JPH04332190A - パターン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品 - Google Patents
パターン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品Info
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- JPH04332190A JPH04332190A JP13059991A JP13059991A JPH04332190A JP H04332190 A JPH04332190 A JP H04332190A JP 13059991 A JP13059991 A JP 13059991A JP 13059991 A JP13059991 A JP 13059991A JP H04332190 A JPH04332190 A JP H04332190A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0216—Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
- H05K1/0218—Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
- H05K3/182—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
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- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はパターン状金属層と電磁
波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品、特に、パターン状
金属層を外面に有する合成樹脂と金属板等の電磁波遮蔽
体とで構成された、パターン状金属層と電磁波遮蔽を有
する合成樹脂複合成形品に関する。
波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品、特に、パターン状
金属層を外面に有する合成樹脂と金属板等の電磁波遮蔽
体とで構成された、パターン状金属層と電磁波遮蔽を有
する合成樹脂複合成形品に関する。
【0002】
【従来の技術】配線基板等の、回路パターンを表面に有
する合成樹脂成形品の製造方法において、回路パターン
を形成するには転写、スクリーン印刷等の方法が多く用
いられていたが、金属材料の無駄が多く、コストがかか
るため、金属の接着に適する合成樹脂の表面に、無電解
めっきによりパターン状に金属層を形成する方法が用い
られるようになった。無電解めっきは金属層を設ける必
要のある部分に選択的に行わなければならない。その方
法の一つは、無電解めっきを要しない部分の合成樹脂の
表面をめっきレジストで被覆して、無電解めっきを行う
ことである。
する合成樹脂成形品の製造方法において、回路パターン
を形成するには転写、スクリーン印刷等の方法が多く用
いられていたが、金属材料の無駄が多く、コストがかか
るため、金属の接着に適する合成樹脂の表面に、無電解
めっきによりパターン状に金属層を形成する方法が用い
られるようになった。無電解めっきは金属層を設ける必
要のある部分に選択的に行わなければならない。その方
法の一つは、無電解めっきを要しない部分の合成樹脂の
表面をめっきレジストで被覆して、無電解めっきを行う
ことである。
【0003】また、特開昭63−50482号や特開平
1−207989号等に記載されているように、射出成
形による合成樹脂の二回成形法を用い、成形品の表面に
、無電解めっきを容易に施すことができる合成樹脂で一
次成形し、それを骨格として、無電解めっきが困難な樹
脂で二次成形し、一次成形体が露出した部分の表面に無
電解めっきを施すことにより、所定の回路パターンを得
る方法が開発された。一次成形には、例えば、無電解め
っきの触媒となる貴金属を添加した合成樹脂を用いる。
1−207989号等に記載されているように、射出成
形による合成樹脂の二回成形法を用い、成形品の表面に
、無電解めっきを容易に施すことができる合成樹脂で一
次成形し、それを骨格として、無電解めっきが困難な樹
脂で二次成形し、一次成形体が露出した部分の表面に無
電解めっきを施すことにより、所定の回路パターンを得
る方法が開発された。一次成形には、例えば、無電解め
っきの触媒となる貴金属を添加した合成樹脂を用いる。
【0004】この方法を図3により説明する。まず図3
(A)に示すように、頂部が平面をなす凸部31aと、
その間に凹部31bを有する一次成形体31を、易めっ
き性材料32で形成し、ついで、二次成形用の金型(図
示せず)の中で、一次成形体31の凹部31bを含む金
型内のキャビティに、難めっき性材料33を注入するこ
とにより、図3(B)に示すような断面を持つ二次成形
品34を形成させる。二次成形品34では上記の凹部3
1bが難めっき性材料33で充填されている。金型を外
し、二次成形品34の、一次成形体31が露出している
表面31cを、図3(C)に示すように粗面化した後、
無電解めっきを施すと、図3(D)に示すように、易め
っき性材料32で構成された一次成形体31が露出して
いる部分31cだけに、金属層35が形成される。こう
して、金属パターンを有するプラスチック複合成形品3
6が得られる。
(A)に示すように、頂部が平面をなす凸部31aと、
その間に凹部31bを有する一次成形体31を、易めっ
き性材料32で形成し、ついで、二次成形用の金型(図
示せず)の中で、一次成形体31の凹部31bを含む金
型内のキャビティに、難めっき性材料33を注入するこ
とにより、図3(B)に示すような断面を持つ二次成形
品34を形成させる。二次成形品34では上記の凹部3
1bが難めっき性材料33で充填されている。金型を外
し、二次成形品34の、一次成形体31が露出している
表面31cを、図3(C)に示すように粗面化した後、
無電解めっきを施すと、図3(D)に示すように、易め
っき性材料32で構成された一次成形体31が露出して
いる部分31cだけに、金属層35が形成される。こう
して、金属パターンを有するプラスチック複合成形品3
6が得られる。
【0005】近年電子機器の増加に伴い電磁波障害が増
えているため、最近では配線基板の電磁波遮蔽が重視さ
れるようになり、その一つの方法として、金属と合成樹
脂を複合成形したものが利用されている。例えば、図4
(A)に示すように、貫通孔2を設けた金属板1を型4
1内に固定して、合成樹脂42の射出成形を行う。合成
樹脂の熱膨張率は金属より大きいから、合成樹脂42の
冷却の過程で熱膨張率の差のために生ずる応力により、
金属板1に合成樹脂42が固定される。そして、図4(
B)に示すように、合成樹脂42の表面にめっきレジス
ト(図示せず)を用いて部分的に無電解めっきを施し、
パターン状に金属層43を形成する。
えているため、最近では配線基板の電磁波遮蔽が重視さ
れるようになり、その一つの方法として、金属と合成樹
脂を複合成形したものが利用されている。例えば、図4
(A)に示すように、貫通孔2を設けた金属板1を型4
1内に固定して、合成樹脂42の射出成形を行う。合成
樹脂の熱膨張率は金属より大きいから、合成樹脂42の
冷却の過程で熱膨張率の差のために生ずる応力により、
金属板1に合成樹脂42が固定される。そして、図4(
B)に示すように、合成樹脂42の表面にめっきレジス
ト(図示せず)を用いて部分的に無電解めっきを施し、
パターン状に金属層43を形成する。
【0006】配線基板の電磁遮蔽の方法としてこのほか
に、配線基板の裏面に金属膜を貼る方法がある。
に、配線基板の裏面に金属膜を貼る方法がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
金属板と複合成形した合成樹脂の表面に、無電解めっき
によりパターン状の金属層を形成するには、無電解めっ
きを施さない部分を予めめっきレジストで被覆しなけれ
ばならない。金属板も、少なくとも合成樹脂の周辺はめ
っきレジストで被覆する必要がある。無電解めっき後こ
れらのめっきレジストを除去するのに、大変手間がかか
る。
金属板と複合成形した合成樹脂の表面に、無電解めっき
によりパターン状の金属層を形成するには、無電解めっ
きを施さない部分を予めめっきレジストで被覆しなけれ
ばならない。金属板も、少なくとも合成樹脂の周辺はめ
っきレジストで被覆する必要がある。無電解めっき後こ
れらのめっきレジストを除去するのに、大変手間がかか
る。
【0008】金属板と合成樹脂の複合成形品の表面に、
めっきレジストを用いないでパターン状の金属層を形成
する方法として、合成樹脂の成形に上記の二回成形法を
適用することも考えられる。しかしこの方法によると、
まず一次成形で金属と合成樹脂の複合体を形成し、それ
に二次成形の樹脂を付加する形となるので、金属板と組
合わさるのは主に一次成形樹脂、すなわち無電解めっき
が容易な樹脂であるから、表面の回路パターンを金属板
から隔離するためには、成形体、従って型の設計がかな
り複雑になる。
めっきレジストを用いないでパターン状の金属層を形成
する方法として、合成樹脂の成形に上記の二回成形法を
適用することも考えられる。しかしこの方法によると、
まず一次成形で金属と合成樹脂の複合体を形成し、それ
に二次成形の樹脂を付加する形となるので、金属板と組
合わさるのは主に一次成形樹脂、すなわち無電解めっき
が容易な樹脂であるから、表面の回路パターンを金属板
から隔離するためには、成形体、従って型の設計がかな
り複雑になる。
【0009】電磁遮蔽のために配線基板の裏面に金属膜
を貼る方法は、金属膜の貼り付けに手間がかかり、電子
機器のコストを増大させる。また、金属板と合成樹脂の
複合成形品のような機械的強度が得られない。
を貼る方法は、金属膜の貼り付けに手間がかかり、電子
機器のコストを増大させる。また、金属板と合成樹脂の
複合成形品のような機械的強度が得られない。
【0010】それ故、本発明の目的は、めっきレジスト
を用いる必要がなく、また二回成形のための型の複雑な
設計を必要としない、パターン状金属層と電磁波遮蔽を
有する合成樹脂複合成形品を実現することである。
を用いる必要がなく、また二回成形のための型の複雑な
設計を必要としない、パターン状金属層と電磁波遮蔽を
有する合成樹脂複合成形品を実現することである。
【0011】また、本発明の他の目的は、金属膜の貼り
付け等の手間を要せず、機械的強度に優れた、パターン
状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品を実
現することにある。
付け等の手間を要せず、機械的強度に優れた、パターン
状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品を実
現することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明では、めっきレジ
ストを用いる必要がなく、また二回成形のための型の複
雑な設計を必要とせず、また、金属膜の貼り付け等の手
間を要しない、機械的強度に優れた、パターン状金属層
と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品を実現するた
め、少なくとも一つの貫通孔を有する金属板等と、この
貫通孔を閉塞するように充填され、かつ所定の回路パタ
ーンに対応したパターンを有する溝を外面に設けた、無
電解めっきに適しない第一の合成樹脂(以下、難めっき
性樹脂と言う)から成る第一の合成樹脂成形体と、上記
溝に充填された、無電解めっきに適する第二の合成樹脂
(以下、易めっき性樹脂と言う)から成る第二の合成樹
脂成形体と、第二の合成樹脂成形体の外表面に形成され
たパターン状金属層から成るように、表面にパターン状
金属層を有する合成樹脂と金属の複合成形品を構成した
。
ストを用いる必要がなく、また二回成形のための型の複
雑な設計を必要とせず、また、金属膜の貼り付け等の手
間を要しない、機械的強度に優れた、パターン状金属層
と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品を実現するた
め、少なくとも一つの貫通孔を有する金属板等と、この
貫通孔を閉塞するように充填され、かつ所定の回路パタ
ーンに対応したパターンを有する溝を外面に設けた、無
電解めっきに適しない第一の合成樹脂(以下、難めっき
性樹脂と言う)から成る第一の合成樹脂成形体と、上記
溝に充填された、無電解めっきに適する第二の合成樹脂
(以下、易めっき性樹脂と言う)から成る第二の合成樹
脂成形体と、第二の合成樹脂成形体の外表面に形成され
たパターン状金属層から成るように、表面にパターン状
金属層を有する合成樹脂と金属の複合成形品を構成した
。
【0013】金属板等を構成する金属は、目的とする電
磁波遮蔽によって種類を選ぶことができる。例えば、静
電遮蔽には銅、アルミニウム等の導電性の高い金属、電
磁遮蔽には鉄等の磁性金属を用い、両方の遮蔽にはそれ
らの複合体を用いる。貫通孔の大きさや形状は、要求さ
れる機械的強度、電磁波遮蔽効果、合成樹脂の射出成形
の容易さ等により選ばれる。金属板等の金属成形体は、
圧延、引抜き等の塑性加工により、必要な形状に容易に
成形することができる。
磁波遮蔽によって種類を選ぶことができる。例えば、静
電遮蔽には銅、アルミニウム等の導電性の高い金属、電
磁遮蔽には鉄等の磁性金属を用い、両方の遮蔽にはそれ
らの複合体を用いる。貫通孔の大きさや形状は、要求さ
れる機械的強度、電磁波遮蔽効果、合成樹脂の射出成形
の容易さ等により選ばれる。金属板等の金属成形体は、
圧延、引抜き等の塑性加工により、必要な形状に容易に
成形することができる。
【0014】一次成形に用いる難めっき性樹脂は、一次
成形体が二次成形の際の中子として機能するため、剛性
、寸法安定性、耐熱性が要求され、電気的特性も考慮し
なければならないので、通常、いわゆるエンジニアリン
グプラスチックの中から選ばれる。例えばポリカーボネ
ート、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリフェニレンスルフィドが好ましい。 あるいはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタ
レート樹脂等の熱硬化性樹脂を用いてもよい。これらの
樹脂にガラス繊維、チタン酸カリウム繊維、炭酸カルシ
ウム等のフィラーを添加してもよい。
成形体が二次成形の際の中子として機能するため、剛性
、寸法安定性、耐熱性が要求され、電気的特性も考慮し
なければならないので、通常、いわゆるエンジニアリン
グプラスチックの中から選ばれる。例えばポリカーボネ
ート、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリフェニレンスルフィドが好ましい。 あるいはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタ
レート樹脂等の熱硬化性樹脂を用いてもよい。これらの
樹脂にガラス繊維、チタン酸カリウム繊維、炭酸カルシ
ウム等のフィラーを添加してもよい。
【0015】二次成形に用いる易めっき性樹脂について
も、難めっき性樹脂と同種の樹脂を用いることができる
が、表面にパターン状金属層を選択的に形成させるため
、難めっき性樹脂より低分子量で、粗面化され易いか、
特定の溶剤、薬品等に侵され易いもの、あるいはパラジ
ウム、金、銀等の貴金属を含む触媒を添加したものを用
いる。また、易めっき性樹脂の成形温度は難めっき性樹
脂より低いことが、難めっき性樹脂の変形を防ぐ見地か
ら好ましい。
も、難めっき性樹脂と同種の樹脂を用いることができる
が、表面にパターン状金属層を選択的に形成させるため
、難めっき性樹脂より低分子量で、粗面化され易いか、
特定の溶剤、薬品等に侵され易いもの、あるいはパラジ
ウム、金、銀等の貴金属を含む触媒を添加したものを用
いる。また、易めっき性樹脂の成形温度は難めっき性樹
脂より低いことが、難めっき性樹脂の変形を防ぐ見地か
ら好ましい。
【0016】易めっき性樹脂が充填される一次複合成形
体の表面の溝は、有底の溝に限られず、金属板等の貫通
孔内を通って反対面に貫通した孔であってもよい。溝の
壁面に逆テーパを付けてもよい。逆テーパは一次成形に
困難が生じない範囲とし、一般的には0.1〜1%が好
ましい。これにより、難めっき性樹脂と易めっき性樹脂
の接着性が若干悪くても、後に易めっき性樹脂が難めっ
き性樹脂から剥離し、脱落することが防がれる。
体の表面の溝は、有底の溝に限られず、金属板等の貫通
孔内を通って反対面に貫通した孔であってもよい。溝の
壁面に逆テーパを付けてもよい。逆テーパは一次成形に
困難が生じない範囲とし、一般的には0.1〜1%が好
ましい。これにより、難めっき性樹脂と易めっき性樹脂
の接着性が若干悪くても、後に易めっき性樹脂が難めっ
き性樹脂から剥離し、脱落することが防がれる。
【0017】この溝は、一次成形の際に同時に形成させ
てもよいが、一次成形後、一次成形体に切削等の加工で
形成させてもよい。溝の一部を一次成形の際に形成させ
、残りの一部を一次成形後の加工で形成させてもよい。
てもよいが、一次成形後、一次成形体に切削等の加工で
形成させてもよい。溝の一部を一次成形の際に形成させ
、残りの一部を一次成形後の加工で形成させてもよい。
【0018】二次成形において、易めっき性樹脂を難め
っき性樹脂の溝に注入するには、通常のように、射出成
形を用いることができる。
っき性樹脂の溝に注入するには、通常のように、射出成
形を用いることができる。
【0019】易めっき性樹脂としては、表面にパターン
状金属層を形成させる必要上、難めっき性樹脂に比し非
晶性あるいは比較的低分子量で、粗面化され易いか、特
定の溶剤、薬品等に侵され易いものが好ましい。パラジ
ウム、金、銀等の貴金属触媒を添加したものを用いると
、無電解めっき前に触媒を付与する必要がなくなり、有
利である。
状金属層を形成させる必要上、難めっき性樹脂に比し非
晶性あるいは比較的低分子量で、粗面化され易いか、特
定の溶剤、薬品等に侵され易いものが好ましい。パラジ
ウム、金、銀等の貴金属触媒を添加したものを用いると
、無電解めっき前に触媒を付与する必要がなくなり、有
利である。
【0020】二次複合成形体の表面に易めっき性樹脂が
露出した部分に金属層を形成させるには、無電解めっき
を利用する。無電解めっきを行う前に、必要ならば、パ
ラジウム、金、銀等の貴金属触媒を付与する前処理を施
してもよい。
露出した部分に金属層を形成させるには、無電解めっき
を利用する。無電解めっきを行う前に、必要ならば、パ
ラジウム、金、銀等の貴金属触媒を付与する前処理を施
してもよい。
【0021】二次複合成形体の易めっき性樹脂が露出し
た表面を粗面化するには、通常、まずアルカリクリーナ
、界面活性剤、有機溶剤等により成形体の外面に付着し
ている離型剤、脂分、ごみ等の汚れを除去する。次に必
要に応じN,N−ジメチルホルムアミド等で処理した後
、クロム酸/硫酸、水酸化カルシウム、弗化水素酸/硝
酸、酸性弗化アンモニウム/硝酸等のエッチング液を用
いて、粗面化する。このような粗面化処理により、めっ
き層との間の充分な接着力が得られるようになる。
た表面を粗面化するには、通常、まずアルカリクリーナ
、界面活性剤、有機溶剤等により成形体の外面に付着し
ている離型剤、脂分、ごみ等の汚れを除去する。次に必
要に応じN,N−ジメチルホルムアミド等で処理した後
、クロム酸/硫酸、水酸化カルシウム、弗化水素酸/硝
酸、酸性弗化アンモニウム/硝酸等のエッチング液を用
いて、粗面化する。このような粗面化処理により、めっ
き層との間の充分な接着力が得られるようになる。
【0022】易めっき性樹脂として予めめっき触媒を添
加した合成樹脂を用いることは、その外面に選択的に金
属層を形成させるために好ましい。添加する無電解めっ
き触媒としては、周期律表第VIII族 および第I
B族の金属の単体および化合物、例えば銅、銀、金、ニ
ッケル、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ま
たはそれらの塩、酸化物等を用いることができる。
加した合成樹脂を用いることは、その外面に選択的に金
属層を形成させるために好ましい。添加する無電解めっ
き触媒としては、周期律表第VIII族 および第I
B族の金属の単体および化合物、例えば銅、銀、金、ニ
ッケル、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ま
たはそれらの塩、酸化物等を用いることができる。
【0023】予め無電解めっきに対する触媒を添加する
代わりに、粗面化の後に表面に触媒を付与する工程を付
加してもよい。触媒付与の方法としては、キャタリスト
─アクセラレータ法、すなわちパラジウム、錫等の金属
の混合触媒液に浸漬後、塩酸、しゅう酸等の酸で活性化
して、易めっき性樹脂の粗面化された表面にパラジウム
等を析出させる方法と、センシタイジング─アクティベ
ーティング法、すなわち塩化第一錫、塩化ヒドラジン、
次亜燐酸等の強い還元剤を粗面化された易めっき性樹脂
の所要部分に吸着させた後、パラジウム、金等の貴金属
イオンを含む触媒液に浸漬し、貴金属を析出させる方法
がある。
代わりに、粗面化の後に表面に触媒を付与する工程を付
加してもよい。触媒付与の方法としては、キャタリスト
─アクセラレータ法、すなわちパラジウム、錫等の金属
の混合触媒液に浸漬後、塩酸、しゅう酸等の酸で活性化
して、易めっき性樹脂の粗面化された表面にパラジウム
等を析出させる方法と、センシタイジング─アクティベ
ーティング法、すなわち塩化第一錫、塩化ヒドラジン、
次亜燐酸等の強い還元剤を粗面化された易めっき性樹脂
の所要部分に吸着させた後、パラジウム、金等の貴金属
イオンを含む触媒液に浸漬し、貴金属を析出させる方法
がある。
【0024】前処理後、無電解めっき(化学めっき)の
方法を用いて、銅、ニッケル等のめっきを施す。銅の上
にニッケル、さらに金を無電解めっきする場合もある。 金属層を電気回路パターンの配線部として用いる場合に
は、一般に、銅層あるいは銅層の上にニッケル、金、ハ
ンダ等の層を、単独にまたは組み合わせて、形成させる
。無電解めっき層の上に、この層を導体として、通常の
電気めっきによりさらに同種または異種の金属層を形成
してもよい(例えば無電解めっき銅層の上に電気めっき
ニッケル層)。この方法は、無電解めっきにより金属層
の充分な厚さが得られない場合に有用である。
方法を用いて、銅、ニッケル等のめっきを施す。銅の上
にニッケル、さらに金を無電解めっきする場合もある。 金属層を電気回路パターンの配線部として用いる場合に
は、一般に、銅層あるいは銅層の上にニッケル、金、ハ
ンダ等の層を、単独にまたは組み合わせて、形成させる
。無電解めっき層の上に、この層を導体として、通常の
電気めっきによりさらに同種または異種の金属層を形成
してもよい(例えば無電解めっき銅層の上に電気めっき
ニッケル層)。この方法は、無電解めっきにより金属層
の充分な厚さが得られない場合に有用である。
【0025】本発明の複合成形品は、電磁波遮蔽を有す
る配線基板として有用である。
る配線基板として有用である。
【0026】
【作用】第一次の複合成形で金属板等に設けられた貫通
孔に充填された難めっき性樹脂は、金属より熱膨張率が
大きいから、その冷却の過程で金属より大きく収縮して
応力を生じ、これにより金属板等に難めっき性樹脂が固
定される。そして、その外面に所定のパターンで溝を形
成し、この溝に易めっき性樹脂を充填するから、この部
分の表面には、無電解めっきによってパターン状の金属
層が形成される。このようにして、難めっき性樹脂の外
面の溝の部分に易めっき性樹脂が充填され、易めっき性
樹脂の部分の表面にパターン状の金属層が形成された、
金属と二種の合成樹脂との複合成形体が形成される。こ
の複合成形体は、合成樹脂の内部に一部が埋め込まれた
金属板と、合成樹脂の外面に形成されたパターン状の金
属層と、二つの金属部を有する。前者が電磁波遮蔽体と
なり、後者は回路パターン(配線部)として利用される
。
孔に充填された難めっき性樹脂は、金属より熱膨張率が
大きいから、その冷却の過程で金属より大きく収縮して
応力を生じ、これにより金属板等に難めっき性樹脂が固
定される。そして、その外面に所定のパターンで溝を形
成し、この溝に易めっき性樹脂を充填するから、この部
分の表面には、無電解めっきによってパターン状の金属
層が形成される。このようにして、難めっき性樹脂の外
面の溝の部分に易めっき性樹脂が充填され、易めっき性
樹脂の部分の表面にパターン状の金属層が形成された、
金属と二種の合成樹脂との複合成形体が形成される。こ
の複合成形体は、合成樹脂の内部に一部が埋め込まれた
金属板と、合成樹脂の外面に形成されたパターン状の金
属層と、二つの金属部を有する。前者が電磁波遮蔽体と
なり、後者は回路パターン(配線部)として利用される
。
【0027】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明のさらに具体的
な説明とする。 〔実施例1〕本発明による複合成形品の一例を図1(E
)に示す。図1(E)において、金属板1は立上り部分
1aと貫通孔2を有し、難めっき性樹脂3が貫通孔2を
塞ぐように成形されている。難めっき性樹脂3の上面に
は溝3bがあって、易めっき性樹脂4がここに充填され
ており、その外面は金属層5で被覆されている。難めっ
き性樹脂3は充填剤としてガラス繊維を30重量%含む
ポリフェニレンスルフィド(polyphenylen
esulfide)、易めっき性樹脂4は、無電解めっ
きの触媒としてパラジウム0.1重量%、充填剤として
ガラス繊維20重量%を含むポリエーテルスルホン(p
olyethersulfone) である。
な説明とする。 〔実施例1〕本発明による複合成形品の一例を図1(E
)に示す。図1(E)において、金属板1は立上り部分
1aと貫通孔2を有し、難めっき性樹脂3が貫通孔2を
塞ぐように成形されている。難めっき性樹脂3の上面に
は溝3bがあって、易めっき性樹脂4がここに充填され
ており、その外面は金属層5で被覆されている。難めっ
き性樹脂3は充填剤としてガラス繊維を30重量%含む
ポリフェニレンスルフィド(polyphenylen
esulfide)、易めっき性樹脂4は、無電解めっ
きの触媒としてパラジウム0.1重量%、充填剤として
ガラス繊維20重量%を含むポリエーテルスルホン(p
olyethersulfone) である。
【0028】図1(E)に示した複合成形品13は、図
1(A)以下に示す順序で、次のようにして製造される
。図1(A)に示すように、貫通孔2を有する金属板1
を内面に凸部6aを有する型6内に固定し、型6のキャ
ビティ6b内に難めっき性樹脂3を射出成形すると、図
1(B)に示すように、難めっき性樹脂3には型6の内
面の凸部6aに対応して溝3bが形成される。一次複合
成形品11は、金属板1と難めっき性樹脂3で構成され
た複合成形品である。溝3b以外の部分の難めっき性樹
脂3の表面を3aとする。図1(C)に示すように、一
次複合成形品11を型7内に固定し、易めっき性樹脂4
を射出成形で溝3bに充填して、図1(D)に示す二次
複合成形品12を得る。必要な前処理を施した上で無電
解めっきを施すと、溝3bに充填された易めっき性樹脂
4の外面4aに金属層5が形成され、図1(E)に示す
ような、表面の一部に金属層5を有する複合成形品13
が得られる。
1(A)以下に示す順序で、次のようにして製造される
。図1(A)に示すように、貫通孔2を有する金属板1
を内面に凸部6aを有する型6内に固定し、型6のキャ
ビティ6b内に難めっき性樹脂3を射出成形すると、図
1(B)に示すように、難めっき性樹脂3には型6の内
面の凸部6aに対応して溝3bが形成される。一次複合
成形品11は、金属板1と難めっき性樹脂3で構成され
た複合成形品である。溝3b以外の部分の難めっき性樹
脂3の表面を3aとする。図1(C)に示すように、一
次複合成形品11を型7内に固定し、易めっき性樹脂4
を射出成形で溝3bに充填して、図1(D)に示す二次
複合成形品12を得る。必要な前処理を施した上で無電
解めっきを施すと、溝3bに充填された易めっき性樹脂
4の外面4aに金属層5が形成され、図1(E)に示す
ような、表面の一部に金属層5を有する複合成形品13
が得られる。
【0029】複合成形品13の製造過程を図2に斜視図
で示す。図2(A)は貫通孔2を有する金属板1を示す
。図2(B)は、金属板1と難めっき性樹脂3で構成さ
れた一次複合成形品11を示す(図1(B)に対応)。 図2(C)は、易めっき性樹脂4が難めっき性樹脂3の
溝3b(図2(B)参照)に充填された二次複合成形品
12を示す(図1(D)に対応)。図2(D)はパター
ン状の金属層5を有する複合成形品13を示す(図1(
E)に対応)。図1(B),(D),(E)は図2(B
),(C),(D)の切断線I−Iに沿った断面に相当
する。機械的強度を要求しない場合には、貫通孔2をも
っと広くしてもよい。
で示す。図2(A)は貫通孔2を有する金属板1を示す
。図2(B)は、金属板1と難めっき性樹脂3で構成さ
れた一次複合成形品11を示す(図1(B)に対応)。 図2(C)は、易めっき性樹脂4が難めっき性樹脂3の
溝3b(図2(B)参照)に充填された二次複合成形品
12を示す(図1(D)に対応)。図2(D)はパター
ン状の金属層5を有する複合成形品13を示す(図1(
E)に対応)。図1(B),(D),(E)は図2(B
),(C),(D)の切断線I−Iに沿った断面に相当
する。機械的強度を要求しない場合には、貫通孔2をも
っと広くしてもよい。
【0032】〔実施例2〕難めっき性樹脂3として、ガ
ラス繊維20重量%を含むポリエーテルスルホン(po
lyethersulfone) を用いた以外は、製
造方法とも実施例1と同様である。
ラス繊維20重量%を含むポリエーテルスルホン(po
lyethersulfone) を用いた以外は、製
造方法とも実施例1と同様である。
【0033】
【発明の効果】本発明によるパターン状金属層と電磁波
遮蔽を有する合成樹脂複合成形品は、めっきレジストを
用いないでパターン状金属層を形成することができ、二
回成形のための型の複雑な設計を必要としない。また、
電磁波遮蔽を設けるために金属膜の貼り付け等の手間を
要しない。そして、金属と合成樹脂の複合成形品である
ため、機械的強度に優れる。
遮蔽を有する合成樹脂複合成形品は、めっきレジストを
用いないでパターン状金属層を形成することができ、二
回成形のための型の複雑な設計を必要としない。また、
電磁波遮蔽を設けるために金属膜の貼り付け等の手間を
要しない。そして、金属と合成樹脂の複合成形品である
ため、機械的強度に優れる。
【0034】本発明のパターン状金属層と電磁波遮蔽を
有する合成樹脂複合成形品の製造方法によると、パター
ン状金属層を形成するのにめっきレジストを用いる必要
がなく、また二回成形のための型の複雑な設計を必要と
しない。また、電磁波遮蔽を設けるために金属膜の貼り
付け等の手間を要しない。そして、機械的強度に優れた
、パターン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合
成形品を製造できる。
有する合成樹脂複合成形品の製造方法によると、パター
ン状金属層を形成するのにめっきレジストを用いる必要
がなく、また二回成形のための型の複雑な設計を必要と
しない。また、電磁波遮蔽を設けるために金属膜の貼り
付け等の手間を要しない。そして、機械的強度に優れた
、パターン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合
成形品を製造できる。
【図1】図1(A)ないし(E)は本発明によるパター
ン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品お
よびその製造方法の一実施例を示す断面図である。
ン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品お
よびその製造方法の一実施例を示す断面図である。
【図2】図2(A)ないし(D)は、本発明の複合成形
品の製造過程を示す斜視図である。
品の製造過程を示す斜視図である。
【図3】図3(A)ないし(D)は、従来のパターン状
金属層を有する合成樹脂複合成形品の製造方法を示す断
面図である。
金属層を有する合成樹脂複合成形品の製造方法を示す断
面図である。
【図4】図4は従来の金属層と電磁波遮蔽を有する合成
樹脂複合成形品を示す断面図である。
樹脂複合成形品を示す断面図である。
1 金属板
1a 金属板立上り部分
2 貫通孔
3 難めっき性樹脂
3a 難めっき性樹脂の溝以外の部分の表面3b
溝 4 易めっき性樹脂 5 金属層 6 型 6a 型内面の凸部 6b キャビティ 7 型 11 一次複合成形品 12 二次複合成形品 13 複合成形品 31 一次成形体 31a 一次成形体の凸部 31b 一次成形体の凹部 31c 一次成形体が露出している表面32
易めっき性材料 33 難めっき性材料 34 二次成形品 35 金属層 36 プラスチック複合成形品 41 型 42 合成樹脂 43 金属層
溝 4 易めっき性樹脂 5 金属層 6 型 6a 型内面の凸部 6b キャビティ 7 型 11 一次複合成形品 12 二次複合成形品 13 複合成形品 31 一次成形体 31a 一次成形体の凸部 31b 一次成形体の凹部 31c 一次成形体が露出している表面32
易めっき性材料 33 難めっき性材料 34 二次成形品 35 金属層 36 プラスチック複合成形品 41 型 42 合成樹脂 43 金属層
Claims (1)
- 【請求項1】 少なくとも一つの貫通孔を有する金属
体と、前記貫通孔を閉塞するように充填され、所定の回
路パターンに対応したパターンを有する溝を設けた、無
電解めっきに適しない第一の合成樹脂から成る第一の合
成樹脂成形体と、前記溝パターンに充填された、無電解
めっきに適する第二の合成樹脂から成る第二の合成樹脂
成形体と、前記第二の合成樹脂成形体の外面に無電解め
っきにより形成されたパターン状金属層から成ることを
特徴とする、パターン状金属層と電磁波遮蔽を有する合
成樹脂複合成形品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13059991A JPH04332190A (ja) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | パターン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13059991A JPH04332190A (ja) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | パターン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04332190A true JPH04332190A (ja) | 1992-11-19 |
Family
ID=15038068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13059991A Pending JPH04332190A (ja) | 1991-05-02 | 1991-05-02 | パターン状金属層と電磁波遮蔽を有する合成樹脂複合成形品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04332190A (ja) |
-
1991
- 1991-05-02 JP JP13059991A patent/JPH04332190A/ja active Pending
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