JPH043336A - 光ピックアップ装置 - Google Patents

光ピックアップ装置

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JPH043336A
JPH043336A JP2105937A JP10593790A JPH043336A JP H043336 A JPH043336 A JP H043336A JP 2105937 A JP2105937 A JP 2105937A JP 10593790 A JP10593790 A JP 10593790A JP H043336 A JPH043336 A JP H043336A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学式記録再生装置に用いる光ピックアップ
装置に関するものである。
〔従来の技術〕
第7図〜第9図に従来の光ピックアップ装置の一例を示
す。第7図及び第8図において、半導体レーザ1から出
射された光は回折素子2を透過し、コリメートレンズ3
によって平行光とされる。
この平行光のビーム断面強度分布は、半導体レーザ1か
らの出射光のビーム断面強度分布の影響により楕円形の
分布となっている。
このため、上記楕円形の強度分布を有するビームが整形
プリズム4を通されることにより、楕円形の短軸方向が
拡大されてビーム強度分布がほぼ円形となるように整形
された後、対物レンズ5によって記録媒体である光デイ
スク6上に集光される。
光ディスク6からの反射光は対物レンズ5を介して整形
プリズム4を通過することにより、ビーム強度分布が楕
円形に戻った後、コリメートレンズ3を介して回折素子
2に入射し、この回折素子2で回折されて光検出器7上
に集光される。
第9図に示すように、回折素子2は、光ディスク6のト
ラック方向に対応する方向であるY方向に延びる分割線
!1゛により2つの領域2a・2bに分割され、各領域
2a・2bには、異なるピッチで格子2C・2C・・・
、2d・2d・・・が形成されている。格子2C・2C
・・・のピッチが格子2d・2d・・・のピッチより大
きく設定されることにより、領域2aに入射した反射光
のビームPaの回折角に比して領域2bに入射した反射
光のビームpbの回折角がより大きくなるように設定さ
れている。
光検出器7はX方向に延びる分割線12°と、分割線1
2”の中間位置からY方向に延びる分割線13°とによ
り3つの光検出部7a〜7Cに分割されている。そして
、フォーカス誤差の生じていない時に回折素子2の領域
2aで回折されたビームPaは光検出部7aのほぼ中央
にスポット状のビームPa’を形成する一方、領域2b
で回折されたビームPbは光検出部7b・70間の分割
線!、゛上にスポット状のビームPb’を形成し、フォ
ーカス誤差が生じた時にはビームPb”が光検出部7b
又は7c上に半月状に拡がるようになっている。
光検出器7の各光検出部7a〜7cからの出力信号を5
axScとすると、フォーカス誤差信号FESは、FE
S=Sc−3bの演算を行うことにより得られ、このF
ESに基づいて、半導体レーザ1から出射された光が光
デイスク6上に焦点を結ぶように、つまり、FESが“
0″となるように、図示しない駆動系により対物レンズ
5が駆動されるようになっている。
又、ラジアル(トラッキング)誤差信号RESは、いわ
ゆるプッシュプル法により、RES=Sa−(Sb+S
C)の演算で求められ、再生信号はSa+Sb+Scの
演算で求められる。
〔発明が解決しようとする課題] ところが、上記の構成において、第7図に点線で示すよ
うに、光ディスク6が対物レンズ5の焦ん位置から遠ざ
かると、光ディスク6からの反射光は点線のような光路
を通って回折素子2に戻ることになる。
この場合、整形プリズム4の面4aで受けるビームの整
形のため、点線で示す反射光は、整形プリズム4への入
射時における合焦点時の平行光からの傾き角θより整形
プリズム4の出射時の傾き角θ゛の方が増幅される傾向
となる。そのため、光ディスク6が合焦点位置から遠ざ
かった場合、コリメートレンズ3を透過した反射光は、
ビーム整形方向゛−(短軸側)の焦点位置がビーム非整
形方向(長軸側)の焦点位置より近くなり、その結果、
光ディスク6が合焦点位置からある程度遠ざかると、前
記のビームPa−Pbが第9図に太線Pで示すように、
回折素子2上で長軸方向に長いほぼ直線状を成すことに
なる。この結果、第10図に示す合焦点位置からの光デ
ィスク6の変位量とFESとの関係を表すグラフにおい
て、合焦点A以外に、上記の如く、回折素子2上でビー
ムがほぼPの如く直線状となるB点でもFESにゼロク
ロスが生じることになる。
すなわち、合焦点位置から光ディスク6が次第に遠ざか
っていくと、第11図に示すように、前記のスボッ)P
b’ は光検出部7b内でPb+’・pb2’・・・の
ように次第に拡大し、第10図のB点ではスポットPb
がなくなり、B点を通過すると、反射光における短軸側
の焦点位置が回折素子2より手前側となるため、スポッ
トpb”は反転して光検出部7C内でpb、’  ・P
b、’・・・のように次第に拡大する。
ところで、FESの曲線におけるゼロクロス点は、フォ
ーカスサーボにおいて対物レンズ5の駆動目標位置基準
となるものであるが、上記のように合焦点A以外のB点
でゼロクロスが発生すると、初期状態からフォーカスを
引き込む場合又は外乱により外れたフォーカスを引き込
む制御をする場合に、合焦点A以外のゼロクロス点Bに
フォーカスを合わせようと対物レンズ5を駆動する恐れ
があるので、正常な情報の記録再生が行い難いものとな
る。
更に、回折素子2上のビームがPの如く直線状となる上
記のB点近傍では、回折素子2の分割線l、°が光軸か
らの若干のずれ又は傾きを有しているのみで、光検出器
7上のビームPb’が領域2a・2bに均等に分割され
なくなるので、正確なフォーカス誤差信号FESが得ら
れなくなる不具合が生じる。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る光ピックアップ装置は、上記の課題を4決
するために、ほぼ楕円形の強度分布を有する光を発生す
る光発生手段と、光発生手段から出射された光をほぼ円
形の強度分布を有する光となるように整形するとともに
記録媒体からの反射光を再びほぼ楕円形の強度分布を有
する光となるように整形する整形用光学手段と、少なく
ともその回折方向と平行な方向の分割線を含む1又は複
数の分割線により分割された複数の領域を有し上記記録
媒体で反射され整形用光学手段を通過した反射光を光検
出器側に回折させる回折手段と、分割線により分割され
た複数の光検出部を有し上記回折手段で回折された反射
光を受光して少なくとも再生信号とフォーカス誤差信号
とを得る光検出器とを備えた光ピックアップ装置におい
て、上記整形用光学手段が光発生手段から出射されるほ
ぼ楕円形の光の短軸方向を拡大することで上記ほぼ円形
の強度分布の光となるように整形するように構成され、
かつ、上記回折手段における回折方向と平行な方向の分
割線が整形用光学手段を通過した反射光の短軸方向と平
行になるように構成されていることを特徴とするもので
ある。
なお、以上の構成に代えて、上記整形用光学手段が光発
生手段から出射されるほぼ楕円形の光の長軸方向を縮小
することで上記ほぼ円形の強度分布の光となるように整
形するようにしても良い。
〔作 用〕
上記のように、整形用光学手段が光発生手段から出射さ
れるほぼ楕円形の光の短軸方向を拡大することで上記ほ
ぼ円形の強度分布の光に整形するとともに、回折手段に
おける回折方向と平行な方向の分割線が整形用光学手段
からの反射光の短軸と平行になるようにすれば、整形用
光学手段を介して回折手段に導かれる記録媒体からの反
射光が、仮に回折手段上でほぼ直線状のスポットを形成
する場合も、このほぼ直線状のスポットの延びる方向は
、回折手段における回折方向と平行な方向の分割線とは
直交する方向であるので、回折手段上のスポットがほぼ
直線状を成してもフォーカス誤差信号にはゼロクロスは
生じない、従って、フォーカス誤差の検出は正確、確実
に行われる。
一方、整形用光学手段が光発生手段から出射されるほぼ
楕円形の光の長軸方向を縮小することで上記ほぼ円形の
強度分布の光に整形するように構成すれば、記録媒体で
反射され、整形用光学手段を透過した反射光は、整形用
光学手段で再度ほぼ楕円の強度分布された光の長軸方向
の焦点距離が、整形用光学手段における非整形方向であ
る短軸方向の焦点距離より長くなるから、記録媒体が合
焦位置から例えば、数mm程度の大きな変位量だけ遠ざ
からない限り、回折手段上でスポットが直線状を成すこ
とはない、なお、実際のフォーカス制御では回折手段上
でスポットが直線状を成す程度まで記録媒体が合焦位置
から遠ざかることは実質上者えられないので、フォーカ
ス制御を行う範囲内では合焦点以外にゼロクロスが生じ
ることはない、従って、この場合も、フォーカス誤差の
検出は正確に行われる。
〔実施例1〕 本発明の一実施例を第1図乃至第3図に基づいて説明す
れば、以下の通りである。
第2図に示すように、ほぼ楕円形の強度分布(図中、X
方向が短軸でY方向が長軸)の光を発生する光発生手段
としての半導体レーザ11から出射されたレーザ光は、
回折手段としての回折素子12を透過し、コリメートレ
ンズ13によって平行光とされる。引続き、整形用光学
手段としての整形プリズム14を通過することにより、
上記ほぼ楕円形の強度分布における短軸方向が拡大整形
され、ほぼ円形の強度分布とされた後、対物レンズ15
によって記録媒体としての光デイスク16上に集光され
るようになっている。光ディスク16としては再生専用
型、追記型及び書換可能型等、目的に応じて種々のもの
を使用できる。
光ディスク16からの反射光は対物レンズ15を介して
整形プリズム14に入射し、ここで、ほぼ円形の強度分
布の反射光が再びほぼ楕円形の強度分布(X方向が短軸
)に戻された後、コリメートレンズ13を介して回折素
子12に到り、ここで、光検出器17側に回折されて光
検出器17により受光されるようになっている。
第1図にも示すように、回折素子12は光ディスク16
におけるトラック溝等によるトラックが設けられた方向
に対応する方向(X方向)に延びる分割線!1により2
つの領域12a・12bに分割され、領域12aにおけ
る格子12c・12C・・・のピッチが領域12bにお
ける格子12d・12d・・・のピッチより大きくされ
ることにより、領域12aに入射した反射光のビームP
aの回折角より領域12bに入射した反射光のビームP
bの回折角が大きくなるように設定されている。分割線
!、の方向は、整形プリズム14で再度ほぼ楕円系の強
度分布とされた反射光の短軸方向と平行なX方向とされ
ている。
第3図にも示すように、光検出器117は、回折素子1
2における分割線lIと直交するY方向に延びる分割線
l、及び分割線!、の中間位置から分割線Il、と平行
に延びる分割線!、により3つの光検出部17a〜17
cに分割されている。そして、フォーカス誤差の生じて
いない時に回折素子12における領域12aで回折され
たビームPaは光検出部17aのほぼ中央にスポット状
のと−ムPa’を形成し、領域12bで回折されたビー
ムPbが光検出部17b・17C間の分割線!。
上のほぼ中間位置にスポット状のビームPb’を形成す
るようになっている。
各光検出部17a〜17cの出力信号をSa〜Scとす
ると、再生信号はSa+Sb+Scの演算で得られ、又
、フォーカス誤差信号FESはFES=Sc−3bの演
算で得られ、ラジアル(トラッキング)誤差RESはR
ES=Sa−(Sb十Sc)で得られる。そして、図示
しないフォーカス及びラジアル駆動系によりFES及び
RESが°“0”となるように対物レンズ15が駆動さ
れる。
上記のように、本実施例では、光ディスク16からの反
射光の回折素子12上での短軸方向と分割線!1の方向
とを一致させたので、仮に分割線21に若干の傾き、ず
れが生じていたとしても、整形プリズム14により発生
する非点収差のためのフォーカスずれで、第1図に太線
Pで示すように、回折素子12上で反射光のビームがほ
ぼ直線状となる近傍においても、FESに対する影響は
ほとんど生じない、更に、光検出器17上の回折光のビ
ームPb’ も反転することがないため、FESの曲線
におけるゼロクロス点も合焦点のみに現れ、安定で良好
な記録再生が可能となる。
〔実施例2〕 第4図に第2実施例を示す。
この第2実施例では、分割線14により2つの領域18
a・18bに分割された回折素子18の各領域18a・
18bにおける格子18c・18C・・・ 18d・1
8d・・・を、分割線j2.に垂直な方向から互いに逆
向きに同一角度だけ傾斜させている。なお、上記の実施
例と同様に光ディスク16からの反射光の回折素子18
上の短軸方向が分割線!4の方向と同一方向とされてい
る。
一方、光検出器19はそれぞれ分割線i、、と平行な方
向に延びる3本の分割線!5〜ff1ff  (分割線
f、は分割線14を含み、回折素子18の表面に垂直な
平面に含まれる)により4つの光検出部19a〜19d
に分割され、フォーカス誤差がない時には回折素子18
の領域18a・18bで回折された光がそれぞれ分割線
!、・l、上にスポット状のビームPa’  ・Pb“
を形成するようになっている。なお、回折素子18及び
光検出器19以外は第1実施例と同様に構成されている
この実施例では、各光検出部19a〜19dの出力信号
をS a −S dとすると、再生信号はSa十Sb+
Sc+Sdの演算で求められ、フォーカス誤差信号FE
SはFES= (Sa−5b)+ (Sd−3c)の演
算で得られ、又、ラジアル誤差信号RESはRES= 
(Sa+5b)−(Sc+Sd)の演算で得られる。こ
の実施例においても、FESの曲線に合焦点以外でゼロ
クロス点は発生しない。
〔実施例3〕 次に、第3実施例を説明する。
第5図に示すように、第3実施例における整形プリズム
20は半導体レーザ11から出射されたほぼ楕円形の強
度分布を有するレーザ光(X方向が長軸、Y方向が短軸
)の長軸方向を縮小整形することによりほぼ円形の強度
分布に変換し、かつ、光ディスク16からの反射光にお
けるX方向を拡大することにより、再度ほぼ楕円形の強
度分布に変換するようになっている。これにより、回折
素子12に入射する反射光は第6図に示すように、その
長軸方向が分割線11の方向と一致する。
なお、第1実施例と同等の構成を有する部位には同一の
参照番号を付して重複した説明を省略する。
第6図に示すように、回折素子12及び光検出器17は
第1実施例と同様に構成され、フォーカス誤差の生じて
いない時に回折素子12の領域12aでの回折光が光検
出部17aのほぼ中央にスポット状のビームPa“を形
成する一方、領域12bでの回折光が分割s! p−*
のほぼ中間位置にスポット状のビームPb”を形成する
ようになっている。
本実施例では、整形プリズム20により半導体レーザ1
1からの出射光の長軸方向を縮小するようにしているた
め、光ディスク16で反射され、整形プリズム20及び
コリメートレンズ13を透過したほぼ楕円形の反射光は
、整形プリズム20におけるビーム整形方向である長軸
方向の焦点距離がビーム非整形方向である短軸方向の焦
点距離より長くなるため、回折素子12上で太vAPの
ようにほぼ直線状のビームが形成されるのは、光ディス
ク16がFESの制御範囲として考慮すべき範囲には含
まれない程度に合焦位置から大幅に(例えば、数mm程
度)遠ざかった時である。従って、フォーカス制御を行
う範囲内では、FESの曲線のゼロクロス点は実質的に
合焦位置以外に存在しないことになる。
この結果、上記の実施例と同様に、フォーカス制御が安
定し、情報の記録再生を良好に行うことができるように
なる。
なお、本実施例では、回折素子12上でのビームPa−
Pbの長軸方向が分割線!、の方向と一致するようにし
たが、ビームPa−Pbの短軸方向が分割線11の方向
と一致するようにしても良い。
〔発明の効果〕
本発明に係る光ピックアップ装置は、以上のように、整
形用光学手段が光発生手段から出射されるほぼ楕円形の
光の短軸方向を拡大することで上記ほぼ円形の強度分布
の光となるように整形するように構成され、かつ、上記
回折手段における回折方向と平行な方向の分割線が整形
用光学手段からの反射光の短軸方向と平行になるように
構成されているものである。
これにより、整形用光学手段を介して回折手段に導かれ
る記録媒体からの反射光が、仮に回折手段上でほぼ直線
状のスポットを形成する場合も、このほぼ直線状のスポ
ットの延びる方向は、回折手段における回折方向と平行
な方向の分割線とは直交する方向であるので、回折手段
上のスポットがほぼ直線状を成してもフォーカス誤差信
号にはゼロクロスは生じない。従って、フォーカス誤差
の検出は正確、確実に行われるという効果を奏する。
又、以上の構成に代えて、上記整形用光学手段が光発生
手段から出射されるほぼ楕円形の光の長軸方向を縮小す
ることで上記ほぼ円形の強度分布の光となるように整形
するように構成しても良い。
これにより、記録媒体で反射され、整形用光学手段を透
過した反射光は、整形用光学手段で再度ほぼ楕円の強度
分布された光の長軸方向の焦点距離が、整形用光学手段
における非整形方向である短軸方向の焦点距離より長く
なるものであるから、記録媒体が合焦位置から例えば、
数mm程度の大きな変位量だけ遠ざからない限り、回折
手段上でスポットがほぼ直線状を成すことはない。なお
、実際のフォーカス制御では回折手段上でスポットがほ
ぼ直線状を成す程度まで記録媒体が合焦位置から遠ざか
ることは実質上句えられないので、フォーカス制御を行
う範囲内では合焦位置以外にゼロクロスが生じることは
ない。従って、この場合も、フォーカス誤差の検出は正
確に行われる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本発明の一実施例を示すものである
。 第1図は第2図のI−I線に沿う回折素子及び光検出器
の概略平面図である。 第2図は光ピックアップ装置の概略正面図である。 第3図は光検出器の概略平面図である。 第4図は本発明の第2実施例における回折素子及び光検
出器の概略平面図である。 第5図及び第6図は本発明の第3実施例を示すものであ
る。 第5図は光ピックアップ装置の概略正面図である。 第6図は第5図のVI−VI線に沿う回折素子及び光検
出器の概略平面図である。 第7図乃至第11図は従来例を示すものである。 第7図は光ピックアップ装置の概略正面図である。 第8図は第7図の■−■線に沿う概略側面図である。 第9図は第8図のIX−IX線に沿う回折素子及び光検
出器の概略平面図である。 第1O図は記録媒体の変位に伴うフォーカス誤差信号の
変化を示すグラフである。 第11図は光検出器上でのスポ・ントの変化を示す模式
図である。 11は半導体レーザ(光発生手段)、12・18は回折
素子(回折手段)、14・204よ整形プリズム(整形
用光学手段)、16は光ディスク(記録媒体)、17・
19は光検出器である。 特許出願人     シャープ 株式会社代理人  弁
理1  原    謙  、借群咥l:≧謂1 (0エエ4− 第 図 東 囚 第 図 ■ トフッフ万同 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 入 (自発)手続補装置

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ほぼ楕円形の強度分布を有する光を発生する光発生
    手段と、光発生手段から出射された光をほぼ円形の強度
    分布を有する光となるように整形するとともに記録媒体
    からの反射光を再びほぼ楕円形の強度分布を有する光と
    なるように整形する整形用光学手段と、分割線により分
    割された複数の領域を有し上記記録媒体で反射され整形
    用光学手段を通過した反射光を光検出器側に回折させる
    回折手段と、少なくともその回折方向と平行な方向の分
    割線を含む1又は複数の分割線により分割された複数の
    光検出部を有し上記回折手段で回折された反射光を受光
    して少なくともフォーカス誤差信号とを得る光検出器と
    を備えた光ピックアップ装置において、 上記整形用光学手段が光発生手段から出射されるほぼ楕
    円形の光の短軸方向を拡大することで上記ほぼ円形の強
    度分布の光となるように整形するように構成され、かつ
    、上記回折手段における回折方向と平行な方向の分割線
    が整形用光学手段を通過した反射光の短軸方向と平行に
    なるように構成されていることを特徴とする光ピックア
    ップ装置。 2、ほぼ楕円形の強度分布を有する光を発生する光発生
    手段と、光発生手段から出射された光をほぼ円形の強度
    分布を有する光となるように整形するとともに記録媒体
    からの反射光を再びほぼ楕円形の強度分布を有する光と
    なるように整形する整形用光学手段と、少なくともその
    回折方向と平行な方向の分割線を含む1又は複数の分割
    線により分割された複数の領域を有し上記記録媒体で反
    射され整形用光学手段を通過した反射光を光検出器側に
    回折させる回折手段と、分割線により分割された複数の
    光検出部を有し上記回折手段で回折された反射光を受光
    して少なくともフォーカス誤差信号とを得る光検出器と
    を備えた光ピックアップ装置において、 上記整形用光学手段が光発生手段から出射されるほぼ楕
    円形の光の長軸方向を縮小することで上記ほぼ円形の強
    度分布の光となるように整形するように構成されている
    ことを特徴とする光ピックアップ装置。
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