JPH04329620A - 電解コンデンサ用電極箔および電解コンデンサ - Google Patents
電解コンデンサ用電極箔および電解コンデンサInfo
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- JPH04329620A JPH04329620A JP12850891A JP12850891A JPH04329620A JP H04329620 A JPH04329620 A JP H04329620A JP 12850891 A JP12850891 A JP 12850891A JP 12850891 A JP12850891 A JP 12850891A JP H04329620 A JPH04329620 A JP H04329620A
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Landscapes
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基材表面に蒸着皮膜を形
成した電解コンデンサ用電極箔および電解コンデンサに
関するものである。
成した電解コンデンサ用電極箔および電解コンデンサに
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウムなどの弁作用金属の陽極箔
と陰極箔をセパレータを介在させて巻回してコンデンサ
素子とした電解コンデンサは、一般にコンデンサ素子に
駆動用電解液を含浸し、アルミニウムなどの金属製ケー
スや合成樹脂製のケースにコンデンサ素子を収納し、密
閉した構造を有する。
と陰極箔をセパレータを介在させて巻回してコンデンサ
素子とした電解コンデンサは、一般にコンデンサ素子に
駆動用電解液を含浸し、アルミニウムなどの金属製ケー
スや合成樹脂製のケースにコンデンサ素子を収納し、密
閉した構造を有する。
【０００３】このような電解コンデンサの駆動用電解液
としては従来、エチレングリコールやγ−ブチロラクト
ンなどの極性有機溶媒の単体あるいはその混合物を主溶
媒とし、これにカルボン酸またはその塩を溶質とし、ま
た必要により糖類、水分、リン酸などを添加剤として溶
解した電解液が一般に使用されている。
としては従来、エチレングリコールやγ−ブチロラクト
ンなどの極性有機溶媒の単体あるいはその混合物を主溶
媒とし、これにカルボン酸またはその塩を溶質とし、ま
た必要により糖類、水分、リン酸などを添加剤として溶
解した電解液が一般に使用されている。
【０００４】また、電解コンデンサの静電容量を高める
ために、電極材料の基材であるアルミニウム箔の表面積
を化学的にあるいは電気化学的にエッチングにより拡大
することが行なわれているが、エッチングが過度になる
とアルミニウム箔表面の溶解が同時に進行して却って拡
面率の増大を妨げることなどの理由から、エッチング技
術による電極材料の静電容量の増大化には限界があった
。このような問題点を解決するために、弁作用金属であ
るアルミニウム箔を基材とし該基材表面を粗面化した後
に、この基材表面に蒸着法により蒸着皮膜を形成した電
極材料を陰極として使用することも特開昭６１−１８０
４２０号、特開昭６１−２１４４２０号、特開昭６２−
５８６０９号、特開昭６２−１５８１３号、特開昭６４
−３３９１８号、特開昭６３−１００７１１号、特開平
１−３０４７２０号公報などにより知られている。
ために、電極材料の基材であるアルミニウム箔の表面積
を化学的にあるいは電気化学的にエッチングにより拡大
することが行なわれているが、エッチングが過度になる
とアルミニウム箔表面の溶解が同時に進行して却って拡
面率の増大を妨げることなどの理由から、エッチング技
術による電極材料の静電容量の増大化には限界があった
。このような問題点を解決するために、弁作用金属であ
るアルミニウム箔を基材とし該基材表面を粗面化した後
に、この基材表面に蒸着法により蒸着皮膜を形成した電
極材料を陰極として使用することも特開昭６１−１８０
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１−３０４７２０号公報などにより知られている。
【０００５】予め基材表面に物理的、化学的または電気
化学的に微細な凹凸を形成すると、蒸着箔の静電容量を
増加させる効果が認められる場合があるが、このような
加工は基材の強度、伸度を著しく損ない、また凹凸加工
工程を必要とするのでコスト面で不利な選択を強いられ
ていた。
化学的に微細な凹凸を形成すると、蒸着箔の静電容量を
増加させる効果が認められる場合があるが、このような
加工は基材の強度、伸度を著しく損ない、また凹凸加工
工程を必要とするのでコスト面で不利な選択を強いられ
ていた。
【０００６】また、蒸着方法について種々の提案が特開
昭５６−２９６６９号、特開昭６４−３３９１５号、特
開昭６４−３３９１８号公報などにより知られている。 即ち、蒸着角度を付けたり、基材を冷却しつつ蒸着する
ことによりチタンを柱状に形成させ、静電容量の発現を
達成することが知られている。
昭５６−２９６６９号、特開昭６４−３３９１５号、特
開昭６４−３３９１８号公報などにより知られている。 即ち、蒸着角度を付けたり、基材を冷却しつつ蒸着する
ことによりチタンを柱状に形成させ、静電容量の発現を
達成することが知られている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】実質的に平滑なアルミ
ニウム箔の基材にチタンを柱状に蒸着により形成させる
場合、即ち、図１にチタン蒸着箔皮膜構造の模式図を示
すが、アルミニウム基材１上に形成されたチタンの柱状
物（以下、カラムという）２と他のカラム２の間隔Ｔが
密であると、相隣なるカラム２、２間に上述した駆動用
電解液が充分に含浸されずに静電容量の発現性が低下し
てしまうという問題点があった。
ニウム箔の基材にチタンを柱状に蒸着により形成させる
場合、即ち、図１にチタン蒸着箔皮膜構造の模式図を示
すが、アルミニウム基材１上に形成されたチタンの柱状
物（以下、カラムという）２と他のカラム２の間隔Ｔが
密であると、相隣なるカラム２、２間に上述した駆動用
電解液が充分に含浸されずに静電容量の発現性が低下し
てしまうという問題点があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明者らは種々の実験および検討を行なっ
た結果、相隣なるカラムの間隔（隙間）が５０オングス
トローム未満であると、駆動用電解液の含浸性が悪く、
静電容量の発現性が乏しいということが判明した。また
、相隣なるカラムの間隔（隙間）が５０オングストロ−
ム以上であると、駆動用電解液の含浸性が改善され、静
電容量の発現性が良好になるということが判明した。 特には、５０〜５００オングストロ−ムの範囲が非常に
良好である。
るために、本発明者らは種々の実験および検討を行なっ
た結果、相隣なるカラムの間隔（隙間）が５０オングス
トローム未満であると、駆動用電解液の含浸性が悪く、
静電容量の発現性が乏しいということが判明した。また
、相隣なるカラムの間隔（隙間）が５０オングストロ−
ム以上であると、駆動用電解液の含浸性が改善され、静
電容量の発現性が良好になるということが判明した。 特には、５０〜５００オングストロ−ムの範囲が非常に
良好である。
【０００９】本発明において、基材としてはアルミニウ
ム箔が好適に使用され、上述のような微細な凹凸が形成
されたアルミニウム箔基材であっても、また実質上平滑
なアルミニウム箔基材であってもよい。平滑なアルミニ
ウム箔を基材に用いることは、引張強度や伸度を損わず
に基材の厚さを薄くすることが可能であり、またコスト
的にも粗面化する工程が不要なために有利である。この
ような基材はコンデンサ素子の陽極箔としても使用でき
るが、陰極箔として使用するのがむしろ好ましい。
ム箔が好適に使用され、上述のような微細な凹凸が形成
されたアルミニウム箔基材であっても、また実質上平滑
なアルミニウム箔基材であってもよい。平滑なアルミニ
ウム箔を基材に用いることは、引張強度や伸度を損わず
に基材の厚さを薄くすることが可能であり、またコスト
的にも粗面化する工程が不要なために有利である。この
ような基材はコンデンサ素子の陽極箔としても使用でき
るが、陰極箔として使用するのがむしろ好ましい。
【００１０】一方、本発明に用いられるコンデンサ素子
の陰極箔としては、５〜６０μｍの厚さの実質上平滑な
アルミニウム箔が基材として使用されるが、特に１０〜
４０μｍのものが好適に使用される。アルミニウム基材
へのチタンの付着形成法としては真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などを例
示することができる。また、真空中または酸素ガス、窒
素やアルゴンなどの不活性ガスなどの雰囲気中で５０〜
３０００オングストロ−ムの厚さに付着形成するのが好
ましい。特に窒素ガス中で蒸着条件を選ぶと窒化チタン
蒸着膜を形成させることができる。該窒化チタン蒸着膜
にはＴｉＮｘ（０＜ｘ≦４／３）で表わされる部分的に
窒化されたチタン薄膜も含まれる。また、該窒化チタン
蒸着膜には窒化チタンと酸化チタンの混合膜も含まれる
。
の陰極箔としては、５〜６０μｍの厚さの実質上平滑な
アルミニウム箔が基材として使用されるが、特に１０〜
４０μｍのものが好適に使用される。アルミニウム基材
へのチタンの付着形成法としては真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などを例
示することができる。また、真空中または酸素ガス、窒
素やアルゴンなどの不活性ガスなどの雰囲気中で５０〜
３０００オングストロ−ムの厚さに付着形成するのが好
ましい。特に窒素ガス中で蒸着条件を選ぶと窒化チタン
蒸着膜を形成させることができる。該窒化チタン蒸着膜
にはＴｉＮｘ（０＜ｘ≦４／３）で表わされる部分的に
窒化されたチタン薄膜も含まれる。また、該窒化チタン
蒸着膜には窒化チタンと酸化チタンの混合膜も含まれる
。
【００１１】本発明において使用される駆動用電解液の
有機極性溶媒としては、電解コンデンサに通常使用され
る有機極性溶媒であればいずれも使用できる。
有機極性溶媒としては、電解コンデンサに通常使用され
る有機極性溶媒であればいずれも使用できる。
【００１２】好ましい溶媒としては、アミド類、ラクト
ン類、グリコ−ル類、硫黄化合物類、ケトン類、エ−テ
ル類または炭酸塩類が使用できる。好ましい具体例とし
ては、炭酸プロピレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
、Ｎ−メチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、エチレンシ
アノヒドリン、エチレングリコ−ル、エチレングリコ−
ルモノまたはジアルキルエ−テル、３−アルキル−１，
３−オキサゾリジン−２−オンなどが使用できる。 特に好ましくは、ラクトン類、エチレングリコ−ル類な
どが用いられる。
ン類、グリコ−ル類、硫黄化合物類、ケトン類、エ−テ
ル類または炭酸塩類が使用できる。好ましい具体例とし
ては、炭酸プロピレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
、Ｎ−メチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、エチレンシ
アノヒドリン、エチレングリコ−ル、エチレングリコ−
ルモノまたはジアルキルエ−テル、３−アルキル−１，
３−オキサゾリジン−２−オンなどが使用できる。 特に好ましくは、ラクトン類、エチレングリコ−ル類な
どが用いられる。
【００１３】本発明において使用される駆動用電解液の
溶質としては、電解コンデンサに通常使用される溶質で
あればいずれも使用できる。特に好ましくは、芳香族カ
ルボン酸または不飽和ジカルボン酸の４級アルキルアン
モニウム塩、芳香族カルボン酸アンモニウム塩などが採
用される。
溶質としては、電解コンデンサに通常使用される溶質で
あればいずれも使用できる。特に好ましくは、芳香族カ
ルボン酸または不飽和ジカルボン酸の４級アルキルアン
モニウム塩、芳香族カルボン酸アンモニウム塩などが採
用される。
【００１４】好ましい溶質としては、ホウ酸やリン酸な
どの無機酸またはその塩、ケイタングステン酸などのヘ
テロポリ酸またはその塩、フェノ−ル性水酸基を有する
有機酸またはその塩、スルホン酸基を有する有機酸また
はその塩、ギ酸やドデシル酸に代表される鎖式モノカル
ボン酸またはその塩、安息香酸やサリチル酸に代表され
る芳香族モノカルボン酸またはその塩、アジピン酸やセ
バシン酸に代表されるる鎖式ジカルボン酸またはその塩
、マレイン酸やシトラコン酸などの不飽和ジカルボン酸
またはその塩、フタル酸やニトロフタル酸やテトラヒド
ロフタル酸からなる環式ジカルボン酸またはその塩、ク
エン酸に代表されるトリカルボン酸またはその塩を例示
することができる。特に好ましくは、芳香族カルボン酸
または不飽和ジカルボンサンの４級アルキルアンモニウ
ム酸、芳香族カルボン酸のアンモニウム塩が採用される
。
どの無機酸またはその塩、ケイタングステン酸などのヘ
テロポリ酸またはその塩、フェノ−ル性水酸基を有する
有機酸またはその塩、スルホン酸基を有する有機酸また
はその塩、ギ酸やドデシル酸に代表される鎖式モノカル
ボン酸またはその塩、安息香酸やサリチル酸に代表され
る芳香族モノカルボン酸またはその塩、アジピン酸やセ
バシン酸に代表されるる鎖式ジカルボン酸またはその塩
、マレイン酸やシトラコン酸などの不飽和ジカルボン酸
またはその塩、フタル酸やニトロフタル酸やテトラヒド
ロフタル酸からなる環式ジカルボン酸またはその塩、ク
エン酸に代表されるトリカルボン酸またはその塩を例示
することができる。特に好ましくは、芳香族カルボン酸
または不飽和ジカルボンサンの４級アルキルアンモニウ
ム酸、芳香族カルボン酸のアンモニウム塩が採用される
。
【００１５】また、塩としてはアンモニウム塩、第１〜
第３級アミン塩、第４級アンモニウム塩を例示すること
ができる。また、伝導度を高めるために水分を添加する
が、コンデンサ特性の経時変化を抑止するためには１５
％以下、好ましくは８％以下、特に好ましくは５％以下
が採用される。
第３級アミン塩、第４級アンモニウム塩を例示すること
ができる。また、伝導度を高めるために水分を添加する
が、コンデンサ特性の経時変化を抑止するためには１５
％以下、好ましくは８％以下、特に好ましくは５％以下
が採用される。
【００１６】
【００１７】＜実施例１＞厚さ１２μｍ、引張強度１．
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムであるチタンの蒸
着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし
、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともに
セパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、
このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロラク
トン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモニウ
ム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、定格
２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した。静
電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの静電
容量を測定したところ、３３５０μＦであった。
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムであるチタンの蒸
着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし
、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともに
セパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、
このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロラク
トン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモニウ
ム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、定格
２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した。静
電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの静電
容量を測定したところ、３３５０μＦであった。
【００１８】＜実施例２＞厚さ１２μｍ、引張強度１．
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムであるチタンの蒸
着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし
、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともに
セパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、
このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロラク
トン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラメチルアンモニウ
ム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、定格
２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した。静
電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの静電
容量を測定したところ、３３１０μＦであった。
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムであるチタンの蒸
着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし
、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともに
セパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、
このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロラク
トン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラメチルアンモニウ
ム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、定格
２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した。静
電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの静電
容量を測定したところ、３３１０μＦであった。
【００１９】＜実施例３＞厚さ１２μｍ、引張強度１．
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムである窒化チタン
の蒸着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔
とし、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とと
もにセパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作
し、このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロ
ラクトン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモ
ニウム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、
定格２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した
。静電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの
静電容量を測定したところ、３２９０μＦであった。
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムである窒化チタン
の蒸着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔
とし、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とと
もにセパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作
し、このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロ
ラクトン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモ
ニウム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、
定格２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した
。静電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの
静電容量を測定したところ、３２９０μＦであった。
【００２０】＜実施例４＞厚さ２０μｍ、引張強度２．
０Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムである窒化チタン
の蒸着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔
とし、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とと
もにセパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作
し、このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロ
ラクトン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモ
ニウム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、
定格２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した
。静電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの
静電容量を測定したところ、３２９５μＦであった。
０Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムである窒化チタン
の蒸着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔
とし、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とと
もにセパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作
し、このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロ
ラクトン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモ
ニウム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、
定格２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した
。静電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの
静電容量を測定したところ、３２９５μＦであった。
【００２１】＜実施例５＞厚さ４０μｍ、引張強度４．
０Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムであるチタンの蒸
着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし
、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともに
セパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、
このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロラク
トン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモニウ
ム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、定格
２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した。静
電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの静電
容量を測定したところ、３３２０μＦであった。
０Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が１００オングストロ−ムであるチタンの蒸
着皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし
、陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともに
セパレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、
このコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロラク
トン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモニウ
ム塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、定格
２５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した。静
電容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの静電
容量を測定したところ、３３２０μＦであった。
【００２２】＜比較例１＞厚さ１２μｍ、引張強度１．
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が２０オングストロ−ムであるチタンの蒸着
皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし、
陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともにセ
パレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、こ
のコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロラクト
ン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモニウム
塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、定格２
５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した。静電
容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの静電容
量を測定したところ、２６４０μＦであった。
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が２０オングストロ−ムであるチタンの蒸着
皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし、
陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともにセ
パレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、こ
のコンデンサ素子に、水分１ｗｔ％、γ−ブチロラクト
ン７４ｗｔ％、ｏ−フタル酸テトラエチルアンモニウム
塩２５ｗｔ％からなる駆動用電解液を含浸させ、定格２
５Ｖ・３３００μＦの電解コンデンサを製作した。静電
容量の発現性を調べるために、電解コンデンサの静電容
量を測定したところ、２６４０μＦであった。
【００２３】＜実施例６＞厚さ１２μｍ、引張強度１．
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が５０オングストロ−ムであるチタンの蒸着
皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし、
陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともにセ
パレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、こ
のコンデンサ素子に、水分１２ｗｔ％、エチレングリコ
−ル７４ｗｔ％、アジピン酸アンモニウム塩１４ｗｔ％
からなる駆動用電解液を含浸させ、定格２５Ｖ・３３０
０μＦの電解コンデンサを製作した。静電容量の発現性
を調べるために、電解コンデンサの静電容量を測定した
ところ、３２８０μＦであった。
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が５０オングストロ−ムであるチタンの蒸着
皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし、
陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともにセ
パレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、こ
のコンデンサ素子に、水分１２ｗｔ％、エチレングリコ
−ル７４ｗｔ％、アジピン酸アンモニウム塩１４ｗｔ％
からなる駆動用電解液を含浸させ、定格２５Ｖ・３３０
０μＦの電解コンデンサを製作した。静電容量の発現性
を調べるために、電解コンデンサの静電容量を測定した
ところ、３２８０μＦであった。
【００２４】＜実施例７＞厚さ１２μｍ、引張強度１．
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が７０オングストロ−ムであるチタンの蒸着
皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし、
陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともにセ
パレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、こ
のコンデンサ素子に、水分１２ｗｔ％、エチレングリコ
−ル７４ｗｔ％、アジピン酸アンモニウム塩１４ｗｔ％
からなる駆動用電解液を含浸させ、定格２５Ｖ・３３０
０μＦの電解コンデンサを製作した。静電容量の発現性
を調べるために、電解コンデンサの静電容量を測定した
ところ、３３４０μＦであった。
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が７０オングストロ−ムであるチタンの蒸着
皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし、
陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともにセ
パレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、こ
のコンデンサ素子に、水分１２ｗｔ％、エチレングリコ
−ル７４ｗｔ％、アジピン酸アンモニウム塩１４ｗｔ％
からなる駆動用電解液を含浸させ、定格２５Ｖ・３３０
０μＦの電解コンデンサを製作した。静電容量の発現性
を調べるために、電解コンデンサの静電容量を測定した
ところ、３３４０μＦであった。
【００２５】＜比較例２＞厚さ１２μｍ、引張強度１．
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が３０オングストロ−ムであるチタンの蒸着
皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし、
陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともにセ
パレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、こ
のコンデンサ素子に、水分１２ｗｔ％、エチレングリコ
−ル７４ｗｔ％、アジピン酸アンモニウム塩１４ｗｔ％
からなる駆動用電解液を含浸させ、定格２５Ｖ・３３０
０μＦの電解コンデンサを製作した。静電容量の発現性
を調べるために、電解コンデンサの静電容量を測定した
ところ、２６１０μＦであった。
２Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑なアルミニウム基材に相隣なるカ
ラムの間隔が３０オングストロ−ムであるチタンの蒸着
皮膜を０．１μｍの厚さに形成し、これを陰極箔とし、
陽極酸化皮膜の形成された９０μｍの陽極箔とともにセ
パレ−タを介して巻回してコンデンサ素子を製作し、こ
のコンデンサ素子に、水分１２ｗｔ％、エチレングリコ
−ル７４ｗｔ％、アジピン酸アンモニウム塩１４ｗｔ％
からなる駆動用電解液を含浸させ、定格２５Ｖ・３３０
０μＦの電解コンデンサを製作した。静電容量の発現性
を調べるために、電解コンデンサの静電容量を測定した
ところ、２６１０μＦであった。
【００２６】
【発明の効果】上述したように本発明ではチタン蒸着箔
の相隣なるチタンのカラムの間隔を５０オングストロ−
ムとしたことにより静電容量の良好なる発現性が得るこ
とができる。
の相隣なるチタンのカラムの間隔を５０オングストロ−
ムとしたことにより静電容量の良好なる発現性が得るこ
とができる。
【図１】チタン蒸着箔皮膜構造の模式図。
１ アルミニウム基材
２ カラム
Claims (3)
- 【請求項１】アルミニウム箔基材上に相隣なるカラムの
間隔が５０オングストロ−ム以上のチタン薄膜および／
または窒化チタン薄膜を形成することを特徴とした電解
コンデンサ用電極箔の製造方法。 - 【請求項２】陽極箔と陰極箔をセパレ−タを介在させて
巻回してコンデンサ素子とした電解コンデンサにおいて
、アルミニウム箔基材上に相隣なるカラムの間隔が５０
オングストロ−ム以上のチタン薄膜および／または窒化
チタン薄膜を形成した電極箔をコンデンサ素子の陰極箔
として使用したことを特徴とする電解コンデンサ。 - 【請求項３】基材に実質上平滑なアルミニウム箔を使用
したことを特徴とする請求項２に記載の電解コンデンサ
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12850891A JPH04329620A (ja) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | 電解コンデンサ用電極箔および電解コンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12850891A JPH04329620A (ja) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | 電解コンデンサ用電極箔および電解コンデンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04329620A true JPH04329620A (ja) | 1992-11-18 |
Family
ID=14986483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12850891A Pending JPH04329620A (ja) | 1991-05-01 | 1991-05-01 | 電解コンデンサ用電極箔および電解コンデンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04329620A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000019468A1 (en) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | Nippon Chemi-Con Corporation | Solid electrolyte capacitor and its manufacturing method |
| WO2000058979A1 (fr) * | 1999-03-29 | 2000-10-05 | Nippon Chemi-Con Corporation | Condensateur a electrolyte solide et procede de production associe |
-
1991
- 1991-05-01 JP JP12850891A patent/JPH04329620A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000019468A1 (en) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | Nippon Chemi-Con Corporation | Solid electrolyte capacitor and its manufacturing method |
| WO2000058979A1 (fr) * | 1999-03-29 | 2000-10-05 | Nippon Chemi-Con Corporation | Condensateur a electrolyte solide et procede de production associe |
| US6504704B1 (en) | 1999-03-29 | 2003-01-07 | Nippon Chem-Con Corporation | Solid electrolytic capacitor and production method thereof |
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