0.063モ
ル)のテトラヒドロフラン溶液60mlにアルゴン気
流下氷冷で前記〔5〕の化合物4.50g(0.008モ
ル)のテトラヒドロフラン溶液40mlを滴下し、室
温で1時間攪拌した。これに30%アンモニア水20
mlを加え、析出したゲル上物質をセライトを用い
て別し、液にエーテル100mlを加え、水50ml、
飽和食塩水50mlで順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥の後、溶媒を留去して粗生成物3.10g
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーn−ヘキサン+エーテル)で精製し、標題の
化合物2.50gを得た。分析値は下記の通りであ
り、収率は79%であつた。 ΓNMRδ(ppm):1.17(s.3H.CH3)、1.46〜1.80
(m.3H.CH2 −CH,OH)、2.34(d.2H、J=7Hz,
CH2−CH=)、2.97〜3.27(m.3H.OH.CH2 −CH
−O)、3.90〜4.40(m.1H.CH−O)、4.80〜5.30
(m.2H.CH2 =CH)、5.40〜6.20(m.1H.CH
CH2)、7.10〜7.60(m.15H,arom−H) ΓIR(cm-1):3600(OH)、1640(C=C) 実施例 5 (2S.4R)−4−メチル−6−ヘプテン−1,
2,4−トリオール〔1〕の製造 前記〔6〕の化合物1.00g(0.0025モル)をメ
タノール20mlに溶解し、これに氷冷下濃塩酸0.2
mlを加え、4時間攪拌した。これにメタノール30
mlを加え重炭酸ナトリウムで中和後、n−ヘキサ
ン20mlで2回洗浄した。メタノール層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥の後、溶媒を留去して粗生成
物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フイー(n−ヘキサン+酢酸エチル)で精製し、
標題の化合物240mlを得た。収率は60%であり、
下記分析の結果本発明の化合物に相異ないことが
確認された。 ΓNMRδ(ppm):1.20(s.3H.CH3)、1.50〜1.80
(m.2H.CH2 −CH−O)、2.36(d.2H、J=7Hz,
CH2−CH=)、3.30〜4.60(m.6H.CH2 −O、OH
×3)、4.83〜5.30(m.2H.CH2 =CH)、5.43〜6.10
(m.1H.CH=CH2) ΓIR(cm-1):3350(OH)、1640(C=C) Γ〔α〕D:+13.8°(C 1.0、CHCl3) ΓMass:C3H17O3 found 161.1178 cald. 161.1178 参考例 1 (R)−3−メチル−5−ヘキセン−1,3−
ジオール〔7〕の製造 前記〔1〕の化合物160ml(1.0m mole)をメ
タノール10mlに溶解し、氷冷下メタ過ヨウ素酸ナ
トリウム320mg(1.5m mole)の水溶液5mlを滴
下し30分間攪拌した。これに水素化ホウ素ナトリ
ウム75mg(2.0m mole)を加えて30分間攪拌の
後、メタノール20mlを加えセライトで過し、
液を濃縮した。残渣にジクロロメタン10mlを加え
無水硫酸マグネシウムで乾燥の後、溶媒を留去し
粗生成物130mgを得た。これをシリカゲルカラム
クロマトグラフイー(n−ヘキサン+酢酸エチ
ル)で精製し、標題の化合物120mgを得た。収率
は92%、分析はNMR、IR、Massで確認した。 参考例 2 (2RS、4S)−2,4−ジヒドロキシ−4−メ
チル−2,3,4,5−テトラヒドロピラン
〔8a〕の製造 前記〔7〕の化合物110mg(0.85m mole)をメ
タノール20mlに溶解し、−78℃でオゾンを30分間
導入した。窒素を30分間導入した後、硫化メチル
10mlを加え室温にもどし、溶媒を留去し、粗生成
物160mgを得た。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(n−ヘキサン+酢酸エチル)で精
製し、標題の化合物110mgを得た。収率は98%、
分析はNMR、IR、Massで確認した。 参考例 3 (2RS、4R)−2,4−ジヒドロキシ−4−メ
チル−2,3,4,5−テトラヒドロピラン
〔8a〕の製造 前記〔1〕の化合物160mg(1.0m mole)をメ
タノール20mlに溶解し、−78℃でオゾンを40分間
導入した。窒素を45分間導入した後、水素化ホウ
素ナトリウム570mg(15m mole)を加え室温に
もどす。2時間後メタ過ヨウ素酸ナトリウム1.28
g(6.0m mole)の水溶液7mlを滴下し、3時間
攪拌した。セライトで過し、液を濃縮した残
渣にジクロメタン10mlを加え無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥の後、溶液を留去して粗生成物100mgを
得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(n−ヘキサン+酢酸エチル)で精製し、標題
の化合物60mgを得た。収率は45%、分析は
NMR、IR、Massで確認した。 参考例 4 (S)−メバロラクトン〔9a〕の製造 前記〔8a〕の化合物80mg(0.61m mole)をジ
クロロメタン15mlに溶解し、ピリジウムクロロク
ロメイト650mg(3.0m mole)を加え、室温で14
時間攪拌した。溶媒を留去した後、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフイー(n−ヘキサン+酢酸エ
チル)で精製し、標題の化合物63mgを得た。収率
は80%、下記分析の結果、目的物に相異ない事が
確認された。 ΓNMRδ(ppm):1.37(s.3H.CH3)、1.90(m.2H.
CH2)、2.57(m.2H.【式】)、4.10〜4.80 (m.2H.CH2 −O) ΓIR(cm-1):3400(OH)、1720(C=O) Γ〔α〕D:+23.3°(C0.98、EtOH) 参考例 5 (R)−メバロラクトン〔9b〕の製造 前記〔8b〕の化合物50mg(0.38m mole)をジ
クロロメタン12mlに溶解し、ピリジニウムクロロ
クロメイト410mg(1.9m mole)を加え、室温で
14時間攪拌した。溶媒を留去した後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー(n−ヘキサン
+酢酸エチル)で精製し、標題の化合物44mgを得
た。収率は89%であり、下記分析の結果目的物に
相異ない事が確認された。 ΓNMRδ(ppm):1.37(s.3H.CH3)、1.90(m.2H.
CH2)、2.57(m.2H.【式】)、4.10〜4.80 (m.2H.CH2 −O−) ΓIR(cm-19:3400(OH)、1720(C=O) Γ〔α〕D:−23.4°(C0.32、EtOH)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式〔1〕 で示される(2S,4R)−4−メチル−6−ヘプテ
    ン−1,2,4−トリオール 2 式〔2〕 (式中Trはトリチル基を表わす)で示される
    (5S)−3−アリル−5−トリチルオキシメチル
    テトラヒドロフラン−2−オンにオキソジペルオ
    キシモリブデニウム・ピリジン・ヘキサメチルホ
    スホリツクアミドを作用させて、不整酸化反応を
    行い、式〔3〕 (式中Trは前記に同じ)で示される光学活性な
    (3R,5S)−3−アリル−3−ヒドロキシ−5−
    トリチルオキシメチルテトラヒドロフラン−2−
    オンを得、更にこれに水素化リチウムアルミニウ
    ムを作用させて開環し、式〔4〕 (式中Trは前記に同じ)で示される(2S,4R)
    −4−ヒドロキシメチル−1−トリチルオキシ−
    6−ヘプテン−2,4−ジオールを得て、次いで
    これにp−トルエンスルホニルクロリドを作用さ
    せて、式〔5〕 (式中Trは前記に同じ。Tsはトシル基を表わ
    す。)で示される(2S,4R)−4−トシルオキシ
    メチル−1−トリチルオキシ−6−ヘプテン−
    2,4−ジオールを得て、次いでこれを水素化リ
    チウムアルミニウムの存在下に還元し、式〔6〕 (式中Trは前記に同じ)で示される(2S,4R)
    −4−メチル−1−トリチルオキシ−6−ヘプテ
    ン−2,4−ジオールを得て、更にこれをメタノ
    ール中触媒量の塩酸で処理して保護基をはずすこ
    とからなる式〔1〕で示される(2S,4R)−4−
    メチル−6−ヘプテン−1,2,4−トリオール
    の製造方法。
JP309584A 1984-01-11 1984-01-11 (2s,4r)−4−メチル−6−ヘプテン−1,2,4−トリオ−ルおよびその製造方法 Granted JPS60146840A (ja)

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