JPH04328308A - 複合型磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
複合型磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH04328308A JPH04328308A JP12303291A JP12303291A JPH04328308A JP H04328308 A JPH04328308 A JP H04328308A JP 12303291 A JP12303291 A JP 12303291A JP 12303291 A JP12303291 A JP 12303291A JP H04328308 A JPH04328308 A JP H04328308A
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- magnetic
- circuit
- magnetic head
- head
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばディジタルVT
R(ディジタルビデオテープレコーダ)等に使用して有
用な複合型磁気ヘッドに関する。
R(ディジタルビデオテープレコーダ)等に使用して有
用な複合型磁気ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】磁気記録において大量のデータを一時に
記録再生する場合には、例えば図12に示すように、互
いに異なるアジマス角を有する磁気ギャップg1 ,g
2 を有した一対の磁気ヘッド101,102を同図中
矢印Xで示すヘッド走行方向に所定の間隔で隣接配置し
、これら磁気ヘッド101,102で図13に示す磁気
テープ103の記録トラックに同時に記録再生する方法
が有効である。
記録再生する場合には、例えば図12に示すように、互
いに異なるアジマス角を有する磁気ギャップg1 ,g
2 を有した一対の磁気ヘッド101,102を同図中
矢印Xで示すヘッド走行方向に所定の間隔で隣接配置し
、これら磁気ヘッド101,102で図13に示す磁気
テープ103の記録トラックに同時に記録再生する方法
が有効である。
【0003】ところで、上記磁気ヘッド101,102
をヘリカルスキャンさせる場合に、これら磁気ヘッド1
01,102の磁気テープ103に対する走行角度が大
きくなるほど、記録情報量の高密度記録の観点より2つ
の磁気ヘッド101,102のギャップ間距離GLを小
さくする必要が生ずる。
をヘリカルスキャンさせる場合に、これら磁気ヘッド1
01,102の磁気テープ103に対する走行角度が大
きくなるほど、記録情報量の高密度記録の観点より2つ
の磁気ヘッド101,102のギャップ間距離GLを小
さくする必要が生ずる。
【0004】しかしながら、上記磁気ヘッド101,1
02のギャップ間距離GLを小さくすると、磁気ギャッ
プg1 ,g2 を構成する磁気コア104,105及
び106,107のうち相対向する磁気コア105,1
07の対向距離Lが近接するため、漏洩磁束の問題が発
生する。すなわち、一方の磁気ギャップg1 から発生
した磁束が他方の磁気ギャップg2に入り込み、当該他
方の磁気ギャップg2 の記録再生信号と相互干渉(ク
ロストーク)を起こすことになる。この結果、記録再生
信号が劣化し、良好な記録再生が行えなくなる。
02のギャップ間距離GLを小さくすると、磁気ギャッ
プg1 ,g2 を構成する磁気コア104,105及
び106,107のうち相対向する磁気コア105,1
07の対向距離Lが近接するため、漏洩磁束の問題が発
生する。すなわち、一方の磁気ギャップg1 から発生
した磁束が他方の磁気ギャップg2に入り込み、当該他
方の磁気ギャップg2 の記録再生信号と相互干渉(ク
ロストーク)を起こすことになる。この結果、記録再生
信号が劣化し、良好な記録再生が行えなくなる。
【0005】そこで従来においては、上記磁気ヘッド1
01,102間に漏洩磁束を遮蔽する磁気遮蔽板を配置
する方法や、これら磁気ヘッド101,102に8の字
状にコイルを巻回し、この8の字コイルで漏洩磁束によ
る信号成分を逆位相に結合させることで打ち消し合わせ
るようにした方法等がとられていた。
01,102間に漏洩磁束を遮蔽する磁気遮蔽板を配置
する方法や、これら磁気ヘッド101,102に8の字
状にコイルを巻回し、この8の字コイルで漏洩磁束によ
る信号成分を逆位相に結合させることで打ち消し合わせ
るようにした方法等がとられていた。
【0006】しかし、より多くのデータを記録再生する
ことを考えると磁気ヘッド101,102間の対向距離
Lはより小さい方向へと進むため、上記微小間隙に磁気
遮蔽板を設けること、これら磁気ヘッド101,102
に8の字コイルを巻回することはいずれも困難となる。
ことを考えると磁気ヘッド101,102間の対向距離
Lはより小さい方向へと進むため、上記微小間隙に磁気
遮蔽板を設けること、これら磁気ヘッド101,102
に8の字コイルを巻回することはいずれも困難となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、かか
る従来の実情に鑑みて提案されたものであって、相対向
して近接配置される一方の磁気ヘッドからの漏洩磁束を
確実に遮蔽し、記録再生信号の相互干渉が防止できる良
好な記録再生が行える複合型磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。
る従来の実情に鑑みて提案されたものであって、相対向
して近接配置される一方の磁気ヘッドからの漏洩磁束を
確実に遮蔽し、記録再生信号の相互干渉が防止できる良
好な記録再生が行える複合型磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、互いに異なるアジマス角を有する磁気
ギャップを有した一対の磁気ヘッドをヘッド走行方向に
相対向して近接配置してなる複合型磁気ヘッドにおいて
、これら磁気ヘッドの互いに対向する対向面の少なくと
も一方に他方の磁気ヘッドの磁気ギャップからの漏洩磁
束を遮蔽する良導体薄膜が形成されていることを特徴と
するものである。
めに、本発明は、互いに異なるアジマス角を有する磁気
ギャップを有した一対の磁気ヘッドをヘッド走行方向に
相対向して近接配置してなる複合型磁気ヘッドにおいて
、これら磁気ヘッドの互いに対向する対向面の少なくと
も一方に他方の磁気ヘッドの磁気ギャップからの漏洩磁
束を遮蔽する良導体薄膜が形成されていることを特徴と
するものである。
【0009】
【作用】本発明にかかる複合型磁気ヘッドにおいては、
ヘッド走行方向に相対向して近接配置された一対の磁気
ヘッドの互いに対向する対向面の少なくとも一方に他方
の磁気ヘッドの磁気ギャップからの漏洩磁束を遮蔽する
良導体薄膜を設けているので、この他方の磁気ヘッドか
らの漏洩磁束が上記良導体薄膜によって遮蔽される。し
たがって、これら磁気ヘッドの記録再生信号の相互干渉
が減少し、良好な記録再生が行える。
ヘッド走行方向に相対向して近接配置された一対の磁気
ヘッドの互いに対向する対向面の少なくとも一方に他方
の磁気ヘッドの磁気ギャップからの漏洩磁束を遮蔽する
良導体薄膜を設けているので、この他方の磁気ヘッドか
らの漏洩磁束が上記良導体薄膜によって遮蔽される。し
たがって、これら磁気ヘッドの記録再生信号の相互干渉
が減少し、良好な記録再生が行える。
【0010】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて説明する。本実施例は、記録情報量を再生歪みの少
ない形で圧縮し、トラック幅10μm以下とし短波長0
.5μmで1.25μm2 /bitの高記録密度を持
って、ビットエラーレートの少ない形でテープ幅8μm
以下の幅狭の磁気テープに対して互いに異なるアジマス
角を有する一対の磁気ヘッドをヘッド走行方向に相対向
して近接配置してなる複合型磁気ヘッドにより、ディジ
タル画像信号の長時間記録再生を可能とした例である。
いて説明する。本実施例は、記録情報量を再生歪みの少
ない形で圧縮し、トラック幅10μm以下とし短波長0
.5μmで1.25μm2 /bitの高記録密度を持
って、ビットエラーレートの少ない形でテープ幅8μm
以下の幅狭の磁気テープに対して互いに異なるアジマス
角を有する一対の磁気ヘッドをヘッド走行方向に相対向
して近接配置してなる複合型磁気ヘッドにより、ディジ
タル画像信号の長時間記録再生を可能とした例である。
【0011】先ず、記録情報量を再生歪みの少ない形で
圧縮する方法について図面を参照しながら説明する。こ
の方法は、入力ディジタル画像信号を複数の画素データ
からなるブロック単位のデータに変換してブロック化し
、該ブロック化されたデータをブロック単位に圧縮符号
化し、該圧縮符号化されたデータをチャンネル符号化し
、該チャンネル符号化されたデータを回転ドラムに装着
された本実施例の磁気ヘッドによって磁気テープに記録
するものである。以下、記録側の構成と再生側の構成と
に分けて説明する。
圧縮する方法について図面を参照しながら説明する。こ
の方法は、入力ディジタル画像信号を複数の画素データ
からなるブロック単位のデータに変換してブロック化し
、該ブロック化されたデータをブロック単位に圧縮符号
化し、該圧縮符号化されたデータをチャンネル符号化し
、該チャンネル符号化されたデータを回転ドラムに装着
された本実施例の磁気ヘッドによって磁気テープに記録
するものである。以下、記録側の構成と再生側の構成と
に分けて説明する。
【0012】図1は記録側の構成全体を示すものであり
、1Y、1U、1Vでそれぞれ示す入力端子に、例えば
カラービデオカメラからの三原色信号R,G,Bから形
成されたディジタル輝度信号Y、ディジタル色差信号U
、Vが供給される。この場合、各信号のクロックレート
はD1フォーマットの各コンポーネント信号の周波数と
同一とされる。すなわち、それぞれのサンプリング周波
数が13.5MHz、6.75MHzとされ、且つこれ
らの1サンプル当たりのビット数が8ビットとされてい
る。したがって、入力端子1Y、1U、1Vに供給され
る信号のデータ量としては、約216Mbpsとなる。 この信号のうちブランキング時間のデータを除去し、有
効領域の情報のみを取り出す有効情報抽出回路2によっ
てデータ量が約167Mbpsに圧縮される。
、1Y、1U、1Vでそれぞれ示す入力端子に、例えば
カラービデオカメラからの三原色信号R,G,Bから形
成されたディジタル輝度信号Y、ディジタル色差信号U
、Vが供給される。この場合、各信号のクロックレート
はD1フォーマットの各コンポーネント信号の周波数と
同一とされる。すなわち、それぞれのサンプリング周波
数が13.5MHz、6.75MHzとされ、且つこれ
らの1サンプル当たりのビット数が8ビットとされてい
る。したがって、入力端子1Y、1U、1Vに供給され
る信号のデータ量としては、約216Mbpsとなる。 この信号のうちブランキング時間のデータを除去し、有
効領域の情報のみを取り出す有効情報抽出回路2によっ
てデータ量が約167Mbpsに圧縮される。
【0013】有効情報抽出回路2の出力のうちの輝度信
号Yが周波数変換回路3に供給され、サンプリング周波
数が13.5MHzからその3/4に変換される。この
周波数変換回路3としては、例えば間引きフィルタが使
用され、折り返し歪みが生じないようになされている。 周波数変換回路3の出力信号がブロック化回路5に供給
され、輝度データの順序がブロックの順序に変換される
。ブロック化回路5は、後段に設けられたブロック符号
化回路8のために設けられている。
号Yが周波数変換回路3に供給され、サンプリング周波
数が13.5MHzからその3/4に変換される。この
周波数変換回路3としては、例えば間引きフィルタが使
用され、折り返し歪みが生じないようになされている。 周波数変換回路3の出力信号がブロック化回路5に供給
され、輝度データの順序がブロックの順序に変換される
。ブロック化回路5は、後段に設けられたブロック符号
化回路8のために設けられている。
【0014】図3は、符号化の単位のブロックの構造を
示す。この例は、3次元ブロックであって、例えば2フ
レームに跨がる画面を分割することにより、同図に示す
ように(4ライン×4画素×2フレーム)の単位ブロッ
クが多数形成される。なお、図3において実線は奇数フ
ィールドのラインを示し、破線は偶数フィールドのライ
ンを示す。
示す。この例は、3次元ブロックであって、例えば2フ
レームに跨がる画面を分割することにより、同図に示す
ように(4ライン×4画素×2フレーム)の単位ブロッ
クが多数形成される。なお、図3において実線は奇数フ
ィールドのラインを示し、破線は偶数フィールドのライ
ンを示す。
【0015】また、有効情報抽出回路2の出力のうち、
2つの色差信号U、Vがサブサンプリング及びサブライ
ン回路4に供給され、サンプリング周波数がそれぞれ6
.75MHzからその半分に変換された後、2つのディ
ジタル色差信号が互いにライン毎に選択され、1チャン
ネルのデータに合成される。したがって、このサブサン
プリング及びサブライン回路4からは線順次化されたデ
ィジタル色差信号が得られる。このサブサンプリング及
びサブライン回路4によってサブサンプル及びサブライ
ン化された信号の画素構成を図4に示す。図4中、○は
第1の色差信号Uのサブサンプリング画素を示し、△は
第2の色素信号Vのサンプリング画素を示し、×はサブ
サンプルによって間引かれた画素の位置を示す。
2つの色差信号U、Vがサブサンプリング及びサブライ
ン回路4に供給され、サンプリング周波数がそれぞれ6
.75MHzからその半分に変換された後、2つのディ
ジタル色差信号が互いにライン毎に選択され、1チャン
ネルのデータに合成される。したがって、このサブサン
プリング及びサブライン回路4からは線順次化されたデ
ィジタル色差信号が得られる。このサブサンプリング及
びサブライン回路4によってサブサンプル及びサブライ
ン化された信号の画素構成を図4に示す。図4中、○は
第1の色差信号Uのサブサンプリング画素を示し、△は
第2の色素信号Vのサンプリング画素を示し、×はサブ
サンプルによって間引かれた画素の位置を示す。
【0016】サブサンプリング及びサブライン回路4の
線順次化出力信号がブロック化回路6に供給される。ブ
ロック化回路6では一方のブロック化回路5と同様に、
テレビジョン信号の走査の順序の色差データがブロック
の順序のデータに変換される。このブロック化回路6は
、一方のブロック化回路5と同様に、色差データを(4
ライン×4画素×2フレーム)のブロック構造に変換す
る。そしてこれらブロック化回路5及びブロック化回路
6の出力信号が合成回路7に供給される。
線順次化出力信号がブロック化回路6に供給される。ブ
ロック化回路6では一方のブロック化回路5と同様に、
テレビジョン信号の走査の順序の色差データがブロック
の順序のデータに変換される。このブロック化回路6は
、一方のブロック化回路5と同様に、色差データを(4
ライン×4画素×2フレーム)のブロック構造に変換す
る。そしてこれらブロック化回路5及びブロック化回路
6の出力信号が合成回路7に供給される。
【0017】合成回路7では、ブロックの順序に変換さ
れた輝度信号及び色差信号が1チャンネルのデータに変
換され、合成回路7の出力信号がブロック符号化回路8
に供給される。このブロック符号化回路8としては、後
述するようにブロック毎のダイナミックレンジに適応し
た符号化回路(ADRCと称する。)、DCT(Dis
crete Cosine Transform)
回路等が適用できる。ブロック符号化回路8の出力信号
がフレーム化回路9に供給され、フレーム構造のデータ
に変換される。このフレーム化回路9では、画素系のク
ロックと記録系のクロックとの乗り換えが行われる。
れた輝度信号及び色差信号が1チャンネルのデータに変
換され、合成回路7の出力信号がブロック符号化回路8
に供給される。このブロック符号化回路8としては、後
述するようにブロック毎のダイナミックレンジに適応し
た符号化回路(ADRCと称する。)、DCT(Dis
crete Cosine Transform)
回路等が適用できる。ブロック符号化回路8の出力信号
がフレーム化回路9に供給され、フレーム構造のデータ
に変換される。このフレーム化回路9では、画素系のク
ロックと記録系のクロックとの乗り換えが行われる。
【0018】フレーム化回路9の出力信号がエラー訂正
符号のパリティ発生回路10に供給され、エラー訂正符
号のパリティが生成される。パリティ発生回路10の出
力信号がチャンネルエンコーダ11に供給され、記録デ
ータの低域部分を減少させるようなチャンネルコーディ
ングがなされる。チャンネルエンコーダ11の出力信号
が記録アンプ12A,12Bと回転トランス(図示は省
略する。)を介して一対の磁気ヘッド13A,13Bに
供給され、磁気テープに記録される。なお、オーディオ
信号と、ビデオ信号とは別に圧縮符号化され、チャンネ
ルエンコーダ11に供給される。
符号のパリティ発生回路10に供給され、エラー訂正符
号のパリティが生成される。パリティ発生回路10の出
力信号がチャンネルエンコーダ11に供給され、記録デ
ータの低域部分を減少させるようなチャンネルコーディ
ングがなされる。チャンネルエンコーダ11の出力信号
が記録アンプ12A,12Bと回転トランス(図示は省
略する。)を介して一対の磁気ヘッド13A,13Bに
供給され、磁気テープに記録される。なお、オーディオ
信号と、ビデオ信号とは別に圧縮符号化され、チャンネ
ルエンコーダ11に供給される。
【0019】上述の信号処理によって、入力のデータ量
216Mbpsが有効走査期間のみを抽出するによって
約167Mbpsに低減され、さらに周波数変換とサブ
サンプル、サブラインとによってこれが84Mbpsに
減少される。このデータは、ブロック符号化回路8で圧
縮符号化することにより、約25Mbpsに圧縮され、
その後のパリティ、オーディオ信号等の付加的な情報を
加えて、記録データ量としては31.56Mbps程度
となる。
216Mbpsが有効走査期間のみを抽出するによって
約167Mbpsに低減され、さらに周波数変換とサブ
サンプル、サブラインとによってこれが84Mbpsに
減少される。このデータは、ブロック符号化回路8で圧
縮符号化することにより、約25Mbpsに圧縮され、
その後のパリティ、オーディオ信号等の付加的な情報を
加えて、記録データ量としては31.56Mbps程度
となる。
【0020】次に、再生側の構成について図2を参照し
ながら説明する。図2において磁気ヘッド13A,13
Bからの再生データが回転トランス及び再生アンプ14
A,14Bを介してチャンネルデコーダ15に供給され
る。チャンネルデコーダ15において、チャンネルコー
ディングの復調がされ、チャンネルデコーダ15の出力
信号がTBC回路(時間軸補正回路)16に供給される
。このTBC回路16において、再生信号の時間軸変動
成分が除去される。TBC回路16からの再生データが
ECC回路17に供給され、エラー訂正符号を用いたエ
ラー訂正とエラー修整とが行われる。ECC回路17の
出力信号がフレーム分解回路18に供給される。
ながら説明する。図2において磁気ヘッド13A,13
Bからの再生データが回転トランス及び再生アンプ14
A,14Bを介してチャンネルデコーダ15に供給され
る。チャンネルデコーダ15において、チャンネルコー
ディングの復調がされ、チャンネルデコーダ15の出力
信号がTBC回路(時間軸補正回路)16に供給される
。このTBC回路16において、再生信号の時間軸変動
成分が除去される。TBC回路16からの再生データが
ECC回路17に供給され、エラー訂正符号を用いたエ
ラー訂正とエラー修整とが行われる。ECC回路17の
出力信号がフレーム分解回路18に供給される。
【0021】フレーム分解回路18によって、ブロック
符号化データの各成分がそれぞれ分離されるとともに、
記録系のクロックから画素系のクロックへの乗り換えが
なされる。フレーム分解回路18で分離された各データ
がブロック複号回路19に供給され、各ブロック単位に
原データと対応する復元データが複号され、複号データ
が分配回路20に供給される。この分配回路20で複号
データが輝度信号と色差信号に分離される。輝度信号及
び色差信号がブロック分解回路21,22にそれぞれ供
給される。ブロック分解回路21,22は、送信側のブ
ロック化回路5,6とは逆に、ブロックの順序の複号デ
ータをラスター走査の順に変換する。
符号化データの各成分がそれぞれ分離されるとともに、
記録系のクロックから画素系のクロックへの乗り換えが
なされる。フレーム分解回路18で分離された各データ
がブロック複号回路19に供給され、各ブロック単位に
原データと対応する復元データが複号され、複号データ
が分配回路20に供給される。この分配回路20で複号
データが輝度信号と色差信号に分離される。輝度信号及
び色差信号がブロック分解回路21,22にそれぞれ供
給される。ブロック分解回路21,22は、送信側のブ
ロック化回路5,6とは逆に、ブロックの順序の複号デ
ータをラスター走査の順に変換する。
【0022】ブロック分解回路21からの複号輝度信号
が補間フィルタ23に供給される。補間フィルタ23で
は、輝度信号のサンプリングレートが3fsから4fs
(4fs=13.5MHz)に変換される。補間フィル
タ23からのディジタル輝度信号Yは出力端子26Yに
取り出される。
が補間フィルタ23に供給される。補間フィルタ23で
は、輝度信号のサンプリングレートが3fsから4fs
(4fs=13.5MHz)に変換される。補間フィル
タ23からのディジタル輝度信号Yは出力端子26Yに
取り出される。
【0023】一方、ブロック分解回路22からのディジ
タル色差信号が分配回路24に供給され、線順次化され
たディジタル色差信号U,Vがディジタル色差信号U及
びVにそれぞれ分離される。分配回路24からのディジ
タル色差信号U,Vが補間回路25に供給され、それぞ
れ補間される。補間回路25は、復元された画素データ
を用いて間引かれたライン及び画素のデータを補間する
もので、補間回路25からはサンプリングレートが4f
sのディジタル色差信号U及びVが得られ、出力端子2
6U,26Vにそれぞれ取り出される。
タル色差信号が分配回路24に供給され、線順次化され
たディジタル色差信号U,Vがディジタル色差信号U及
びVにそれぞれ分離される。分配回路24からのディジ
タル色差信号U,Vが補間回路25に供給され、それぞ
れ補間される。補間回路25は、復元された画素データ
を用いて間引かれたライン及び画素のデータを補間する
もので、補間回路25からはサンプリングレートが4f
sのディジタル色差信号U及びVが得られ、出力端子2
6U,26Vにそれぞれ取り出される。
【0024】ところで上述のブロック符号化回路8とし
ては、ADRC(AdaptiveDynamic
Range Coding)エンコーダが用いられる
。このADRCエンコーダは、各ブロックに含まれる複
数の画素データの最大値MAXと最小値MINを検出し
、これら最大値MAX及び最小値MINからブロックの
ダイナミックレンジDRを検出し、このダイナミックレ
ンジDRに適応した符号化を行い、原画素データのビッ
ト数よりも少ないビット数により、再量子化を行うもの
である。ブロック符号化回路8の他の例としては、各ブ
ロックの画素データをDCT(Discrete C
osine Transform)した後、このDC
Tで得られた係数データを量子化し、量子化データをラ
ンレングス・ハフマン符号化して圧縮符号化する構成を
用いてもよい。
ては、ADRC(AdaptiveDynamic
Range Coding)エンコーダが用いられる
。このADRCエンコーダは、各ブロックに含まれる複
数の画素データの最大値MAXと最小値MINを検出し
、これら最大値MAX及び最小値MINからブロックの
ダイナミックレンジDRを検出し、このダイナミックレ
ンジDRに適応した符号化を行い、原画素データのビッ
ト数よりも少ないビット数により、再量子化を行うもの
である。ブロック符号化回路8の他の例としては、各ブ
ロックの画素データをDCT(Discrete C
osine Transform)した後、このDC
Tで得られた係数データを量子化し、量子化データをラ
ンレングス・ハフマン符号化して圧縮符号化する構成を
用いてもよい。
【0025】ここでは、ADRCエンコーダを用い、さ
らにマルチダビングした時にも画質劣化が生じないエン
コーダの例を図5を参照しながら説明する。図5におい
て、入力端子27に例えば1サンプルが8ビットに量子
化されたディジタルビデオ信号(或いはディジタル色差
信号)が図1の合成回路7より入力される。入力端子2
7からのブロック化データが最大値,最小値検出回路2
9及び遅延回路30に供給される。最大値,最小値検出
回路29は、ブロック毎に最小値MIN、最大値MAX
を検出する。遅延回路30からは、最大値及び最小値が
検出されるのに要する時間、入力データを遅延させる。 遅延回路30からの画素データが比較回路31及び比較
回路32に供給される。
らにマルチダビングした時にも画質劣化が生じないエン
コーダの例を図5を参照しながら説明する。図5におい
て、入力端子27に例えば1サンプルが8ビットに量子
化されたディジタルビデオ信号(或いはディジタル色差
信号)が図1の合成回路7より入力される。入力端子2
7からのブロック化データが最大値,最小値検出回路2
9及び遅延回路30に供給される。最大値,最小値検出
回路29は、ブロック毎に最小値MIN、最大値MAX
を検出する。遅延回路30からは、最大値及び最小値が
検出されるのに要する時間、入力データを遅延させる。 遅延回路30からの画素データが比較回路31及び比較
回路32に供給される。
【0026】最大値,最小値検出回路29からの最大値
MAXが減算回路33に供給され、最小値MINが加算
回路34に供給される。これらの減算回路33及び加算
回路34には、ビットシフト回路35から4ビット固定
長でノンエッジマッチング量子化した場合の1量子化ス
テップ幅の値(△=1/16DR)が供給される。ビッ
トシフト回路35は、(1/16)の割算を行うように
、ダイナミックレンジDRを4ビットシフトする構成と
されている。減算回路33からは(MAX−△)のしき
い値が得られ、加算回路34からは(MIN+△)のし
きい値が得られる。これらの減算回路33及び加算回路
34からのしきい値が比較回路31,32にそれぞれ供
給される。なお、このしきい値を規定する値△は、量子
化ステップ幅に限らず、ノイズレベルに相当する固定値
としてもよい。
MAXが減算回路33に供給され、最小値MINが加算
回路34に供給される。これらの減算回路33及び加算
回路34には、ビットシフト回路35から4ビット固定
長でノンエッジマッチング量子化した場合の1量子化ス
テップ幅の値(△=1/16DR)が供給される。ビッ
トシフト回路35は、(1/16)の割算を行うように
、ダイナミックレンジDRを4ビットシフトする構成と
されている。減算回路33からは(MAX−△)のしき
い値が得られ、加算回路34からは(MIN+△)のし
きい値が得られる。これらの減算回路33及び加算回路
34からのしきい値が比較回路31,32にそれぞれ供
給される。なお、このしきい値を規定する値△は、量子
化ステップ幅に限らず、ノイズレベルに相当する固定値
としてもよい。
【0027】比較回路31の出力信号がANDゲート3
6に供給され、比較回路32の出力信号がANDゲート
37に供給される。ANDゲート36及びANDゲート
37には、遅延回路30からの入力データが供給される
。比較回路31の出力信号は、入力データがしきい値よ
り大きい時にハイレベルとなり、したがってANDゲー
ト36の出力端子には、(MAX〜MAX−△)の最大
レベル範囲に含まれる入力データの画素データが抽出さ
れる。一方、比較回路32の出力信号は、入力データが
しきい値より小さい時にハイレベルとなり、したがって
ANDゲート37の出力端子には、(MIN〜MIN+
△)の最小レベル範囲に含まれる入力データの画素デー
タが抽出される。
6に供給され、比較回路32の出力信号がANDゲート
37に供給される。ANDゲート36及びANDゲート
37には、遅延回路30からの入力データが供給される
。比較回路31の出力信号は、入力データがしきい値よ
り大きい時にハイレベルとなり、したがってANDゲー
ト36の出力端子には、(MAX〜MAX−△)の最大
レベル範囲に含まれる入力データの画素データが抽出さ
れる。一方、比較回路32の出力信号は、入力データが
しきい値より小さい時にハイレベルとなり、したがって
ANDゲート37の出力端子には、(MIN〜MIN+
△)の最小レベル範囲に含まれる入力データの画素デー
タが抽出される。
【0028】ANDゲート36の出力信号が平均化回路
38に供給され、ANDゲート37の出力信号が平均化
回路39に供給される。これらの平均化回路38,39
は、ブロック毎に平均値を算出するもので、端子40か
らブロック周期のリセット信号が平均化回路38,39
に供給されている。平均化回路38からは、(MAX〜
MAX−△)の最大レベル範囲に属する画素データの平
均値MAX´が得られ、平均化回路39からは(MIN
〜MIN+△)の最小レベル範囲に属する画素データの
平均値MIN´が得られる。平均値MAX´から平均値
MIN´が減算回路41で減算され、減算回路41から
ダイナミックレンジDR´が得られる。
38に供給され、ANDゲート37の出力信号が平均化
回路39に供給される。これらの平均化回路38,39
は、ブロック毎に平均値を算出するもので、端子40か
らブロック周期のリセット信号が平均化回路38,39
に供給されている。平均化回路38からは、(MAX〜
MAX−△)の最大レベル範囲に属する画素データの平
均値MAX´が得られ、平均化回路39からは(MIN
〜MIN+△)の最小レベル範囲に属する画素データの
平均値MIN´が得られる。平均値MAX´から平均値
MIN´が減算回路41で減算され、減算回路41から
ダイナミックレンジDR´が得られる。
【0029】また、平均値MIN´が減算回路42に供
給され、遅延回路43を介された入力データから平均値
MIN´が減算回路42において減算され、最小値除去
後のデータPDIが形成される。このデータPDI及び
修整されたダイナミックレンジDR´が量子化回路44
に供給される。この実施例では、量子化に割り当てられ
るビット数nが0ビット(コード信号を転送しない)、
1ビット、2ビット、3ビット、4ビットの何れかとさ
れる可変長のADRCであって、エッジマッチング量子
化がなされる。割り当てビット数nは、ブロック毎にビ
ット数決定回路45において決定され、ビット数nのデ
ータが量子化回路44に供給される。
給され、遅延回路43を介された入力データから平均値
MIN´が減算回路42において減算され、最小値除去
後のデータPDIが形成される。このデータPDI及び
修整されたダイナミックレンジDR´が量子化回路44
に供給される。この実施例では、量子化に割り当てられ
るビット数nが0ビット(コード信号を転送しない)、
1ビット、2ビット、3ビット、4ビットの何れかとさ
れる可変長のADRCであって、エッジマッチング量子
化がなされる。割り当てビット数nは、ブロック毎にビ
ット数決定回路45において決定され、ビット数nのデ
ータが量子化回路44に供給される。
【0030】可変長ADRCは、ダイナミックレンジD
R´が小さいブロックでは、割り当てビット数nを少な
くし、ダイナミックレンジDR´が大きいブロックでは
、割り当てビット数nを多くすることで、効率の良い符
号化を行うことができる。すなわち、ビット数nを決定
する際のしきい値をT1〜T4(T1<T2<T3<T
4)とすると、(DR´<T1)のブロックは、コード
信号が転送されず、ダイナミックレンジDR´の情報の
みが転送され、(T1≦DR´<T2)のブロックは、
(n=1)とされ、(T2≦DR´<T3)のブロック
は、(n=2)とされ、(T3≦DR´<T4)のブロ
ックは、(n=3)とされ、(DR´≧T4)のブロッ
クは、(n=4)とされる。
R´が小さいブロックでは、割り当てビット数nを少な
くし、ダイナミックレンジDR´が大きいブロックでは
、割り当てビット数nを多くすることで、効率の良い符
号化を行うことができる。すなわち、ビット数nを決定
する際のしきい値をT1〜T4(T1<T2<T3<T
4)とすると、(DR´<T1)のブロックは、コード
信号が転送されず、ダイナミックレンジDR´の情報の
みが転送され、(T1≦DR´<T2)のブロックは、
(n=1)とされ、(T2≦DR´<T3)のブロック
は、(n=2)とされ、(T3≦DR´<T4)のブロ
ックは、(n=3)とされ、(DR´≧T4)のブロッ
クは、(n=4)とされる。
【0031】かかる可変長ADRCではしきい値T1〜
T4を変えることで、発生情報量を制御すること(いわ
ゆるバッファリング)ができる。したがって、1フィー
ルド或いは、1フレーム当たりの発生情報量を所定値に
することが要求されるこの発明のディジタルビデオテー
プレコーダのような伝送路に対しても可変長ADRCを
適用できる。
T4を変えることで、発生情報量を制御すること(いわ
ゆるバッファリング)ができる。したがって、1フィー
ルド或いは、1フレーム当たりの発生情報量を所定値に
することが要求されるこの発明のディジタルビデオテー
プレコーダのような伝送路に対しても可変長ADRCを
適用できる。
【0032】発生情報量を所定値にするためのしきい値
T1〜T4を決定するバッファリング回路46では、し
きい値の組(T1、T2、T3、T4)が複数例えば3
2組用意されており、これらのしきい値の組がパラメー
タコードPi(i=0、1、2・・・・31)により区
別される。パラメータコードPiの番号iが大きくなる
に従って、発生情報量が単調に減少するように設定され
ている。ただし、発生情報量が減少するに従って、復元
画像の画質が劣化する。
T1〜T4を決定するバッファリング回路46では、し
きい値の組(T1、T2、T3、T4)が複数例えば3
2組用意されており、これらのしきい値の組がパラメー
タコードPi(i=0、1、2・・・・31)により区
別される。パラメータコードPiの番号iが大きくなる
に従って、発生情報量が単調に減少するように設定され
ている。ただし、発生情報量が減少するに従って、復元
画像の画質が劣化する。
【0033】バッファリング回路46からのしきい値T
1〜T4が比較回路47に供給され、遅延回路48を介
されたダイナミックレンジDR´が比較回路47に供給
される。遅延回路48は、バッファリング回路46でし
きい値の組が決定されるのに要する時間、DR´を遅延
させる。比較回路47では、ブロックのダイナミックレ
ンジDR´と各しきい値とがそれぞれ比較され、比較出
力がビット数決定回路45に供給され、そのブロックの
割り当てビット数nが決定される。量子化回路44では
、ダイナミックレンジDR´と割り当てビット数nとを
用いて遅延回路49を介された最小値除去後のデータP
DIがエッジマッチングの量子化により、コード信号D
Tに変換される。量子化回路44は、例えばROMで構
成されている。
1〜T4が比較回路47に供給され、遅延回路48を介
されたダイナミックレンジDR´が比較回路47に供給
される。遅延回路48は、バッファリング回路46でし
きい値の組が決定されるのに要する時間、DR´を遅延
させる。比較回路47では、ブロックのダイナミックレ
ンジDR´と各しきい値とがそれぞれ比較され、比較出
力がビット数決定回路45に供給され、そのブロックの
割り当てビット数nが決定される。量子化回路44では
、ダイナミックレンジDR´と割り当てビット数nとを
用いて遅延回路49を介された最小値除去後のデータP
DIがエッジマッチングの量子化により、コード信号D
Tに変換される。量子化回路44は、例えばROMで構
成されている。
【0034】遅延回路48、50をそれぞれ介して修整
されたダイナミックレンジDR´、平均値MIN´が出
力され、さらにコード信号DTとしきい値の組を示すパ
ラメータコードPiが出力される。この例では、一旦ノ
ンエッジマッチ量子化された信号が新たにダイナミック
レンジ情報に基づいて、エッジマッチ量子化されている
ためにダビングした時の画像劣化は少ないものとされる
。
されたダイナミックレンジDR´、平均値MIN´が出
力され、さらにコード信号DTとしきい値の組を示すパ
ラメータコードPiが出力される。この例では、一旦ノ
ンエッジマッチ量子化された信号が新たにダイナミック
レンジ情報に基づいて、エッジマッチ量子化されている
ためにダビングした時の画像劣化は少ないものとされる
。
【0035】次に、上述のチャンネルエンコーダ11及
びチャンネルデコーダ15について説明する。チャンネ
ルエンコーダ11においては、図6に示すように、パリ
ティ発生回路10の出力が供給される適用型スクランブ
ル回路で、複数のM系列のスクランブル回路51が用意
され、その中で入力信号に対し最も高周波成分及び直流
成分の少ない出力が得られるようなM系列が選択される
ように構成されている。パーシャルレスポンス・クラス
4検出方式のためのプリコーダ52で、1/1−D2
(Dは単位遅延用回路)の演算処理がなされる。このプ
リコーダ52の出力を記録アンプ12A,13Aを介し
て磁気ヘッド13A,13Bにより、記録再生し、再生
出力を再生アンプ14A,14Bによって増幅するよう
になされている。
びチャンネルデコーダ15について説明する。チャンネ
ルエンコーダ11においては、図6に示すように、パリ
ティ発生回路10の出力が供給される適用型スクランブ
ル回路で、複数のM系列のスクランブル回路51が用意
され、その中で入力信号に対し最も高周波成分及び直流
成分の少ない出力が得られるようなM系列が選択される
ように構成されている。パーシャルレスポンス・クラス
4検出方式のためのプリコーダ52で、1/1−D2
(Dは単位遅延用回路)の演算処理がなされる。このプ
リコーダ52の出力を記録アンプ12A,13Aを介し
て磁気ヘッド13A,13Bにより、記録再生し、再生
出力を再生アンプ14A,14Bによって増幅するよう
になされている。
【0036】一方、チャンネルデコーダ15においては
、図7に示すように、パーシャルレスポンス・クラス4
の再生側の演算処理回路53は、1+Dの演算が再生ア
ンプ14A,14Bの出力に対して行われる。また、い
わゆるビタビ複号回路54においては、演算処理回路5
3の出力に対してデータの相関性や確からしさ等を用い
た演算により、ノイズに強いデータの複号が行われる。 このビタビ複号回路54の出力がディスクランブル回路
55に供給され、記録側のスクランブル処理によって並
び変えられたデータが元の系列に戻されて原データが復
元される。この実施例において用いられるビタビ複号回
路54によって、ビット毎の複号を行う場合よりも、再
生C/N換算が3dBで改良が得られる。
、図7に示すように、パーシャルレスポンス・クラス4
の再生側の演算処理回路53は、1+Dの演算が再生ア
ンプ14A,14Bの出力に対して行われる。また、い
わゆるビタビ複号回路54においては、演算処理回路5
3の出力に対してデータの相関性や確からしさ等を用い
た演算により、ノイズに強いデータの複号が行われる。 このビタビ複号回路54の出力がディスクランブル回路
55に供給され、記録側のスクランブル処理によって並
び変えられたデータが元の系列に戻されて原データが復
元される。この実施例において用いられるビタビ複号回
路54によって、ビット毎の複号を行う場合よりも、再
生C/N換算が3dBで改良が得られる。
【0037】次に、上述の方法によってチャンネル符号
化されたデータを磁気テープに記録する本実施例にかか
る複合型磁気ヘッドについて説明する。本実施例の複合
型磁気ヘッドは、図8及び図9に示すように、同一のヘ
ッドベース56上に互いに異なるアジマス角θ1 ,θ
2 を有する磁気ギャップg1 ,g2 を有した一対
の磁気ヘッド57,58が相対向して近接配置されてな
り、これら磁気ヘッド57,58により同時に磁気テー
プに対して記録再生するように構成されている。なお、
上記磁気ヘッド57,58は、前述の図1及び図2に示
す磁気ヘッド13A,13Bに相当するものである。
化されたデータを磁気テープに記録する本実施例にかか
る複合型磁気ヘッドについて説明する。本実施例の複合
型磁気ヘッドは、図8及び図9に示すように、同一のヘ
ッドベース56上に互いに異なるアジマス角θ1 ,θ
2 を有する磁気ギャップg1 ,g2 を有した一対
の磁気ヘッド57,58が相対向して近接配置されてな
り、これら磁気ヘッド57,58により同時に磁気テー
プに対して記録再生するように構成されている。なお、
上記磁気ヘッド57,58は、前述の図1及び図2に示
す磁気ヘッド13A,13Bに相当するものである。
【0038】先ず、これら磁気ヘッド57,58のうち
、一方の磁気ヘッド57を例にとって説明する。上記磁
気ヘッド57は、強磁性酸化物材料よりなる磁気コア部
59及びこの磁気コア部59に真空薄膜形成技術により
被着形成される強磁性金属薄膜60から構成される第1
の磁気コア半体61と、同様に強磁性酸化物材料よりな
る磁気コア部62及び強磁性金属薄膜63より構成され
る第2の磁気コア半体64とが、上記強磁性金属薄膜6
0,63同士を突合わせ面として融着ガラス65により
接合一体化されて構成されている。
、一方の磁気ヘッド57を例にとって説明する。上記磁
気ヘッド57は、強磁性酸化物材料よりなる磁気コア部
59及びこの磁気コア部59に真空薄膜形成技術により
被着形成される強磁性金属薄膜60から構成される第1
の磁気コア半体61と、同様に強磁性酸化物材料よりな
る磁気コア部62及び強磁性金属薄膜63より構成され
る第2の磁気コア半体64とが、上記強磁性金属薄膜6
0,63同士を突合わせ面として融着ガラス65により
接合一体化されて構成されている。
【0039】上記第1の磁気コア半体61を構成する磁
気コア部59は、例えばMn−ZnフェライトやNi−
Znフェライト等の強磁性酸化物材料よりなり、上記強
磁性金属薄膜60との対向面に記録信号を供給し或いは
磁気テープからの再生信号を取り出すコイル(図示は省
略する。)を巻回させるためのコイル巻装溝66を有し
ている。さらに上記磁気コア部59の上記強磁性金属薄
膜60との対向面には、上記第2の磁気コア半体64と
の接合をより確実なものとなすため融着ガラス65を充
填させるガラス溝67が形成されている。上記コイル巻
装溝66は、磁気テープとの対接面となる磁気コア部5
9の磁気記録媒体対接面68近傍部に設けられ、その磁
気記録媒体対接面68側の傾斜面66aでこの磁気ヘッ
ド57の磁気ギャップg1 のデプスを規制するように
なっている。一方、ガラス溝67は、上記磁気コア部5
9の磁気記録媒体対接面68とは反対側の面69近傍部
に設けられ、側面形状が凹状の浅い溝として形成されて
いる。
気コア部59は、例えばMn−ZnフェライトやNi−
Znフェライト等の強磁性酸化物材料よりなり、上記強
磁性金属薄膜60との対向面に記録信号を供給し或いは
磁気テープからの再生信号を取り出すコイル(図示は省
略する。)を巻回させるためのコイル巻装溝66を有し
ている。さらに上記磁気コア部59の上記強磁性金属薄
膜60との対向面には、上記第2の磁気コア半体64と
の接合をより確実なものとなすため融着ガラス65を充
填させるガラス溝67が形成されている。上記コイル巻
装溝66は、磁気テープとの対接面となる磁気コア部5
9の磁気記録媒体対接面68近傍部に設けられ、その磁
気記録媒体対接面68側の傾斜面66aでこの磁気ヘッ
ド57の磁気ギャップg1 のデプスを規制するように
なっている。一方、ガラス溝67は、上記磁気コア部5
9の磁気記録媒体対接面68とは反対側の面69近傍部
に設けられ、側面形状が凹状の浅い溝として形成されて
いる。
【0040】そして、上記磁気コア部59の上記強磁性
金属薄膜60との対向部分は、チップ厚方向よりその両
側が切り欠かれ、その略中央部分が磁気テープの摺動方
向に沿って細長く残存するように形成されている。上記
磁気コア部59の対向部分を切り欠く切り欠き部70,
71は、この磁気ヘッド57の磁気ギャップg1 のト
ラック幅Tw1 を規制するトラック幅規制溝となって
いる。したがって、上記切り欠き部70,71によって
形成される細長いコア部分(以下、これを金属薄膜形成
部59aと称する。)59aは、上記磁気ギャップg1
のトラック幅Tw1 と同じ幅となされている。なお
、上記金属薄膜形成部59aは、磁気テープの摺動方向
に対して磁気ギャップg1 のアジマス角θ1 と同じ
角度を持って傾斜されている。
金属薄膜60との対向部分は、チップ厚方向よりその両
側が切り欠かれ、その略中央部分が磁気テープの摺動方
向に沿って細長く残存するように形成されている。上記
磁気コア部59の対向部分を切り欠く切り欠き部70,
71は、この磁気ヘッド57の磁気ギャップg1 のト
ラック幅Tw1 を規制するトラック幅規制溝となって
いる。したがって、上記切り欠き部70,71によって
形成される細長いコア部分(以下、これを金属薄膜形成
部59aと称する。)59aは、上記磁気ギャップg1
のトラック幅Tw1 と同じ幅となされている。なお
、上記金属薄膜形成部59aは、磁気テープの摺動方向
に対して磁気ギャップg1 のアジマス角θ1 と同じ
角度を持って傾斜されている。
【0041】一方、強磁性金属薄膜60は、上記金属薄
膜形成部59aの対向面に沿って磁気記録媒体対接面6
8側より、これとは反対側の面69に亘って被着形成さ
れている。すなわち、上記強磁性金属薄膜60は、上記
コイル巻装溝66及びガラス溝67を除いて上記金属薄
膜形成部59aの対向面全面に亘って被着形成されてい
る。この強磁性金属薄膜60には、高飽和磁束密度を有
し且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用される。
膜形成部59aの対向面に沿って磁気記録媒体対接面6
8側より、これとは反対側の面69に亘って被着形成さ
れている。すなわち、上記強磁性金属薄膜60は、上記
コイル巻装溝66及びガラス溝67を除いて上記金属薄
膜形成部59aの対向面全面に亘って被着形成されてい
る。この強磁性金属薄膜60には、高飽和磁束密度を有
し且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用される。
【0042】かかる強磁性材料としては、Fe−Al−
Si系合金、Fe−Al系合金、Fe−Si−Co系合
金、Fe−Ni系合金、Fe−Al−Ge系合金、Fe
−Ga−Ge系合金、Fe−Si−Ge系合金、Fe−
Co−Si−Al系合金等の強磁性金属材料、或いはF
e−Ga−Si系合金、さらには上記Fe−Ga−Si
系合金の耐蝕性や耐摩耗性の一層の向上を図るために、
Fe,Ga,Co(Feの一部をCoで置換したものを
含む。),Siを基本組成とする合金に、Ti,Cr,
Mn,Zr,Nb,Mo,Ta,W,Ru,Os,Rh
,Ir,Re,Ni,Pb,Pt,Hf,Vの少なくと
も一種を添加したものであってもよい。
Si系合金、Fe−Al系合金、Fe−Si−Co系合
金、Fe−Ni系合金、Fe−Al−Ge系合金、Fe
−Ga−Ge系合金、Fe−Si−Ge系合金、Fe−
Co−Si−Al系合金等の強磁性金属材料、或いはF
e−Ga−Si系合金、さらには上記Fe−Ga−Si
系合金の耐蝕性や耐摩耗性の一層の向上を図るために、
Fe,Ga,Co(Feの一部をCoで置換したものを
含む。),Siを基本組成とする合金に、Ti,Cr,
Mn,Zr,Nb,Mo,Ta,W,Ru,Os,Rh
,Ir,Re,Ni,Pb,Pt,Hf,Vの少なくと
も一種を添加したものであってもよい。
【0043】また、強磁性非晶質合金、いわゆるアモル
ファス合金(例えば、Fe,Ni,Coの一つ以上の元
素とP,C,B,Siの一つ以上の元素とからなる合金
、またはこれを主成分としAl,Ge,Be,Sn,I
n,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,H,Nb等を
含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルファス合金
、或いはCo,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素等
を主成分とするメタル−メタル系アモルファス合金)等
も使用される。
ファス合金(例えば、Fe,Ni,Coの一つ以上の元
素とP,C,B,Siの一つ以上の元素とからなる合金
、またはこれを主成分としAl,Ge,Be,Sn,I
n,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,H,Nb等を
含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルファス合金
、或いはCo,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素等
を主成分とするメタル−メタル系アモルファス合金)等
も使用される。
【0044】これら強磁性材料の中でも、1.25μm
2 /bit以上の高記録密度を可能なものとなすこと
から、特に飽和磁束密度が14kG以上のものがより好
適であり、例えば飽和磁束密度14.5kGのFe−G
a−Si−Ru系合金が好ましい。このような高飽和磁
束密度を有する強磁性材料を使用すれば、高抗磁力の磁
気テープに対しても磁気飽和を生じることなく記録が行
える。そして、上記強磁性材料の膜付け方法としては、
真空薄膜形成技術、例えば蒸着法,スパッタリング法,
イオンプレーティング法等が挙げられる。
2 /bit以上の高記録密度を可能なものとなすこと
から、特に飽和磁束密度が14kG以上のものがより好
適であり、例えば飽和磁束密度14.5kGのFe−G
a−Si−Ru系合金が好ましい。このような高飽和磁
束密度を有する強磁性材料を使用すれば、高抗磁力の磁
気テープに対しても磁気飽和を生じることなく記録が行
える。そして、上記強磁性材料の膜付け方法としては、
真空薄膜形成技術、例えば蒸着法,スパッタリング法,
イオンプレーティング法等が挙げられる。
【0045】一方、第2の磁気コア半体64を構成する
磁気コア部62は、磁気テープの摺動方向での厚みが薄
くなされ、先の磁気コア部59と同様にMn−Znフェ
ライトやNi−Znフェライト等の強磁性酸化物材料か
らなっている。そしてこの磁気コア部62の上記強磁性
金属薄膜63との対向部分は、チップ厚方向よりその両
側が切り欠かれ、その略中央部分が磁気テープの摺動方
向に沿って細長く残るように形成されている。上記磁気
コア部62の対向部分を切り欠く切り欠き部72,73
は、先の磁気コア部59と同様にこの磁気ヘッド57の
磁気ギャップg1 のトラック幅Tw1 を規制するト
ラック幅規制溝となっている。したがって、上記切り欠
き部72,73によって形成される細長いコア部分(以
下、これを金属薄膜形成部62aと称する。)62aは
、上記磁気ギャップg1 のトラック幅Tw1 と同じ
幅となされている。なお、この金属薄膜形成部62aも
先の金属薄膜形成部59aと同様に、上記金属薄膜形成
部59aと同一方向に磁気テープの摺動方向に対して磁
気ギャップg1 のアジマス角θ1 と同じ角度を持っ
て傾斜されている。
磁気コア部62は、磁気テープの摺動方向での厚みが薄
くなされ、先の磁気コア部59と同様にMn−Znフェ
ライトやNi−Znフェライト等の強磁性酸化物材料か
らなっている。そしてこの磁気コア部62の上記強磁性
金属薄膜63との対向部分は、チップ厚方向よりその両
側が切り欠かれ、その略中央部分が磁気テープの摺動方
向に沿って細長く残るように形成されている。上記磁気
コア部62の対向部分を切り欠く切り欠き部72,73
は、先の磁気コア部59と同様にこの磁気ヘッド57の
磁気ギャップg1 のトラック幅Tw1 を規制するト
ラック幅規制溝となっている。したがって、上記切り欠
き部72,73によって形成される細長いコア部分(以
下、これを金属薄膜形成部62aと称する。)62aは
、上記磁気ギャップg1 のトラック幅Tw1 と同じ
幅となされている。なお、この金属薄膜形成部62aも
先の金属薄膜形成部59aと同様に、上記金属薄膜形成
部59aと同一方向に磁気テープの摺動方向に対して磁
気ギャップg1 のアジマス角θ1 と同じ角度を持っ
て傾斜されている。
【0046】そして上記強磁性金属薄膜63は、上記金
属薄膜形成部62aの対向面に沿って、上記磁気記録媒
体対接面68側よりこれとは反対側の面69に至るまで
連続膜として被着形成されている。なお、この強磁性金
属薄膜63には、先の強磁性金属薄膜60と同様の強磁
性材料が使用される。
属薄膜形成部62aの対向面に沿って、上記磁気記録媒
体対接面68側よりこれとは反対側の面69に至るまで
連続膜として被着形成されている。なお、この強磁性金
属薄膜63には、先の強磁性金属薄膜60と同様の強磁
性材料が使用される。
【0047】上記のようにして構成されてなる第1の磁
気コア半体61と第2の磁気コア半体64とは、互いの
強磁性金属薄膜60,63を突合わせ面として突き合わ
され、相対向する切り欠き部70,72及び71,73
間に融着ガラス65が充填されて接合一体化されてなっ
ている。そして、これら第1の磁気コア半体61と第2
の磁気コア半体64とは、上記強磁性金属薄膜60,6
3間に融着ガラス65又はギャップスペーサを介在させ
ることによって、当該強磁性金属薄膜60,63の界面
にトラック幅Tw1 とされた磁気ギャップg1 を構
成している。ここでの磁気ギャップg1 は、磁気テー
プの摺動方向と直交する方向に対して時計回り方向に所
定のアジマス角θ1 を持って設けられている。
気コア半体61と第2の磁気コア半体64とは、互いの
強磁性金属薄膜60,63を突合わせ面として突き合わ
され、相対向する切り欠き部70,72及び71,73
間に融着ガラス65が充填されて接合一体化されてなっ
ている。そして、これら第1の磁気コア半体61と第2
の磁気コア半体64とは、上記強磁性金属薄膜60,6
3間に融着ガラス65又はギャップスペーサを介在させ
ることによって、当該強磁性金属薄膜60,63の界面
にトラック幅Tw1 とされた磁気ギャップg1 を構
成している。ここでの磁気ギャップg1 は、磁気テー
プの摺動方向と直交する方向に対して時計回り方向に所
定のアジマス角θ1 を持って設けられている。
【0048】また、上記アジマス角θ1 は、同一のヘ
ッドベース56上に設けられる一方の磁気ヘッド58の
磁気ギャップg2 からのクロストークを低減するため
に、10度以上とすることが望ましい。なお、本実施例
では、上記磁気ギャップg1 のアジマス角θ1 は2
0度した。また、上記磁気ギャップg1 のトラック幅
Tw1 は、ATF(オートトラッキング)の場合、隣
接するトラックの信号を拾いながら記録再生するので、
磁気テープ上のトラックピッチPより+0μm〜+3μ
m広くすることが望ましい。なお、上記磁気ギャップg
1 のトラック幅Tw1 を余り広げ過ぎると、再生時
の隣接クロストークが大きくなってしまうため、上記の
範囲が最も望ましい。具体的には、トラックピッチPを
10μm以下とするので上記磁気ギャップg1 のトラ
ック幅Tw1 は10μm〜13μmとなる。本実施例
では、磁気テープ上のトラックピッチPを5μmとする
ため、上記トラック幅Tw1 を7μmとした。
ッドベース56上に設けられる一方の磁気ヘッド58の
磁気ギャップg2 からのクロストークを低減するため
に、10度以上とすることが望ましい。なお、本実施例
では、上記磁気ギャップg1 のアジマス角θ1 は2
0度した。また、上記磁気ギャップg1 のトラック幅
Tw1 は、ATF(オートトラッキング)の場合、隣
接するトラックの信号を拾いながら記録再生するので、
磁気テープ上のトラックピッチPより+0μm〜+3μ
m広くすることが望ましい。なお、上記磁気ギャップg
1 のトラック幅Tw1 を余り広げ過ぎると、再生時
の隣接クロストークが大きくなってしまうため、上記の
範囲が最も望ましい。具体的には、トラックピッチPを
10μm以下とするので上記磁気ギャップg1 のトラ
ック幅Tw1 は10μm〜13μmとなる。本実施例
では、磁気テープ上のトラックピッチPを5μmとする
ため、上記トラック幅Tw1 を7μmとした。
【0049】そして特に、上記磁気ヘッド57において
は、相対向して近接配置される他方の磁気ヘッド58と
の対向面、つまり第2の磁気コア半体64を構成する磁
気コア部62の対向面62bに上記他方の磁気ヘッド5
8の磁気ギャップg2 からの漏洩磁束を遮蔽する良導
体薄膜93が形成されている。上記良導体薄膜93は、
電気抵抗率ρの小さい導体薄膜、例えば電気抵抗率ρ<
10−6Ω・cmの銀、Cr、アルミニウムよりなる薄
膜からなる。この良導体薄膜93は、例えば薄膜製造プ
ロセス、例えば湿式,乾式のメッキ等の手法によって上
記磁気コア部62の対向面62b全面に亘って成膜され
る。 このときの良導体薄膜93の膜厚は、他方の磁気ヘッド
58からの漏洩磁束を確実に遮蔽するために、1μm〜
50μm程度とすることが望ましい。膜厚が1μm未満
であると、漏洩磁束を確実に遮蔽することが困難になる
。なお、膜厚の上限に関しては、50μm以上であって
もよいが、これは対向配置される磁気ヘッド58との間
隔によって制限される。
は、相対向して近接配置される他方の磁気ヘッド58と
の対向面、つまり第2の磁気コア半体64を構成する磁
気コア部62の対向面62bに上記他方の磁気ヘッド5
8の磁気ギャップg2 からの漏洩磁束を遮蔽する良導
体薄膜93が形成されている。上記良導体薄膜93は、
電気抵抗率ρの小さい導体薄膜、例えば電気抵抗率ρ<
10−6Ω・cmの銀、Cr、アルミニウムよりなる薄
膜からなる。この良導体薄膜93は、例えば薄膜製造プ
ロセス、例えば湿式,乾式のメッキ等の手法によって上
記磁気コア部62の対向面62b全面に亘って成膜され
る。 このときの良導体薄膜93の膜厚は、他方の磁気ヘッド
58からの漏洩磁束を確実に遮蔽するために、1μm〜
50μm程度とすることが望ましい。膜厚が1μm未満
であると、漏洩磁束を確実に遮蔽することが困難になる
。なお、膜厚の上限に関しては、50μm以上であって
もよいが、これは対向配置される磁気ヘッド58との間
隔によって制限される。
【0050】上記良導体薄膜93を設けると、他方の磁
気ヘッド58からの漏洩磁束がこの磁気ヘッド57に流
れ込もうとした場合、当該良導体薄膜93に磁束変化量
に応じた渦電流が生じ、外部磁界の変化を妨げる方向に
磁界を生ずる。この結果、他方の磁気ヘッド58からの
漏洩磁束は、上記良導体薄膜93によって遮蔽されるこ
とになる。
気ヘッド58からの漏洩磁束がこの磁気ヘッド57に流
れ込もうとした場合、当該良導体薄膜93に磁束変化量
に応じた渦電流が生じ、外部磁界の変化を妨げる方向に
磁界を生ずる。この結果、他方の磁気ヘッド58からの
漏洩磁束は、上記良導体薄膜93によって遮蔽されるこ
とになる。
【0051】他方の磁気ヘッド58も同様の構成で、強
磁性酸化物材料よりなる磁気コア部74及びこの磁気コ
ア部74に被着形成される強磁性金属薄膜75とからな
る第3の磁気コア半体76と、同様に強磁性酸化物材料
よりなる磁気コア部77及び強磁性金属薄膜78より構
成される第4の磁気コア半体79とが、上記強磁性金属
薄膜75,78同士を突合わせ面として融着ガラス80
により接合一体化されて構成されている。
磁性酸化物材料よりなる磁気コア部74及びこの磁気コ
ア部74に被着形成される強磁性金属薄膜75とからな
る第3の磁気コア半体76と、同様に強磁性酸化物材料
よりなる磁気コア部77及び強磁性金属薄膜78より構
成される第4の磁気コア半体79とが、上記強磁性金属
薄膜75,78同士を突合わせ面として融着ガラス80
により接合一体化されて構成されている。
【0052】この磁気ヘッド58においても、先の磁気
ヘッド57と同様に、上記各磁気コア部74,77の上
記各強磁性金属薄膜75,78との対向部分は、チップ
厚方向よりその両側が切り欠かれ、その略中央部分が磁
気テープの摺動方向に沿って細長く残存するように形成
されている。これら磁気コア部74,77の対向部分を
切り欠く切り欠き部81,82及び83,84は、この
磁気ヘッド58の磁気ギャップg2 のトラック幅Tw
2 を規制するトラック幅規制溝となっている。したが
って、これら切り欠き部81,82及び83,84によ
って形成される細長いコア部分(以下、これを金属薄膜
形成部74a,77aと称する。)74a,77aは、
上記磁気ギャップg2 のトラック幅Tw2 と同じ幅
となされている。
ヘッド57と同様に、上記各磁気コア部74,77の上
記各強磁性金属薄膜75,78との対向部分は、チップ
厚方向よりその両側が切り欠かれ、その略中央部分が磁
気テープの摺動方向に沿って細長く残存するように形成
されている。これら磁気コア部74,77の対向部分を
切り欠く切り欠き部81,82及び83,84は、この
磁気ヘッド58の磁気ギャップg2 のトラック幅Tw
2 を規制するトラック幅規制溝となっている。したが
って、これら切り欠き部81,82及び83,84によ
って形成される細長いコア部分(以下、これを金属薄膜
形成部74a,77aと称する。)74a,77aは、
上記磁気ギャップg2 のトラック幅Tw2 と同じ幅
となされている。
【0053】なお、上記金属薄膜形成部74a,77a
は、先の金属薄膜形成部59a,62aとは逆向きに磁
気テープの摺動方向に対して磁気ギャップg2 のアジ
マス角θ2 と同じ角度で傾斜されている。また、上記
一方の磁気コア部74の上記強磁性金属薄膜75との対
向面には、コイル巻装溝85とガラス溝86が形成され
ている。そして、他方の磁気コア部77の上記金属薄膜
形成部77aとは反対側の側面77bは、先の磁気ヘッ
ド57の磁気コア部62とは反対方向に傾斜されている
。
は、先の金属薄膜形成部59a,62aとは逆向きに磁
気テープの摺動方向に対して磁気ギャップg2 のアジ
マス角θ2 と同じ角度で傾斜されている。また、上記
一方の磁気コア部74の上記強磁性金属薄膜75との対
向面には、コイル巻装溝85とガラス溝86が形成され
ている。そして、他方の磁気コア部77の上記金属薄膜
形成部77aとは反対側の側面77bは、先の磁気ヘッ
ド57の磁気コア部62とは反対方向に傾斜されている
。
【0054】一方、強磁性金属薄膜75,78も同様に
、強磁性材料が上記各金属薄膜形成部74a,77aの
対向面に沿って、上記磁気コア部74の磁気記録媒体対
接面87側より、これとは反対側の面88に亘って真空
薄膜形成技術によって被着形成されている。
、強磁性材料が上記各金属薄膜形成部74a,77aの
対向面に沿って、上記磁気コア部74の磁気記録媒体対
接面87側より、これとは反対側の面88に亘って真空
薄膜形成技術によって被着形成されている。
【0055】そしてこの磁気ヘッド58においては、上
記第3の磁気コア半体76と第4の磁気コア半体79と
が互いの強磁性金属薄膜75,78を突合わせ面として
突き合わされ、相対向する切り欠き部81,82及び8
3,84間に融着ガラス80が充填され接合一体化され
てなる。そして、上記強磁性金属薄膜75,78間にト
ラック幅Tw2 とする磁気ギャップg2 が構成され
る。 ここでの磁気ギャップg2 は、磁気テープの摺動方向
と直交する方向に対して反時計回り方向に所定のアジマ
ス角θ2 を持って設けられている。つまり、上記磁気
ギャップg2 のアジマスは、先の磁気ヘッド57の磁
気ギャップg1 のアジマスの向きとは反対向きとなさ
れている。なお、上記磁気ギャップ2 のアジマス角θ
2 は、先の磁気ギャップg1 のアジマスθ2 と同
一の角度に設定される。
記第3の磁気コア半体76と第4の磁気コア半体79と
が互いの強磁性金属薄膜75,78を突合わせ面として
突き合わされ、相対向する切り欠き部81,82及び8
3,84間に融着ガラス80が充填され接合一体化され
てなる。そして、上記強磁性金属薄膜75,78間にト
ラック幅Tw2 とする磁気ギャップg2 が構成され
る。 ここでの磁気ギャップg2 は、磁気テープの摺動方向
と直交する方向に対して反時計回り方向に所定のアジマ
ス角θ2 を持って設けられている。つまり、上記磁気
ギャップg2 のアジマスは、先の磁気ヘッド57の磁
気ギャップg1 のアジマスの向きとは反対向きとなさ
れている。なお、上記磁気ギャップ2 のアジマス角θ
2 は、先の磁気ギャップg1 のアジマスθ2 と同
一の角度に設定される。
【0056】そしてこの磁気ヘッド58におていも先の
磁気ヘッド57と同様に、上記磁気ヘッド58の上記磁
気ヘッド57との対向面、つまり第4の磁気コア半体7
9を構成する磁気コア部77の対向面77bに上記磁気
ヘッド57の磁気ギャップg1 からの漏洩磁束を遮蔽
する良導体薄膜94が形成されている。したがって、上
記磁気ヘッド58と相対向する磁気ヘッド57からの漏
洩磁束が上記良導体薄膜94によって確実に遮蔽される
。
磁気ヘッド57と同様に、上記磁気ヘッド58の上記磁
気ヘッド57との対向面、つまり第4の磁気コア半体7
9を構成する磁気コア部77の対向面77bに上記磁気
ヘッド57の磁気ギャップg1 からの漏洩磁束を遮蔽
する良導体薄膜94が形成されている。したがって、上
記磁気ヘッド58と相対向する磁気ヘッド57からの漏
洩磁束が上記良導体薄膜94によって確実に遮蔽される
。
【0057】そして、上述のように構成された一対の磁
気ヘッド57,58は、互い良導体薄膜93,94を対
向面として突合わせる形で同一のヘッドベース56上に
近接して配置され、いわゆるダブルアジマスと称される
複合型磁気ヘッドとなる。これら磁気ヘッド57,58
は、図8中矢印Yで示すトラックピッチ方向に、これら
磁気ヘッド57,58によって記録される図10で示す
磁気テープ89上のトラックピッチPと略等し段差Dを
持って設けられている。なお、ここに言う段差Dは、ト
ラックピッチ方向における各磁気ヘッド57,58の磁
気ギャップg1 ,g2 のトラック幅方向でのヘッド
ベース56側の端部間距離を指す。
気ヘッド57,58は、互い良導体薄膜93,94を対
向面として突合わせる形で同一のヘッドベース56上に
近接して配置され、いわゆるダブルアジマスと称される
複合型磁気ヘッドとなる。これら磁気ヘッド57,58
は、図8中矢印Yで示すトラックピッチ方向に、これら
磁気ヘッド57,58によって記録される図10で示す
磁気テープ89上のトラックピッチPと略等し段差Dを
持って設けられている。なお、ここに言う段差Dは、ト
ラックピッチ方向における各磁気ヘッド57,58の磁
気ギャップg1 ,g2 のトラック幅方向でのヘッド
ベース56側の端部間距離を指す。
【0058】すなわち、上記一方の磁気ヘッド57がヘ
ッドベース56上に上記段差Dと同じ厚みを持ったスペ
ーサ90上に配置されることにより、この磁気ヘッド5
7の磁気ギャップg1 と、ヘッドベース56上に直接
設けられる磁気ヘッド58の磁気ギャップg2 とのト
ラック幅方向での端部間距離が上記段差Dと等しい距離
となっている。したがって、上記スペーサ90上に配置
される磁気ヘッド57の磁気ギャップg1 は、ヘッド
ベース56上に直接配置される磁気ヘッド58の磁気ギ
ャップg2 対してヘッドベース56側に段差Dを持っ
て配置されることになる。
ッドベース56上に上記段差Dと同じ厚みを持ったスペ
ーサ90上に配置されることにより、この磁気ヘッド5
7の磁気ギャップg1 と、ヘッドベース56上に直接
設けられる磁気ヘッド58の磁気ギャップg2 とのト
ラック幅方向での端部間距離が上記段差Dと等しい距離
となっている。したがって、上記スペーサ90上に配置
される磁気ヘッド57の磁気ギャップg1 は、ヘッド
ベース56上に直接配置される磁気ヘッド58の磁気ギ
ャップg2 対してヘッドベース56側に段差Dを持っ
て配置されることになる。
【0059】ここでの段差Dは、磁気テープ89上のト
ラックピッチPを10μm以下とすることから、これに
合わせて上記段差Dを10μm以下とする。本実施例で
は、トラックピッチPを5μmとするので、上記段差D
をこれに合わせて5μmとした。したがって、上記スペ
ーサ90の厚みも同様に5μmとした。
ラックピッチPを10μm以下とすることから、これに
合わせて上記段差Dを10μm以下とする。本実施例で
は、トラックピッチPを5μmとするので、上記段差D
をこれに合わせて5μmとした。したがって、上記スペ
ーサ90の厚みも同様に5μmとした。
【0060】そしてさらに、これら磁気ヘッド57,5
8は、図8中矢印Xで示すヘッド走行方向に磁気テープ
89上のトラック間段差dと等しい段差GLを持って設
けられている。なお、ここに言うトラック間段差dは、
各記録トラック91,92の記録領域のヘッド走行方向
での端部間距離を指す。上記段差GLは、ヘッド走行方
向における各磁気ヘッド57,58の磁気ギャップg1
,g2 のトラック幅Tw1 ,Tw2 のセンター
間距離を指す。
8は、図8中矢印Xで示すヘッド走行方向に磁気テープ
89上のトラック間段差dと等しい段差GLを持って設
けられている。なお、ここに言うトラック間段差dは、
各記録トラック91,92の記録領域のヘッド走行方向
での端部間距離を指す。上記段差GLは、ヘッド走行方
向における各磁気ヘッド57,58の磁気ギャップg1
,g2 のトラック幅Tw1 ,Tw2 のセンター
間距離を指す。
【0061】ここでの段差GLは、画像信号の記録領域
の確保から選定され、例えば500μm以下に設定され
る。上記段差GLが500μm以上であると、画像信号
領域が狭くなり長時間再生に不利となる。逆に、近すぎ
ると対向する磁気コア部62,77のコア厚が薄くなり
、コア断面積の減少によりヘッド効率が低下する。した
がって、本例では上記段差GLを200μmとした。
の確保から選定され、例えば500μm以下に設定され
る。上記段差GLが500μm以上であると、画像信号
領域が狭くなり長時間再生に不利となる。逆に、近すぎ
ると対向する磁気コア部62,77のコア厚が薄くなり
、コア断面積の減少によりヘッド効率が低下する。した
がって、本例では上記段差GLを200μmとした。
【0062】このように構成されてなる複合型磁気ヘッ
ドにおいては、上記ヘッドベース56毎回転ドラムに取
付けられる。そして、上記回転ドラムが回転走査され、
当該回転ドラムの周面に沿って相対的に移送する磁気テ
ープ89上に上記複合型磁気ヘッドによって図10に示
す如く記録パターンが形成される。このとき、磁気ヘッ
ド57,58のヘッド走行方向での段差GLと磁気テー
プ89上のトラック間段差dとが等しくなるように、単
位時間当たりの磁気テープ89の移送量と磁気ヘッドの
回転数が定められる。
ドにおいては、上記ヘッドベース56毎回転ドラムに取
付けられる。そして、上記回転ドラムが回転走査され、
当該回転ドラムの周面に沿って相対的に移送する磁気テ
ープ89上に上記複合型磁気ヘッドによって図10に示
す如く記録パターンが形成される。このとき、磁気ヘッ
ド57,58のヘッド走行方向での段差GLと磁気テー
プ89上のトラック間段差dとが等しくなるように、単
位時間当たりの磁気テープ89の移送量と磁気ヘッドの
回転数が定められる。
【0063】上記複合型磁気ヘッドにより記録される磁
気テープ89上の記録トラック91,92は、上記一対
の磁気ヘッド57,58のヘッド走行方向での段差GL
と等しい段差dを持って記録されることになる。したが
って、上記各磁気ヘッド57,58は、それぞれの記録
トラック91,92の画像領域91a,92a又は音声
領域91b,92bの端部に同時に到達する。この結果
、音声信号を後で記録するアフターレコーディングを行
う場合には、他の信号に影響を与えることなく各信号の
アフターレコーディグが良好に行える。また、同一のヘ
ッドベース56上に一体化した2つの磁気ヘッド57,
58によって同時に記録再生を行うので、テープ幅8m
m以下とした磁気テープ89に対して記録密度1.25
μm2 /bit以上で記録再生しても、異常トラック
パターンによるビットエラーレートが高くなることなく
ディジタル画像信号の長時間記録再生が可能となる。
気テープ89上の記録トラック91,92は、上記一対
の磁気ヘッド57,58のヘッド走行方向での段差GL
と等しい段差dを持って記録されることになる。したが
って、上記各磁気ヘッド57,58は、それぞれの記録
トラック91,92の画像領域91a,92a又は音声
領域91b,92bの端部に同時に到達する。この結果
、音声信号を後で記録するアフターレコーディングを行
う場合には、他の信号に影響を与えることなく各信号の
アフターレコーディグが良好に行える。また、同一のヘ
ッドベース56上に一体化した2つの磁気ヘッド57,
58によって同時に記録再生を行うので、テープ幅8m
m以下とした磁気テープ89に対して記録密度1.25
μm2 /bit以上で記録再生しても、異常トラック
パターンによるビットエラーレートが高くなることなく
ディジタル画像信号の長時間記録再生が可能となる。
【0064】例えば、互いにアジマス角の異なる2つの
磁気ヘッドを回転ドラムに180度相対向して配置し、
同様にして記録密度1.25μm2 /bit以上で8
mm幅の磁気テープ89に対して記録再生した場合には
、回転ドラムの偏心等により、先行する磁気ヘッドによ
って記録されたトラックと、180度相対向して配置さ
れた後続の磁気ヘッドにより記録されたトラックとが一
部重なる異常トラックパターンが発生する。このため、
先行する磁気ヘッドによって記録された信号の一部が消
去され、十分な再生出力が得られずビットエラーレート
が非常に高くなってしまう。しかしながら、本実施例の
磁気ヘッドによれば、同一のヘッドベース56上に2つ
の磁気ヘッド57,58が配置されていることから、回
転ドラムの偏心等があってもこれら磁気ヘッド57,5
8で記録される記録トラック91,92は共に同一方向
に傾き、他方の記録トラックにオーバーラップするよう
なことがない。したがって、十分な再生出力が得られ、
ビットエラーレートが高くならない。
磁気ヘッドを回転ドラムに180度相対向して配置し、
同様にして記録密度1.25μm2 /bit以上で8
mm幅の磁気テープ89に対して記録再生した場合には
、回転ドラムの偏心等により、先行する磁気ヘッドによ
って記録されたトラックと、180度相対向して配置さ
れた後続の磁気ヘッドにより記録されたトラックとが一
部重なる異常トラックパターンが発生する。このため、
先行する磁気ヘッドによって記録された信号の一部が消
去され、十分な再生出力が得られずビットエラーレート
が非常に高くなってしまう。しかしながら、本実施例の
磁気ヘッドによれば、同一のヘッドベース56上に2つ
の磁気ヘッド57,58が配置されていることから、回
転ドラムの偏心等があってもこれら磁気ヘッド57,5
8で記録される記録トラック91,92は共に同一方向
に傾き、他方の記録トラックにオーバーラップするよう
なことがない。したがって、十分な再生出力が得られ、
ビットエラーレートが高くならない。
【0065】ここで、実際に本実施例の複合型磁気ヘッ
ドによって、テープ幅8mmの磁気テープに対して波長
0.3μmの信号を標準モード(SP)でトラックピッ
チ10μmとして記録再生した場合、記録時間は3時間
であった。同様に倍速モード(LP)でトラックピッチ
5μmとして記録再生した場合には、記録時間は6時間
であった。
ドによって、テープ幅8mmの磁気テープに対して波長
0.3μmの信号を標準モード(SP)でトラックピッ
チ10μmとして記録再生した場合、記録時間は3時間
であった。同様に倍速モード(LP)でトラックピッチ
5μmとして記録再生した場合には、記録時間は6時間
であった。
【0066】また、このとき、各磁気ヘッド57,58
の相互干渉(クロストーク)を測定したところ、図11
中線Aで示すように、相互干渉が極めて少なくなってい
ることがわかる。これに対して、良導体薄膜93,94
を設けていない場合(図11中線Bで示す。)は、相互
干渉が大きくなっていることがわかる。なお、図11は
、膜厚10μmのCu薄膜を良導体薄膜93,94とし
たときのデータである。
の相互干渉(クロストーク)を測定したところ、図11
中線Aで示すように、相互干渉が極めて少なくなってい
ることがわかる。これに対して、良導体薄膜93,94
を設けていない場合(図11中線Bで示す。)は、相互
干渉が大きくなっていることがわかる。なお、図11は
、膜厚10μmのCu薄膜を良導体薄膜93,94とし
たときのデータである。
【0067】以上、本実施例を適用した磁気ヘッドにお
ていは、両方の磁気ヘッド57,58の対向面に良導体
薄膜93,94を形成したが、何れか一方の磁気ヘッド
57,58に上記良導体薄膜93を設けるようにしても
同様の効果がある。また、漏洩磁束の遮蔽をより確実な
ものとするために、これら磁気ヘッド57,58に8の
字コイルを巻回するようにしてもよい。
ていは、両方の磁気ヘッド57,58の対向面に良導体
薄膜93,94を形成したが、何れか一方の磁気ヘッド
57,58に上記良導体薄膜93を設けるようにしても
同様の効果がある。また、漏洩磁束の遮蔽をより確実な
ものとするために、これら磁気ヘッド57,58に8の
字コイルを巻回するようにしてもよい。
【0068】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の複合型磁気ヘッドによれば、ヘッド走行方向に相対
向して近接配置した一対の磁気ヘッドの互いに対向する
対向面に他方の磁気ヘッドの磁気ギャップからの漏洩磁
束を遮蔽する良導体薄膜を設けているので、他方の磁気
ヘッドからの漏洩磁束をこの良導体薄膜によって確実に
遮蔽することができる。したがって、これら磁気ヘッド
の記録再生信号の相互干渉が減少でき、良好な記録再生
を行うことができる。
明の複合型磁気ヘッドによれば、ヘッド走行方向に相対
向して近接配置した一対の磁気ヘッドの互いに対向する
対向面に他方の磁気ヘッドの磁気ギャップからの漏洩磁
束を遮蔽する良導体薄膜を設けているので、他方の磁気
ヘッドからの漏洩磁束をこの良導体薄膜によって確実に
遮蔽することができる。したがって、これら磁気ヘッド
の記録再生信号の相互干渉が減少でき、良好な記録再生
を行うことができる。
【0069】また、本発明の複合型磁気ヘッドによれば
、同一のヘッドベース上に2つの磁気ヘッドが配置され
ているため、回転ドラムの偏心等があってもこれら磁気
ヘッドで記録される記録トラックは共に同一方向に傾く
ため、他方の記録トラックにオーバーラップするような
ことがなく、十分な再生出力が得られ、ビットエラーレ
ートが高くならない。
、同一のヘッドベース上に2つの磁気ヘッドが配置され
ているため、回転ドラムの偏心等があってもこれら磁気
ヘッドで記録される記録トラックは共に同一方向に傾く
ため、他方の記録トラックにオーバーラップするような
ことがなく、十分な再生出力が得られ、ビットエラーレ
ートが高くならない。
【0070】さらに本発明によれば、記録情報量を再生
歪みの少ない形で圧縮する方法を採用し、同一のヘッド
ベース上に設けた一対の磁気ヘッドで同時に記録再生す
るようにしているので、トラック幅10μm以下として
短波長0.5μmで1.25μm2 /bit以上の高
記録密度を持ってテープ幅8μm以下の幅狭の磁気テー
プに記録再生した場合でも、ビットエラーレートの少な
い形でディジタル画像信号の長時間記録再生が可能とな
る。
歪みの少ない形で圧縮する方法を採用し、同一のヘッド
ベース上に設けた一対の磁気ヘッドで同時に記録再生す
るようにしているので、トラック幅10μm以下として
短波長0.5μmで1.25μm2 /bit以上の高
記録密度を持ってテープ幅8μm以下の幅狭の磁気テー
プに記録再生した場合でも、ビットエラーレートの少な
い形でディジタル画像信号の長時間記録再生が可能とな
る。
【図1】ディジタル画像情報を再生歪みの少ない形で圧
縮する信号処理部の記録側の構成を示すブロック図であ
る。
縮する信号処理部の記録側の構成を示すブロック図であ
る。
【図2】ディジタル画像情報を再生歪みの少ない形で圧
縮する信号処理部の再生側の構成を示すブロック図であ
る。
縮する信号処理部の再生側の構成を示すブロック図であ
る。
【図3】ブロック符号化のためのブロックの一例を示す
線図である。
線図である。
【図4】サブサンプリング及びサブラインの説明に用い
る線図である。
る線図である。
【図5】ブロック符号化回路の一例のブロック図である
。
。
【図6】チャンネルエンコーダの一例の概略を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図7】チャンネルデコーダの一例の概略を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図8】本発明を適用した複合型磁気ヘッドを対接面側
より見た要部拡大正面図である。
より見た要部拡大正面図である。
【図9】本発明を適用した複合型磁気ヘッドの側面図で
ある。
ある。
【図10】本発明を適用した複合型磁気ヘッドによって
ディジタル画像情報と音声信号が記録された磁気テープ
のテープフォーマットを示す図である。
ディジタル画像情報と音声信号が記録された磁気テープ
のテープフォーマットを示す図である。
【図11】本発明を適用した複合型磁気ヘッドによって
磁気テープに対して記録再生したときの相互干渉の様子
を示す特性図である。
磁気テープに対して記録再生したときの相互干渉の様子
を示す特性図である。
【図12】従来の複合型磁気ヘッドを対接面側より見た
要部拡大正面図である。
要部拡大正面図である。
【図13】従来の複合型磁気ヘッドによって磁気テープ
に記録再生する様子を示す図である。
に記録再生する様子を示す図である。
57,58・・・磁気ヘッド
61・・・第1の磁気コア半体
64・・・第2の磁気コア半体
76・・・第3の磁気コア半体
79・・・第4の磁気コア半体
60,63,75,78・・・強磁性金属薄膜93,9
4・・・良導体薄膜
4・・・良導体薄膜
Claims (1)
- 【請求項1】 互いに異なるアジマス角を有する磁気
ギャップを有した一対の磁気ヘッドをヘッド走行方向に
相対向して近接配置してなる複合型磁気ヘッドにおいて
、これら磁気ヘッドの互いに対向する対向面の少なくと
も一方に他方の磁気ヘッドの磁気ギャップからの漏洩磁
束を遮蔽する良導体薄膜が形成されていることを特徴と
する複合型磁気ヘッド。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12303291A JPH04328308A (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 複合型磁気ヘッド及びその製造方法 |
| EP96104172A EP0725387B1 (en) | 1991-04-19 | 1992-04-16 | Magnetic head producing method |
| DE69226883T DE69226883T2 (de) | 1991-04-19 | 1992-04-16 | Magnetkopfherstellungsverfahren |
| EP92106694A EP0509539A2 (en) | 1991-04-19 | 1992-04-16 | Composite magnetic head |
| US08/263,252 US6014291A (en) | 1991-04-19 | 1994-06-21 | Composite magnetic head having thin conductor film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12303291A JPH04328308A (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 複合型磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04328308A true JPH04328308A (ja) | 1992-11-17 |
Family
ID=14850531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12303291A Pending JPH04328308A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-26 | 複合型磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04328308A (ja) |
-
1991
- 1991-04-26 JP JP12303291A patent/JPH04328308A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010417 |