JPH04330054A - カルバペネム誘導体の製造法およびその中間体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の目的】本発明の目的は、カルバペネム誘導体ま
たはその塩の工業的製造法、その重要中間体およびその
塩ならびに該中間体の製造法を提供することである。

【０００２】

【発明の構成】本発明の製造法によって製造される目的
カルバペネム誘導体は下記の一般式（Ｉ）で表わすこと
ができる。

【化４１】 ［式中、Ｒ１　はカルボキシまたは保護されたカルボキ
シ、Ｒ２　はヒドロキシ（低級）アルキルまたは保護さ
れたヒドロキシ（低級）アルキル、Ｒ３　は水素または
低級アルキル、Ｒ６　は有機基をそれぞれ意味する］尚
、前記の目的化合物（Ｉ）および下記の中間体には、不
斉炭素原子に由来する光学異性体などの立体異性体がそ
れぞれ少なくとも１対存在することがあるが、これらの
異性体も本発明の範囲に含まれる。本発明に従って、目
的化合物（Ｉ）またはその塩は、下記の反応式で示され
る諸方法によって製造することができる。

【０００３】方法１

【化４２】

【０００４】方法２

【化４３】

【０００５】方法３

【化４４】

【化４５】

【０００６】方法４

【化４６】

【０００７】方法５

【化４７】

【０００８】方法６

【化４８】

【０００９】方法７

【化４９】 ［上記式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそ
れぞれ前記定義の通りであり、Ｘ１　は脱離基、Ｘ２　
はハロゲン、Ｘ３　は酸残基、Ｒ７　は低級アルコキシ
またはアリール、Ｒ５　は水素、低級アルカンイミドイ
ル、適当な置換基を有していてもよい低級シクロアルケ
ニルまたはイミノ保護基、Ｒ８　は１個または２個の適
当な置換基を有していてもよいカルバモイル、または式
： −Ａ−Ｘ−Ｒ４　 （式中、Ｒ４　は適当な置換基を有する低級アルキル、
適当な置換基で置換されていてもよい複素環基、または
低級アルキルスルホニル、Ａは低級アルキレン、Ｘは硫
黄、酸素、イミノまたは保護されたイミノをそれぞれ意
味する）で示される基、Ｒ６ａは式：

【化５０】 （式中、Ｒ５　およびＲ８　は前記定義の通り）で示さ
れる基以外の有機基、Ｒ２ａは保護されたヒドロキシ（
低級）アルキル、Ｒ２ｂはヒドロキシ（低級）アルキル
をそれぞれ意味する］

【００１０】目的化合物（Ｉ）の好適な塩は慣用の無毒
性な塩であって、たとえばアルカリ金属塩（たとえばナ
トリウム塩、カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（
たとえばカルシウム塩、マグネシウム塩など）、アンモ
ニウム塩などの無機塩基との塩、有機アミン塩（たとえ
ばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタ
ノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘ
キシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩、ジベンジルアミン塩など）などの有機塩基との塩
；無機酸付加塩（たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、燐酸塩など）、有機酸付加塩（たとえば蟻酸塩、酢
酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、
メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエン
スルホン酸塩など）などの酸との塩；塩基性または酸性
アミノ酸（たとえばアルギニン、アスパラギン酸、グル
タミン酸など）との塩；分子内四級塩などを挙げること
ができる。

【００１１】本明細書の以上ならびに以下の記載におい
て、本発明の範囲に包含される種々の定義の好適な実例
ならびに説明を次に詳細に説明する。

【００１２】「低級」なる語は、特記ない限り、炭素原
子数１ないし６個を意味する。

【００１３】好適な「保護されたカルボキシ」としては
、エステル化されたカルボキシを挙げることができ、こ
こで「エステル化されたカルボキシ」としては下記に示
されるのと同じものを挙げることができる。

【００１４】エステル化されたカルボキシの好適なエス
テル部分としては、適当な置換基を少なくとも１個有し
ていてもよい低級アルキルエステル（たとえばメチルエ
ステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロ
ピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、
ｔｅｒｔ−ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキシ
ルエステルなど）、たとえば低級アルカノイルオキシ（
低級）アルキルエステル［たとえばアセトキシメチルエ
ステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリル
オキシメチルエステル、バレリルオキシメチルエステル
、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキ
シメチルエステル、１−（または２−）アセトキシエチ
ルエステル、１−（または２−または３−）アセトキシ
プロピルエステル、１−（または２−または３−または
４−）アセトキシブチルエステル、１−（または２−）
プロピオニルオキシエチルエステル、１−（または２−
または３−）プロピオニルオキシプロピルエステル、１
−（または２−）ブチリルオキシエチルエステル、１−
（または２−）イソブチリルオキシエチルエステル、１
−（または２−）ピバロイルオキシエチルエステル、１
−（または２−）ヘキサノイルオキシエチルエステル、
イソブチリルオキシメチルエステル、２−エチルブチリ
ルオキシメチルエステル、３，３−ジメチルブチリルオ
キシメチルエステル、１−（または２−）ペンタノイル
オキシエチルエステルなど］、低級アルカンスルホニル
（低級）アルキルエステル（たとえば２−メシルエチル
エステルなど）、モノ（またはジまたはトリ）ハロ（低
級）アルキルエステル（たとえば２−ヨードエチルエス
テル、２，２，２−トリクロロエチルエステルなど）、
低級アルコキシカルボニルオキシ（低級）アルキルエス
テル［たとえばメトキシカルボニルオキシメチルエステ
ル、エトキシカルボニルオキシメチルエステル、プロポ
キシカルボニルオキシメチルエステル、ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニルオキシメチルエステル、１−（または２
−）メトキシカルボニルオキシエチルエステル、１−（
または２−）エトキシカルボニルオキシエチルエステル
、１−（または２−）イソプロポキシカルボニルオキシ
エチルエステルなど］、フタリジリデン（低級）アルキ
ルエステル、または（５−低級アルキル−２−オキソ−
１，３−ジオキソール−４−イル）（低級）アルキルエ
ステル［たとえば（５−メチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソール−４−イル）メチルエステル、（５−エチ
ル−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メ
チルエステル、（５−プロピル−２−オキソ−１，３−
ジオキソール−４−イル）エチルエステルなど］；低級
アルケニルエステル（たとえばビニルエステル、アリル
エステルなど）；低級アルキニルエステル（たとえばエ
チニルエステル、プロピニルエステルなど）；適当な置
換基を少なくとも１個有していてもよいアル（低級）ア
ルキルエステル、たとえばハロゲンまたは低級アルコキ
シを有していてもよいモノまたはジまたはトリフェニル
（低級）アルキルエステル（たとえばベンジルエステル
、４−メトキシベンジルエステル、４−ニトロベンジル
エステル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベ
ンズヒドリルエステル、ビス（メトキシフェニル）メチ
ルエステル、３，４−ジメトキシベンジルエステル、４
−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル
エステルなど）；適当な置換基を少なくとも１個有して
いてもよいアリールエステル（たとえばフェニルエステ
ル、４−クロロフェニルエステル、トリルエステル、ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、
メシチルエステル、クメニルエステルなど；フタリジル
エステル；などを挙げることができる。

【００１５】上記の如く定義した保護されたカルボキシ
のより好ましい例としては、Ｃ２　−Ｃ４　アルケニル
オキシカルボニルおよびフェニル（またはニトロフェニ
ル）（Ｃ１　−Ｃ４　）アルコキシカルボニルを挙げる
ことができる。

【００１６】「ヒドロキシ（低級）アルキル」および「
適当な置換基を有する低級アルキル」で例示するヒドロ
キシ（低級）アルキルの好適な例としては、ヒドロキシ
基を有する直鎖または分枝の低級アルキル、たとえばヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、１−（ヒドロキシメチル）エチル、１−ヒドロキシ
−１−メチルエチル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペ
ンチル、ヒドロキシヘキシルなどが挙げられ、なかでも
より好ましいのはヒドロキシ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキ
ルである。

【００１７】好適な「保護されたヒドロキシ（低級）ア
ルキル」および「適当な置換基を有する低級アルキル」
で例示する保護されたヒドロキシ（低級）アルキルとは
、ヒドロキシ部分が後述のイミノ保護基で例示する様な
慣用の保護基で保護された前記のヒドロキシ（低級）ア
ルキルを意味する。すなわち、ヒドロキシ保護基の例と
してはアル（低級）アルキル、たとえばモノまたはジま
たはトリフェニル（低級）アルキル（たとえばベンジル
、ベンズヒドリル、トリチルなど）など；トリ置換シリ
ル、たとえばトリ（低級）アルキルシリル（たとえばト
リメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメ
チルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ジイソ
プロピルメチルシリルなど）、トリアリールシリル（た
とえばトリフェニルシリルなど）、トリアル（低級）ア
ルキルシリル（たとえばトリベンジルシリルなど）など
；などを挙げることができる。

【００１８】上記の如く定義した「保護されたヒドロキ
シ（低級）アルキル」のより好ましい例としては、［フ
ェニル（またはニトロフェニル）（Ｃ１　−Ｃ４　）ア
ルコキシ］カルボニルオキシ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキ
ル、（Ｃ２　−Ｃ４　）アルケニルオキシカルボニルオ
キシ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルおよび［トリ（Ｃ１　
−Ｃ４　）アルキルシリル］オキシ（Ｃ１　−Ｃ４　）
アルキルを挙げることができる。

【００１９】好適な「低級アルキル」としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ
−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの直鎖または分枝ア
ルキルを挙げることができ、なかでもより好ましいのは
Ｃ１　−Ｃ４　アルキルである。

【００２０】好適な「有機基」としては、前記の様な低
級アルキル、モノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）
アルキル（たとえばクロロメチル、ジクロロメチル、ト
リクロロメチル、ブロモメチル、クロロエチル、ジクロ
ロエチル、トリクロロエチル、フルオロエチル、トリフ
ルオロエチルなど）、低級アルケニル（たとえばビニル
、１−プロペニル、アリル、１−メチルアリル、１−ま
たは２−または３−ブテニル、１−または２−または３
−または４−ペンテニル、１−または２−または３−ま
たは４−または５−ヘキセニルなど）、低級アルキニル
（たとえばエチニル、１−プロピニル、プロパルギル、
１−メチルプロパルギル、１−または２−または３−ブ
チニル、１−または２−または３−または４−ペンチニ
ル、１−または２−または３−または４−または５−ヘ
キシニルなど）、１個以上（好ましくは１〜３個）の適
当な置換基を有していてもよいアリール、アル（低級）
アルキル、たとえばフェニル（低級）アルキル（たとえ
ばベンジル、フェネチル、フェニルプロピルなど）、１
個以上（好ましくは１〜３個）の適当な置換基を有して
いてもよい複素環基などを挙げることができる。

【００２１】好適な「脱離基」としては、アル（低級）
アルコキシ、たとえばフェニル（低級）アルコキシ（た
とえばベンジルオキシなど）など；低級アルコキシ（た
とえばエトキシなど）；ハロゲン（たとえば塩素、臭素
、ヨウ素など）；アシルオキシ、たとえば低級アルカノ
イルオキシ（たとえばアセトキシなど）、スルホニルオ
キシ（たとえばメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスル
ホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシなど）など；
などを挙げることができる。

【００２２】好適な「ハロゲン」としては塩素、臭素、
ヨウ素およびフッ素を挙げることができる。

【００２３】好適な「酸残基」としては、アジド、ハロ
ゲン（たとえば塩素、臭素、フッ素またはヨウ素）など
の無機酸残基、アシルオキシ（たとえばベンゼンスルホ
ニルオキシ、トシルオキシ、メタンスルホニルオキシ、
アセトキシなど）などの有機酸残基を挙げることができ
、なかでもより好ましいものとしてはハロゲンを挙げる
ことができる。

【００２４】好適な「低級アルコキシ」としては、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシなどの直鎖または分枝アルコキシが
挙げられ、なかでも好ましいものはＣ１　−Ｃ４　アル
コキシである。

【００２５】好適な「アリール」としては、フェニル、
ナフチルなどが挙げられる。”１個以上の適当な置換基
を有していてもよいアリール”における好適な”置換基
”としては、前に例示した様な低級アルキル、前に例示
した様なハロゲン、ヒドロキシ、保護されたヒドロキシ
、低級アルケニル（たとえばビニル、１−プロペニル、
アリル、１−メチルアリル、１−または２−または３−
ブテニル、１−または２−または３−または４−ペンテ
ニル、１−または２−または３−または４−または５−
ヘキセニルなど）、低級アルキニル（たとえばエチニル
、１−プロピニル、プロパルギル、１−メチルプロパル
ギル、１−または２−または３−ブチニル、１−または
２−または３−または４−ペンチニル、１−または２−
または３−または４−または５−ヘキシニルなど）など
が挙げられる。

【００２６】好適な「適当な置換基を有する低級アルキ
ル」としては、保護されたまたは保護されないヒドロキ
シ（低級）アルキル；保護されたまたは保護されないア
ミノを有する保護されたまたは保護されないヒドロキシ
（低級）アルキル；ハロ（低級）アルキル；保護された
または保護されないカルバモイル（低級）アルキル；保
護されたまたは保護されないアミノ（低級）アルキル；
保護されたまたは保護されないウレイド（低級）アルキ
ル；保護されたまたは保護されないウレイドカルボニル
（低級）アルキル；トリアゾリル（低級）アルキル；モ
ノまたはジ（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル；
保護されたモノ（低級）アルキルアミノ（低級）アルキ
ル；モノまたはジ（低級）アルキルカルバモイル（低級
）アルキル；保護されたまたは保護されないカルボキシ
（低級）アルキルなどを挙げることができる。

【００２７】好適な「保護されたまたは保護されないア
ミノを有する保護されたまたは保護されないヒドロキシ
（低級）アルキル」とは、アミノ基を有する前記のヒド
ロキシ（低級）アルキル、たとえば１−アミノ−１−ヒ
ドロキシメチル、２−アミノ−１−ヒドロキシエチル、
１−アミノ−２−ヒドロキシエチル、３−アミノ−２−
ヒドロキシプロピル、２−アミノ−３−ヒドロキシプロ
ピル、４−アミノ−３−ヒドロキシブチル、５−アミノ
−４−ヒドロキシペンチル、６−アミノ−５−ヒドロキ
シヘキシルなど、ならびにそれらのアミノおよび／また
はヒドロキシ基が以下または先に示した慣用のアミノお
よび／またはヒドロキシ保護基で保護されているものを
意味する。

【００２８】この様に定義される「保護されたまたは保
護されないアミノを有する保護されたまたは保護されな
いヒドロキシ（低級）アルキル」のより好ましい例とし
ては、アミノまたはフェニル（またはニトロフェニル）
（Ｃ１　−Ｃ４　）アルコキシカルボニルアミノを有す
るヒドロキシ（Ｃ１−Ｃ４　）アルキルを挙げることが
できる。

【００２９】好適な「ハロ（低級）アルキル」としては
、少なくとも１個（好ましくは１ないし３個）のハロゲ
ン（たとえば塩素、臭素、ヨウ素、フッ素）を有する直
鎖または分枝低級アルキル、たとえばクロロメチル、フ
ルオロメチル、ブロモメチル、ヨードメチル、クロロエ
チル、ブロモエチル、フルオロエチル、１−（クロロメ
チル）エチル、１−（フルオロメチル）エチル、クロロ
プロピル、フルオロプロピル、フルオロブチル、フルオ
ロペンチル、フルオロヘキシル、ジクロロメチル、ジブ
ロモメチル、ジヨードメチル、ジフルオロメチル、トリ
フルオロメチル、クロロエチル、クロロフルオロエチル
、ジフルオロエチル、トリフルオロエチル、クロロプロ
ピル、ジフルオロプロピル、トリクロロブチル、クロロ
ペンチル、クロロヘキシルなどを挙げることができ、な
かでもより好ましいのはモノハロ（Ｃ１　−Ｃ４　）ア
ルキルである。

【００３０】好適な「カルバモイル（低級）アルキル」
としては、カルバモイル基を有する直鎖または分枝低級
アルキル、たとえばカルバモイルメチル、カルバモイル
エチル、カルバモイルプロピル、１−（カルバモイルメ
チル）エチル、１−カルバモイル−１−メチルエチル、
カルバモイルブチル、カルバモイルペンチル、カルバモ
イルヘキシルなどを挙げることができ、なかでもより好
ましいのはカルバモイル（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルで
ある。

【００３１】好適な「保護されたカルバモイル（低級）
アルキル」とは、カルバモイル部分が以下の如き慣用の
カルバモイル保護基で保護された前記のカルバモイル（
低級）アルキルを意味する。すなわち、カルバモイル保
護基としては、モノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級
）アルカノイル（たとえばトリクロロアセチルなど）、
適当な置換基を有していてもよいアル（低級）アルキル
、たとえばモノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級
）アルキル（たとえばベンジル、フェネチル、ベンズヒ
ドリル、トリチルなど）、モノ（またはジ）低級アルコ
キシフェニル（低級）アルキル（たとえば２，４−ジメ
トキシベンジルなど）、ビス（低級アルコキシフェニル
）（低級）アルキル［たとえばビス（４−メトキシフェ
ニル）メチルなど］など、さらにハロスルホニル（たと
えばクロロスルホニルなど）などを挙げることができ、
なかでもより好ましいのはトリハロ（Ｃ１−Ｃ４　）ア
ルカノイル、ビス［（Ｃ１　−Ｃ４　）アルコキシフェ
ニル］（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルおよびハロスルホニ
ルである。

【００３２】上記の如く定義した「保護されたカルバモ
イル（低級）アルキル」のより好ましい例としては、ト
リハロ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルカノイルカルバモイル（
Ｃ１　−Ｃ４　）アルキル、Ｎ−［ビス｛（Ｃ１　−Ｃ
４　）アルコキシフェニル｝（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキ
ル］カルバモイル（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルおよびハ
ロスルホニルカルバモイル（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキル
を挙げることができる。

【００３３】好適な「アミノ（低級）アルキル」として
は、アミノ基を有する直鎖または分枝低級アルキル、た
とえばアミノメチル、１−（または２−）アミノエチル
、アミノプロピル、アミノブチル、２−アミノ−１，１
−ジメチルエチル、１−（または２−または３−）アミ
ノ−１−（または２−）メチルプロピル、アミノペンチ
ル、アミノヘキシルなどを挙げることができ、なかでも
より好ましいのはアミノ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルで
ある。

【００３４】好適な「保護されたアミノ（低級）アルキ
ル」とは、アミノ部分が前記の保護されたヒドロキシ（
低級）アルキルで例示した如き慣用の保護基で保護され
た前記のアミノ（低級）アルキルを意味し、なかでもよ
り好ましいアミノ保護基としては、フェニル（またはニ
トロフェニル）（Ｃ１　−Ｃ４　）アルコキシカルボニ
ルおよびＣ１　−Ｃ４　アルキルスルホニルを挙げるこ
とができる。

【００３５】上記の如く定義した「保護されたアミノ（
低級）アルキル」のより好ましい例としては、Ｎ−［フ
ェニル（またはニトロフェニル）（Ｃ１　−Ｃ４　）ア
ルコキシカルボニル］アミノ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキ
ルおよび（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルスルホニルアミノ
（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルを挙げることができる。

【００３６】好適な「ウレイド（低級）アルキル」とし
てはウレイド基を有する直鎖または分枝低級アルキル、
たとえばウレイドメチル、ウレイドエチル、ウレイドプ
ロピル、１−（ウレイドメチル）エチル、１−ウレイド
−１−メチルエチル、ウレイドブチル、１，１−ジメチ
ル−２−ウレイドエチル、ウレイドペンチル、ウレイド
ヘキシルなどを挙げることができ、なかでもより好まし
いのはウレイド（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルである。

【００３７】好適な「保護されたウレイド（低級）アル
キル」とは、ウレイド部分が下記の如き慣用のウレイド
保護基で保護された前記のウレイド（低級）アルキルを
意味する。すなわち、ウレイド保護基としては適当な置
換基を有していてもよいアル（低級）アルキル、たとえ
ばモノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルキ
ル（たとえばベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、
トリチルなど）、モノ（またはジ）低級アルコキシフェ
ニル（低級）アルキル（たとえば２，４−ジメトキシベ
ンジルなど）、ビス（低級アルコキシフェニル）（低級
）アルキル［たとえばビス（４−メトキシフェニル）メ
チルなど］などを挙げることができ、なかでもより好ま
しいのはフェニル（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルである。

【００３８】好適な「ウレイドカルボニル（低級）アル
キル」としては、ウレイドカルボニル基を有する直鎖ま
たは分枝低級アルキル、たとえばウレイドカルボニルメ
チル、ウレイドカルボニルエチル、ウレイドカルボニル
プロピル、１−（ウレイドカルボニルメチル）エチル、
１−ウレイドカルボニル−１−メチルエチル、ウレイド
カルボニルブチル、１，１−ジメチル−２−ウレイドカ
ルボニルエチル、ウレイドカルボニルペンチル、ウレイ
ドカルボニルヘキシルなどを挙げることができる。

【００３９】好適な「保護されたウレイドカルボニル（
低級）アルキル」とは、ウレイド部分が下記の如き慣用
のウレイド保護基で保護された前記のウレイドカルボニ
ル（低級）アルキルを意味する。すなわち、ウレイド保
護基としては、適当な置換基を有していてもよいアル（
低級）アルキル、たとえばモノ（またはジまたはトリ）
フェニル（低級）アルキル（たとえばベンジル、フェネ
チル、ベンズヒドリル、トリチルなど）、モノ（または
ジ）低級アルコキシフェニル（低級）アルキル（たとえ
ば２，４−ジメトキシベンジルなど）、ビス（低級）ア
ルコキシフェニル）（低級）アルキル［たとえばビス（
４−メトキシフェニル）メチルなど］などを挙げること
ができ、なかでもより好ましいのはフェニル（Ｃ１　−
Ｃ４　）アルキルである。

【００４０】好適な「トリアゾリル（低級）アルキル」
としては、トリアゾリル基を有する直鎖または分枝低級
アルキル、たとえばトリアゾリルメチル、トリアゾリル
エチル、トリアゾリルプロピル、１−（トリアゾリルメ
チル）エチル、１−トリアゾリル−１−メチルエチル、
トリアゾリルブチル、トリアゾリルペンチル、トリアゾ
リルヘキシルなどが挙げられ、なかでもより好ましいの
はトリアゾリル（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルである。

【００４１】好適な「モノまたはジ（低級）アルキルア
ミノ（低級）アルキル」とは、直鎖または分枝のモノま
たはジ（低級）アルキルアミノ基を有する前記の直鎖ま
たは分枝低級アルキルを意味し、ここで直鎖または分枝
モノまたはジ（低級）アルキルアミノ基としては、メチ
ルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルア
ミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、プロピルアミノ
、ジプロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミ
ノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノなどが挙げられる
。この様に定義したモノまたはジ（低級）アルキルアミ
ノ（低級）アルキルのより好ましい例としては、モノま
たはジ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルアミノ（Ｃ１　−Ｃ
４　）アルキルである。

【００４２】好適な「保護されたモノ（低級）アルキル
アミノ（低級）アルキル」とは、アミノ部分が前記の「
保護されたヒドロキシ（低級）アルキル」の説明でヒド
ロキシ保護基として例示したのと同様の慣用のアミノ保
護基で保護された前記モノ（低級）アルキルアミノ（低
級）アルキルを意味し、なかでもより好ましいアミノ保
護基としてはフェニル（またはニトロフェニル）（Ｃ１
　−Ｃ４　）アルコキシカルボニルを挙げることができ
る。

【００４３】上記で定義した保護されたモノ（低級）ア
ルキルアミノ（低級）アルキルの好ましい例としては、
Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−ニトロフェニル（低級）ア
ルコキシカルボニルアミノ（低級）アルキルが挙げられ
、より好ましいものとしてはＮ−（Ｃ１　−Ｃ４　）ア
ルキル−Ｎ−（４−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アミノ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルを挙げることができ
る。

【００４４】好適な「モノまたはジ（低級）アルキルカ
ルバモイル（低級）アルキル」とは、直鎖または分枝の
モノまたはジ（低級）アルキルカルバモイル基、たとえ
ばメチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチル
カルバモイル、ジエチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ
−エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、ジプロ
ピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ブチル
カルバモイル、ペンチルカルバモイル、ヘキシルカルバ
モイルなどを有する前記の直鎖または分枝低級アルキル
を意味する。

【００４５】かく定義したモノまたはジ（低級）アルキ
ルカルバモイル（低級）アルキルのより好ましい例とし
ては、モノまたはジ（Ｃ１　−Ｃ４）アルキルカルバモ
イル（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルを挙げることができる
。

【００４６】好適な「カルボキシ（低級）アルキル」と
は、たとえばカルボキシメチル、カルボキシエチル、カ
ルボキシプロピル、１−（カルボキシメチル）エチル、
１−カルボキシ−１−メチルエチル、カルボキシブチル
、カルボキシペンチル、カルボキシヘキシルなど、カル
ボキシ基を有する前記の直鎖または分枝低級アルキルを
意味する。なかでもより好ましい例としては、カルボキ
シ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルを挙げることができる。

【００４７】好適な「保護されたカルボキシ（低級）ア
ルキル」とは、カルボキシ部分が前記の「保護されたカ
ルボキシ」の説明中で例示した様な言わゆる「エステル
化されたカルボキシ」を形成する慣用のカルボキシ保護
基で保護された前記のカルボキシ（低級）アルキルを意
味する。この様に定義した保護されたカルボキシ（低級
）アルキルの好ましい例としては、低級アルケニルオキ
シカルボニル（低級）アルキルおよびモノまたはジまた
はトリフェニル（低級）アルコキシカルボニル（低級）
アルキルを挙げることができ、これらはニトロまたは低
級アルコキシを有していてもよく、さらに好ましい例と
しては、（Ｃ２　−Ｃ４　）アルケニルオキシカルボニ
ル（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルおよびフェニル（または
ニトロフェニル）（Ｃ１　−Ｃ４　）アルコキシカルボ
ニル（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルを挙げることができる
。

【００４８】好適な「複素環基」としては、酸素、硫黄
および窒素原子などのヘテロ原子を少なくとも１個有す
る飽和または不飽和の単環式または多環式の複素環基を
挙げることができる。

【００４９】好ましい複素環基としては、窒素原子１な
いし４個を有する３ないし８員、より好ましくは５ない
し６員の不飽和複素単環基、たとえばピロリル、ピロリ
ニル、イミダゾリル、イミダゾリニル、ピラゾリル、ピ
ラゾリニル、ピリジル、ピリジルＮ−オキシド、ピリジ
ニオ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル（たと
えば１，２，３，６−テトラヒドロピリジルなど）、ピ
リミジニル、ピリミジニオ、ピラジニル、ピラジニオ、
ピリダジニル、ピリダジニオ、トリアジニル（たとえば
１，３，５−トリアジニル、１，２，４−トリアジニル
および１，２，３−トリアジニル）、テトラヒドロトリ
アジニル（たとえば１，２，５，６−テトラヒドロ−１
，２，４−トリアジニル、１，４，５，６−テトラヒド
ロ−１，２，４−トリアジニルなど）、トリアジニオ、
トリアゾリル（たとえば１Ｈ−１，２，４−トリアゾリ
ル、１Ｈ−１，２，３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，
３−トリアゾリルなど）、トリアゾリオ、テトラジニル
、テトラジニオ、テトラゾリル（たとえば１Ｈ−テトラ
ゾリルおよび２Ｈ−テトラゾリル）、テトラゾリオなど
；窒素原子１ないし４個を有する３ないし８員、より好
ましくは５ないし６員の飽和複素単環基、たとえばピロ
リジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニ
ルなど；硫黄原子１ないし２個および窒素原子１ないし
３個を有する３ないし８員、より好ましくは５ないし６
員の不飽和複素単環基、たとえばチアゾリル、チアゾリ
オ、イソチアゾリル、チアジアゾリル（たとえば１，２
，３−チアジアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、
１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾ
リル）、チアジアゾリオ、チアゾリニル、ジヒドロチア
ジニルなど；などを挙げることができる。

【００５０】「適当な置換基で置換されていてもよい複
素環基」における好適な「置換基」としては、低級アル
キル（たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシルなど）；
アミノ部分が前記の低級アルキル基１ないし２個で置換
されていてもよいアミノまたはアミノ（低級）アルキル
（たとえばアミノメチル、１−（または２−）アミノエ
チル、アミノプロピル、アミノブチル、１−（または２
−または３−）アミノ−１−（または２−）メチルプロ
ピル、アミノペンチル、アミノヘキシルなど）；などを
挙げることができ、さらに、複素環基がピロリジニルの
場合、ピロリジン環のイミノ部分は後で述べる慣用のイ
ミノ保護基で保護されていてもよい。

【００５１】「適当な置換基で置換されていてもよい複
素環基」のより好ましい例としては、窒素原子１ないし
４個、あるいは硫黄原子１ないし２個と窒素原子１ない
し３個を有する５ないし６員の飽和または不飽和複素単
環基が挙げられ、これらはＣ１　−Ｃ４　アルキル、Ｎ
，Ｎ−ジ（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルアミノ（Ｃ１　−
Ｃ４　）アルキルまたはフェニル（またはニトロフェニ
ル）（Ｃ１　−Ｃ４　）アルコキシカルボニルを有して
いてもよい。

【００５２】「１個以上の適当な置換基を有していても
よい複素環基」における好適な「置換基」としては、前
に例示した様な低級アルキル、１個または２個の適当な
置換基を有していてもよいカルバモイル、適当な置換基
を有していてもよい低級シクロアルケニル、低級アルケ
ニル（たとえばビニル、１−プロペニル、アリル、１−
メチルアリル、１−または２−または３−ブテニル、１
−または２−または３−または４−ペンテニル、１−ま
たは２−または３−または４−または５−ヘキセニルな
ど）、低級アルキニル（たとえばエチニル、１−プロピ
ニル、プロパルギル、１−メチルプロパルギル、１−ま
たは２−または３−ブチニル、１−または２−または３
−または４−ペンチニル、１−または２−または３−ま
たは４−または５−ヘキシニルなど）、式：−Ａ−Ｘ−
Ｒ４ ［式中、Ａ、ＸおよびＲ４は前記定義の通り］で示され
る基などを挙げることができ、さらに、複素環基がピロ
リジニルの場合、ピロリジン環のイミノ部分は後で述べ
る慣用のイミノ保護基で保護されていてもよい。

【００５３】「１個以上の適当な置換基を有していても
よい複素環基」のより好ましい例としては、式：

【化５
１】 ［式中、Ｒ５　およびＲ８　は前記定義の通り］で示さ
れる基が挙げられる。

【００５４】「１個または２個の適当な置換基を有して
いてもよいカルバモイル」における好適な「置換基」と
しては、前に例示した様なアルキル、低級アルケニル（
たとえばビニル、１−プロペニル、アリル、１−メチル
アリル、１−または２−または３−ブテニル、１−また
は２−または３−または４−ペンテニル、１−または２
−または３−または４−または５−ヘキセニルなど）、
低級アルキニル（たとえばエチニル、１−プロピニル、
プロパルギル、１−メチルプロパルギル、１−または２
−または３−ブチニル、１−または２−または３−また
は４−ペンチニル、１−または２−または３−または４
−または５−ヘキシニルなど）などが挙げられる。

【００５５】好適な「低級アルキルスルホニル」として
は、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルス
ルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘ
キシルスルホニルなどを挙げることができ、なかでもよ
り好ましいのは（Ｃ１　−Ｃ４　）アルキルスルホニル
である。

【００５６】好適な「低級アルカンイミドイル」として
は、ホルムイミドイル、アセトイミドイル、プロピオン
イミドイル、ブチロイミドイル、イソバレルイミドイル
、ペンタンイミドイル、ヘキサンイミドイルなどの直鎖
または分枝のアルカンイミドイルを挙げることができ、
なかでもより好ましいのは（Ｃ１　−Ｃ４　）アルカン
イミドイルである。

【００５７】「適当な置換基を有していてもよい低級シ
クロアルケニル」の好適な低級シクロアルケニル」とし
ては、Ｃ３　−Ｃ６　のシクロアルケニル、たとえばシ
クロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、
シクロヘキセニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキ
サジエニルなどを挙げることができ、ここで前記低級シ
クロアルケニル部分は、適当な置換基、たとえばオキソ
、アミノ、そのアミノ保護基が先に述べた如きものであ
る保護されたアミノなどを有していてもよい。

【００５８】この様に定義した「適当な置換基を有して
いてもよい低級シクロアルケニル」のより好ましい例と
しては、アミノおよびオキソからなる群より選ばれる適
当な置換基で置換されていてもよいＣ４　−Ｃ６　炭素
原子を有する３−オキソ−１−シクロアルケン−１−イ
ルを挙げることができる。

【００５９】好適な「イミノ保護基」としては、カルバ
モイル、脂肪族アシル、芳香族アシル、複素環アシルお
よびカルボン酸、炭酸、スルホン酸、カルバミン酸から
誘導される芳香族基または複素環基で置換された脂肪族
アシルなどのアシルを挙げることができる。

【００６０】前記脂肪族アシルとしては、飽和または不
飽和の非環式または環式アシル、たとえば低級アルカノ
イル（たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバ
ロイル、ヘキサノイルなど）などのアルカノイル、低級
アルキルスルホニル（たとえばメシル、エチルスルホニ
ル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブ
チルスルホニル、イソブチルスルホニル、ペンチルスル
ホニル、ヘキシルスルホニルなど）などのアルキルスル
ホニル、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバモイル（た
とえばメチルカルバモイル、エチルカルバモイルなど）
、低級アルコキシカルボニル（たとえばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルなど
）などのアルコキシカルボニル、低級アルケニルオキシ
カルボニル（たとえばビニルオキシカルボニル、アリル
オキシカルボニルなど）などのアルケニルオキシカルボ
ニル、低級アルケノイル（たとえばアクリロイル、メタ
クリロイル、クロトノイルなど）などのアルケノイル、
シクロ（低級）アルカンカルボニル（たとえばシクロプ
ロパンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロ
ヘキサンカルボニルなど）などのシクロアルカンカルボ
ニルなどを挙げることができる。

【００６１】芳香族基で置換された脂肪族アシルとして
は、フェニル（低級）アルコキシカルボニル（たとえば
ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニ
ルなど）などのアル（低級）アルコキシカルボニルを挙
げることができる。

【００６２】これらのアシル基は、さらに１個またはそ
れ以上の適当な置換基、たとえばニトロなど、で置換さ
れていてもよく、この様な置換基を有するアシルの好ま
しい例としては、ニトロアル（低級）アルコキシカルボ
ニル（たとえばニトロベンジルオキシカルボニルなど）
などを挙げることができる。

【００６３】先に定義した「イミノ保護基」の好ましい
例としては、低級アルケニルオキシカルボニルおよびフ
ェニル（またはニトロフェニル）（低級）アルコキシカ
ルボニルなどが挙げられ、より好ましくは（Ｃ２　−Ｃ
４　）アルケニルオキシカルボニルおよびフェニル（ま
たはニトロフェニル）（Ｃ１　−Ｃ４　）アルコキシカ
ルボニルを挙げることができる。

【００６４】好適な「低級アルキレン」としては、メチ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、メチルメチレン、エチル
エチレン、プロピレンなどの直鎖または分枝のアルキレ
ンを挙げることができ、なかでもより好ましいのはＣ１
　−Ｃ４　アルキレンである。

【００６５】「保護されたイミノ」における好適なイミ
ノ保護基としては、前記の「イミノ保護基」で例示した
のと同じものを挙げることができる。

【００６６】次に、本発明の目的化合物（Ｉ）の製造法
を詳細に説明する。

【００６７】方法１−１ 化合物（ＩＶ）またはその塩、または化合物（ＩＶ）ま
たはその塩および化合物（Ｖ）またはその塩は、化合物
（ＩＩ）またはその塩を化合物（ＩＩＩ）またはその塩
と反応させることによって製造することができる。本反
応は、通常、ルイス酸および塩基の存在下で行われる。 好適なルイス酸としては、ハロゲン化銅（Ｉ）（たとえ
ば塩化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）など）、ハロゲン化コバ
ルト（ＩＩ）（たとえば塩化コバルト（ＩＩ）、臭化コ
バルト（ＩＩ）など）、ハロゲン化亜鉛（たとえば塩化
亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛など）、ハロチタントリ（
低級）アルコキシド（たとえばクロロチタントリエトキ
シド、ブロモチタントリエトキシド、クロロチタントリ
イソプロポキシド、ブロモチタントリイソプロポキシド
など）、四ハロゲン化チタン（たとえば四塩化チタンな
ど）、アルカンスルホン酸スズ（ＩＩ）（たとえばメタ
ンスルホン酸スズ（ＩＩ）、エタンスルホン酸スズ（Ｉ
Ｉ）など）、モノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）
アルカンスルホン酸スズ（ＩＩ）（たとえばトリフルオ
ロメタンスルホン酸スズ（ＩＩ）など）、［モノ（また
はジまたはトリ）ハロ（低級）アルキルスルホニルオキ
シ］トリ（低級）アルキルシラン［たとえば（トリフル
オロメチルスルホニルオキシ）トリメチルシラン、（ト
リフルオロメチルスルホニルオキシ）トリエチルシラン
など］、などを挙げることができる。

【００６８】好適な塩基としては、アルカリ金属水酸化
物（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）
、アルカリ土類金属水酸化物（たとえば水酸化マグネシ
ウム、水酸化カルシウムなど）、アルカリ金属水素化物
（たとえば水素化ナトリウム、水素化カリウムなど）、
アルカリ土類金属水素化物（たとえば水素化カルシウム
など）、アルカリ金属アルコキシド（たとえばナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒ
ｔ−ブトキシドなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金
属炭酸塩（たとえば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム
など）、アルカリ金属重炭酸塩（たとえば重炭酸ナトリ
ウム、重炭酸カリウムなど）、低級アルキルアルカリ金
属（たとえばブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウ
ムなど）、アルカリ金属ジ（低級）アルキルアミド（た
とえばリチウムジメチルアミド、リチウムジエチルアミ
ド、リチウムジイソプロピルアミドなど）、ジ（低級）
アルキルアミン（たとえばジメチルアミン、ジエチルア
ミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミンなど）、
トリ（低級）アルキルアミン（たとえばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−Ｎ−
エチルアミンなど）、ピリジン化合物［たとえばピリジ
ン、ピコリン、ルチジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジンなどのＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルアミノピリジン
など］、キノリン、Ｎ−低級アルキルモルホリン（たと
えばＮ−メチルモルホリンなど）、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）
アルキルベンジルアミン（たとえばＮ，Ｎ−ジメチルベ
ンジルアミンなど）などを挙げることができる。反応は
、通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの慣用の溶媒、その他反応に悪影響を及ぼさない有
機溶媒などの溶媒中で行われる。反応温度は特に限定さ
れず、通常、室温ないし加熱下で反応は行われる。

【００６９】方法１−２ 化合物（ＩＶ）またはその塩は、化合物（Ｖ）またはそ
の塩を転位反応に付すことによって製造することができ
る。本反応は、化合物（Ｖ）またはその塩を方法１−１
で示した如きルイス酸で処理することによって行われる
。反応は、通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの慣用の溶媒、その他反応に悪影響を及ぼ
さない有機溶媒などの溶媒中で行われる。反応温度は特
に限定されず、通常、室温ないし加熱下で反応は行われ
る。

【００７０】方法１の反応において、目的化合物（ＩＶ
）またはその塩は選択的に、下記一般式：

【化５２】 で表わされるβ−体で得ることができる。

【００７１】方法２ 化合物（ＩＶｂ）またはその塩は、化合物（ＩＶａ）ま
たはその塩を化合物（ＸＩＶ）またはその塩と反応させ
ることによって製造することができる。本反応は、通常
、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホル
ム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン
、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
慣用の溶媒、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒
などの溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず、
通常、冷却ないし加温下で反応は行われる。反応は通常
、方法１−１で挙げられた様なルイス酸の存在下で行わ
れる。

【００７２】方法３−１ 化合物（ＶＩＩ）またはその塩は、化合物（ＩＶ）また
はその塩を化合物（ＶＩ）またはその反応性均等物また
はその塩と反応させることによって製造することができ
る。化合物（ＶＩ）の好ましい反応性均等物としては、
式：

【化５３】 （式中、Ｒ１　は前記定義の通りである）で表わされる
化合物などを挙げることができる。反応は、通常、アセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩
化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの慣用の
溶媒、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの
溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず、通常、
室温ないし加熱下で反応は行われる。

【００７３】方法３−２ 化合物（ＶＩＩＩ）またはその塩は、化合物（ＶＩＩ）
またはその塩をハロゲン化反応に付すことによって製造
できる。本ハロゲン化反応はオキシハロゲン化燐（たと
えばオキシ塩化燐、オキシ臭化燐など）、五ハロゲン化
燐（たとえば五臭化燐、五塩化燐、五フッ化燐など）、
三ハロゲン化燐（たとえば三臭化燐、三塩化燐、三フッ
化燐など）、ハロゲン化チオニル（たとえば臭化チオニ
ル、塩化チオニルなど）、トリフェニルホスフィンと四
ハロゲン化炭素（たとえば四塩化炭素など）との組合せ
などの慣用のハロゲン化剤を用いて行われる。反応は、
通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフ
ラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの慣用の溶媒、その他反応に悪影響を及ぼさない有機
溶媒などの溶媒中で行われる。反応温度は特に限定され
ず、通常、冷却ないし過熱下で反応は行われる。

【００７４】方法３−３ 化合物（Ｘ）またはその塩は、化合物（ＶＩＩＩ）また
はその塩を化合物（ＩＸ）と反応させることによって製
造できる。本反応は、通常、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの慣用の溶媒、その他反応に悪
影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒中で行われる。反
応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で反
応は行われる。本反応は、方法１−１で例示したのと同
じ有機または無機塩基の存在下で行うことが好ましい。

【００７５】方法４−１ 化合物（ＸＩＩ）またはその塩は、化合物（ＩＶ）また
はその塩を化合物（ＸＩ）またはその塩と反応させるこ
とによって製造することができる。本反応は、通常、方
法１−１で述べた如き塩基の存在下で行われる。本反応
は、通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの慣用の溶媒、その他反応に悪影響を及ぼさない
有機溶媒などの溶媒中で行われる。反応温度は特に限定
されず、通常、冷却ないし加温下で反応は行われる。

【００７６】方法４−２ 化合物（Ｘ）またはその塩は、化合物（ＸＩＩ）または
その塩を化合物（ＩＸ）と反応させることによって製造
することができる。本反応は、通常、アセトン、ジオキ
サン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、
塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの慣用の溶媒、その他
反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒中で行わ
れる。反応温度は特に限定されず、通常、加温ないし加
熱下で反応は行われる。

【００７７】方法５ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（Ｘ）またはその
塩を環化反応に付すことによって製造することができる
。本反応は、通常、アセトン、ジオキサン、アセトニト
リル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン
、キシレンなどの慣用の溶媒、その他反応に悪影響を及
ぼさない有機溶媒などの溶媒中で行われる。反応温度は
特に限定されず、通常、加温ないし加熱下で反応は行わ
れる。

【００７８】方法６−１ 化合物（ＸＩＩＩ）またはその塩は、化合物（Ｉａ）ま
たはその塩を酸化反応に付すことによって製造すること
ができる。本酸化反応は、無機の過酸またはその塩（た
とえば過ヨウ素酸、過硫酸またはそのナトリウムまたは
カリウム塩など）、有機の過酸またはその塩（たとえば
過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸、過蟻酸、過酢酸、
クロロ過酢酸、トリフルオロ過酢酸、またはそのナトリ
ウムまたはカリウム塩など）、オゾン、過酸化水素、ペ
ルオキソホウ酸塩（たとえばペルオキソホウ酸ナトリウ
ムなど）、亜塩素酸塩（たとえば亜塩素酸ナトリウムな
ど）、亜臭素酸塩（たとえば亜臭素酸ナトリウムなど）
などの酸化剤を用いる慣用の方法によって行われる。反
応は、通常、水、アルコール（たとえばメタノール、エ
タノールなど）、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの慣用の溶媒、その他反応に悪影響を及ぼ
さない有機溶媒などの溶媒中で行われる。反応温度は特
に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で反応は行われ
る。

【００７９】方法６−２ 化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（ＸＩＩＩ）ま
たはその塩を化合物（ＸＩＶ）またはその塩と反応させ
ることによって製造することができる。反応は、通常、
水、アルコール（たとえばメタノール、エタノールなど
）、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホ
ルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の慣用の溶媒、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶
媒などの溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず
、通常、冷却ないし加熱下で反応は行われる。反応は、
通常、方法１−１で述べた如き塩基の存在下で行われる
。

【００８０】方法７ 化合物（Ｉｄ）またはその塩は、化合物（Ｉｃ）または
その塩をＲ２ａのヒドロキシ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造することができる。この反応は通常加水分
解、還元等のような常法によって行われる。 （ｉ）加水分解 加水分解は塩基または酸の存在下に行うのが好ましい。 好適な塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化マグ
ネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸
化物、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のア
ルカリ金属水素化物、例えば水素化カルシウム等のアル
カリ土類金属水素化物、例えばナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシド等の
アルカリ金属アルコキシド、例えば炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、および例えば炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭
酸塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
のアルカリ金属炭酸水素塩等が挙げられる。好適な酸と
しては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオ
ロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸
等の有機酸および例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸
等の無機酸が挙げられる。トリフルオロ酢酸を使用する
酸性加水分解は通常、例えばフェノール、アニソール等
の陽イオン捕捉剤の添加により加速される。ヒドロキシ
保護基がトリ（低級）アルキルシリル基である場合には
、例えばフッ化トリブチルアンモニウム等のトリ（低級
）アルキルアンモニウムハロゲン化物の存在下に加水分
解を行うことができる。この反応は通常、水、ジクロロ
メタン、例えばメタノール、エタノール等のアルコール
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン等のよう
な反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中、またはそれ
らの混合物中で行われる。液状の塩基または酸も溶媒と
して使用することができる。反応温度は特に限定されず
、冷却下ないし加熱下までの範囲で反応を行うことがで
きる。

【００８１】（ｉｉ）還元 この脱離反応に適用されうる還元法としては、例えば亜
鉛、亜鉛アマルガム等の金属または例えば塩化クロム、
酢酸クロム等のクロム化合物の塩と、例えば酢酸、プロ
ピオン酸、塩酸、硫酸等の有機酸または無機酸との組合
わせを使用することによる還元；および例えばパラジウ
ム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム−
炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウム
、パラジウム−炭酸バリウム、水酸化パラジウム−炭素
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば白金板、
白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等
の白金触媒等のような常用の金属触媒の存在下における
慣用の接触還元がその例として挙げられる。接触還元を
適用する場合、中性付近の条件で反応を行うのが好まし
い。この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、酢酸、例えば燐酸塩緩衝液、酢酸塩緩衝
液等の緩衝溶液等のような反応に悪影響を及ぼさない常
用の溶媒中、またはそれらの混合物中で行われる。 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。前記方法中の化合物の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）で例示したものと同じ様なもの
を挙げることができる。

【００８２】以下、この発明を製造例および実施例によ
りさらに詳細に説明する。

【００８３】製造例１ １５％ナトリウムメタンチオラート水溶液（２５０ｇ）
を水（２５０ｍｌ）とテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ
）の混合物に加え、溶液を０−５℃に冷却する。塩化ベ
ンジルトリメチルアンモニウム（０．１０ｇ）を加え、
次いで塩化プロピオニル（４６．５ｍｌ）のテトラヒド
ロフラン（４７ｍｌ）溶液を撹拌下１．５時間かけて滴
下する。混合物を０−５℃で３０分間、室温で１時間撹
拌する。混合物をイソプロピルエーテル（２００ｍｌ）
で抽出する。有機層を水（２００ｍｌ×２）で洗滌し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、さらに７６０ｍｍＨｇで蒸
留してテトラヒドロフランとイソプロピルエーテルを留
去する。残留油状物を６４−７０℃、１３５ｍｍＨｇで
蒸留して、Ｓ−メチルプロパンチオアート（３７．８ｇ
）を得る。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　１．１９　（３Ｈ，
ｔ），　２．３０　（３Ｈ，ｓ），　２．５８　（２Ｈ
，ｑ）

【００８４】製造例２ Ｓ−メチルプロパンチオアート（１２．０ｇ）と五硫化
燐（８．４７ｇ）の混合物を９０℃で１０．５時間撹拌
する。混合物を室温まで冷却後、これに５％重炭酸ナト
リウム（１００ｍｌ）と塩化メチレン（５０ｍｌ）を加
え、混合物を３０分間撹拌する。塩化メチレン層を分離
し、水（３０ｍｌ×２）で洗滌後、硫酸マグネシウムで
乾燥し、２０℃、１６０ｍｍＨｇで蒸留する。残留油状
物を４８−５０℃、１６ｍｍＨｇで蒸留して、メチルプ
ロパンジチオアート（７．０２ｇ）を得る。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　１．３７　（３Ｈ，
ｔ），　２．６２　（３Ｈ，ｓ），　３．０５　（２Ｈ
，ｑ）

【００８５】製造例３ 水素化ナトリウム（油中６０％、２．０ｇ）の無水テト
ラヒドロフラン（５０ｍｌ）中懸濁液に氷冷下プロパン
ジチオ酸（５．０ｇ）を加える。混合物に（２Ｓ，４Ｒ
）−１−アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロ
エチルオキシメチル）−４−メチルスルホニルオキシピ
ロリジン（１６．２５ｇ）の無水テトラヒドロフラン（
５０ｍｌ）溶液を滴下し、混合物を６０−７０℃で４時
間加熱する。溶液を氷水（１００ｍｌ）に注ぎ、ジエチ
ルエーテルで抽出する。有機層を１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液（５０ｍｌ）および食塩水で洗滌し、乾燥後、減
圧下に蒸留する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー［ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（１０：１、ｖ／
ｖ）］で精製して、（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシ
カルボニル−２−（２−フルオロエチルオキシメチル）
−４−［（１−チオキソプロピル）チオ］ピロリジン（
９．４７ｇ）を得る。 ＩＲ（ニート）：　１７００　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤ
Ｃｌ３，δ）　：　１．３５　（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４
Ｈｚ），　２．０７−２．１９　（１Ｈ，ｍ），　２．
５０−２．６６（１Ｈ，ｍ），　２．９９　（２Ｈ，ｑ
，Ｊ＝７．４Ｈｚ），　３．２８　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１１　＆　６．１Ｈｚ），　３．６２−３．８１（４Ｈ
，ｍ），　４．１０−４．４４　（４Ｈ，ｍ），　４．
５８−４．７２　（３Ｈ，ｍ），　５．１９−５．３５
　（２Ｈ，ｍ），５．８４−６．００　（１Ｈ，ｍ）

【００８６】実施例１ （１）　　無水塩化亜鉛（４５．３ｇ）のアセトニトリ
ル（４５０ｍｌ）中懸濁液を０℃に冷却し、これにトリ
エチルアミン（１０１ｇ）を加える。０℃で３０分間撹
拌後、溶液を−３５℃に冷却し、これにジチオプロピオ
ン酸メチル（２０．０ｇ）と（３Ｒ，４Ｒ）−４−アセ
トキシ−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル］−２−オキソアゼチジン（
２３．９ｇ）のアセトニトリル（９０ｍｌ）中混合物を
加える。反応混合物を−２０℃で２時間撹拌し、０℃に
加温後、さらに同温で３０分間撹拌する。混合物をジク
ロロメタン（８００ｍｌ）と１Ｎ塩酸（１０００ｍｌ）
の混合物に撹拌下に注ぐ。有機層を分離し、水、重炭酸
ナトリウム水溶液および食塩水で洗滌後、乾燥する。溶
液を減圧濃縮し、固形残留物をｎ−ヘキサンで洗滌して
、（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ
）−１−｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−
２−オキソアゼチジン（２０．１ｇ）を黄色結晶として
得る。塩化亜鉛のかわりに塩化コバルト（ＩＩ）を使用
しても、同じ化合物を得る。 ｍｐ　：　１４７−１４８℃ ＩＲ（ヌジョール）：　３１５０，　３０７５，　１７
５８　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．
０６　（６Ｈ，ｓ），　０．８７　（９Ｈ，ｓ），　１
．１０　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），　１．３８（
３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），　２．６２　（３Ｈ，ｓ
），　２．９３−２．９６　（１Ｈ，ｍ），　３．４４
−３．５８　（１Ｈ，ｍ），３．８９　（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．２　＆　５．６Ｈｚ），　４．１２−４．２１
　（１Ｈ，ｍ），　６．００　（１Ｈ，ｂｒ　ｓ）実施
例１（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （２）　　（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−
［（１Ｒ）−１−｛（フェニルチオ）チオカルボニル｝
エチル］−２−オキソアゼチジン ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０７　（３Ｈ，
ｓ），　０．０８　（３Ｈ，ｓ），　０．８９　（９Ｈ
，ｓ），　１．１９　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），
　１．４２　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），　３．０
１（１Ｈ，ｍ），　３．６２−３．６８　（１Ｈ，ｍ）
，３．９７　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５　＆　２．２Ｈ
ｚ），　４．１４−４．２５　（１Ｈ，ｍ），６．０４
　（１Ｈ，ｂｒ　ｓ），７．３４−７．３９　（２Ｈ，
ｍ），　７．４８−７．５１　（３Ｈ，ｍ）（３）　　
（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）
−１−｛（エチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２
−オキソアゼチジン ＩＲ（ヌジョール）：　１７１２，　１７６１　ｃｍ−
１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０５　（６Ｈ
，ｓ），　０．８７　（９Ｈ，ｓ），　１．１２　（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），　１．２８−１．３８　（
６Ｈ，ｍ），　２．９２−２．９７　（１Ｈ，ｍ），　
３．２１　（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），　３．４２
−３．４８（１Ｈ，ｍ），　３．８８−３．９２　（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６　＆　２．１Ｈｚ），　４．１０
−４．２２　（１Ｈ，ｍ），　５．９９（１Ｈ，ｂｒ　
ｓ） （４）　　（３Ｓ，４Ｓ）−４−［（１Ｒ）−１−｛（
ベンジルチオ）チオカルボニル｝エチル］−３−［（１
Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
エチル］−２−オキソアゼチジン ＩＲ（ヌジョール）：　１７１０，　１７５０　ｃｍ−
１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０５　（６Ｈ
，ｓ），　０．８６　（９Ｈ，ｓ），　１．０６　（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），　１．３８（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６．８Ｈｚ），　２．９３　（１Ｈ，ｍ），　３．４
３−３．４９　（１Ｈ，ｍ），　３．９１　（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝５．６＆　２．２Ｈｚ），　４．１１−４．１
７　（１Ｈ，ｍ），　４．４４　（２Ｈ，ｓ），６．０
０　（１Ｈ，ｂｒ　ｓ），　７．３０（５Ｈ，ｓ）

【０
０８７】実施例２ ジイソプロピルアミン（１５２ｍｇ）の無水テトラヒド
ロフラン（２ｍｌ）溶液を０℃に冷却し、これにｎ−ブ
チルリチウムのｎ−ヘキサン中１．５６Ｍ溶液（０．９
５ｍｌ）を加える。０℃で３０分間撹拌後、溶液を−７
８℃に冷却し、これにジチオプロピオン酸メチル（１２
０ｍｇ）、次いでクロロチタントリイソプロポキシド（
ｃｈｌｏｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ　　ｔｒｉｉｓｏｐｒｏ
ｐｏｘｉｄｅ）のヘキサン中１Ｍ溶液（４．０ｍｌ）を
順次加える。混合物を−４０℃に加温し、これに（３Ｒ
，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［（１Ｒ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−
オキソアゼチジン（２８７ｍｇ）を加える。溶液を０℃
に加温し、１Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、ジエチル
エーテルで抽出する。有機層を食塩水で洗滌し、乾燥後
、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルを用いるフラッシ
ュクロマトグラフィー（１０％ジエチルエーテル−ヘキ
サン）で精製して、（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−
１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］−４−［（１Ｒ）−１−｛（メチルチオ）チオカルボ
ニル｝エチル］−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ
）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｓ）−１−｛（メ
チルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキソアゼ
チジンの混合物（２０２ｍｇ）を得る。上記で得られた
生成物をｎ−ヘキサンから再結晶して、（３Ｓ，４Ｓ）
−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（メチ
ルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチ
ジンを黄色針状結晶として得る。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０６　（６Ｈ，
ｓ），　０．８７　（９Ｈ，ｓ），　１．１０　（３Ｈ
，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），　１．３８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．７Ｈｚ），　２．６２　（３Ｈ，ｓ），　２．９３
−２．９６　（１Ｈ，ｍ），　３．４４−３．５８　（
１Ｈ，ｍ），３．８９　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２　＆
　５．６Ｈｚ），　４．１２−４．２１　（１Ｈ，ｍ）
，　６．０　（１Ｈ，ｂｒ　ｓ）

【００８８】実施例３ トリフルオロメタンスルホン酸スズ（ＩＩ）（５．５８
ｇ）のジクロロメタン（２７ｍｌ）中懸濁液を−２５℃
に冷却し、これにトリエチルアミン（１．６２ｇ）、次
いでジチオプロピオン酸メチル（１．２０ｇ）を順次加
える。混合物を−２０℃で２時間撹拌し、これに（３Ｒ
，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−［（１Ｒ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−
オキソアゼチジン（２．０ｇ）を加える。０℃で２時間
撹拌後、混合物を２０％シュウ酸水溶液（１００ｍｌ）
に注ぎ、析出物を濾去する。濾液の有機層を分離し、乾
燥後、減圧濃縮する。残留物をシリカゲル（５０ｇ）カ
ラムクロマトグラフィー（２０％酢酸エチル−ヘキサン
）で精製して、（３Ｓ，４Ｒ）−３−［（１Ｒ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−
４−［（１−メチルチオ−１−プロペニル）チオ］−２
−オキソアゼチジン（ＥおよびＺ異性体混合物）（１．
１４ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：　３１５０，　１７６０，　１７
２０　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．
０７　（３Ｈ，ｓ），　０．０８　（３Ｈ，ｓ），　０
．８８　（９Ｈ，ｓ），　１．２３　（０．４５Ｈ，ｄ
，Ｊ＝６．３Ｈｚ），　１．２５　（２．５５Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．３Ｈｚ），　１．９２　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
８Ｈｚ），　２．３１　（３Ｈ，ｓ），　３．１４−３
．１７　（０．１５Ｈ，ｍ），　３．１７−３．２１　
（０．８５Ｈ，ｍ），　４．１９−４．３１　（１Ｈ，
ｍ），５．００　（０．１５Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）
，　５．０２　（０．８５Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），
　６．０８　（０．８５Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），　
６．２３　（１Ｈ，ｂｒ　ｓ），　６．３２　（０．１
５Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ） カラムをさらに溶出して、（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１
Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（メチルチオ）チオ
カルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ
，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｓ）−１−
｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキ
ソアゼチジンの混合物（１．０１ｇ）を得る。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０６　（６Ｈ）
，　０．８７（６Ｈ，ｓ），　０．８８　（３Ｈ，ｓ）
，　１．１０　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），　１．
２７　（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），　１．３８　（
３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），　２．６２　（２Ｈ，ｓ
），２．６５　（１Ｈ，ｓ），　２．８２−２．８６　
（０．３３Ｈ，ｍ），　２．９３−２．９６　（０．６
７Ｈ，ｍ），　３．３１−３．４１（０．３３Ｈ，ｍ）
，　３．４５−３．５８　（０．６７Ｈ，ｍ），　３．
８９　（０．６７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２　＆　５．７Ｈ
ｚ），３．９８　（０．３３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０　＆
　９．５Ｈｚ），　４．０９−４．２１　（１Ｈ，ｍ）
，　５．８２　（０．３３Ｈ，ｂｒ　ｓ），　６．０４
　（０．６７Ｈ，ｂｒ　ｓ）

【００８９】実施例４ （２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（
２−フルオロエチルオキシメチル）−４−［（１−チオ
キソプロピル）チオ］ピロリジン（３２５ｍｇ）の無水
テトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を０℃に冷却し、こ
れに水素化ナトリウム（油中６０％、４０ｍｇ）を加え
る。ガスの発生が終了した後、混合物に臭化亜鉛（１．
０ｇ）−テトラヒドロフランを加え、混合物を０℃で１
時間、さらに室温で１時間撹拌する。反応混合物に水を
加えて反応を停止させ、ジエチルエーテルで抽出する。 有機層を食塩水で洗滌し、乾燥後、減圧濃縮する。残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［ジエチルエ
ーテル−ｎ−ヘキサン（１：５、ｖ／ｖ）］で精製して
、（３Ｓ，４Ｒ）−４−［１−｛（２Ｓ，４Ｓ）−１−
アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエチルオ
キシメチル）ピロリジン−４−イルチオ｝−１−プロペ
ニル］チオ−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オキソアゼチジ
ン（ＥおよびＺ異性体混合物）（１８８ｍｇ）を得る。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０７　＆　０．
０８　（６Ｈ，それぞれ　ｓ），　０．８９　＆　０．
８８　（９Ｈ，それぞれｓ），　１．２２　＆　１．２
４　（３Ｈ，それぞれ　ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），　１．
９２　＆　１．９４　（３Ｈ，それぞれｄ，Ｊ＝６．８
Ｈｚ），　１．９６−２．１０　（１Ｈ，ｍ），　２．
３８−２．５３　（１Ｈ，ｍ），　３．１５−３．２９
　（２Ｈ，ｍ），３．６１−３．８１　（４Ｈ，ｍ），
　４．００−４．１７　（１Ｈ，ｍ），　４．２０−４
．２８　（１Ｈ，ｍ），　４．４２　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝４．１Ｈｚ），　４．５８−４．６８　（３Ｈ，ｍ）
，　５．０２　（１Ｈ，ｂｒ　ｓ），　５．０３−５．
３４　（２Ｈ，ｍ），５．８４−６．０４　（１Ｈ，ｍ
），　６．３０　＆　６．３３　（１Ｈ，それぞれ　ｂ
ｒ　ｓ），　６．３６−６．５０（１Ｈ，ｍ）カラムを
さらに溶出［ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサン（１：１
、ｖ／ｖ）］して、（３Ｓ，４Ｓ）−４−［（１Ｒ）−
１−｛（（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル
−２−（２−フルオロエトキシメチル）ピロリジン−４
−イルチオ）チオカルボニル｝エチル］−３−［（１Ｒ
）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル］−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−４−
［（１Ｓ）−１−｛（（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキ
シカルボニル−２−（２−フルオロエトキシメチル）ピ
ロリジン−４−イルチオ）チオカルボニル｝エチル］−
３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）エチル］−２−オキソアゼチジンの粗製混合
物を得る。これを分取薄層クロマトグラフィーで精製す
る。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０７　＆　０．
０８　（６Ｈ，それぞれ　ｓ），　０．８７　＆　０．
８８　（９Ｈ，それぞれｓ），　１．１２　＆　１．２
７　（３Ｈ，それぞれ　ｄ，Ｊ＝６．３　＆６．１Ｈｚ
），　１．３６　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），　２
．０４−２．１５　（１Ｈ，ｍ），　２．５２−２．７
２　（１Ｈ，ｍ），　２．８０−２．８３　＆　２．９
３−２．９６　（１Ｈ，ｍ），　３．２３−３．３２　
＆　３．４１−３．５１　（２Ｈ，ｍ），　３．６２−
３．８１　（４Ｈ，ｍ），３．８８−３．９８　（１Ｈ
，ｍ），　４．１４−４．３０　（４Ｈ，ｍ），　４．
４２　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ），　４．５８−
４．６８　（３Ｈ，ｍ），　５．２０−５．３５　（２
Ｈ，ｍ），　５．３５−６．００　（２Ｈ，ｍ）

【００９０】実施例５ （３Ｓ，４Ｒ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１−メ
チルチオ−１−プロペニル）チオ］−２−オキソアゼチ
ジン（ＥおよびＺ異性体混合物）（０．６０ｇ）と無水
塩化亜鉛（１．３６ｇ）の無水テトラヒドロフラン中混
合物を２時間加熱する。混合物に１Ｎ塩酸を加え反応を
停止させ、酢酸エチルで抽出する。有機層を飽和重炭酸
ナトリウム、食塩水で洗滌後、乾燥して減圧濃縮する。 残留物をシリカゲル（２５ｇ）カラムクロマトグラフィ
ー（３３％酢酸エチル−ヘキサン）で精製して、（３Ｓ
，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−
｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキ
ソアゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−
４−［（１Ｓ）−１−｛（メチルチオ）チオカルボニル
｝エチル］−２−オキソアゼチジンの混合物（２：１）
（０．３４４ｇ）を得る。

【００９１】実施例６ （１）　　（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−
［（１Ｒ）−１−｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エ
チル］−２−オキソアゼチジン（７００ｍｇ）のトルエ
ン（７ｍｌ）溶液にジヒドロキシ酢酸アリル（５６０ｍ
ｇ）を加え、混合物を３時間還流加熱する。溶液を水洗
後、乾燥して、減圧蒸留に付して、（３Ｓ，４Ｓ）−１
−［（１Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニル）−１−
ヒドロキシメチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１
Ｒ）−１−｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］
−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−１−［（１
Ｓ）−１−（アリルオキシカルボニル）−１−ヒドロキ
シメチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）−１
−｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オ
キソアゼチジンの混合物（９０３ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ニート）：　３１００−３５００　（ｂｒ），　
１７４０−１７６５　（ｂｒ）　ｃｍ−１ＮＭＲ　（Ｃ
ＤＣｌ３，δ）　：　０．０４−０．０６　（６Ｈ），
　０．８７−０．８９　（９Ｈ），　１．１２　＆　１
．１７　（３Ｈ，それぞれ　ｄ），　１．４６　＆　１
．４７　（３Ｈ，それぞれ　ｄ），　２．６２　＆　２
．６３　（３Ｈ，それぞれ　ｓ），３．０３−３．１２
　（１Ｈ，ｍ），　３．２３−３．３７　（１Ｈ，ｍ）
，　４．０５−４．１９　（２Ｈ，ｍ），　５．２３−
５．４９（３Ｈ，ｍ），　５．８３−６．０４　（２Ｈ
，ｍ）実施例６（１）と同様にして下記の化合物を得る
。 （２）　　（３Ｓ，４Ｓ）−１−［（１Ｒ）−１−（ア
リルオキシカルボニル）−１−ヒドロキシメチル］−３
−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（ベンジル
チオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジ
ンと（３Ｓ，４Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−（アリルオ
キシカルボニル）−１−ヒドロキシメチル］−３−［（
１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（ベンジルチオ）
チオカルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジンの混
合物ＩＲ（ニート）：　３１００−３６００　（ｂｒ）
，　１７５０　（ｂｒ）ｃｍ−１

【００９２】実施例７ （３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）
−１−｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２
−オキソアゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）
−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル］−４−［（１Ｓ）−１−｛（メチルチオ）チオカル
ボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジンの混合物（３
３．１ｍｇ）とジクロロメタン（３２．６ｍｇ）との混
合物にトリエチルアミン（３０．４ｍｇ）、次いでクロ
ログリオキシル酸アリル（３２．６ｍｇ）を０℃で順次
加える。同温で１０分間撹拌し、溶液を水、１Ｎ塩酸、
食塩水で洗滌後、乾燥する。溶媒を減圧下に除去し、残
留物をフラッシュクロマトグラフィー（５％ジエチルエ
ーテル−ヘキサン）で精製して、（３Ｓ，４Ｓ）−１−
（アリルオキシオキサリル）−３−［（１Ｒ）−１−（
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４
−［（１Ｒ）−１−｛（メチルチオ）チオカルボニル｝
エチル］−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−１
−（アリルオキシオキサリル）−３−［（１Ｒ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−
４−［（１Ｓ）−１−｛（メチルチオ）チオカルボニル
｝エチル］−２−オキソアゼチジンの混合物（２３ｍｇ
）を得る。 ＩＲ（ニート）：　１８０５，　１７５０，　１７００
　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．１６
　（３Ｈ，ｓ），　０．６７　（３Ｈ，ｓ），　０．８
３　（９Ｈ，ｓ），　１．０１　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
３Ｈｚ），　１．１２　（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）
，　１．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），　１．４
７　（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），　２．６１　（１
Ｈ，ｓ），　２．６３　（２Ｈ，ｓ），　３．３８　（
０．６７Ｈ，ｔ，Ｊ＝３Ｈｚ），　３．７２（０．３３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），　４．０９　（１Ｈ，ｍ）
，　４．２５−４．３１　（１Ｈ，ｍ），　４．５６　
（０．３３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１　＆　６．４Ｈｚ），
　４．６５　（０．６７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２　＆　５
．６Ｈｚ），　４．７６−４．８１（２Ｈ，ｍ），５．
２８−５．４７　（２Ｈ，ｍ），　５．８７−６．０５
（１Ｈ，ｍ）

【００９３】実施例８ 実施例７と同様にして下記の化合物を得る。 （１）　　（３Ｓ，４Ｓ）−１−（アリルオキシオキサ
リル）−４−［（１Ｒ）−１−｛（（２Ｓ，４Ｓ）−１
−アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエチル
オキシメチル）ピロリジン−４−イルチオ）チオカルボ
ニル｝エチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オキソアゼ
チジンと（３Ｓ，４Ｓ）−１−（アリルオキシオキサリ
ル）−４−［（１Ｓ）−１−｛（（２Ｓ，４Ｓ）−１−
アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエチルオ
キシメチル）ピロリジン−４−イルチオ）チオカルボニ
ル｝エチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オキソアゼチ
ジンの混合物 ＩＲ（ニート）：　１８０５，　１７５０，　１７００
　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０５
　（６Ｈ，ｓ），　０．８３　（９Ｈ，ｓ），　１．０
４−１．４５　（６Ｈ，ｍ），　２．００−２．２２（
１Ｈ，ｍ），　２．５１−２．７５　（１Ｈ，ｍ），　
３．０４−３．３７　（２Ｈ，ｍ），　３．６０−３．
８１　（４Ｈ，ｍ），３．９３−４．３５　（４Ｈ，ｍ
），　４．３９−４．４３　（１Ｈ，ｍ），　４．５８
−４．６８　（４Ｈ，ｍ），　４．７６−４．８０（３
Ｈ，ｍ），　５．１９−５．４４　（４Ｈ，ｍ），　５
．８６−６．００　（２Ｈ，ｍ）（２）　　（３Ｓ，４
Ｓ）−１−（アリルオキシオキサリル）−４−［（１Ｒ
）−１−｛（ベンジルチオ）チオカルボニル｝エチル］
−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）エチル｝−２−オキソアゼチジン ＩＲ（ヌジョール）：　１６９０，　１７３５，　１７
９５　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．
０５　（６Ｈ，ｓ），　０．８４　（９Ｈ，ｓ），　１
．０９　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），　１．４８（
３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），　３．７０　（１Ｈ，ｔ
，Ｊ＝３．０Ｈｚ），　３．９８−４．１５　（１Ｈ，
ｍ），　４．２４−４．２８（１Ｈ，ｍ），　４．４３
　（２Ｈ，ｓ），　４．５５−４．６０　（１Ｈ，ｍ）
，　４．７８　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），　５．
２８−５．４４　（２Ｈ，ｍ），　５．８５−６．０５
　（１Ｈ，ｍ），　７．３０　（５Ｈ，ｓ）

【００９４
】実施例９ （１）　　（３Ｓ，４Ｓ）−１−［（１Ｒ）−１−（ア
リルオキシカルボニル）−１−ヒドロキシメチル］−３
−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（メチルチ
オ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジン
と（３Ｓ，４Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−（アリルオキ
シカルボニル）−１−ヒドロキシメチル］−３−［（１
Ｓ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（メチルチオ）チオ
カルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジンの混合物
（５０ｍｇ）、２，６−ルチジン（６４ｍｇ）および酢
酸エチル（１ｍｌ）の混合物に氷浴冷却下塩化チオニル
の酢酸エチル中１Ｍ溶液（０．３ｍｌ）を加え、混合物
を同温で５分間撹拌する。これにヘキサン（２ｍｌ）を
加え、混合物を濾過する。濾液を減圧濃縮し、残留物を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）に溶解す
る。この溶液にトリフェニルホスフィン（４４ｍｇ）と
２，６−ルチジン（２０ｍｇ）を加え、混合物を室温で
１７時間静置する。ヘキサン（６ｍｌ）と水（３ｍｌ）
を加え、有機層を水洗後、乾燥して、減圧蒸留する。残
留物を分取薄層クロマトグラフィー［ヘキサン−酢酸エ
チル（１：１）、ｖ／ｖ）］で精製して、（３Ｓ，４Ｓ
）−１−［１−（アリルオキシカルボニル）−１−（ト
リフェニルホスホランジイル）メチル］−３−［（１Ｒ
）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（メチルチオ）チオカ
ルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジン（２８．７
ｍｇ）を得る。ＩＲ（ヌジョール）：　１７４０　ｃｍ
−１ 実施例９（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （２）　　（３Ｓ，４Ｓ）−１−［１−（アリルオキシ
カルボニル）−１−（トリフェニルホスホランジイル）
メチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（ベンジルチオ）チ
オカルボニル｝エチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オ
キソアゼチジン ＩＲ（ＣＨＣｌ３）：　１７２５　ｃｍ−１ＮＭＲ　（
ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０８　（６Ｈ，ｓ），　０
．８８　（９Ｈ，ｓ）

【００９５】実施例１０ （１）　　（３Ｓ，４Ｓ）−１−（アリルオキシオキサ
リル）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛
（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキソ
アゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−１−（アリルオキシオキ
サリル）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｓ）−１−
｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキ
ソアゼチジンの混合物（１．０ｇ）、亜燐酸トリエチル
（１．４３ｇ）およびトルエン（３ｍｌ）の混合物を８
０℃で２６時間加熱、次いで１６時間還流加熱する。 溶媒を除去後、残留物をヘキサンに溶解し、水洗後、乾
燥して減圧濃縮する。油状残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー［ジエチルエーテル−ヘキサン（１：
３、ｖ／ｖ）］で精製して、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６
−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル］−４−メチル−３−メチルチオ−７−
オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−
エン−２−カルボン酸アリルと（４Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−
６−［（１Ｒ）−１−　（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）エチル］−４−メチル−３−メチルチオ−
７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−
２−エン−２−カルボン酸アリルの混合物（１１８ｍｇ
）を得る。 ＩＲ（ニート）：　１７７５，　１７１０　ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０８　＆　０．０
９　（６Ｈ，それぞれ　ｓ），　０．８８　＆　０．８
９　（９Ｈ，それぞれｓ），　１．２３　＆　１．３９
　（３Ｈ，それぞれ　ｄ），　１．２６　（３Ｈ，ｄ）
，　２．２６　＆　２．３９　（３Ｈ，それぞれ　ｓ）
，　３．１４−３．２１　（１Ｈ，ｍ），　３．２８−
３．３６　（１Ｈ，ｍ），　３．６９　（０．３Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝６．９＆　３．０Ｈｚ），　４．１４　（０．
７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２　＆　２．５Ｈｚ），　４．１
６−４．２６　（１Ｈ，ｍ），　４．７１−４．８３　
（２Ｈ，ｍ），　５．２１−５．５０　（２Ｈ，ｍ），
　５．８７−６．０３　（１Ｈ，ｍ） 実施例１０（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （２）　　（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−ベンジルチオ−
６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）エチル］−４−メチル−７−オキソ−１−ア
ザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カル
ボン酸アリル

【００９６】実施例１１ 実施例１０（１）と同様にして（３Ｓ，４Ｓ）−１−（
アリルオキシオキサリル）−４−［（１Ｒ）−１−｛（
（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（
２−フルオロエチルオキシメチル）ピロリジン−４−イ
ルチオ）チオカルボニル｝エチル］−３−［（１Ｒ）−
１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−１−（ア
リルオキシオキサリル）−４−［（１Ｓ）−１−｛（（
２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（２
−フルオロエチルオキシメチル）ピロリジン−４−イル
チオ）チオカルボニル｝エチル］−３−［（１Ｒ）−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］
−２−オキソアゼチジンの混合物を処理して下記の化合
物を得る。 （４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−［（２Ｓ，４Ｓ）−１−ア
リルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエチルオキ
シメチル）ピロリジン−４−イルチオ］−６−［（１Ｒ
）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［
３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル ＩＲ（ニート）：　１７７５，　１７１０　ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．８６　（６Ｈ，ｓ
），　０．８９　（９Ｈ，ｓ），　１．２５　（６Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），　１．９８−２．１３　（１Ｈ
，ｍ），　２．４１−２．５６　（１Ｈ，ｍ），　３．
２１−３．３１　（３Ｈ，ｍ），　３．５８−３．６６
　（３Ｈ，ｍ），３．７６−３．８０　（２Ｈ，ｍ），
　３．９５−４．２４　（４Ｈ，ｍ），　４．４２　（
１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．１Ｈｚ），　４．５８−４．８４（
５Ｈ，ｍ），　５．２０−５．４９　（４Ｈ，ｍ），　
５．８４−６．０５　（２Ｈ，ｍ）（４Ｓ，５Ｓ，６Ｓ
）−３−［（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニ
ル−２−（２−フルオロエチルオキシメチル）ピロリジ
ン−４−イルチオ］−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−メチル
−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト
−２−エン−２−カルボン酸アリル ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０８　（６Ｈ，
ｓ），　０．８８　（９Ｈ，ｓ），　１．２６　（３Ｈ
，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），　１．３６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ），　１．９０−２．１０　（１Ｈ，ｍ），
　２．１２−２．５８　（１Ｈ，ｍ），　３．１１−３
．２９（２Ｈ，ｍ），　３．５８−４．３２　（１０Ｈ
，ｍ），　４．４１　（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．１Ｈｚ），
　４．５７−４．７６　（５Ｈ，ｍ），５．２０−５．
４９　（４Ｈ，ｍ），　５．８４−６．０５　（２Ｈ，
ｍ）

【００９７】実施例１２ （１）　　（３Ｓ，４Ｓ）−１−［１−（アリルオキシ
カルボニル）−１−（トリフェニルホスホランジイル）
メチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−
｛（メチルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキ
ソアゼチジン（３２５ｍｇ）のトルエン（３ｍｌ）溶液
を４．５時間還流加熱する。溶媒を減圧下に除去し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［酢酸エチ
ル−ヘキサン（１：３、ｖ／ｖ）］で精製して、（４Ｒ
，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−メチル−３
−メチルチオ−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２
．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル（１６
４ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：　１７７２，　１６９５　ｃｍ−
１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０８　（６Ｈ
，ｓ），　０．８８　（９Ｈ，ｓ），　１．２３　（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），　１．２７（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．９Ｈｚ），　２．３９　（３Ｈ，ｓ），　３．１
９　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５　＆　２．５Ｈｚ），　
３．２５−３．４０（１Ｈ，ｍ），　４．１４　（１Ｈ
，ｄｄ，Ｊ＝９．２　＆　２．５Ｈｚ），　４．１６−
４．２９　（１Ｈ，ｍ），　４．６３−４．８５（２Ｈ
，ｍ），　５．２０−５．４９　（２Ｈ，ｍ），　５．
８６−６．０６　（１Ｈ，ｍ）実施例１２（１）と同様
にして下記の化合物を得る。 （２）　　（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−ベンジルチオ−
６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）エチル］−４−メチル−７−オキソ−１−ア
ザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カル
ボン酸アリル ＩＲ（ニート）：　１７００，　１７６５　ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０６　（３Ｈ，ｓ
），　０．０７　（３Ｈ，ｓ），　０．８７　（９Ｈ，
ｓ），　１．２２　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），　
１．２６　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），　３．１７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５　＆　２．６Ｈｚ），　３．
２６−３．３４　（１Ｈ，ｍ），　４．０３−４．０７
　（３Ｈ，ｍ），　４．１７−４．２３　（１Ｈ，ｍ）
，　４．７０−４．８６　（２Ｈ，ｍ），５．２３　（
１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．４　＆　１．３Ｈｚ），　５．
４４　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．２　＆　１．５４Ｈｚ
），　５．８７−６．０２　（１Ｈ，ｍ），　７．３２
　（５Ｈ，ｓ）

【００９８】実施例１３ （１）　　（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］
−４−メチル−３−メチルチオ−７−オキソ−１−アザ
ビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボ
ン酸アリル（６６ｍｇ）のジクロロメタン（１ｍｌ）溶
液を０℃に冷却し、これにｍ−クロロ過安息香酸（２７
．７ｍｇ）を加える。混合物を同温で１０分間撹拌し、
重炭酸ナトリウム水溶液で洗滌後、乾燥する。溶媒を減
圧下に除去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製して、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１
Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
エチル］−４−メチル−３−メチルスルフィニル−７−
オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−
エン−２−カルボン酸アリル（６４ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ニート）：　１７８５，　１７１０　ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０８　（６Ｈ，ｓ
），　０．８８　（９Ｈ，ｓ），　１．２５　（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），　１．３８＆　１．４２　（３
Ｈ，それぞれ　ｄ），　２．８６　＆　２．９１　（３
Ｈ，それぞれ　ｓ），　３．３３−３．４０（１Ｈ，ｍ
），　３．６０−３．８６　（１Ｈ，ｍ），　４．２３
−４．７０　（２Ｈ，ｍ），　４．７１−４．７７　（
２Ｈ，ｍ），５．２７−５．５２　（２Ｈ，ｍ），　５
．８２−６．０３　（１Ｈ，ｍ）実施例１３（１）と同
様にして下記の化合物を得る。 （２）　　（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−ベンジルスルフ
ィニル−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル］−４−メチル−７−オキソ
−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−
２−カルボン酸アリル ＩＲ　（ＣＨＣｌ３）　：　１７０５，　１７７０　ｃ
ｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．８６　（
９Ｈ，ｓ），　２．４８−２．５６　（１Ｈ，ｍ），　
３．１５　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．２　＆２．８Ｈｚ）
，　３．７７　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．４　＆　２．７
Ｈｚ），４．７７−４．７９　（２Ｈ，ｍ），　５．８
８−６．０５（１Ｈ，ｍ）

【００９９】実施例１４ （４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−メチ
ル−３−メチルチオ−７−オキソ−１−アザビシクロ［
３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル
（３１．４ｍｇ）をアセトン（１．０ｍｌ）とエタノー
ル（０．１ｍｌ）の混合物に溶解し、これに３０％過酸
化水素水溶液（０．２ｍｌ）を加える。反応混合物を室
温で４日間静置する。混合物を酢酸エチルで希釈し、水
、５％チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗滌後、乾
燥する。溶媒を減圧下に除去し、残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー［酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（
１：３、ｖ／ｖ）］で精製して、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）
−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）エチル］−４−メチル−３−メチルスルフ
ィニル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］
ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル（１０．１ｍ
ｇ）を得る。

【０１００】実施例１５ （４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−メチ
ル−３−メチルスルフィニル−７−オキソ−１−アザビ
シクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン
酸アリル（３３ｍｇ）と（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオ
キシカルボニル−２−（２−フルオロエチルオキシメチ
ル）−４−メルカプトピロリジン（２１ｍｇ）のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（１．０ｍｌ）中混合物にジイ
ソプロピルエチルアミン（１０ｍｇ）を加える。室温で
２時間撹拌後、溶液をジエチルエーテル（１０ｍｌ）で
希釈し、水、１Ｎ塩酸、重炭酸ナトリウム水溶液および
食塩水で洗滌後、乾燥し、減圧下に蒸留する。残留物を
分取薄層クロマトグラフィー［酢酸エチル−ｎ−ヘキサ
ン（１：１．５、ｖ／ｖ）］で精製して、（４Ｒ，５Ｓ
，６Ｓ）−３−［（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカ
ルボニル−２−（２−フルオロエチルオキシメチル）ピ
ロリジン−４−イルチオ］−６−［（１Ｒ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−
メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］
ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル（２１ｍｇ）
を得る。 ＩＲ（ニート）：　１７７５，　１７１０　ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．８６　（６Ｈ，ｓ
），　０．８９　（９Ｈ，ｓ），　１．２５　（６Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），　１．９８−２．１３　（１Ｈ
，ｍ），　２．４１−２．５６　（１Ｈ，ｍ），　３．
２１−３．３１　（３Ｈ，ｍ），　３．５８−３．６６
　（３Ｈ，ｍ），３．７６−３．８０　（２Ｈ，ｍ），
　３．９５−４．２４　（４Ｈ，ｍ），　４．４２　（
１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．１Ｈｚ），　４．５８−４．８４（
５Ｈ，ｍ），　５．２０−５．４９　（４Ｈ，ｍ），　
５．８４−６．０５　（２Ｈ，ｍ）

【０１０１】実施例
１６ 実施例１５と同様にして（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［
（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）エチル］−４−メチル−３−ベンジルスルフィニル
−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト
−２−エン−２−カルボン酸アリルを（２Ｓ，４Ｓ）−
１−アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエチ
ルオキシメチル）−４−メルカプトピロリジンと反応さ
せて、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−［（２Ｓ，４Ｓ）−
１−アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエチ
ルオキシメチル）ピロリジン−４−イルチオ］−６−［
（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）エチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシ
クロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸
アリルを得る。

【０１０２】実施例１７ 実施例１（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （１）　　（３Ｓ，４Ｒ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−
［（フェニルチオ）チオカルボニルメチル］−２−オキ
ソアゼチジンＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０
８　（６Ｈ，ｓ），　０．８８　（９Ｈ，ｓ），　１．
２３　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），　２．９０（１
Ｈ，ｍ），　３．２１　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．０　
＆　９．０Ｈｚ），　３．４７　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１
５　＆　３．９Ｈｚ），４．１７−４．２３　（２Ｈ，
ｍ），　６．１０　（１Ｈ，ｓ），　７．３８−７．５
２　（５Ｈ，ｍ）（２）　　（３Ｓ，４Ｒ）−３−［（
１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
）エチル］−４−［（メチルチオ）チオカルボニルメチ
ル］−２−オキソアゼチジン ＩＲ（ニート）：　３１００，　１７６０　ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０６　（６Ｈ，ｓ
），　０．８８　（９Ｈ，ｓ），　１．２０　（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），　２．６５（３Ｈ，ｓ），　２．８
８　（１Ｈ，ｍ），　３．２１　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１
４　＆　９Ｈｚ），　３．４４　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１
４　＆４Ｈｚ），　４．０５−４．２４　（２Ｈ，ｍ）
，　６．０９　（１Ｈ，ｓ） （３）　　（３Ｓ，４Ｓ）−４−［（１Ｒ）−１−｛（
（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（
ジメチルカルバモイル）ピロリジン−４−イルチオ）チ
オカルボニル｝エチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オ
キソアゼチジン ＩＲ　（ＣＨＣｌ３）　：　１７５５，　１７００，　
１６５５　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　
０．０４　（６Ｈ，ｓ），　０．８６　（９Ｈ，ｓ），
　１．１０　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），　１．３
５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），　３．８８　（１Ｈ
，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，　５．６Ｈｚ）

【０１０３】実施例１８ 無水塩化亜鉛（５６ｍｇ）のアセトニトリル（１．６ｍ
ｌ）中懸濁液を０℃に冷却し、これにトリエチルアミン
（０．１７ｍｌ）を加える。０℃で１０分間撹拌後、こ
の溶液に塩化銅（Ｉ）（４１ｍｇ）、（３Ｒ，４Ｒ）−
４−アセトキシ−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オキソアゼ
チジン（７９ｍｇ）およびジチオプロピオン酸フェニル
（７５ｍｇ）を加える。反応混合物を０℃で２時間撹拌
する。混合物をジクロロメタン（５ｍｌ）と１Ｎ塩酸（
５ｍｌ）の混合物に撹拌下注ぐ。有機層を分離し、水、
重炭酸ナトリウム水溶液および食塩水で洗滌後、乾燥す
る。溶液を減圧濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー［酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（１：４、
ｖ／ｖ）］で精製して、（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ
）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（フェニルチオ）チオ
カルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ
，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｓ）−１−
｛（フェニルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オ
キソアゼチジンの混合物（５：１）（７７ｍｇ）を得る
。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０７　（３Ｈ，
ｓ），　０．０８　（３Ｈ，ｓ），　０．８９　（９Ｈ
，ｓ），　１．１９　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），
　１．４２　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），　３．０
１（１Ｈ，ｍ），　３．６２−３．６８　（１Ｈ，ｍ）
，　３．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，　２．２Ｈｚ
），　４．１４−４．２５　（１Ｈ，ｍ），　６．０４
　（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），　７．３４−７．３９（２Ｈ，
ｍ），　７．４８−７．５１　（３Ｈ，ｍ）

【０１０４
】実施例１９ （３Ｓ，４Ｒ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１−フ
ェニルチオ−１−プロペニル）チオ］−２−オキソアゼ
チジン（ＥおよびＺ異性体混合物）（１２３ｍｇ）と無
水ヨウ化亜鉛（２８７ｍｇ）の無水アセトニトリル中混
合物を３時間還流過熱する。混合物に１Ｎ塩酸を加え反
応を停止させ、塩化メチレンで抽出する。有機層を乾燥
し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー［酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（４：１、ｖ／
ｖ）］で精製して、（３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−
１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］−４−［（１Ｒ）−１−｛（フェニルチオ）チオカル
ボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ，４
Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｓ）−１−｛（
フェニルチオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキソ
アゼチジンの混合物（５：１）（８１ｍｇ）を得る。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０７　（３Ｈ，
ｓ），　０．０８　（３Ｈ，ｓ），　０．８９　（９Ｈ
，ｓ），　１．１９　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），
　１．４２　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），　３．０
１（１Ｈ，ｍ），　３．６２−３．６８　（１Ｈ，ｍ）
，３．９７　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，　２．２Ｈｚ
），　４．１４−４．２５　（１Ｈ，ｍ），　６．０４
　（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），７．３４−７．３９　（２Ｈ，
ｍ），　７．４８−７．５１　（３Ｈ，ｍ）

【０１０５
】実施例２０ 実施例６（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （１）　　（３Ｓ，４Ｓ）−１−［（１Ｒ）−１−（ア
リルオキシカルボニル）−１−ヒドロキシメチル］−３
−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（フェニル
チオ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジ
ンと（３Ｓ，４Ｓ）−１−［（１Ｓ）−１−（アリルオ
キシカルボニル）−１−ヒドロキシメチル］−３−［（
１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
）エチル］−４−［（１Ｒ）−１−｛（フェニルチオ）
チオカルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジンの混
合物ＩＲ（ニート）：　３１００−３５００　（ｂｒ）
，　１７５０　ｃｍ−１（２）　　（３Ｓ，４Ｒ）−１
−［（１Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニル）−１−
ヒドロキシメチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［｛（
メチルチオ）チオカルボニル｝メチル］−２−オキソア
ゼチジンと（３Ｓ，４Ｒ）−１−［（１Ｓ）−１−（ア
リルオキシカルボニル）−１−ヒドロキシメチル］−３
−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル］−４−［｛（メチルチオ）チオカルボ
ニル｝メチル］−２−オキソアゼチジンの混合物 ＩＲ（ニート）：　３４００，　１７７０，　１７５０
　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０６
　（６Ｈ，ｓ），　０．８６　（９Ｈ，ｓ），　１．０
７−１．１５　（３Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ），　２．６２（３
Ｈ，ｓ），　３．０２−３．０５　（１Ｈ，ｍ），　３
．２７−３．５５　（２Ｈ，ｍ），　４．１２−４．２
０　（１Ｈ，ｍ），４．１５−４．８０　（３Ｈ，ｍ）
，　５．２８−５．４３　（３Ｈ，ｍ），　５．８６−
５．９７　（１Ｈ，ｍ）（３）　　（３Ｓ，４Ｓ）−４
−［（１Ｒ）−１−｛（（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオ
キシカルボニル−２−（ジメチルカルバモイル）ピロリ
ジン−４−イルチオ）チオカルボニル｝エチル］−１−
［（１Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニル）−１−ヒ
ドロキシメチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オキソア
ゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−４−［（（１Ｒ）−１−｛
（（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−
（ジメチルカルバモイル）ピロリジン−４−イルチオ）
チオカルボニル｝エチル］−１−［（１Ｓ）−１−（ア
リルオキシカルボニル）−１−ヒドロキシメチル］−３
−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル］−２−オキソアゼチジンの混合物 ＩＲ　（ＣＨＣｌ３）　：　３３００，　１７５０，　
１７００，　１６５０　ｃｍ−１

【０１０６】実施例２
１ （３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）
−１−｛（フェニルチオ）チオカルボニル｝エチル］−
２−オキソアゼチジン（１００ｍｇ）と塩化第一銅（３
０ｍｇ）のアセトニトリル（１ｍｌ）中混合物に（２Ｓ
，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（ジメチ
ルカルバモイル）−４−メルカプトピロリジン（１３０
ｍｇ）を加え、混合物を室温で５時間撹拌する。混合物
を分取薄層クロマトグラフィー（酢酸エチルで展開）で
精製して、（３Ｓ，４Ｓ）−４−［（１Ｒ）−１−｛（
（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（
ジメチルカルバモイル）ピロリジン−４−イルチオ）チ
オカルボニル｝エチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オ
キソアゼチジン（１０５ｍｇ）を得る。 ＩＲ　（ＣＨＣｌ３）　：　１７５５，　１７００，　
１６５５　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　
０．０４　（６Ｈ，ｓ），　０．８６　（９Ｈ，ｓ），
　１．１０　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），　１．３
５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），　３．８８　（１Ｈ
，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，　５．６Ｈｚ） ＦＡＢ−ＭＳ　：　５５８　（Ｍ＋　＋　１），　５４
２，　５１４，５００，　４２６，　３３１

【０１０７
】実施例２２ （３Ｓ，４Ｓ）−４−［（１Ｒ）−１−｛（（２Ｓ，４
Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（ジメチルカ
ルバモイル）ピロリジン−４−イルチオ）チオカルボニ
ル｝エチル］−１−［（１Ｒ）−１−アリルオキシカル
ボニル−１−ヒドロキシメチル］−３−［（１Ｒ）−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］
−２−オキソアゼチジンと（３Ｓ，４Ｓ）−４−［（１
Ｒ）−１−｛（（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカル
ボニル−２−（ジメチルカルバモイル）ピロリジン−４
−イルチオ）チオカルボニル｝エチル］−１−［（１Ｓ
）−１−アリルオキシカルボニル−１−ヒドロキシメチ
ル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）エチル］−２−オキソアゼチジンの混
合物（２８０ｍｇ）、２，６−ジメチルピリジン（１２
０ｍｇ）および酢酸エチル（５ｍｌ）の混合物に塩化チ
オニル（１００ｍｇ）の酢酸エチル（０．５ｍｌ）溶液
を氷冷下に加え、混合物を同温で２０分間撹拌する。 反応混合物にトルエン（１５ｍｌ）を加え、混合物を濾
過する。濾液を減圧蒸留に付して残留物を得る。残留物
を酢酸エチル（５ｍｌ）に溶解し、これにトリフェニル
ホスフィン（３２８ｍｇ）を加える。混合物を−２５〜
−２０℃に冷却し、これにヨウ化ナトリウム（１８７ｍ
ｇ）を加える。混合物を同温で１５分間撹拌し、室温で
１時間静置する。混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液および食塩水で洗滌し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮してシロップを得る。このシロップをシリカゲ
ル（１０ｇ）カラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサ
ンと酢酸エチルの混合溶媒［１：１次いで２：３（ｖ／
ｖ）］で溶出して、（３Ｓ，４Ｓ）−４−［（１Ｒ）−
１−｛（（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル
−２−（ジメチルカルバモイル）ピロリジン−４−イル
チオ）チオカルボニル｝エチル］−１−［１−（アリル
オキシカルボニル）−１−（トリフェニルホスホランジ
イル）メチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−２−オキソアゼ
チジン（１６７ｍｇ）を得る。 ＩＲ　（ＣＨＣｌ３）　：　１７４０，　１７１０−１
６９５，　１６６５−１６４５　ｃｍ−１ＦＡＢ−ＭＳ
　：　９１７　（Ｍ＋　＋　１），　９００，　８５８

【０１０８】実施例２３ 実施例９（１）および２２と同様にして下記の化合物を
得る。 （１）　　（３Ｓ，４Ｒ）−１−［１−（アリルオキシ
カルボニル）−１−（トリフェニルホスホランジイル）
メチル］−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル］−４−［｛（メチルチオ
）チオカルボニル｝メチル］−２−オキソアゼチジンＩ
Ｒ（ヌジョール）：　１７４０　ｃｍ−１ＮＭＲ　（Ｃ
ＤＣｌ３，δ）　：　０．０１　（６Ｈ，ｓ），　０．
７７　（９Ｈ，ｓ），　１．０８−１．２１　（３Ｈ，
Ｊ＝６Ｈｚ），　２．６６（３Ｈ，ｓ），　２．８６−
３．１３　（１Ｈ，ｍ），　３．２０−３．６２　（１
Ｈ，ｍ），　３．８０　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４　＆８
Ｈｚ），　４．０６−４．２２　（１Ｈ，ｍ），　４．
４３−４．６８　（２Ｈ，ｍ），５．１３−５．４１　
（２Ｈ，ｍ），　５．９１−６．０８　（１Ｈ，ｍ），
　７．２６−７．７４　（１５Ｈ，ｍ）（２）　　（３
Ｓ，４Ｓ）−１−［１−（アリルオキシカルボニル）−
１−（トリフェニルホスホランジイル）メチル］−３−
［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）エチル｝−４−［（１Ｒ）−１−｛（フェニルチ
オ）チオカルボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジン ＩＲ（ヌジョール）：　１６２０，　１７４０　ｃｍ−
１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　４．５８−４．７
０　（２Ｈ，ｍ），　５．２１−５．４７　（２Ｈ，ｍ
），　５．９８　（１Ｈ，ｍ）

【０１０９】実施例２４ （３Ｓ，４Ｓ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１Ｒ）
−１−｛（フェニルチオ）チオカルボニル｝エチル］−
２−オキソアゼチジン（５．１２ｇ）とジクロロメタン
（５０ｍｌ）の混合物にピリジン（１．８ｍｌ）、次い
でクロログリオキシル酸アリル（２．３ｍｌ）を順次０
℃で加える。同温で２時間撹拌後、この溶液にピリジン
（０．９ｍｌ）とクロログリオキシル酸アリル（０．７
５ｍｌ）を加える。０℃で１時間撹拌後、溶液を水、１
Ｎ塩酸および食塩水で洗滌し、乾燥する。溶媒を減圧下
に除去し、残留物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エ
チル−ヘキサン、１：９）で精製して、（３Ｓ，４Ｓ）
−１−（アリルオキシオキサリル）−３−［（１Ｒ）−
１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］−４−［（１Ｒ）−１−｛（フェニルチオ）チオカル
ボニル｝エチル］−２−オキソアゼチジン（４．７７ｇ
）を得る。 ＩＲ（ニート）：　１７０５，　１７５５，　１８０８
　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０９
　（６Ｈ，ｓ），　０．８３　（９Ｈ，ｓ），　１．１
８　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），　１．４８（３Ｈ
，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），　３．８３　（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝３．０Ｈｚ），　４．２１−４．３４　（２Ｈ，ｍ）
，　４．５８−４．６３（１Ｈ，ｍ），　４．７９−４
．８４　（２Ｈ，ｍ），　５．２９−５．４６　（２Ｈ
，ｍ），　５．８７−６．０８　（１Ｈ，ｍ），７．３
１−７．５０　（１Ｈ，ｍ）

【０１１０】実施例２５ 実施例２４と同様にして下記の化合物を得る。 （３Ｓ，４Ｓ）−１−（アリルオキシオキサリル）−４
−［（１Ｒ）−１−｛（（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオ
キシカルボニル−２−（ジメチルカルバモイル）ピロリ
ジン−４−イルチオ）チオカルボニル｝エチル］−３−
［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）エチル］−２−オキソアゼチジンＩＲ（ニート）
：　１８０５，　１７５０，　１７１０−１７００，　
１６６０−１６５０　ｃｍ−１ ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０５　（６Ｈ，
ｓ），　０．７８　（９Ｈ，ｓ），　１．１０　（３Ｈ
，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．３７　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．８Ｈｚ）ＦＡＢ−ＭＳ　：　６７０　（Ｍ＋　＋　
１），　６１２，　５８６，４９７，　３８３

【０１１
１】実施例２６ 実施例１０（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （１）　　（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−［（２Ｓ，４Ｓ
）−１−アリルオキシカルボニル−２−（ジメチルカル
バモイル）ピロリジン−４−イルチオ］−６−［（１Ｒ
）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［
３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル ＩＲ　（ＣＨＣｌ３）　：　１７７０，　１７１０−１
６９５，　１６６０−１６５０　ｃｍ−１ＦＡＢ−ＭＳ
　：　６２２　（Ｍ＋　＋　１），　６０６，　４２２
，２６２（２）　　（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−フェニ
ルチオ−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル］−４−メチル−７−オキソ
−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−
２−カルボン酸アリル ＩＲ（ニート）：　１７１０，　１７８０　ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ
，Ｊ＝６．２Ｈｚ），　２．９８−３．０６　（１Ｈ，
ｍ），　３．１３−３．１７　（１Ｈ，ｍ），　４．１
０−４．２５　（２Ｈ，ｍ），　４．７５−４．８３　
（２Ｈ，ｍ），　５．２２−５．３０　（１Ｈ，ｍ），
　５．４３−５．５２　（１Ｈ，ｍ），　５．９０−６
．０１　（１Ｈ，ｍ），　７．２７−７．５６　（５Ｈ
，ｍ）

【０１１２】実施例２７ 実施例１２（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （１）　　（５Ｒ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−３−
メチルチオ−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．
０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリルＩＲ（ヌ
ジョール）：１７６５，　１６９０　ｃｍ−１ＮＭＲ　
（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．０８　（６Ｈ，ｓ），　
０．８９　（９Ｈ，ｓ），　１．２６　（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６Ｈｚ），　２．３８（３Ｈ，ｓ），　２．９６−３
．２９　（２Ｈ，ｍ），　４．０７−４．２３　（２Ｈ
，ｍ），　４．６７−４．７８（２Ｈ，ｍ），５．２０
−５．５０　（２Ｈ，ｍ），　５．８７−６．０３（１
Ｈ，ｍ）（２）　　（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−［（２
Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオキシカルボニル−２−（ジメ
チルカルバモイル）ピロリジン−４−イルチオ］−６−
［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）エチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビ
シクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン
酸アリル ＩＲ　（ＣＨＣｌ３）　：　１７７０，　１７１０−１
６９５，　１６６０−１６５０　ｃｍ−１ＦＡＢ−ＭＳ
　：　６２２　（Ｍ＋　＋　１），　６０６，　４２２
，２６２（３）　　（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−フェニ
ルチオ−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル］−４−メチル−７−オキソ
−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−
２−カルボン酸アリル ＩＲ（ニート）：　１７１０，　１７８０　ｃｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ
，Ｊ＝６．２Ｈｚ），　２．９８−３．０６　（１Ｈ，
ｍ），　３．１３−３．１７　（１Ｈ，ｍ），　４．１
０−４．２５　（２Ｈ，ｍ），　４．７５−４．８３　
（２Ｈ，ｍ），　５．２２−５．３０　（１Ｈ，ｍ），
　５．４３−５．５２　（１Ｈ，ｍ），　５．９０−６
．０１　（１Ｈ，ｍ），　７．２７−７．５６　（５Ｈ
，ｍ）

【０１１３】実施例２８ （４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−メチ
ル−３−メチルチオ−７−オキソ−１−アザビシクロ［
３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル
（１００ｍｇ）を７０％フッ化テトラブチルアンモニウ
ム水溶液（０．７１ｇ）と酢酸（１２１ｍｇ）のテトラ
ヒドロフラン（２ｍｌ）中混合物に加え、混合物を室温
で２４時間静置する。溶液を酢酸エチル（６ｍｌ）で希
釈し、水、重炭酸ナトリウム水溶液および食塩水で洗滌
後、乾燥する。溶媒を減圧下に除去し、残留物をｎ−ヘ
キサンから結晶化して、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［
（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−
メチルチオ−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．
０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル（５８．
４ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：　３４５０，　１７４０　ｃｍ−
１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　１．２５　（３Ｈ
，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），　１．３６　（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６．３Ｈｚ），　２．４０　（３Ｈ，ｓ），　３．２
３　（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１　＆　２．５Ｈｚ），　
３．４１　（１Ｈ，ｍ），　４．１９　（１Ｈ，ｄｄ，
　Ｊ＝９　＆２．５Ｈｚ），　４．１７−４．２９　（
１Ｈ，ｍ），　４．６４−４．８８　（２Ｈ，ｍ），　
５．４０−５．５０　（２Ｈ，ｍ），５．８８−６．０
５　（１Ｈ，ｍ）

【０１１４】実施例２９ 実施例１３（１）と同様にして下記の化合物を得る。 （４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−フェニルスルフィニル−６
−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザ
ビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボ
ン酸アリル ＩＲ（ニート）：　１５８０，　１７２８，　１７８８
　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３δ）　：　３．２１−
３．２５　（１Ｈ，ｍ），　４．３６　（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝１０．７　＆　３．４Ｈｚ），　５．９１−６．０
０　（１Ｈ，ｍ）

【０１１５】実施例３０ （４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−（（１Ｒ）−１−ヒドロキ
シエチル）−４−メチル−３−メチルチオ−７−オキソ
−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−
２−カルボン酸アリル（１００ｍｇ）のエタノール（１
．０ｍｌ）溶液に３０％過酸化水素水溶液（０．５ｍｌ
）を加え、混合物を室温で１８時間静置する。溶液をメ
チレンジクロリドで希釈し、水、５％チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液および食塩水で順次洗滌する。有機層を乾燥し
、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製して、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−（（
１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル）−４−メチル−３−メ
チルスルフィニル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３
．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸アリル（
５０．０ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ニート）：　３３５０，　１７８０，　１７２５
　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　１．３３
−１．４０　（６Ｈ，ｍ），　２．８５　＆　２．９１
　（１．９　＆　１．１Ｈ，それぞれｓ），　３．３６
−３．４６　（１Ｈ，ｍ），　３．３２−３．９４　（
１Ｈ，ｍ），４．１９−４．４０　（３Ｈ，ｍ），　４
．６５−４．８６　（２Ｈ，ｍ），　５．２８−５．５
２　（２Ｈ，ｍ），　５．５２−６．０３　（１Ｈ，ｍ
）

【０１１６】実施例３１ 実施例１５と同様にして、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−
フェニルスルフィニル−６−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−メチ
ル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプ
ト−２−エン−２−カルボン酸アリルを（２Ｓ，４Ｓ）
−１−アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエ
チルオキシメチル）−４−メルカプトピロリジンと反応
させて、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−［（２Ｓ，４Ｓ）
−１−アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエ
チルオキシメチル）ピロリジン−４−イルチオ］−６−
［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）エチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビ
シクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−２−カルボン
酸アリルを得る。 ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　０．８６　（６Ｈ，
ｓ），　０．８９　（９Ｈ，ｓ），　１．２５　（６Ｈ
，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），　１．９８−２．１３　（１
Ｈ，ｍ），　２．４１−２．５６　（１Ｈ，ｍ），　３
．２１−３．３１　（３Ｈ，ｍ），　３．５８−３．６
６　（３Ｈ，ｍ），３．７６−３．８０　（２Ｈ，ｍ）
，　３．９５−４．２４　（４Ｈ，ｍ），　４．４２　
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．１Ｈｚ），　４．５８−４．８４
（５Ｈ，ｍ），　５．２０−５．４９　（４Ｈ，ｍ），
　５．８４−６．０５　（２Ｈ，ｍ）

【０１１７】実施
例３２ （４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキ
シエチル］−４−メチル−３−メチルスルフィニル−７
−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２
−エン−２−カルボン酸アリル（１５０ｍｇ）とシリカ
ゲル（３００ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（
１．５ｍｌ）中混合物に（２Ｓ，４Ｓ）−１−アリルオ
キシカルボニル−２−（２−フルオロエトキシメチル）
−４−メルカプトピロリジン（１５０ｍｇ）のジメチル
アセタミド（１．４５ｇ）溶液を加える。混合物を室温
で２時間撹拌する。シリカゲルを濾去し、濾液を減圧濃
縮する。残留物を分取薄層クロマトグラフィーで精製し
て、（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−［（２Ｓ，４Ｓ）−１
−アリルオキシカルボニル−２−（２−フルオロエトキ
シメチル）ピロリジン−４−イルチオ］−６−［（１Ｒ
）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ
−１−アザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−エン−
２−カルボン酸アリル（１６０ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ニート）：　３４５０，　１７７５，　１６９０
　ｃｍ−１ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３，δ）　：　１．２７
　（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），　１．３６　（３Ｈ，ｄ
，Ｊ＝６Ｈｚ），　１．８−２．１５　（１Ｈ，ｍ），
　２．３０−２．７０　（１Ｈ，ｍ），　３．１５−３
．４２　（３Ｈ，ｍ），　３．４５−３．９０　（３Ｈ
，ｍ），　３．９５−４．３５　（６Ｈ，ｍ），　４．
４０−４．４３　（１Ｈ，ｍ），　４．５８−４．８９
　（５Ｈ，ｍ），　５．２０−５．４９　（４Ｈ，ｍ）
，５．８７−６．０５　（２Ｈ，ｍ）

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式： 【化１】 ［式中、Ｒ２　はヒドロキシ（低級）アルキルまたは保
   護されたヒドロキシ（低級）アルキル、Ｒ３　は水素ま
   たは低級アルキル、Ｒ６　は有機基、Ｒは水素、式： 【化２】 （式中、Ｒ１　カルボキシまたは保護されたカルボキシ
   を意味する）で示される基、 式： 【化３】 （式中、Ｒ１　は前記定義の通り、Ｘ２　はハロゲンを
   意味する）で示される基、 式： 【化４】 （式中、Ｒ１　は前記定義の通り）で示される基、また
   は式： 【化５】 （式中、Ｒ１　は前記定義の通り、Ｒ７　は低級アルコ
   キシまたはアリールを意味する）で示される基をそれぞ
   れ意味する］で表わされる化合物およびその塩。
2. 【請求項２】　　一般式： 【化６】 ［式中、Ｒ、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞれ請
   求項１の定義通り］で表わされる請求項１に記載の化合
   物。
3. 【請求項３】　　Ｒ６　が低級アルキル、アリール、ア
   ル（低級）アルキル、または式： 【化７】 ［式中、Ｒ５　は水素、低級アルカンイミドイル、適当
   な置換基を有していてもよい低級シクロアルケニルまた
   はイミノ保護基、Ｒ８　は１個または２個の適当な置換
   基を有していてもよいカルバモイル、または式：−Ａ−
   Ｘ−Ｒ４ （式中、Ｒ４　は適当な置換基を有する低級アルキル、
   適当な置換基で置換されていてもよい複素環基、または
   低級アルキルスルホニル、Ａは低級アルキレン、Ｘは硫
   黄、酸素、イミノまたは保護されたイミノをそれぞれ意
   味する）で示される基をそれぞれ意味する］で示される
   基である請求項２の化合物。
4. 【請求項４】　　Ｒ６　が低級アルキル、フェニル、フ
   ェニル（低級）アルキル、または式： 【化８】 ［式中、Ｒ５　は水素またはイミノ保護基、Ｒ８　はジ
   （低級）アルキルカルバモイル、または式：−Ａ−Ｘ−
   Ｒ４ （式中、Ｒ４　はハロ（低級）アルキル、Ｘは酸素、Ａ
   は低級アルキレンをそれぞれ意味する）で示される基］
   で示される基である請求項３の化合物。
5. 【請求項５】　　一般式： 【化９】 ［式中、Ｒ２　はヒドロキシ（低級）アルキルまたは保
   護されたヒドロキシ（低級）アルキル、Ｒ３　は水素ま
   たは低級アルキル、Ｒ６　は有機基、Ｒは水素、式： 【化１０】 （式中、Ｒ１　はカルボキシまたは保護されたカルボキ
   シを意味する）で示される基、式： 【化１１】 （式中、Ｒ１　は前記定義の通り、Ｘ２　はハロゲンを
   意味する）で示される基、式： 【化１２】 （式中、Ｒ１　は前記定義の通り）で示される基、また
   は式： 【化１３】 （式中、Ｒ１　は前記定義の通り、Ｒ７　は低級アルコ
   キシまたはアリールを意味する）で示される基をそれぞ
   れ意味する］で表わされる化合物またはその塩の製造法
   であって、 （１）一般式： 【化１４】 ［式中、Ｒ２　は前記定義の通り、Ｘ１　は脱離基を意
   味する］で表わされる化合物またはその塩を一般式：【
   化１５】 ［式中、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞれ前記定義の通り
   ］で表わされる化合物またはその塩と反応させて、一般
   式：【化１６】 ［式中、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞれ前記定
   義の通り］で表わされる化合物またはその塩を得るか、
   または（２）一般式： 【化１７】 ［式中、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞれ前記定
   義の通り］で表わされる化合物またはその塩を転位反応
   に付して、一般式： 【化１８】 ［式中、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞれ前記定
   義の通り］で表わされる化合物またはその塩を得るか、
   または（３）一般式： 【化１９】 ［式中、Ｒ２　およびＲ３　はそれぞれ前記定義の通り
   、Ｒ６ａは式： 【化２０】 ［式中、Ｒ５　は水素、低級アルカンイミドイル、適当
   な置換基を有していてもよい低級シクロアルケニルまた
   はイミノ保護基、Ｒ８　は１個または２個の適当な置換
   基を有していてもよいカルバモイル、または式：−Ａ−
   Ｘ−Ｒ４ （式中、Ｒ４　は適当な置換基を有する低級アルキル、
   適当な置換基で置換されていてもよい複素環基、または
   低級アルキルスルホニル、Ａは低級アルキレン、Ｘは硫
   黄、酸素、イミノまたは保護されたイミノをそれぞれ意
   味する）で示される基をそれぞれ意味する］で示される
   基以外の有機基を意味する］で表わされる化合物または
   その塩を一般式： 【化２１】 ［式中、Ｒ５　およびＲ８　はそれぞれ前記定義の通り
   ］で表わされる化合物またはその塩と反応させて、一般
   式：【化２２】 ［式中、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｒ５　およびＲ８　はそれぞ
   れ前記定義の通り］で表わされる化合物またはその塩を
   得るか、または （４）一般式： 【化２３】 ［式中　Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞれ前記定
   義の通り］で表わされる化合物またはその塩を、一般式
   ：【化２４】 ［式中、Ｒ１　は前記定義の通り］で表わされる化合物
   またはその反応性均等物またはその塩と反応させて、一
   般式： 【化２５】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞ
   れ前記定義の通り］で表わされる化合物またはその塩を
   得るか、または （５）一般式： 【化２６】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞ
   れ前記定義の通り］で表わされる化合物またはその塩を
   ハロゲン化反応に付して、一般式： 【化２７】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｒ６およびＸ２　は
   それぞれ前記定義の通り］で表わされる化合物またはそ
   の塩を得るか、または （６）一般式： 【化２８】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｒ６およびＸ２　は
   それぞれ前記定義の通り］で表わされる化合物またはそ
   の塩を一般式： Ｐ（Ｒ７　）３　 ［式中、Ｒ７　は前記定義の通り］で表わされる化合物
   と反応させて、一般式： 【化２９】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｒ６およびＲ７　は
   それぞれ前記定義の通り］で表わされる化合物またはそ
   の塩を得るか、または （７）一般式： 【化３０】 ［式中、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞれ前記定
   義の通り］で表わされる化合物またはその塩を一般式：
   Ｘ３　−ＣＯ−Ｒ１　 ［式中、Ｒ１　は前記定義の通り、Ｘ３　は酸残基を意
   味する］で表わされる化合物またはその塩と反応させて
   、一般式： 【化３１】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞ
   れ前記定義の通り］で表わされる化合物またはその塩を
   得るか、または （８）一般式： 【化３２】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞ
   れ前記定義の通り］で表わされる化合物またはその塩を
   一般式：Ｐ（Ｒ７　）３　 ［式中、Ｒ７　は前記定義の通り］で表わされる化合物
   またはその塩を反応させて、一般式： 【化３３】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｒ６およびＲ７　は
   それぞれ前記定義の通り］で表わされる化合物またはそ
   の塩を得ることを特徴とする前記化合物の製造法。
6. 【請求項６】　　一般式： 【化３４】 ［式中、Ｒ１　はカルボキシまたは保護されたカルボキ
   シ、Ｒ２　はヒドロキシ（低級）アルキルまたは保護さ
   れたヒドロキシ（低級）アルキル、Ｒ３　は水素または
   低級アルキル、Ｒ６　は有機基をそれぞれ意味する］で
   表わされる化合物またはその塩の製造法であって、（１
   ）一般式： 【化３５】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞ
   れ前記定義の通りであり、Ｒ７　は低級アルコキシまた
   はアリールを意味する］で表わされる化合物またはその
   塩を環化反応に付して、一般式： 【化３６】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ６　はそれぞ
   れ前記定義の通りである］で表わされる化合物またはそ
   の塩を得るか、または （２）一般式： 【化３７】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　およびＲ３　はそれぞれ前記定
   義の通りであり、Ｒ６ａは式： 【化３８】 ［式中、Ｒ５　は水素、低級アルカンイミドイル、適当
   な置換基を有していてもよい低級シクロアルケニルまた
   はイミノ保護基、Ｒ８　は１個または２個の適当な置換
   基を有していてもよいカルバモイル、または式：−Ａ−
   Ｘ−Ｒ４　 （式中、Ｒ４　は適当な置換基を有する低級アルキル、
   適当な置換基で置換されていてもよい複素環基、または
   低級アルキルスルホニル、Ａは低級アルキレン、Ｘは硫
   黄、酸素、イミノまたは保護されたイミノをそれぞれ意
   味する）で示される基をそれぞれ意味する］で示される
   基以外の有機基を意味する］で表わされる化合物または
   その塩を一般式： 【化３９】 ［式中、Ｒ５　およびＲ８　はそれぞれ前記定義の通り
   である］で表わされる化合物またはその塩と反応させて
   、一般式： 【化４０】 ［式中、Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｒ５およびＲ８　は
   それぞれ前記定義の通りである］で表わされる化合物ま
   たはその塩を得ることを特徴とする前記化合物の製造法
   。