JPH04328748A - 感光性複写材料およびその処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は感光性複写材料およびそ
の処理方法に関するものであり、特に現像液の使用量が
少なく環境保全に適した感光性複写材料の処理方法に関
するものである。

【０００２】

【従来技術およびその問題点】ｏ−キノンジアジド化合
物を感光性成分として含む感光性複写材料として、感光
性平版印刷版、感光性レジスト材料および感光性プルー
フ材料などが知られている。中でも、従来より広く使用
されているポジ型感光性平版印刷版は、支持体としての
アルミニウム板上にｏ−キノンジアジド化合物からなる
感光層を設けたものである。ｏ−キノンジアジド化合物
は紫外線露光によりカルボン酸に変化することが知られ
ており、従って、これをアルカリ水溶液で現像すると当
該感光層の露光部のみが除去されて支持体表面が露出す
る。アルミニウム支持体の表面は親水性なので現像で支
持体の表面が露出された部分（非画像部）は水を保持し
て油性インキを反発する。一方、現像によって感光層の
除去されなかった領域（画像部）は、親油性なので水を
反発し、インキを受け付ける。

【０００３】かかるポジ型感光性平版印刷版の現像液と
して使用されるアルカリ水溶液は、種々のものが知られ
ているが、最も好ましいものはケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム等のケイ酸塩の水溶液である。その理由はケ
イ酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ２とアルカリ金属
酸化物Ｍ２Ｏ　の比率（一般に〔ＳｉＯ２〕／〔Ｍ２Ｏ
　〕のモル比で表す）と濃度によってある程度現像性の
調節が可能とされるためである。

【０００４】これらのケイ酸塩は上述のポジ型感光性平
版印刷版だけでなく、特公昭５６−１４９７０号公報記
載のｏ−キノンジアジド感光層を用いた反転型ネガ型感
光性平版印刷版およびジメチルマレイミド基を側鎖に含
む樹脂を光架橋剤とする感光層を用いたネガ型感光性平
版印刷版の現像液としても好ましく用いられている。上
述のように、これらの感光性複写材料の通常の現像は、
非画像部に当たる感光層を現像液で溶出して支持体を露
出することからなっている。従って、現像液中に溶出し
た感光層成分の濃度は徐々に高くなり、その結果、カス
・ヘドロの発生や現像液の処理能力（溶出能力）の低下
をきたすようになる。

【０００５】また、近年、製版・印刷業界では製版作業
の合理化および標準化のため、感光性平版印刷版用の自
動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一
般に感光性平版印刷版を搬送する装置と、現像液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの感光性平版印刷版
を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた現像液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。 また、最近は現像液が満たされた現像処理槽中に液中ガ
イドロールなどによって感光性平版印刷版を浸漬搬送さ
せて現像処理する方法も知られている。

【０００６】かかる自動現像機を用いて、ポジ型感光性
平版印刷版を現像する方法においても、より多量の感光
性平版印刷版を処理すると、現像タンクの底に、不溶性
のカス・ヘドロが生じ、更には、スプレーパイプ、ノズ
ルが詰まるなどの問題があった。これらの欠点を改良す
るための技術として、特開昭５４−６２００４号および
特公昭５７−７４２７号公報に開示されているように現
像補充液により処理能力を維持し、且つ、カス・ヘドロ
の発生を抑制する技術がある。これによって、不溶物の
発生は削減できたが、廃液が多く排出されるという欠点
があった。この欠点を改良するための技術として、特開
平２−３０６５号公報に開示されている技術があるが、
ランニングコストや廃液量の削減になお強い要求がある
。特に地球規模で環境保全が論議される今日、産業廃棄
物の低減はより求められる状況にある。

【０００７】これとは別に特公昭５４−２１０８９号に
は、ｏ−キノンジアジド化合物からなる感光層の上に現
像液に難溶性の有機被覆層を設けた多層型の感光性複写
材料が開示されている。このような感光性複写材料は現
像液に溶出する成分が少なく、従って、処理による現像
液の疲労が少なく好ましい。しかしながら、このような
感光層と有用な有機被覆層用高分子化合物とはその溶剤
を共通にするものが多く、有機被覆層に用いる高分子化
合物としては、感光層成分が貧溶媒とする有機溶剤に溶
解する一部の高分子化合物に限られていた。更に、現像
液中で掻き取られた有機被覆層の膨潤したカスが複写材
料の上に再付着したり、現像液中に堆積し、長期間の安
定処理は不可能であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、産業廃棄物を減らせることのできる改良された感光
性複写材料および処理方法を提供することである。本発
明の別の目的は、長期間、多量の感光性複写材料を処理
しても不溶物が生成せず、安定して処理することのでき
る改良された感光性複写材料および処理方法を提供する
ことである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、現像液への感光層の
溶出を極少にできる感光性複写材料および処理方法を見
いだし本発明を成すに至ったものである。即ち本発明は
、支持体上に、順に、■活性光線の照射によりアルカリ
水溶解性が増大する感光性の第１有機被覆層、および■
皮膜形成能を有し、水不溶性の高分子化合物を含む第２
有機被覆層を有する感光性複写材料において、該第２有
機被覆層が高分子化合物のエマルジョンを塗布、乾燥す
ることにより形成されたものであることを特徴とする感
光性複写材料を提供するものである。本発明はまた、こ
の感光性複写材料を画像露光した後、第２有機被覆層に
は浸透するが、これを溶解しない現像液に浸漬する工程
および続く水洗工程により、非画像部の第１および第２
有機被覆層を除去することを特徴とする感光性複写材料
の処理方法を提供するものである。

【００１０】以下、本発明を詳しく説明する。 支持体 本発明の感光性複写材料に使用される支持体は、寸度的
に安定な板状物である。かかる支持体としては、紙、プ
ラスチックス（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、例えば、
アルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、
銅などの金属板、例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなど
のプラスチックフィルム、上記の金属をラミネート、も
しくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムおよ
びガラス板などが用いられるが、特に感光性複写材料が
感光性印刷版である場合はアルミニウム板が好ましい。

【００１１】本発明の一例としての感光性平版印刷版は
、基本的には支持体としてアルミニウム板が用いられる
。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板およびア
ルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板で
あり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着され
たプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に
含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン
などがある。合金中の異元素の含有量は高々１０重量％
以下である。本発明に好適なアルミニウムは、純アルミ
ニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精練技術
上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するもの
でもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム
板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公
知公用の素材のものを適宜利用することが出来る。本発
明に用いられるアルミニウム板の厚みは、およそ０．１
ｍｍ〜０．６ｍｍ程度である。

【００１２】アルミニウム板は表面の保水性や感光層と
の密着性を向上するために粗面化されるが、それに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば
界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによ
る脱脂処理が行われる。尚、本発明の感光性平版印刷版
は、片面のみ使用できるものであっても、両面とも同様
な処理によって使用できるものであってもよい。以下は
片面の場合に限って説明するが、両面使用できる感光性
平版印刷版を作製する場合は同様な処理を両面に施せば
よい。

【００１３】まず、アルミニウム板の表面は粗面化処理
されるが、その方法としては、機械的に粗面化する方法
、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および化学的
に表面を選択溶解させる方法がある。機械的方法として
は、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バ
フ研磨法などと称せられる公知の方法を用いることが出
来る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸または
硝酸電解液中で交流または直流により行う方法がある。 また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することが出来る
。

【００１４】このように粗面化されたアルミニウム板は
、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理さ
れた後、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するもの
ならばいかなるものでも使用することができ、一般には
硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が
用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。

【００１５】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電
流密度５〜６０Ａ／ｄｍ２　、電圧１〜１００Ｖ、電解
時間１０秒〜５分の範囲にあれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は１．０ｇ／ｍ２以上が好適であるが、より好
ましくは２．０〜６．０ｇ／ｍ２の範囲である。陽極酸
化皮膜が１．０ｇ／ｍ２より少ないと耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって
、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。

【００１６】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用
される親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０
６６　号、第３，１８１，４６１　号、第３，２８０，
７３４　号および第３，９０２，７３４　号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液）法がある。この方法に於いては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理されるかまた
は電解処理される。

【００１７】他に、特公昭３６−２２０６３号公報に開
示されている弗化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第
３，２７６，８６８　号、第４，１５３，４６１　号お
よび第４，６８９，２７２　号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる
。 有機下塗層 アルミニウム板は場合により感光層を塗設する前に有機
下塗層が設けられる。この有機下塗層に用いられる有機
化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、グリシンやβ−アラニン
などのアミノ酸類、フェニルホスホン酸などの有機ホス
ホン酸およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒド
ロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが
、二種以上混合して用いてもよい。

【００１８】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノール
、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの
混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミ
ニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメ
タノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機
溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶
解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化
合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥
して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、
上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶
液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗
布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれ
の方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の
濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５
重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２
５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ま
しくは２秒〜１分である。

【００１９】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸
、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜
１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平版
印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加するこ
ともできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２０
０ｍｇ／ｍ２が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ
／ｍ２である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ２より少ない
と十分な耐刷性能が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ
２より大きくても同様である。

【００２０】バックコート層 本発明の感光性平版印刷版の支持体の裏面には、アルミ
ニウムの陽極酸化皮膜の溶出を抑えるため、および重ね
た場合の感光層の傷付きを防ぐための有機高分子化合物
からなる被覆層（以後この被覆層をバックコート層と称
す）が設けられてもよい。バックコート層の素材として
は、アルカリ性の現像液に不溶の有機高分子化合物が用
いられ、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリブタジエン、ナイロン、ポリウレタン、ポリ
ウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネー
ト、エポキシ樹脂、アルキルフェノールのアルデヒド縮
合樹脂、アセタール樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、アクリル系樹脂およびこれら
の共重合樹脂等が適している。

【００２１】バックコート層にはこれらの有機高分子化
合物の他に、可とう性を持たせたり、すべり性を調整す
る目的で可塑剤や界面活性剤やその他の添加物を必要に
より添加できる。可塑剤は、バックコート層に用いる樹
脂に対して約３０重量％まで含有させられる。本発明の
バックコート層には更に界面活性剤が、スベリ性、塗布
面状、支持体との密着等を向上させる目的で加えられる
。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン
系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。

【００２２】本発明で用いられるバックコート層の厚さ
は基本的には現像時アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出
を抑えられる厚さがあればよく、０．０１〜５０μｍ　
の範囲が好ましく、より好ましくは０．０５〜１０μｍ
　が好ましい。バックコート層をアルミニウム支持体の
裏面に被覆する方法としては種々の方法が適用できる。 例えば適当な溶媒に溶液にして、または乳化分散液にし
て塗布、乾燥する方法、例えば予めフィルム状に成形し
たものを接着剤や熱でアルミニウム支持体に貼り合わせ
る方法および溶融押し出し機で溶融皮膜を形成し、支持
体に貼り合わせる方法等が挙げられるが、上記の塗布量
を確保する上で最も好ましいのは溶液にして塗布、乾燥
する方法である。

【００２３】第１有機被覆量 このようにして得られた親水性表面を有するアルミニウ
ム板上には、まず活性光線の照射によりアルカリ水溶解
性が増大する感光性の第１有機被覆層が設けられる。こ
のような感光性有機層としては、ｏ−キノンジアジド化
合物を主成分とするポジ型感光性組成物の層が挙げられ
る。このようなｏ−ナフトキノンジアジド化合物として
は、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されている１
，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸とピロガロール・
アセトン樹脂とのエステルが好ましい。その他の好適な
オルトキノンジアジド化合物としては例えば、米国特許
第３，０４６，１２０　号および同第３，１８８，２１
０　号明細書に記載されている１，２−ジアゾナフトキ
ノン−５−スルホン酸とフェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とのエステルがあり、特開平２−９６１６３号公報
、特開平２−９６１６５号公報および特開平２−９６７
６１号公報に記載されている１，２−ジアゾナフトキノ
ン−４−スルホン酸とフェノール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステルがある。その他の有用なｏ−ナフトキノ
ンジアジド化合物としては、数多くの特許等で公知のも
のが挙げられる。例えば、特開昭４７−５３０３号、同
４８−６３８０２号、同４８−６３８０３号、同４８−
９６５７５号、同４９−３８７０１号、同４８−１３３
５４号、特公昭３７−１８０１５号、同４１−１１２２
２号、同４５−９６１０号、同４９−１７４８１号公報
、米国特許第２，７９７，２１３　号、同第３，４５４
，４００　号、同第３，５４４，３２３　号、同第３，
５７３，９１７　号、同第３，６７４，４９５　号、同
第３，７８５，８２５　号、英国特許第１，２２７，６
０２　号、同第１，２５１，３４５　号、同第１，２６
７，００５　号、同第１，３２９，８８８　号、同第１
，３３０，９３２　号、ドイツ特許第８５４，８９０　
号などの各明細書中に記載されているものを挙げること
ができる。

【００２４】本発明において特に好ましい、ｏ−ナフト
キノンジアジド化合物は、分子量１，０００以下のポリ
ヒドロキシ化合物と１，２−ジアゾナフトキノンスルホ
ン酸との反応により得られる化合物である。このような
化合物の具体例は、特開昭５１−１３９４０２号、同５
８−１５０９４８号、同５８−２０３４３４号、同５９
−１６５０５３号、同６０−１２１４４５号、同６０−
１３４２３５号、同６０−１６３０４３号、同６１−１
１８７４４号、同６２−１０６４５号、同６２−１０６
４６号、同６２−１５３９５０号、同６２−１７８５６
２号、同６４−７６０４７号、米国特許第３，１０２，
８０９　号、同第３，１２６，２８１　号、同第３，１
３０，０４７　号、同第３，１４８，９８３　号、同第
３，１８４，３１０　号、同第３，１８８，２１０　号
、同第４，６３９，４０６　号などの各公報または明細
書に記載されているものを挙げることができる。

【００２５】これらのｏ−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを０．２〜１．２当量反応させることが好ましく、
０．３〜１．０当量反応させることが更に好ましい。１
，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては
、１，２−ジアゾナフトキノン−５−スルホン酸クロリ
ドまたは、１，２−ジアゾナフトキノン−４−スルホン
酸クロリドを用いることができる。

【００２６】また、得られるｏ−ナフトキノンジアジド
化合物は、１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テル基の位置および導入量の種々異なるものの混合物と
なるが、ヒドロキシル基の全てが１，２−ジアゾナフト
キノンスルホン酸エステル化された化合物が、この混合
物中に占める割合（完全にエステル化された化合物の含
有率）は５モル％以上であることが好ましく、更に好ま
しくは２０〜９９モル％である。

【００２７】通常、これらのポジ型に作用する感光性化
合物（上記のような組合せを含む）の量は１０〜５０重
量％が適当であるが、本発明においては感光性化合物を
下層の感光層に高密度で存在させることが、感光層を薄
層化でき、現像液への溶出物を減らす上で好ましい。従
って、好ましいｏ−キノンジアジド化合物の添加量は２
０重量％以上であり、より好ましくは３０重量％以上で
ある。

【００２８】本発明において使用される感光性の第１有
機被覆層の主成分としては、ｏ−キノンジアジド化合物
以外の好ましい例として、例えば特公昭５６−２６９６
号に記載されているオルトニトロカルビノールエステル
基を有するポリマー化合物や、光分解により酸を発生す
る化合物と、酸により解離する−Ｃ−Ｏ−Ｃ基又は−Ｃ
−Ｏ−Ｓｉ基を有する化合物との組合せ系も挙げること
ができる。例えば光分解により酸を発生する化合物とア
セタール又はＯ，Ｎ−アセタール化合物との組合せ（特
開昭４８−８９００３号）、オルトエステル又はアミド
アセタール化合物との組合せ（特開昭５１−１２０７１
４号）、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリ
マーとの組合せ（特開昭５３−１３３４２９号）、エタ
ノールエーテル化合物との組合せ（特開昭５５−１２９
９５号）、Ｎ−アシルイミノ炭素化合物との組合せ（特
開昭５５−１２６２３６号）、主鎖にオルトエステル基
を有するポリマーとの組合せ（特開昭５６−１７３４５
号）、シリルエステル化合物との組合せ（特開昭６０−
１０２４７号）及びシリルエーテル化合物との組合せ（
特開昭６０−３７５４９号、特開昭６０−１２１４４６
号）などが挙げられる。

【００２９】バインダー ｏ−キノンジアジド化合物等の感光性化合物は単独でも
感光層を構成することができるが、アルカリ水に可溶な
樹脂を結合剤（バインダー）として併用することが好ま
しい。この様なアルカリ水に可溶な樹脂としては、ノボ
ラック型の樹脂があり、例えばフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂、ｏ−、ｍ−およびｐ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、ｍ／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、フェノール／クレゾール（ｏ−、ｍ−、ｐ−、ｍ
／ｐ−およびｏ／ｍ−混合のいずれでもよい）混合ホル
ムアルデヒド樹脂などが挙げられる。

【００３０】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭５１−３４７１１号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適なバインダーとして以
下（１）　〜（１３）に示すモノマーをその構成単位と
する通常１万〜２０万の分子量を持つ共重合体を挙げる
ことができる。（１）　芳香族水酸基を有するアクリル
アミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類
、メタクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類
、例えばＮ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミ
ドまたはＮ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、ｏ−、ｍ−およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−
、ｍ−およびｐ−ヒドロキシフェニルアクリレートまた
はメタクリレート、（２）　脂肪族水酸基を有するアク
リル酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例え
ば、２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、（３）　アクリル酸、メ
タクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸などの不飽和
カルボン酸、（４）　アクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリ
ル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘ
キシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、ア
クリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、ア
クリル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの（置
換）アクリル酸エステル、（５）　メタクリル酸メチル
、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタク
リル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキ
シル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オク
チル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、
メタクリル酸−２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒ
ドロキシブチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメ
チルアミノエチルメタクリレートなどの（置換）メタク
リル酸エステル、（６）　アクリルアミド、メタクリル
アミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロー
ルメタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−
エチルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド
、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル
アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド
、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキ
シエチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミ
ド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアク
リルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニト
ロフェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタク
リルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド
およびＮ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなど
のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド、（７）　
エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテ
ル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニル
エーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエー
テル、フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類
、（８）　ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート
、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビニルエス
テル類、（９）　スチレン、メチルスチレン、クロロメ
チルスチレンなどのスチレン類、（１０）　　メチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン類、（１
１）　　エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレンなどのオレフィン類、（１２）　　Ｎ
−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビ
ニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
など、（１３）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル
）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニ
ル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスル
ホニルエチル）アクリルアミドなどのアクリルアミド類
、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニル）ナ
フチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホニ
ルエチル）メタクリルアミドなどのメタクリルアミド類
、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、
ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミ
ノスルホニルフェニルアクリレート、１−（３−アミノ
スルホニルフェニルナフチル）アクリレートなどのアク
リル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、ｏ−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、１−（３−アミノスルホニ
ルフェニルナフチル）メタクリレートなどのメタクリル
酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。

【００３１】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。上
記共重合体には（３）に掲げた不飽和カルボン酸を含有
することが好ましく、その共重合体の好ましい酸価は０
〜１０ｍｅｑ　／ｇ、より好ましくは０．５〜５ｍｅｑ
　／ｇである。

【００３２】上記共重合体の好ましい分子量は１万〜１
０万である。また、上記共重合体には必要に応じて、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミ
ド樹脂およびエポキシ樹脂を添加してもよい。このよう
なアルカリ水可溶性の高分子化合物は１種類あるいは２
種類以上組み合わせることができ、全感光性組成物の８
０重量％以下の添加量で用いられる。

【００３３】本発明の感光性組成物中には、感度を高め
るために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添
加することが好ましい。環状酸無水物としては米国特許
第４，１１５，１２８　号明細書に記載されている無水
フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無
水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ４　−テトラヒ
ドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マ
レイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マ
レイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使
用できる。

【００３４】フェノール類としては、ビスフェノールＡ
、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２
，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，
４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、４，４′，４″−トリヒドロキシ−トリ
フェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒドロ
キシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェニル
メタンなどが挙げられる。

【００３５】更に、有機酸類としては、特開昭６０−８
８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載さ
れている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン
酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸
、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィ
ン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香
酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，
４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、１
，４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボン酸、エルカ
酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸な
どが挙げられる。

【００３６】上記の環状酸無水物類、フェノール類およ
び有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、０．０５
〜１５重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重
量％である。また、本発明の感光性組成物中には、現像
条件に対する処理の安定性（いわゆる現像ラチチュード
）を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特
願平２−１８１２４８号明細書に記載されているような
非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報
、特願平２−１１５９９２号明細書に記載されているよ
うな両性界面活性剤を添加することができる。

【００３７】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（
アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグ
リシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−
Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−
テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名ア
モーゲンＫ、第一工業（株）製）およびアルキルイミダ
ゾリン系（例えば、商品名レボン１５、三洋化成（株）
製）などが挙げられる。

【００３８】上記非イオン界面活性剤および両性界面活
性剤の感光性組成物中に占める割合は、０．０５〜１５
重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％で
ある。本発明の感光性組成物中には、露光後直ちに可視
像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料
や顔料を加えることができる。焼き出し剤としては、露
光によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形
成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることがで
きる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３
−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機
染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−
７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７
４８号、同６１−１５１６４４号および同６３−５８４
４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物
と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。か
かるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化
合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。

【００３９】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料も用いることができる。塩形成性
有機染料も含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的には、オイルイエ
ロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク
＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、
オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブ
ラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上、オリエ
ント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、ク
リスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイ
オレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ロ
ーダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２
９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい
。

【００４０】これらの焼き出し剤や染料は後述の第２有
機被覆層に、あるいは第１及び第２両層に添加されてい
てもよい。本発明における感光性組成物は、上記各成分
を溶解する溶媒に溶かして支持体のアルミニウム板上に
塗布される。ここで使用される溶媒としては、特開昭６
２−２５１７３９号公報に記載されているような有機溶
剤が単独あるいは混合して用いられる。

【００４１】本発明の感光性組成物は、０．２〜２０重
量％の固形分濃度で溶解、分散され、支持体上に塗布・
乾燥される。支持体上に塗設される感光性組成物の層（
感光層）の塗布量は用途により異なるが、一般的には、
乾燥後の重量にして０．０３〜２．０ｇ／ｍ２が好まし
い。より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍ２である。塗
布量が小さくなるにつれて、現像液に溶出する量は少な
くなるが、後述の第２有機被覆層が支持体から除去しに
くくなる。逆に塗布量が大きくなるにつれ、第２有機被
覆層は除去しやすくなるが、現像液への溶出量が大きく
なり、現像液の疲労を促進してしまう。

【００４２】本発明の感光性組成物中には、塗布面質を
向上するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７
０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全感
光性組成物の０．００１〜１．０重量％であり、更に好
ましくは０．００５〜０．５重量％である。 第２有機被覆層 本発明の感光性複写材料は上述の感光性の第１有機被覆
層の上に現像液難溶性で、且つ現像液浸透性の第２有機
被覆層が設けられたものである。本発明はこの第２有機
被覆層が、皮膜形成能を有する水不溶性の高分子化合物
を水に乳化分散したエマルジョンを塗布、乾燥すること
によって形成されたものであることを特徴とする。この
ようにして得られた第２有機被覆層の皮膜は、強靱で耐
摩耗性があり、印刷インキを受容し易い疎水性表面を有
することが好ましい。

【００４３】該エマルジョンとしては親油性樹脂のラテ
ックスが利用できる。本発明に有用なラテックスは、下
記Ａ群から選ばれたモノマーの単一重合体又は下記Ａ群
から選ばれた２以上のモノマーの共重合体、或いはＡ群
及びＢ群より選ばれたそれぞれ少なくとも一種のモノマ
ーの共重合によって得られるポリマーラテックス、或い
はそれらにＣ群の少なくとも一種のモノマーを組合せた
ポリマーラテックスである。 Ａ群：下記一般式で表わされるモノマーＣＨＸ＝ＣＹＺ 〔式中、 Ｘ：水素原子、メチル基又は　−ＣＯＯＲ１　基Ｙ：水
素原子、メチル基又は−（ＣＨ２）ｎ　ＣＯＯＲ２　、
ハロゲン、ニトリル、 Ｚ：アリール基、　−ＣＯＯＲ３　、　−ＯＲ３　、　
−Ｏ−ＣＯＲ３、　−ＣＯＮＲ３　、ハロゲン、ニトリ
ル Ｒ１　，Ｒ２　，Ｒ３　：これらは同じでも異っていて
もよく、脂肪族基または芳香族基 ｎ：０〜３の整数〕 Ｂ群：遊離のカルボン酸基、スルホン酸基、もしくはリ
ン酸基またはその塩を少くとも一つ有するエチレン系モ
ノマー。

【００４４】該カルボン酸のヒドロキシアルキルエステ
ル或いはアミド。Ｃ群：ジビニル系モノマー。Ａ群の一
般式中、Ｒ１　〜Ｒ３　で代表される基のうち、脂肪族
基は直接または分岐アルキル基（環状のものも含む）お
よび置換アルキル基を含む。アルキル基の炭素数として
は、１〜１２が好ましい。

【００４５】置換アルキル基の置換基としては、アリー
ル基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アシ
ル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニ
ルオキシ基、アミノ基（置換アミノ基も含み、置換基と
してはアルキル基、アリール基など。置換基の数は１〜
２である）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヘテロ環残
基（ヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、
硫黄原子など。環の員数としては５〜６が好ましく、ま
た環は不飽和でも飽和でもよい。ヘテロ環には更に芳香
環が縮合していてもよい。）などを挙げることができる
。

【００４６】また、Ｒ１　〜Ｒ３　で代表される基のう
ち、アリール基は、もちろん置換されたフェニル基やナ
フチル基を含み、置換基としては、置換アルキル基に関
して先に挙げた置換基の他にアルキル基などを挙げるこ
とができる。Ａ群のモノマーとしてはたとえばアクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、クロトン酸エステ
ル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸
ジエステル、イタコン酸ジエステル、スチレン類などの
単官能モノマーがあげられる。

【００４７】更に、具体的なモノマーとしては、例えば
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピ
ルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチ
ルアクリレート、イソブチルアクリレート、　ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチ
ルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、２
−フェノキシエチルアクリレート、２−クロロエチルア
クリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロ
ロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、２
−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベン
ジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレ
ート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニ
ルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート
、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシ
ブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート
、２−　ｉｓｏ−プロポキシエチルアクリレート、２−
ブトキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエト
キシ）エチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキ
シ）エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレング
リコールアクリレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロ
モ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロ
ロ−２−エトキシエチルアクリレート、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、イソブチルメタクリレート、　ｓｅｃ−ブ
チルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、
オクチルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルア
ミノエチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピ
ルオキシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェ
ノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニル
メタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、トリエチレングリコールモノ
メタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリ
レート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メト
キシブチルメタクリレート、２−アセトキシエチルメタ
クリレート、アセトアセトキシエチルメタクリレート、
２−エトキシエチルメタクリレート、２−　ｉｓｏ−プ
ロポキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメ
タクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート（付加モル数ｎ＝６）、ビニルアセテート
、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイ
ソブチレート、ビニルジメチルプロピオネート、ビニル
エチルブチレート、ビニルバレレート、ビニルカプロエ
ート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテ
ート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセ
テート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセ
テート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチ
レート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息
香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル
、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル、ス
チレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチ
ルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソ
プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン
、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジル
スチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチル
スチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチル
スチレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジ
クロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルス
チレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブ
ロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、ト
リフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメ
チルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチル
スチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、クロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネ
ート、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタ
コン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメ
チル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル
酸ジヘキシル、フマル酸ジブチルメチルアクリルアミド
、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、イ
ソプロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔ
ｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、ヘプチルアクリルアミ
ド、ｔｅｒｔ−オクチルアクリルアミド、シクロヘキシ
ルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキ
シメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ヒド
ロキシフェニルアクリルアミド、トリルアクリルアミド
、ナフチルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、
ジエチルアクリルアミド、ジブチルアクリルアミド、ジ
イソブチルアクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−
３−オキソブチル）アクリルアミド、メチルベンジルア
クリルアミド、ベンジルオキシエチルアクリルアミド、
β−シアノエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホ
リン、Ｎ−メチル−Ｎ−アクリロイルピペラジン、Ｎ−
アクリロイルピペリジン、Ｎ−（１，１−ジメチル−３
−ヒドロキシブチル）アクリルアミド、Ｎ−β−モルホ
リノエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルヘキサメ
チレンイミン、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアク
リルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチ
ルアクリルアミド、メチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ
−ブチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−オクチルメタク
リルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロヘキシ
ルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメ
チルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、ジ
プロピルメタクリルアミド、ヒドロキシエチル−Ｎ−メ
チルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルア
ミド、メタクリルヒドラジンなど；アリル化合物：たと
えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリ
ル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリ
ン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸
アリル、アリルオキシエタノール、アリルブチルエーテ
ル、アリルフェニルエーテルなど；ビニルエーテル類：
たとえば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル
、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテ
ル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビ
ニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチ
ル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エ
チルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチ
ルアミノエチルビニルエーテルなど；ビニルケトン類：
例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、
メトキシエチルビニルケトンなど；オレフィン類：例え
ば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、１
−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−
１−ペンテン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセ
ン、５−メチル−１−ノネン、５，５−ジメチル−１−
オクテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチ
ル−１−ペンテン、５−メチル−１−ヘキセン、４−メ
チル−１−ヘプテン、５−メチル−１−ヘプテン、４，
４−ジメチル−１−ヘキセン、５，５，６−トリメチル
−１−ヘプテン、１−ドデセンおよび１−オクタデセン
などの無置換炭化水素、ブタジエン、イソプレン、クロ
ロプレン等のジエン化合物；ビニル異節環化合物（複素
原子としては例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子など
、また異節環の員数としては例えば５〜６で、この環に
は更に芳香環が結合していてもよい。）：たとえば、Ｎ
−ビニルオキサゾリドン、ビニルピリジン、ビニルピコ
リン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチ
ルイミダゾール、Ｎ−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニル
−３，５−ジメチルトリアゾール、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニル−３，５−ジメチルピラゾール、Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、ビニルチオフエン、Ｎ−ビニルサク
シンイミド、Ｎ−ビニルグルタルイミド、Ｎ−ビニルア
ジピミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピペリド
ン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニル−２
−ピリドン、など；不飽和ニトリル類；例えばアクリロ
ニトリル、メタクリロニトリルなど、ハロゲン化ビニル
化合物；塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、沃
化ビニルなど。

【００４８】Ｂ群のモノマーの具体例としては、たとえ
ば次の様な単官能モノマーがあげられる。アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モ
ノアルキル（例えばイタコン酸モノメチル、イタコン酸
モノエチル、イタコン酸モノブチルなど）、マレイン酸
モノアルキル（例えばマレイン酸モノメチル、マレイン
酸モノエチル、マレイン酸モノブチル、マレイン酸モノ
オクチルなど）、シトラコン酸、スチレンスルホン酸、
ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシアルキルスルホン酸、（例えば、アクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチ
ルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸
、アクリロイルオキシブチルスルホン酸など）、メタク
リロイルオキシアルキルスルホン酸（例えばメタクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオキシエ
チルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピルスルホ
ン酸、メタクリロイルオキシブチルスルホン酸など）、
アクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−アクリ
ルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−アクリル
アミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリル
アミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、メタクリ
ルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−メタクリルア
ミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−メタクリルア
ミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリル
アミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、アクリロ
イルオキシアルキルホスフェート（例えばアクリロイル
オキシエチルホスフェート、３−アクリロイルオキシプ
ロピルホスフェート、など）、メタクリロイルオキシア
ルキルホスフェート（例えばメタクリロイルオキシエチ
ルホスフェート、３−メタクリロイルオキシプロピルホ
スフェートなど）など。

【００４９】また、前記の酸モノマー中のアルキル基と
しては、例えば炭素数１〜８程度のものである。これら
の酸はアルカリ金属イオン（好ましくはＮａ＋　、Ｋ＋
　）又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。Ｃ群
のモノマーの具体例としては、ポリオールの不飽和エス
テル特にα−メチレンカルボン酸のようなエステル、例
えば、エチレンジ（メタ）アクリレート、ジエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メ
タ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレ
ート、１，３−プロピレンジ（メタ）アクリレート、１
，４−シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレート、
１，４−ベンゼンジオールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，
３−プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１
，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート。不飽和
アミド、特にα−メチレンカルボン酸のアミド及び特に
α，ω−ジアミン及び酸素が中間に介在するω−ジアミ
ンのもの、例えばメチレンビス（メタ）アクリルアミド
、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキ
サメチレンビス（メタ）アクリルアミド及びジエチレン
トリアミントリス（メタ）アクリルアミド、ジビニルサ
クシネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート
、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−１，３
−ジスルホネート及びジビニルブタン−１，４−ジスル
ホネートのようなビニルエステル、ソルブアルデヒドす
なわち２，４−ヘキサジエナールのような不飽和アルデ
ヒド。

【００５０】（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
アミドのような中性のα−メチレンカルボン酸ポリエス
テル、ポリアミド及び（または）第１及び第２アミノア
ルコール、アミノポリオールまたはポリアミノアルコー
ルまたはポリオールのエステルアミド及び前記アルコー
ルの類似誘導体、例えばβ−メタクリルアミドエチル（
メタ）アクリルアミド、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）
−β−（メタアクリルアミド）エチルアクリレート、Ｎ
，Ｎ−ビス（β−メタクリルオキシエチル）アクリルア
ミド、その他、ジビニルベンゼンやキシリレンジイソシ
アネートとヒドロキシエチル（メタ）アクリレートから
のウレタン化合物、例えば下記の化学構造を有するよう
なウレタン化合物

【００５１】

【化１】

【００５２】のようなイソシアネートとヒドロキシアル
キル化合物からのウレタン化合物等が有用である。なお
、上記において、「（メタ）アクリレート」とは「アク
リレート」および「メタクリレート」の両者を意味し、
「（メタ）アクリルアミド」も同様の事を意味する。こ
こで使用できるラテックス重合体は例えばプレパラティ
ブ　　メソッド　　オブ　　ポリマー　　ケミストリー
　　インターサイエンス　　パブリシャーズ（Ｐｒｅｐ
ａｒａｔｉｖｅ　Ｍｅｔｈｏｄｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，　Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ
　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）　発行の２１６及び２３９ペ
ージに記載されている乳化重合法に従って合成すること
ができる。一つの例としては次のとおりである。１リッ
トルの三ツ口フラスコに４２０ｍｌの蒸留水を採り、メ
タ重亜硫酸カリウム０．２２５ｇを添加し、攪拌して溶
解したあと窒素パージし、アクリロニトリル３３．３７
ｇ、塩化ビニリデン１４５．３ｇ、アクリル酸１４．１
ｇ及びトリトン７７０（界面活性剤）１４．１ｇを添加
し、過硫酸カリウム０．４５ｇを加えて、３０℃の温度
下に１５０ｒｐｍ　の回転数で攪拌を行なって反応させ
る。

【００５３】ラテックスの調製に於いて乳化重合法が利
用できない樹脂、例えばホルマール樹脂又はブチラール
樹脂のようなアセタール樹脂、酢酸セルロース、プロピ
オン酸セルロース、酪酸セルロース、クロトン酸セルロ
ースなどのセルロースエステル、該エステル化合物とフ
タール酸、コハク酸、セバチン酸、マレイン酸等のジカ
ルボン酸との共エステル化合物、メチルセルロース、エ
チルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロー
ス、アリルセルロース、ベンジルセルロース、シルロヘ
キシルセルロース、シアノエチルセルロースなどのセル
ロースエーテル化合物、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リウレタン、ポリウレア、ポリイミドなどの縮合重合に
より生成する高分子化合物等も本発明に使用し得る親油
性樹脂として有用である。該化合物は特開昭５２−３６
５３号公報に開示されている方法によりエマルジョンを
調製することができる。

【００５４】前記の共重合ラテックスに於けるＡ群、Ｂ
群、Ｃ群の比率はラテックスから塗布された第２有機被
覆層の現像性、インキ受容性、耐刷性などの性能を勘案
して適宜に選択することができる。Ａ群のモノマー成分
は主として親油性と耐摩耗性を司どる。従って、好まし
いＡ群モノマー成分の量は、対ラテックスポリマー固形
分で、２０〜１００重量％が好ましく、特に６０〜１０
０重量％が好適である。

【００５５】Ｂ群モノマー成分の量はラテックスポリマ
ー固形分の０〜２５重量％が好ましく、特に０〜１０重
量％が好適である。Ｃ群モノマー成分は０〜８０重量％
が好ましく、特に０〜４０重量％が好適である。また市
販のラテックス液も利用することができる。例えばポリ
アクリル酸エステル共重合体のエマルジョン；商品名、
ジュリマーＥＴ−４１０、ジュリマーＳＥＫ−３０１、
ジュリマーＳＥＫ−１０１、ジュリマーＦＣ−３０、ジ
ュリマーＦＣ−６０、ジュリマーＦＣ−８０、ジュリマ
ーＳＥ−５１０１、ジュリマーＳＥ−５１０２、ジュリ
マーＳＥ−５１０３、ジュリマーＳＥ−５３０１、ジュ
リマーＳＥ−３６１、ジュリマーＳＥ−３６３、ジュリ
マーＳＥ−３６５、ジュリマーＳＥ−６３０２、ジュリ
マーＳＥ−６３１１、ジュリマーＳＥ−６３１２（以上
日本純薬（株）製）、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８１１、Ｎｉｐ
ｏｌ　ＬＸ８１４、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８４１、Ｎｉｐｏ
ｌ　ＬＸ８５１、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８５２、Ｎｉｐｏｌ
　ＬＸ８５４、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８５６、Ｎｉｐｏｌ　
ＬＸ８６０、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８７４（以上日本ゼオン
（株）製）、プライマルＡＣ−２２、プライマルＡＣ−
３３、プライマルＡＣ−３４４４、プライマルＡＣ−５
５、プライマルＡＣ−６１、プライマルＡＣ−３８２、
プライマルＡＳＥ−６０、プライマルＡＳＥ−７５、プ
ライマルＡＳＥ−１０８、プライマルＢ−１５、プライ
マルＢ−４１、プライマルＢ−７４、プライマルＢ−３
３６、プライマルＢ−５０５、プライマルＢ−８３２、
プライマルＢ−９２４、プライマルＣ−７２、プライマ
ルＥ−３２、プライマルＥ−３５８、プライマルＨＡ−
８、プライマルＨＡ−１６、プライマルＨＡ−２４、プ
ライマルＩ−９４、プライマルＬＣ−４０、プライマル
ＬＴ−７６、プライマルＬＴ−８７、プライマルＭＣ−
４５３０、プライマルＮ−５８０、プライマルＰ−６Ｎ
、プライマルＰ−１０６０、プライマルＳ−１、プライ
マルＴＲ−４９、プライマル８５０（以上日本アクリル
化学（株）製）、アクリロニトリル・ブタジエン系ラテ
ックス；Ｎｉｐｏｌ　１５５１、Ｎｉｐｏｌ　１５６１
、Ｎｉｐｏｌ　１５６２、Ｎｉｐｏｌ　１５７１、Ｎｉ
ｐｏｌ　１５７７、ＮｉｐｏｌＬＸ５１１、Ｎｉｐｏｌ
　ＬＸ５１３、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ５３１、Ｎｉｐｏｌ　
ＬＸ５３１Ｂ（以上日本ゼオン（株）製）、スチレン・
ブタジエン系ラテックス；Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ１１１、Ｎ
ｉｐｏｌ　４８５０、Ｎｉｐｏｌ　４８５０Ａ、Ｎｉｐ
ｏｌ　ＬＸ１１０、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ１１９、Ｎｉｐｏ
ｌ　ＬＸ２０４、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ２０６、Ｎｉｐｏｌ
　ＬＸ２０９、Ｎｉｐｏｌ　２５０７、Ｎｉｐｏｌ　Ｌ
Ｘ３０３、Ｎｉｐｏｌ　２５１８ＦＳ、Ｎｉｐｏｌ　Ｌ
Ｘ４１５Ａ、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４２６、Ｎｉｐｏｌ　Ｌ
Ｘ４３０、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４３２Ａ、Ｎｉｐｏｌ　Ｌ
Ｘ４３３、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４７２、Ｎｉｐｏｌ　２５
７０Ｘ５、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４０７ＢＰ、Ｎｉｐｏｌ　
ＬＸ４０７Ｃ、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４０７Ｆ、Ｎｉｐｏｌ
　ＬＸ４０７Ｇ（以上日本ゼオン（株）製）、塩化ビニ
ル系ラテックス；Ｇｅｏｎ１５０Ｘ１５、Ｇｅｏｎ３５
１、Ｇｅｏｎ５７６（以上日本ゼオン（株）製）、ウレ
タン樹脂エマルジョン；ＶＯＮＤＩＣ　　１０４１ＮＳ
、ＶＯＮＤＩＣ　　１０５０Ｂ−ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　
　１２３０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　　１２５０、ＶＯＮＤ
ＩＣ　　１３１０ＮＳＣ、ＶＯＮＤＩＣ　　１３２０Ｎ
ＳＣ、ＶＯＮＤＩＣ　　１５１０、ＶＯＮＤＩＣ　　１
６１０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　　１５１２ＮＳＣ、ＶＯＮ
ＤＩＣ　　１６４０、ＶＯＮＤＩＣ　　１６６０ＮＳ、
ＶＯＮＤＩＣ　　１６７０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　　１９
３０Ａ−ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　　１９８０ＮＳ、ＶＯＮ
ＤＩＣ　　１２０５、ＶＯＮＤＩＣ　　２２２０、ＶＯ
ＮＤＩＣ　　２２３０（以上大日本インキ化学（株）製
）、アロン　　ネオタンＵＥ−１１０１、アロン　　ネ
オタンＵＥ−１２００、アロン　　ネオタンＵＥ−１３
００、アロン　　ネオタンＵＥ−１４０２、アロン　　
ネオタンＵＥ−２１０３、アロン　　ネオタンＵＥ−２
２００、アロン　　ネオタンＵＥ−２６００、アロン　
　ネオタンＵＥ−２９００、アロンネオタンＵＥ−５４
０４、アロン　　ネオタンＵＥ−５６００（以上東亜合
成化学工業（株）製）、コロイド分散型ウレタン樹脂；
ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３０１、ＨＹＤＲＡＮＨＷ−３
１０、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３１１、ＨＹＤＲＡＮ　
　ＨＷ−３１２Ｂ、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３３３、Ｈ
ＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３４０、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−
３５０、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−１１１、ＨＹＤＲＡＮ
　　ＨＷ−１４０、ＨＹＤＲＡＮＨＷ−９１０、ＨＹＤ
ＲＡＮ　　ＨＷ−９２０、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−９３
０、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−９４０、ＨＹＤＲＡＮ　　
ＨＷ−９５０、ＨＹＤＲＡＮＨＷ−９６０（以上大日本
インキ化学工業（株）製）などを挙げることができる。 ただし市販のラテックスを使用する場合は使われている
乳化安定剤の種類等により性能が左右されることを考慮
する必要がある。

【００５６】乳化重合法に依らない方法で調製したラテ
ックスを含めて第２有機被覆層を形成するポリマーはポ
リマーの主鎖又は側鎖にヒドロキシル、アミノ、アミド
、イミノ、イミド、ニトリロ、カルボキシル、スルホニ
ル、スルホンオキシ、イソシアネート、ウレタン、アゾ
イミド、アゾ、ヒドラジノ、カルバミド、カルバミル、
エポキシ、メルカプト、チオ及びスルホンアミド基から
選択される少なくとも１種の基を含むものが好ましい。 エマルジョン中の親油製樹脂の粒子径は特に制限はない
が一般に約０．０３〜１０μの範囲内に分布を持つもの
が使えるが、好ましくは０．０５〜５μｍ程度である。 エマルジョン粒子を形成するポリマーは高分子量のもの
からオリゴマー程度のもの、分子量で約２０００から約
２０００００位のものまで使うことができるしそれ等の
混合系でもよい。又、粒子を形成するポリマーは、それ
自身架橋されていてもよいし、活性光線又は熱によって
硬化する性質を有するものであってもよい。

【００５７】これらの高分子ラテックスは単独で用いら
れてもよいが、複数のものを混合することによって、第
２有機被覆層の現像液に対する浸透性や膨潤性を調整し
たり、皮膜性を調整することができる。これまでに記し
た第２有機被覆層の現像液に対する溶解性の難易とは、
現像液の強度に対する相対的なものである。周知のごと
くｏ−キノンジアジド感光層はその組成により現像剤の
強度が異なり、感光層に適合した強度の現像液を選ぶこ
とが可能である。従って、第２有機被覆層に用い得る高
分子化合物は一般的な溶解性、膨潤性の難易をもっては
限定しがたく、選択された第１有機被覆層の成分および
現像液の成分に従って、第２有機被覆層の高分子化合物
も好適に選択される。

【００５８】また、第２有機被覆層には前述のようなｏ
−キノンジアジド化合物を水に乳化分散した状態で現像
液浸透促進剤として加えることができるが、この添加量
が多過ぎると現像液への溶出成分が増えるので本発明の
目的にそぐわない。従って、ｏ−キノンジアジド化合物
の添加量は２０％以下が好ましい。更に、該第２有機被
覆層には、有機、無機の各種添加物を所望により添加す
ることができる。例えば、画像着色剤としての染料や顔
料、焼き出し剤、被覆の物理的強度を向上させるための
二酸化チタンやクレーのような充填剤あるいは現像促進
のための可塑剤や、先に感光層のところで述べた酸無水
物、有機酸類およびフェノール類などを加えることがで
きる。

【００５９】更に、安定化剤、界面活性剤、可塑剤など
も適宜添加できる。特に、塗布面質を向上するための界
面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号公報に
記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加してお
くことが好ましい。この好ましい添加量は、第２有機被
覆層の全重量に対して０．００１〜１．０重量％であり
、更に好ましくは０．００５〜０．５重量％である。

【００６０】該添加成分は、エマルジョンの粒子中に含
まれてもよく、粒子外に含まれていてもよい。該第２有
機被覆層は、ラテックス溶液状態からの塗布、流延、転
写あるいは同時多層塗布などの塗設技術をもって感光性
の第１有機被覆層の上に設けられ、乾燥される。

【００６１】該第２有機被覆層の好ましい塗布量は乾燥
後の重量にして０．１〜５．０ｇ／ｍ２であり、より好
ましくは０．５〜３．０ｇ／ｍ２である。この範囲より
も第２有機被覆層の塗布量が小さいと、感光性複写材料
の画像の強度が劣り、また、この範囲よりも大きいと現
像液の浸透に時間がかかり好ましい画像が得られない。 マット層 上記のようにして設けられた第２有機被覆層の表面には
、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を
短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けるこ
とが好ましい。具体的には、特開昭５０−１２５８０５
号、特公昭５７−６５８２号、同６１−２８９８６号の
各公報に記載されているようなマット層を設ける方法、
特公昭６２−６２３３７号公報に記載されているような
固体粉末を熱融着させる方法などが挙げられる。

【００６２】活性光線 かくして得られた感光性複写材料は透明原画を通してカ
ーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセ
ノンランブ、タングステンランプなどを光源とする活性
光線により露光された後、現像処理される。 現像液 かかる感光性複写材料の現像液としては従来より知られ
ているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナ
トリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリ
ウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられ
る。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン
、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエ
タノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソ
プロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミ
ン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。

【００６３】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で最も好ましいのはケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム
等のケイ酸塩の水溶液である。その理由はケイ酸塩の成
分である酸化ケイ素　ＳｉＯ２　とアルカリ金属酸化物
　Ｍ２Ｏの比率（一般に［　ＳｉＯ２　］／［　Ｍ２Ｏ
］のモル比で表す）と濃度によってある程度現像性の調
節が可能とされるためであり、例えば、特開昭５４−６
２００４号公報に開示されているような、　ＳｉＯ２　
／Ｎａ２Ｏのモル比が１．０〜１．５（即ち［　ＳｉＯ
２　］／［Ｎａ２Ｏ］が１．０〜１．５）であって、　
ＳｉＯ２　の含有量が１〜４重量％のケイ酸ナトリウム
の水溶液や、特公昭５７−７４２７号公報に記載されて
いるような、［　ＳｉＯ２　］／［Ｍ］が０．５〜０．
７５（即ち［　ＳｉＯ２　］／［　Ｍ２Ｏ］が１．０〜
１．５）であって、　ＳｉＯ２　の濃度が１〜４重量％
であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金
属のグラム原子を基準にして少なくとも２０％のカリウ
ムを含有していることからなるアルカリ金属ケイ酸塩が
好適に用いられる。

【００６４】自動現像機を用いて、該感光性複写材料を
現像する場合に、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶
液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間現
像タンク中の現像液を交換する事なく、多量の感光性複
写材料を処理することができることが知られている。本
発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。例
えば、特開昭５４−６２００４号公報に開示されている
ような現像液の　ＳｉＯ２　／Ｎａ２Ｏのモル比が１．
０〜１．５（即ち［　ＳｉＯ２　］／［Ｎａ２Ｏ］が１
．０〜１．５）であって、　ＳｉＯ２　の含有量が１〜
４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用し、しかも
ポジ型感光性平版印刷版の処理量に応じて連続的または
断続的に　ＳｉＯ２　／Ｎａ２Ｏのモル比が０．５〜１
．５（即ち［　ＳｉＯ２　］／［Ｎａ２Ｏ］が０．５〜
１．５）のケイ酸ナトリウム水溶液（補充液）を現像液
に加える方法、更には、特公昭５７−７４２７号公報に
開示されている、［　ＳｉＯ２　］／［Ｍ］が０．５〜
０．７５（即ち、［　ＳｉＯ２　］／［　Ｍ２Ｏ］が１
．０〜１．５）であって、　ＳｉＯ２　の濃度が１〜４
重量％であるアルカリ金属ケイ酸塩の現像液を用い、補
充液として用いるアルカリ金属ケイ酸塩の［　ＳｉＯ２
　］／［Ｍ］が０．２５〜０．７５（即ち［　ＳｉＯ２
　］／［　Ｍ２Ｏ］が０．５〜１．５）であり、かつ該
現像液および該補充液のいずれもがその中に存在する全
アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも２０
％のカリウムを含有していることからなる現像方法が好
適に用いられる。更にはランニングコストや廃液量の削
減の為、活性度の高い現像液として　ＳｉＯ２　／Ｍ２
Ｏ　のモル比が０．７〜１．５であって、　ＳｉＯ２　
の濃度が１．０〜４．０重量％のアルカリ金属ケイ酸塩
の水溶液からなり、また、補充液が　ＳｉＯ２　／Ｍ２
Ｏ　のモル比が０．３〜１．０であって、　ＳｉＯ２　
の濃度が０．５〜４．０重量％のアルカリ金属ケイ酸塩
の水溶液であるような系も好適に用いられる。

【００６５】本発明に用いられる現像液および補充液に
は、必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加でき
る。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオ
ン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。 界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリス
リトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコール
モノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類
、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリ
セリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひ
まし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エ
ステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス
−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレ
ンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステ
ル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面
活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシア
ルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジア
ルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸
塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフ
ェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、
ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩
類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム塩、
Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、
石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエ
ステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類
、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩
類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類
、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エ
ステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル
塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物
類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物
類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などの
アニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級アン
モニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類
、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面
活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、
スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリ
ン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界
面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリ
オキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブ
チレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることも
でき、それらの界面活性剤もまた包含される。

【００６６】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマー
、パーフルオロアルキル基、親水性および親油性基含有
オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含
有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。

【００６７】上記の界面活性剤は、単独もしくは２種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に０．
００１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量
％の範囲で添加される。有機溶剤としては、水に対する
溶解度が約１０重量％以下のものが適しており、好まし
くは５重量％以下のものから選ばれる。例えば、１−フ
ェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−フェ
ニル−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタノー
ル、４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル−１
−ブタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジ
ルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコール
、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシベン
ジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノ
ール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシク
ロヘキサノールおよび４−メチルシクロヘキサノール、
Ｎ−フェニルエタノールアミンおよびＮ−フェニルジエ
タノールアミンなどを挙げることができる。有機溶剤の
含有量は使用液の総重量に対して０．１〜５重量％であ
る。 その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、
有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させ
ることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有
機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、
従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからで
ある。

【００６８】本発明に用いられる現像液および補充液に
は更に還元剤が加えられる。これは印刷版の汚れを防止
するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を含
むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効である。 好ましい有機還元剤としては、チオサリチル機、ハイド
ロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、２
−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレ
ンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が
挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫
酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン
酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸
のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙
げることができる。これらの還元剤のうち汚れ防止効果
が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤
は使用時の現像液に対して好ましくは、０．０５〜５重
量％の範囲で含有される。

【００６９】本発明に用いられる現像液および補充液に
は更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい
有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン
酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の
具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプ
リル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およ
びステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８
〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を
有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のもので
もよい。

【００７０】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン酸、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、
ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒ
ドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安
息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒ
ドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、２
，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安
息香酸、浸食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、
３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１
−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸などが
あるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。

【００７１】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが
、０．１重量％より低いと効果が十分でなく、また１０
重量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかり
か、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある
。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して０
．１〜１０重量％であり、より好ましくは０．５〜４重
量％である。

【００７２】本発明に用いられる現像液および補充液に
は、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟化剤などを
含有させることもできる。硬水軟化剤としては例えば、
ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩および
アンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチ
レントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘ
キサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸
、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘキサン
テトラ酢酸および１，３−ジアミノ−２−プロパノール
テトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらの
ナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミ
ノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテト
ラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペン
タ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘ
キサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチルエチレ
ンジアミントリ（メチレンホスホン酸）および１−ヒド
ロキシエタン−１，１−ジホスホン酸やそれらのナトリ
ウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げること
ができる。

【００７３】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０１〜０
．５重量％の範囲である。この範囲より少ない添加量で
は所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲よ
り多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてく
る。

【００７４】本発明の現像液および補充液の残余の成分
は水であるが、更に必要に応じて当業界で知られた種々
の添加剤を含有させることができる。本発明に用いる現
像液及び補充液は、第２有機被覆層がアルカリ水を浸透
し易いか否かなどの種々の要因によって、上述の添加剤
の量が決められる。本発明の現像液および補充液は使用
時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使
用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利で
ある。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさ
ない程度が適当である。

【００７５】現像処理 本発明の感光性複写材料の処理方法は、露光された感光
性複写材料を上述の現像液に浸漬した後、非画像部の第
２有機被覆層をブラシなどで脱膜除去する工程からなる
。この脱膜工程は現像液中で行われてもよいが、特に、
該現像液に浸漬した後、水洗工程で非画像部の第２有機
被覆層を除去することが、現像液の疲労を減少でき、補
充量、即ち廃液量が減らせるので好ましい。本発明の処
理方法は、現像液を満たした皿に該感光性複写材料を浸
漬することからなる、いわゆる皿現にも適用できるが、
本発明の効果を十分に引き出すには、自動現像機による
処理が最も好適である。

【００７６】該自動現像機処理において、露光済みの感
光性複写材料を現像液に浸漬する方法としては、該感光
性複写材料を水平搬送する装置と、現像液槽およびスプ
レー装置からなる自動現像機において、水平に搬送しな
がら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレーノズルから
吹き付けて現像液の薄膜を該複写材料上に形成させるの
が一般的である。また、現像液が満たされた現像処理槽
中に液中ガイドロールなどによって該感光性複写材料を
浸漬搬送させて現像処理する方法も好適に適用できる。

【００７７】本発明による現像処理は、現像液が該第２
有機被覆層に浸透し、感光層に達して、非画像部となる
べき部分の第１有機被覆層を溶解するのに十分な時間と
温度（現像液温度）を必要とする。この現像条件は感光
性複写材料の現像し易さと、現像液の強さによって決め
られるが、好ましい現像時間は３〜９０秒であり、より
好ましくは５〜３０秒である。また、現像温度は１０〜
５０℃が好ましく、より好ましくは２０〜４０℃である
。この範囲よりも短時間、低温側では、現像が不十分に
なり易く、また長時間および高温条件では、第２有機被
覆層の一部の現像液への溶出がみられ本発明の目的にそ
ぐわない。

【００７８】現像液に浸漬された感光性複写材料は、一
対のローラーなどで現像液を除かれた後、続く水洗部に
搬送される。水洗部は水を供給するスプレーノズル、非
画像部の第２有機被覆層を物理的に除去する回転ブラシ
などの脱膜装置、除去された第２有機被覆層のカスを回
収するフィルターおよび余剰の水を系外に放出するオー
バーフローからなる。

【００７９】新鮮水の供給量は、水洗部に持ち込まれた
現像液をそのまま放出しても環境汚染の問題を生じない
濃度まで希釈できる量が望ましく、その量は毎分５〜３
０リットルが好ましい。この場合、一度使用した水洗水
を溜めて置き、それを予備水洗に用いるのが、水洗効率
および節水上好ましい。第２有機被覆層の除去は、回転
、摺動する筒状ブラシ、左右に摺動する平面ブラシ、水
平に前後左右に動く平面ブラシなどの各種ブラシによる
方法や圧搾空気、高圧水を吹き付ける方法などが用いら
れる。

【００８０】第２有機被覆層のカスの回収は水の循環系
に装着されたフィルターによって行われる。以上のよう
な処理によって複写材料が得られるが、これが平版印刷
版であった場合、更に通常用いられている保護ガム液を
塗布することによって、傷や周辺の汚染物から保護する
ことができる。

【００８１】

【発明の効果】現像液に難溶性の第２有機被覆層を感光
性複写材料の主成分とし、且つ、該第２有機被覆層を現
像液中に脱膜することなく、続く水洗部で除去すること
により、現像液の処理能力は、著しく向上する。従って
多数枚の処理においても補充液の量は複写材料が持ち出
す分を補填する程度で済み、廃液量が著しく減少できる
。

【００８２】また、水洗部では掻き取られた第２有機被
覆層のカスはフィルターで回収されるので、後処理も容
易である。水洗水の公害性も低く、処理無しあるいは簡
単な後処理で放出できる。該第２有機被覆層は、水を分
散液とする高分子ラテックスを塗布、乾燥して形成され
るものであり、高分子化合物としては溶剤の種類を問わ
ず所望のものを自由に選択できる。

【００８３】

【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。 実施例１ 米国特許第３，６３５，７０９号明細書の実施例１に記
載されているアセトンとピロガロールの縮重合により得
られるポリヒドロキシ化合物のナフトキノン−１，２−
ジアジド−５−スルホン酸エステル２重量部とノボラッ
ク型クレゾールホルムアルデヒド樹脂２重量部を２０重
量部の酢酸−２−メトキシエチルと２０重量部のメチル
エチルケトンに溶解して第１有機被覆層用の感光液を調
製した。

【００８４】厚さ０．３ｍｍの片面が砂目立てされたア
ルミニウム板を硫酸中で陽極酸化し、約３ｇ／ｍ２の酸
化皮膜をつくりよく洗浄した後乾燥し、砂目立てされた
側に上記感光液を乾燥重量にして約０．４ｇ／ｍ２にな
るように塗布、乾燥した。次に、ポリアクリル酸エステ
ル共重合体のラテックス（商品名、ジュリマーＳＥＫ１
０１、固形分濃度４０％、日本純薬（株）製）２０重量
部を水９０重量部で稀釈し、更に染料（商品名、ビクト
リアピュアブルーＢＯＨ、保土谷化学（株）製）０．０
５重量部を溶解し、上記ｏ−キノンジアジド感光層の上
に乾燥重量にして２．０ｇ／ｍ２になるように塗布、乾
燥して、第２有機被覆層を形成し、二層塗布型感光性平
版印刷版を得た。

【００８５】このようにして得られた二層塗布ポジ型感
光性平版印刷版にポジ画像原稿フイルムを密着させて、
３ｋｗメタルハライドランプを光源とするプリンター（
商品名、アイロータリープリンターＰ−３１１Ｘ、アイ
グラフィックス（株）製）で４０秒間露光を行った。別
に、版材を自動搬送する装置および液面に空気遮断板を
もち、後半に液中回転ブラシを設けた浸漬型現像部とそ
れに続く水洗部を有する自動現像機を準備し、その現像
槽に、［　ＳｉＯ２　］／［　Ｍ２Ｏ］比１．２、　Ｓ
ｉＯ２　１．５重量％のケイ酸カリウム水溶液からなり
、Ｎ−アルキル−Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルベタイン
両性界面活性剤を０．０４重量％含む現像液を仕込み、
３０℃に保温した。

【００８６】次いで、前述の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送した
。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中で第２有機被
覆層が回転摺動ブラシによって掻き取られ、基板のアル
ミニウム表面が露出した。このようにして得られた平版
印刷版の表面に保護ガム液（商品名、ＧＵ−７、富士写
真フイルム（株）製）の２倍希釈液を塗布した後、オフ
セット印刷機にかけて印刷したところ、１０万枚を越え
る良好な印刷物が得られた。

【００８７】一方、同様の現像処理を、版材によって消
費される現像液活性度の減少分を補充液（組成［　Ｓｉ
Ｏ２　］／［　Ｍ２Ｏ］比１．２、　ＳｉＯ２　３．１
重量％のケイ酸塩水溶液）で補いながら多数枚の感光性
平版印刷版を用いて行った。その結果、補充量は僅か約
３０ｃｃ／ｍ２で済み、この感光材料と処理方法による
現像液の疲労が少ないことが認められた。

【００８８】この時、複写材料による現像液の持ち出し
量は約１０ｃｃ／ｍ２であったので、約２０ｃｃ／ｍ２
のオーバーフロー廃液を生じた。 実施例２ 版材を自動搬送する装置および液面に空気遮断板をもつ
浸漬型現像部とそれに続く回転摺動ブラシを備えた水洗
脱膜部を有する自動現像機を準備し、その現像槽に、実
施例１と同じ現像液を仕込み、３０℃に保温した。

【００８９】次いで、実施例１の露光済みの感光性平版
印刷版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送
した。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中では現像
液の浸透がみられたが、第２有機被覆層が溶出すること
はなかった。第２有機被覆層は続く水洗部で、回転摺動
ブラシによって掻き取られ、基板のアルミニウム表面が
露出した。

【００９０】このようにして得られた平版印刷版の表面
に保護ガム液（商品名、ＧＵ−７、富士写真フィルム（
株）製）の２倍稀釈液を塗布した後、オフセット印刷機
にかけて印刷したところ、１０万枚を越える良好な印刷
物が得られた。一方、同様の現像処理を、版材によって
持ち出される現像液の減少分を実施例１の補充液で補い
ながら多数枚の感光性平版印刷版を用いて行った。

【００９１】その結果、補充量は僅か約１０ｃｃ／ｍ２
で済み、この感光材料と処理方法による現像液の疲労が
著しく少ないことが認められた他、長期間、多量の処理
でも現像槽中にカス・ヘドロの発生はみられなかった。 また、水洗部においても、掻き取られた第２有機被覆層
のカスは処理中の印刷版に付着することなく、徐々に循
環系に装着されたフィルターによって回収された。

【００９２】実施例３ 米国特許第３，６３５，７０９号明細書の実施例１に記
載されているアセトンとピロガロールの縮重合により得
られるポリヒドロキシ化合物のナフトキノン−１，２−
ジアジド−５−スルホン酸エステル２重量部、フェノー
ルノボラック樹脂３重量部をを２０重量部の酢酸−２−
メトキシエチルと２０重量部のメチルエチルケトンに溶
解して第１有機被覆層用の感光液を調製した。

【００９３】厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板をナイロ
ンブラシと４００メッシュのパミストンの水懸濁液を用
いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１
０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッ
チングした後、流水で水洗後、これをＶＡ　＝１２．７
Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水
溶液中で１６０クーロン／ｄｍ２　の陽極時電気量で電
解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ
、０．６μ（Ｈａ表示）であった。引き続いて３０％の
硫酸水溶液に浸漬して、５５℃で２分間デスマットした
後、２０％硫酸水溶液中、電流密度２Ａ／ｄｍ２　にお
いて厚さが２．７ｇ／ｍ２になるように陽極酸化した。

【００９４】このような表面処理を施した基板上に、上
記感光液を乾燥重量にして約０．３ｇ／ｍ２になるよう
に塗布、乾燥した。次に、コロイド分散型ウレタン樹脂
（商品名、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３１２Ｂ、固形分濃
度４０％、大日本インキ化学工業（株）製）２０重量部
を８０重量部の水で稀釈分散し、更に染料（商品名、ビ
クトリアピュアブルーＢＯＨ、保土谷化学（株）製）０
．０５重量部を溶解し、上記ｏ−キノンジアジド感光層
の上に乾燥後の重量にして１．５ｇ／ｍ２になるように
塗布、乾燥し、第２有機被覆層を形成した。

【００９５】このようにして得られた感光性平版印刷版
を実施例１と全く同じ方法で処理したところ、形成され
た画像はウレタン特有の高い耐摩耗性を有し、これを用
いて印刷したところ２０万枚を越える良好な印刷物が得
られた。 実施例４ 実施例１において使用されたアルミニウム支持体の替わ
りに厚み０．１ｍｍの透明なポリエチレンテレフタレー
トフイルムを用いて、実施例１と同様にして二層型の感
光性複写材料を作成した。実施例１と同様の露光、現像
処理によって青色の画像を有する透明シートが得られた
。これはオーバーヘッドプロジェクター用の原稿として
用いることができた。

【００９６】実施例５ ５００ｍｌのビーカーに１，２−ジクロルエタン３００
ｇを採り、ポリビニルホルマール（重合度約８００、酢
酸ビニル残基１０．５±１．５、ポリビニル残基５．５
±０．５、電気化学工業（株）製＃１００）の６０ｇを
加えて攪拌溶解した。別に２リットルの三ツ口フラスコ
に攪拌機と滴下ロートを取り付けたものを用意し、７０
０ｍｌの純水を採り、１０ｇのポリビニルアルコール（
日本合成（株）製ＧＬ−０５、ケン化度８６．５〜８９
モル％、平均重合度５００）と２ｇのラウリルアルコー
ル硫酸エステルナトリウム（活性純度７５〜８０％）を
加え攪拌下に溶解した。次いで回転数を１０００ＲＰＭ
に上昇し、先に調製したポリビニルホルマール溶液を滴
下ロートから約５０ｍｌ／分の速度で滴下した。滴下終
了後、室温で約１０分間攪拌を続け、引続いてフラスコ
を約８０℃に加温し約２時間この温度を保って攪拌を続
け、１，２−ジクロルエタンを除去した。

【００９７】得られたエマルジョンを２０００ｍｌの純
粋で稀釈し、実施例１と同様の方法により作ったアルミ
ニウム支持体上に塗設されたｏ−キノンジアジド感光層
の上に、乾燥重量にして１．５ｇ／ｍ２となるように塗
布乾燥し、感光性平版印刷版を得た。これを実施例２と
同じ方法で露光現像したところ、露光部の第２有機被覆
層が除去され、アルミニウム支持体が露出した平版印刷
版が得られ、印刷においても良好なインキ受容性を示し
、約１０万枚の印刷物を得ることができた。 比較例１ 実施例５でポリビニルホルマールをエマルジョンにしな
いで、そのまま１，２−ジクロルエタン溶液からの塗設
を試みたが、ｏ−キノンジアジド感光層が溶解し、満足
な層構成の感光性平版印刷版は得られなかった。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　支持体上に、順に、■活性光線の照射
   によりアルカリ水溶解性が増大する感光性の第１有機被
   覆層、および■皮膜形成能を有し、水不溶性の高分子化
   合物を含む第２有機被覆層を有する感光性複写材料にお
   いて、該第２有機被覆層が、高分子化合物のエマルジョ
   ンを塗布、乾燥することにより形成されたものであるこ
   とを特徴とする感光性複写材料。
2. 【請求項２】　　請求項（１）記載の感光性複写材料を
   画像露光した後、第２有機被覆層に浸透するが、これを
   溶解しない現像液に浸漬する工程および続く水洗工程に
   より、非画像部の第１および第２有機被覆層を除去する
   ことを特徴とする感光性複写材料の処理方法。