JPH0432832B2 - - Google Patents
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- JPH0432832B2 JPH0432832B2 JP1145384A JP1145384A JPH0432832B2 JP H0432832 B2 JPH0432832 B2 JP H0432832B2 JP 1145384 A JP1145384 A JP 1145384A JP 1145384 A JP1145384 A JP 1145384A JP H0432832 B2 JPH0432832 B2 JP H0432832B2
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【発明の詳細な説明】
本発明は分子内の対称性を有する酸無水物を不
斉還元し、光学活性なラクトンを得る方法に関す
る。
斉還元し、光学活性なラクトンを得る方法に関す
る。
更に詳しくは式（Ｉ）
で示されるシス−酸無水物を、一般式
（式中、R1は、水素原子、低級アルキル基あ
るいは、ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは
低級アルコキシ基で置換されていてもよいベンジ
ル基またはフエニル基を示し、R2およびR3は同
一または相異なり、水素原子または低級アルキル
基を示し、R4およびR5は同一または相異なり、
水素原子、低級アルキル基または、ハロゲン原
子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で
置換されていてもよいフエニル基を示し、＊印は
不斉炭素を表わす。） で示される光学活性なアミノアルコールまたは一
般式 （式中、R'はハロゲン原子、低級アルキル基
もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよ
いベンジル基を示す。） で示される光学活性なジオール；とボロン系化合
物またはアルミニウム系化合物とを反応させて得
られる化合物を用い不斉還元を行なうことを特徴
とする式（Ｉ） で示される光学活性なラクトン体の製造方法に関
する。
るいは、ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは
低級アルコキシ基で置換されていてもよいベンジ
ル基またはフエニル基を示し、R2およびR3は同
一または相異なり、水素原子または低級アルキル
基を示し、R4およびR5は同一または相異なり、
水素原子、低級アルキル基または、ハロゲン原
子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で
置換されていてもよいフエニル基を示し、＊印は
不斉炭素を表わす。） で示される光学活性なアミノアルコールまたは一
般式 （式中、R'はハロゲン原子、低級アルキル基
もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよ
いベンジル基を示す。） で示される光学活性なジオール；とボロン系化合
物またはアルミニウム系化合物とを反応させて得
られる化合物を用い不斉還元を行なうことを特徴
とする式（Ｉ） で示される光学活性なラクトン体の製造方法に関
する。
本発明方法により得ることができる光学活性な
ラクトン（）は光学活性なビチオン等の合成中
間体として有用なものである（特開昭58−128376
号公報、特開昭58−192886号公報） 従来、光学活性なラクトン体（）の製造方法
としては特公昭49−3255号公報（Ａ法）、特公昭
53−35076号公報（Ｂ法）および特開昭58−
128376号公報、特開昭58−128386号公報、特開昭
58−192886号公報、特開昭58−201785号公法（Ｃ
法）に記載の方法が知られている。
ラクトン（）は光学活性なビチオン等の合成中
間体として有用なものである（特開昭58−128376
号公報、特開昭58−192886号公報） 従来、光学活性なラクトン体（）の製造方法
としては特公昭49−3255号公報（Ａ法）、特公昭
53−35076号公報（Ｂ法）および特開昭58−
128376号公報、特開昭58−128386号公報、特開昭
58−192886号公報、特開昭58−201785号公法（Ｃ
法）に記載の方法が知られている。
Ａ法においては（±）−シス−１，３−ジベン
ジル−５−（3′−コレステリルオキシカルボニル）
−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸を
トリエチルアミンとの塩として光学分割するとい
う方法により、光学活性なコレステリル半エステ
ルを得て、これを水素化ホウ素リチウムにて還元
し、ラクトン体（）を得る方法もしくは（±）
−シス−１，３−ジベンジル−５−シクロヘキシ
ルオキシカルボニル−２−オキソイミダゾリジン
−４−カルボン酸をエフエドリンとの塩として光
学分割し、光学活性なシクロヘキシル半エステル
を得て、これを水素化ホウ素リチウムにて還元
し、ラクトン体（）を得る方法であるが、エフ
エドリン、コレステロールの如き高価な光学活性
化合物を使用しなければならず、かつラクトン体
（）の収率は低収率である。
ジル−５−（3′−コレステリルオキシカルボニル）
−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸を
トリエチルアミンとの塩として光学分割するとい
う方法により、光学活性なコレステリル半エステ
ルを得て、これを水素化ホウ素リチウムにて還元
し、ラクトン体（）を得る方法もしくは（±）
−シス−１，３−ジベンジル−５−シクロヘキシ
ルオキシカルボニル−２−オキソイミダゾリジン
−４−カルボン酸をエフエドリンとの塩として光
学分割し、光学活性なシクロヘキシル半エステル
を得て、これを水素化ホウ素リチウムにて還元
し、ラクトン体（）を得る方法であるが、エフ
エドリン、コレステロールの如き高価な光学活性
化合物を使用しなければならず、かつラクトン体
（）の収率は低収率である。
Ｂ法についてはシス−１，３−ジベンジル−２
−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸
と光学活性な有機第１級アミンより脱水して得ら
れたシス−１，３−ジベンジルヘキサヒドロピロ
ロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４，６−ト
リオン誘導体を水素化ホウ素ナトリウム等にて不
斉還元し、次いで加水分解する事により、ラクト
ン（）を得る方法である。
−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸
と光学活性な有機第１級アミンより脱水して得ら
れたシス−１，３−ジベンジルヘキサヒドロピロ
ロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４，６−ト
リオン誘導体を水素化ホウ素ナトリウム等にて不
斉還元し、次いで加水分解する事により、ラクト
ン（）を得る方法である。
Ｃ法は、シス−１，３−ジベンジル−２−オキ
ソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸ジ低級
アルキルエステルを菌又は酵素により不斉加水分
解する事により得られる光学活性な、シス−１，
３−ジベンジル−２−オキソイミダゾリジン−５
−低級アルコオキシカルボニル−４−カルボン酸
（ハーフエステル体と略称する）を用いるか、あ
るいはラセミ−ハーフエステル体を優先晶出によ
り光学分割することにより得られる光学活性ハー
フエステル体を用い、ボロン系還元剤によりエス
テル部分あるいはカルボン酸部分を選択的に還元
し光学活性ラクトン（）とする方法である。
ソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸ジ低級
アルキルエステルを菌又は酵素により不斉加水分
解する事により得られる光学活性な、シス−１，
３−ジベンジル−２−オキソイミダゾリジン−５
−低級アルコオキシカルボニル−４−カルボン酸
（ハーフエステル体と略称する）を用いるか、あ
るいはラセミ−ハーフエステル体を優先晶出によ
り光学分割することにより得られる光学活性ハー
フエステル体を用い、ボロン系還元剤によりエス
テル部分あるいはカルボン酸部分を選択的に還元
し光学活性ラクトン（）とする方法である。
本発明者らはさらに一層経済的な光学活性ラク
トン（）の製造方法を鋭意検討し、分子内対称
性を有する酸無水物を不斉還元することにより、
光学活性なラクトン（）を得ることができると
いう本発明方法を見出し本発明方法を完成するに
致つた。
トン（）の製造方法を鋭意検討し、分子内対称
性を有する酸無水物を不斉還元することにより、
光学活性なラクトン（）を得ることができると
いう本発明方法を見出し本発明方法を完成するに
致つた。
分子内に対称性を有する酸無水物を不斉還元し
光学活性なラクトンを得るという方法は今まで全
く知られていなかつた方法であり、本発明者らに
より初めて見出されたものである。
光学活性なラクトンを得るという方法は今まで全
く知られていなかつた方法であり、本発明者らに
より初めて見出されたものである。
本発明方法によればキラルなアルコール体又は
キラルなアミン体で修飾した還元剤を用いること
により、光学活性ラクトン体（）を得ることが
でき、かつこのキラルなアルコール体又はキラル
なアミン体のキラリテイーを変えることで任意の
配位を有する光学活性ラクトン体（）を得るこ
とができる。
キラルなアミン体で修飾した還元剤を用いること
により、光学活性ラクトン体（）を得ることが
でき、かつこのキラルなアルコール体又はキラル
なアミン体のキラリテイーを変えることで任意の
配位を有する光学活性ラクトン体（）を得るこ
とができる。
本発明方法におけるキラルなアルコール又はア
ミンとして、例えばメントール、ボルネオール、
１−フエニルエタン−１−オール、１−（１−ナ
フチル）エタン−１−オール、１−（２−ナフチ
ル）エタン−１−オール、１−フエニルプロパン
−１−オール、１−フエニルプロパン−２−オー
ル、１−フエニルブタン−２−オール、１，２：
５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−グルコ
フラノース、１，２：５，６−ジ−Ｏ−シクロヘ
キシリデン−α−グルコフラノース、２，2′−ジ
ヒドロキシ−１，1′−ビナフチル、コレステロー
ル、キニン、キニジン、シンコニジン、シンコニ
ン、エフエドリン、Ｎ−メチルエフエドリン、ノ
ルエフエドリン、α−フエニルエチルアミン、α
−（１−ナフチル）エチルアミン、α−（２−ナフ
チル）エチルアミン、２−アミノブタン−１−オ
ール、２−アミノ−３−フエニルプロパン−１−
オール、２−アミノ−２−フエニルエタン−１−
オール、２−アミノ−３−メチルペンタン−１−
オール、２−アミノ−３−メチルチオプロパン−
１−オール、２−アミノ−４−メチルペンタン−
１−オール、２−アミノ−３−ベンジルチオプロ
パン−１−オール、２−アミノ−３−〔（ｐ−ベン
ジルオキシ）フエニル〕プロパン−１−オール、
２−（Ｎ−フエニルアミノメチル）ピロリジン−
２−アミノ−１、１−ジフエニルプロパン−１−
オール、２−アミノ−４−メチル−１，１−ジフ
エニルペンタン−１−オール、２−アミノ−１，
１，３−トリフエニルプロパン−１−オール、
１，４−ビス（ｐ−クロルベンジルオキシ）−ブ
タン−１，２−ジオール、等を挙げることができ
る。キラルなアルコール又はキラルなアミンとボ
ロン系還元剤又はアルミニウム系還元剤にて修飾
還元剤を調製するが、この時用いるボロン系還元
剤としてはナトリウムボロンハイドライド、リチ
ウムボロンハイドライド、ジボラン等を挙げるこ
とができ、アルミニユウム系還元剤としてはリチ
ウムアルミニユウムハイドライド、アルミニユウ
ムトリハイドライド等を挙げることができる。
ミンとして、例えばメントール、ボルネオール、
１−フエニルエタン−１−オール、１−（１−ナ
フチル）エタン−１−オール、１−（２−ナフチ
ル）エタン−１−オール、１−フエニルプロパン
−１−オール、１−フエニルプロパン−２−オー
ル、１−フエニルブタン−２−オール、１，２：
５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−グルコ
フラノース、１，２：５，６−ジ−Ｏ−シクロヘ
キシリデン−α−グルコフラノース、２，2′−ジ
ヒドロキシ−１，1′−ビナフチル、コレステロー
ル、キニン、キニジン、シンコニジン、シンコニ
ン、エフエドリン、Ｎ−メチルエフエドリン、ノ
ルエフエドリン、α−フエニルエチルアミン、α
−（１−ナフチル）エチルアミン、α−（２−ナフ
チル）エチルアミン、２−アミノブタン−１−オ
ール、２−アミノ−３−フエニルプロパン−１−
オール、２−アミノ−２−フエニルエタン−１−
オール、２−アミノ−３−メチルペンタン−１−
オール、２−アミノ−３−メチルチオプロパン−
１−オール、２−アミノ−４−メチルペンタン−
１−オール、２−アミノ−３−ベンジルチオプロ
パン−１−オール、２−アミノ−３−〔（ｐ−ベン
ジルオキシ）フエニル〕プロパン−１−オール、
２−（Ｎ−フエニルアミノメチル）ピロリジン−
２−アミノ−１、１−ジフエニルプロパン−１−
オール、２−アミノ−４−メチル−１，１−ジフ
エニルペンタン−１−オール、２−アミノ−１，
１，３−トリフエニルプロパン−１−オール、
１，４−ビス（ｐ−クロルベンジルオキシ）−ブ
タン−１，２−ジオール、等を挙げることができ
る。キラルなアルコール又はキラルなアミンとボ
ロン系還元剤又はアルミニウム系還元剤にて修飾
還元剤を調製するが、この時用いるボロン系還元
剤としてはナトリウムボロンハイドライド、リチ
ウムボロンハイドライド、ジボラン等を挙げるこ
とができ、アルミニユウム系還元剤としてはリチ
ウムアルミニユウムハイドライド、アルミニユウ
ムトリハイドライド等を挙げることができる。
修飾還元剤は、例えばJ.Chem.Soc.Perkin
Trans.I 1673（1983）、Bull.Chem.Soc.Jap.，54
1424〜1428（1981）、Chem.Letters 981〜984
（1980）、Tetrahedron 35，2797（1979）等に記載
の方法や下記実施例に記載の方法により調製する
ことができる。
Trans.I 1673（1983）、Bull.Chem.Soc.Jap.，54
1424〜1428（1981）、Chem.Letters 981〜984
（1980）、Tetrahedron 35，2797（1979）等に記載
の方法や下記実施例に記載の方法により調製する
ことができる。
以下に本発明方法を具体的に説明する。
上記に従つて調製したキラルなアルコール体又
はキラルなアミン体により修飾された修飾還元剤
とシス−酸無水物（Ｉ）とをトルエン、ベンゼン
等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロルメタン、ジ
クロロエタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒中、−
80〜50℃の反応温度にて反応させることにより光
学活性なラクトーン体（）を得ることができ
る。
はキラルなアミン体により修飾された修飾還元剤
とシス−酸無水物（Ｉ）とをトルエン、ベンゼン
等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロルメタン、ジ
クロロエタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒中、−
80〜50℃の反応温度にて反応させることにより光
学活性なラクトーン体（）を得ることができ
る。
修飾還元剤は、シス−酸無水物（Ｉ）に対し１
〜10倍モル使用すれば良い。
〜10倍モル使用すれば良い。
以下に実施例を挙げ本発明方法を具体的に説明
するが本発明はもとよりこれに限定されるもので
はない。
するが本発明はもとよりこれに限定されるもので
はない。
（実施例１）
(s)−２−アミノ−１，１−ジフエニルプロパン
−１−オール・塩酸塩790mg、１，２−ジクロル
エタン20mlの懸濁液に０〜５℃で水素化ホウ素ナ
トリウム110mg、ジメチルホルムアミド３mlの溶
液を滴下した。滴下後20−25℃で１時間攪拌し
た。この反応液にシス−１，３−ジベンジル−２
−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸
無水物340mg、１，２−ジクロルエタン10mlの懸
濁液を加え、20−25℃で２時間攪拌した。これに
1N−HCl30mlを滴下し、滴下後50−60℃で２時
間攪拌した。反応液に酢酸エチル100mlを加え、
抽出・分液した。有機層を水洗浄後減圧濃縮し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー（溶出溶媒：ベンゼン：酢酸エチル＝１：
１）で精製し、（4aS，6aR）−１，３−ジベンジ
ルヘキサヒドロ−1H−フロ〔３，４−ｄ〕イミ
ダゾール−２，４−ジオン120mgを得た。〔α〕25 D
＋29.1°（ｃ＝1.0、クロロホルム） m.p. 107〜109℃ （実施例２） (s)−２−アミノ−４−メチル−１，１−ジフエ
ニルペンタン−１−オール・塩酸塩920mg、１，
２−ジクロルエタン20mlの懸濁液に０〜５℃で水
素化ホウ素ナトリウム110mg、ジメチルホルムア
ミド３mlの溶液を滴下した。滴下後20−25℃で１
時間攪拌した。この反応液にシス−１，３−ジベ
ンジル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジ
カルボン酸無水物340mg、１，２−ジクロルエタ
ン10mlの懸濁液を加え、20−25℃で５時間攪拌し
た。これに1N−HCl10ml、メタノール10mlを加
え、50℃で１時間攪拌後減圧濃縮した。残渣に酢
酸エチル100ml、水50mlを加え、抽出・分液した。
有機層を水洗浄後減圧濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出溶媒：
ベンゼン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、
（4aS，6aR）−１，３−ジベンジルヘキサヒドロ
−1H−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，
４−ジオン126mgを得た。
−１−オール・塩酸塩790mg、１，２−ジクロル
エタン20mlの懸濁液に０〜５℃で水素化ホウ素ナ
トリウム110mg、ジメチルホルムアミド３mlの溶
液を滴下した。滴下後20−25℃で１時間攪拌し
た。この反応液にシス−１，３−ジベンジル−２
−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸
無水物340mg、１，２−ジクロルエタン10mlの懸
濁液を加え、20−25℃で２時間攪拌した。これに
1N−HCl30mlを滴下し、滴下後50−60℃で２時
間攪拌した。反応液に酢酸エチル100mlを加え、
抽出・分液した。有機層を水洗浄後減圧濃縮し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー（溶出溶媒：ベンゼン：酢酸エチル＝１：
１）で精製し、（4aS，6aR）−１，３−ジベンジ
ルヘキサヒドロ−1H−フロ〔３，４−ｄ〕イミ
ダゾール−２，４−ジオン120mgを得た。〔α〕25 D
＋29.1°（ｃ＝1.0、クロロホルム） m.p. 107〜109℃ （実施例２） (s)−２−アミノ−４−メチル−１，１−ジフエ
ニルペンタン−１−オール・塩酸塩920mg、１，
２−ジクロルエタン20mlの懸濁液に０〜５℃で水
素化ホウ素ナトリウム110mg、ジメチルホルムア
ミド３mlの溶液を滴下した。滴下後20−25℃で１
時間攪拌した。この反応液にシス−１，３−ジベ
ンジル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジ
カルボン酸無水物340mg、１，２−ジクロルエタ
ン10mlの懸濁液を加え、20−25℃で５時間攪拌し
た。これに1N−HCl10ml、メタノール10mlを加
え、50℃で１時間攪拌後減圧濃縮した。残渣に酢
酸エチル100ml、水50mlを加え、抽出・分液した。
有機層を水洗浄後減圧濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー（溶出溶媒：
ベンゼン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、
（4aS，6aR）−１，３−ジベンジルヘキサヒドロ
−1H−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，
４−ジオン126mgを得た。
〔α〕25 D＋18.0°（ｃ＝1.0、クロロホルム）
m.p. 107〜108℃
（実施例３）
（Ｒ）−２−アミノ−１，１，３−トリフエニ
ルプロパン−１−オール・塩酸塩510mg、１，２
−ジクロルエタン10mlの懸濁液に０〜５℃で水素
化ホウ素ナトリウム55mg、ジメチルホルムアミド
1.5mlの溶液を滴下した。滴下後20−25℃で１時
間攪拌した。この反応液にシス−１，３−ジベン
ジル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカ
ルボン酸無水物170mg、１，２−ジクロルエタン
４mlの懸濁液を加え、20−25℃で５時間攪拌し
た。
ルプロパン−１−オール・塩酸塩510mg、１，２
−ジクロルエタン10mlの懸濁液に０〜５℃で水素
化ホウ素ナトリウム55mg、ジメチルホルムアミド
1.5mlの溶液を滴下した。滴下後20−25℃で１時
間攪拌した。この反応液にシス−１，３−ジベン
ジル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカ
ルボン酸無水物170mg、１，２−ジクロルエタン
４mlの懸濁液を加え、20−25℃で５時間攪拌し
た。
その後実施例２と同様に処理し、（4aR，6aS）
−１，３−ジベンジルヘキサヒドロ−1H−フロ
〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオン50
mgを得た。
−１，３−ジベンジルヘキサヒドロ−1H−フロ
〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオン50
mgを得た。
〔α〕25 D−20.1°（ｃ＝1.0、クロロホルム）
107〜108℃
（実施例４）
水素化リチウムアルミニウム92mg、エーテル10
mlの懸濁液に10〜15℃でｌ−Ｎ−メチルエフエド
リン430mg、エーテル12mlの溶液を滴下した。滴
下後１時間還流した。この反応液に10〜15℃でＮ
−エチルアニリン580mg、エーテル５mlの溶液を
滴下したのち、１時間還流した。この反応液を−
70℃に冷却し、シス−１，３−ジベンジル−２−
オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸無
水物170mg、エーテル10mlの懸濁液を滴下し、−70
℃で３時間、−30〜−35℃で１時間、−10〜０℃で
１時間攪拌したのち、1N−HCl30mlを滴下した。
反応液に水20ml、酢酸エチル50mlを加え、抽出・
分液した。有機層を水洗後、減圧濃縮しシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー（溶出溶媒：ベンゼ
ン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、（4aR，
6aS）−１，３−ジベンジルヘキサヒドロ−1H−
フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオ
ン31.5mgを得た。
mlの懸濁液に10〜15℃でｌ−Ｎ−メチルエフエド
リン430mg、エーテル12mlの溶液を滴下した。滴
下後１時間還流した。この反応液に10〜15℃でＮ
−エチルアニリン580mg、エーテル５mlの溶液を
滴下したのち、１時間還流した。この反応液を−
70℃に冷却し、シス−１，３−ジベンジル−２−
オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸無
水物170mg、エーテル10mlの懸濁液を滴下し、−70
℃で３時間、−30〜−35℃で１時間、−10〜０℃で
１時間攪拌したのち、1N−HCl30mlを滴下した。
反応液に水20ml、酢酸エチル50mlを加え、抽出・
分液した。有機層を水洗後、減圧濃縮しシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー（溶出溶媒：ベンゼ
ン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、（4aR，
6aS）−１，３−ジベンジルヘキサヒドロ−1H−
フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオ
ン31.5mgを得た。
〔α〕25 D −31.8°（ｃ＝1.0、クロロホルム）
m.p. 107〜108℃
（実施例５）
水素化リチウムアルミニウム92mg、エーテル10
mlの懸濁液に０〜５℃でＤ（−）−１，４−ビス
（ｐ−クロルベンジルオキシ）−ブタン−１，２−
ジオール890mg、エーテル10mlの懸濁液を滴下し
た。滴下後１時間還流した。この反応液に10−15
℃でＮ−エチルアニリン290mg、エーテル2.5mlの
溶液を滴下したのち、１時間還流した。この反応
液を−60℃に冷却し、シス−１，３−ジベンジル
−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボ
ン酸無水物170mg、エーテル10mlの懸濁液を滴下
し、−55〜−60℃で２時間、−30〜−35℃で３時間
攪拌したのち、1N−HCl30mlを滴下した。以下
実施例４と同様に処理し、（4aS，6aR）−１，３
−ジベンジルヘキサヒドロ−1H−フロ〔３，４
−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオン41.3mgを得
た。
mlの懸濁液に０〜５℃でＤ（−）−１，４−ビス
（ｐ−クロルベンジルオキシ）−ブタン−１，２−
ジオール890mg、エーテル10mlの懸濁液を滴下し
た。滴下後１時間還流した。この反応液に10−15
℃でＮ−エチルアニリン290mg、エーテル2.5mlの
溶液を滴下したのち、１時間還流した。この反応
液を−60℃に冷却し、シス−１，３−ジベンジル
−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボ
ン酸無水物170mg、エーテル10mlの懸濁液を滴下
し、−55〜−60℃で２時間、−30〜−35℃で３時間
攪拌したのち、1N−HCl30mlを滴下した。以下
実施例４と同様に処理し、（4aS，6aR）−１，３
−ジベンジルヘキサヒドロ−1H−フロ〔３，４
−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオン41.3mgを得
た。
〔α〕25 D ＋4.3°（ｃ＝1.0、クロロホルム）
m.p. 105〜107℃であつた。
（実施例６）
ｄ−ノルフエドリン・塩酸塩560mg、１，２−
ジクロルエタン20mlの懸濁液に水素化ホウ素ナト
リウム110mg、ジメチルホルムアミド３mlの溶液
を０〜５℃で滴下した。滴下後20〜25℃で１時間
攪拌した。この反応液にシス−１，３−ジベンジ
ル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカル
ボン酸無水物340mg、１，２−ジクロルエタン10
mlの懸濁液を加え、20〜25℃で18時間攪拌した。
ジクロルエタン20mlの懸濁液に水素化ホウ素ナト
リウム110mg、ジメチルホルムアミド３mlの溶液
を０〜５℃で滴下した。滴下後20〜25℃で１時間
攪拌した。この反応液にシス−１，３−ジベンジ
ル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカル
ボン酸無水物340mg、１，２−ジクロルエタン10
mlの懸濁液を加え、20〜25℃で18時間攪拌した。
その後実施例１と同様に処理し、（4aR，6aS）
−１，３−ジベンジルヘキサヒドロ−1H−フロ
〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオン52
mgを得た。
−１，３−ジベンジルヘキサヒドロ−1H−フロ
〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオン52
mgを得た。
〔α〕25 D −7.5°（ｃ＝1.0、クロロホルム）
m.p. 105−108℃ であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 で示されるシス−酸無水物を、一般式 （式中、R1は、水素原子、低級アルキル基あ
るいは、ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは
低級アルコキシ基で置換されていてもよいベンジ
ル基またはフエニル基を示し、R2およびR3は同
一または相異なり、水素原子または低級アルキル
基を示し、R4およびR5は同一または相異なり、
水素原子、低級アルキル基または、ハロゲン原
子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で
置換されていてもよいフエニル基を示し、＊印は
不斉炭素を表わす。） で示される光学活性なアミノアルコールまたは一
般式 （式中、R'はハロゲン原子、低級アルキル基
もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよ
いベンジル基を示す。） で示される光学活性なジオール；とボロン系化合
物またはアルミニウム系化合物とを反応させて得
られる化合物を用い不斉還元を行なうことを特徴
とする。 式 で示される光学活性なラクトンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1145384A JPS60156691A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | 酸無水物の不斉還元方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1145384A JPS60156691A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | 酸無水物の不斉還元方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60156691A JPS60156691A (ja) | 1985-08-16 |
| JPH0432832B2 true JPH0432832B2 (ja) | 1992-06-01 |
Family
ID=11778512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1145384A Granted JPS60156691A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | 酸無水物の不斉還元方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60156691A (ja) |
-
1984
- 1984-01-25 JP JP1145384A patent/JPS60156691A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60156691A (ja) | 1985-08-16 |
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