JPH04335230A - 光ディスク原盤の作製方法 - Google Patents
光ディスク原盤の作製方法Info
- Publication number
- JPH04335230A JPH04335230A JP13601191A JP13601191A JPH04335230A JP H04335230 A JPH04335230 A JP H04335230A JP 13601191 A JP13601191 A JP 13601191A JP 13601191 A JP13601191 A JP 13601191A JP H04335230 A JPH04335230 A JP H04335230A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- master
- optical disc
- pits
- light intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は光ディスク原盤の作製
方法に関し、特にパターンサイズの小さいグルーブ、ピ
ットの形成に適する光ディスク原盤の作製方法に関する
。
方法に関し、特にパターンサイズの小さいグルーブ、ピ
ットの形成に適する光ディスク原盤の作製方法に関する
。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ディスク原盤は、図５中の（ａ
）〜（ｄ）に示すように、基板となるガラス円板１にポ
ジ型ホトレジスト膜２を塗布して熱処理した後、レーザ
ービーム３をレンズ４により絞ってホトレジスト膜２に
照射し、同心円状あるいは螺旋状のプリグルーブやピッ
トパターンの露光を行なって潜像５を形成し、これを現
像して上記プリグルーブやピットに対応する凹凸パター
ン６をホトレジスト膜２上の形成し、さらに熱処理を加
えることにより製作している。
）〜（ｄ）に示すように、基板となるガラス円板１にポ
ジ型ホトレジスト膜２を塗布して熱処理した後、レーザ
ービーム３をレンズ４により絞ってホトレジスト膜２に
照射し、同心円状あるいは螺旋状のプリグルーブやピッ
トパターンの露光を行なって潜像５を形成し、これを現
像して上記プリグルーブやピットに対応する凹凸パター
ン６をホトレジスト膜２上の形成し、さらに熱処理を加
えることにより製作している。
【０００３】図６に従来の光ディスク原盤記録装置の概
略を示す。この装置の記録光学系は、Ａｒレーザ８より
射出したレーザービームをミラー９でプリグループ用ビ
ームとピット用ビームとに分岐させ、各レーザービーム
を夫々アナログ変調器１０、１１、デジタル変調器１２
、１３及び拡大レンズ系１４、１５を通過させ、ビーム
スプリッタ１６で合成し、対物レンズ１７に導き、原盤
１８に照射する。この原盤１８は、図５においては、ポ
ジ型ホトレジスト膜２を塗布したガラス円板１である。 また原盤１８の回転時の面振れに追従させるためのフォ
ーカス光学系は、Ｈｅ−Ｎｅレーザ１９より射出したビ
ームを対物レンズ１７に導いて原盤１８に照射させ、原
盤１８からの反射光をビームスプリッタ２０により検出
器２３に入射させ、そして検出器２１からの入射信号に
より制御回路２２がアクチェータ２３を駆動し、アクチ
ュエータ２３により対物レンズ１７を駆動するようにな
っている。図中２４は原盤１８を回転駆動するモーター
、２５ａ、２５ｂは四分の一波長板、２６ａ〜２６ｃは
ミラー、２７ａ、２７ｂはダイクロイックミラー、２８
はシリンドリカルレンズである。
略を示す。この装置の記録光学系は、Ａｒレーザ８より
射出したレーザービームをミラー９でプリグループ用ビ
ームとピット用ビームとに分岐させ、各レーザービーム
を夫々アナログ変調器１０、１１、デジタル変調器１２
、１３及び拡大レンズ系１４、１５を通過させ、ビーム
スプリッタ１６で合成し、対物レンズ１７に導き、原盤
１８に照射する。この原盤１８は、図５においては、ポ
ジ型ホトレジスト膜２を塗布したガラス円板１である。 また原盤１８の回転時の面振れに追従させるためのフォ
ーカス光学系は、Ｈｅ−Ｎｅレーザ１９より射出したビ
ームを対物レンズ１７に導いて原盤１８に照射させ、原
盤１８からの反射光をビームスプリッタ２０により検出
器２３に入射させ、そして検出器２１からの入射信号に
より制御回路２２がアクチェータ２３を駆動し、アクチ
ュエータ２３により対物レンズ１７を駆動するようにな
っている。図中２４は原盤１８を回転駆動するモーター
、２５ａ、２５ｂは四分の一波長板、２６ａ〜２６ｃは
ミラー、２７ａ、２７ｂはダイクロイックミラー、２８
はシリンドリカルレンズである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
の記録密度を高密度化するためには、記録トラック間隔
、トラック方向のデータ間隔を狭める必要があり、この
ためには、グルーブやピットの幅や径を小さくしなけれ
ばならない。これを達成するには原盤への情報記録時に
露光ビーム径λと対物レンズの開口数ＮＡとの比λ／Ｎ
Ａを小さくすれば良いが、開口数ＮＡは理論限界値が１
であり、既にＮＡ０．９が超えるものを使用されている
ため改善の巾は小さい。従って、光の波長λを短くする
ことが一般的に行なわれている。ところが単に露光ビー
ムの波長λを短くすると光強度が不足するので、レジス
ト感度が高い波長λを採用して整合を取る必要がある。 このため、一般的なカッテング用レーザ光源としては、
波長４４１．６ｎｍのヘリウムカドミニウム（Ｈｅ−ｃ
ｄ）レーザー又は波長４５７．９ｎｍのアルゴン（Ａｒ
）レーザーを用いている。しかしながらこれらの波長の
レーザー光では、ポジ型ホトレジスト膜のレジスト分光
感度が高くなって低い光強度でも光反応が起こり、情報
記録されたプリピット及びプリグルーブの溝断面形状に
は肩ダレが発生し、結局はデータ間隔を狭めるに至って
いなかった。
の記録密度を高密度化するためには、記録トラック間隔
、トラック方向のデータ間隔を狭める必要があり、この
ためには、グルーブやピットの幅や径を小さくしなけれ
ばならない。これを達成するには原盤への情報記録時に
露光ビーム径λと対物レンズの開口数ＮＡとの比λ／Ｎ
Ａを小さくすれば良いが、開口数ＮＡは理論限界値が１
であり、既にＮＡ０．９が超えるものを使用されている
ため改善の巾は小さい。従って、光の波長λを短くする
ことが一般的に行なわれている。ところが単に露光ビー
ムの波長λを短くすると光強度が不足するので、レジス
ト感度が高い波長λを採用して整合を取る必要がある。 このため、一般的なカッテング用レーザ光源としては、
波長４４１．６ｎｍのヘリウムカドミニウム（Ｈｅ−ｃ
ｄ）レーザー又は波長４５７．９ｎｍのアルゴン（Ａｒ
）レーザーを用いている。しかしながらこれらの波長の
レーザー光では、ポジ型ホトレジスト膜のレジスト分光
感度が高くなって低い光強度でも光反応が起こり、情報
記録されたプリピット及びプリグルーブの溝断面形状に
は肩ダレが発生し、結局はデータ間隔を狭めるに至って
いなかった。
【０００５】また光ディスクの記録密度を高密度化する
ための他の方法として、特開平１−３１７２４１号公報
に示すような、現像工程、水洗、乾燥を付加する作製方
法が提案されている。この方法は、プリグルーブやプリ
ピットの凹部をホトレジスト膜に露光する工程の前工程
として、未露光のホトレジスト膜を現像液中に浸漬し、
あるいは膜状に現像液をシャワーした後に水洗、乾燥す
るようにしたものである。しかしながらこの方法では情
報記録原盤に欠陥が多くなりかねないという問題がある
。
ための他の方法として、特開平１−３１７２４１号公報
に示すような、現像工程、水洗、乾燥を付加する作製方
法が提案されている。この方法は、プリグルーブやプリ
ピットの凹部をホトレジスト膜に露光する工程の前工程
として、未露光のホトレジスト膜を現像液中に浸漬し、
あるいは膜状に現像液をシャワーした後に水洗、乾燥す
るようにしたものである。しかしながらこの方法では情
報記録原盤に欠陥が多くなりかねないという問題がある
。
【０００６】本発明はこのような従来の問題に鑑みてな
したもので、プリグルーブ、プリピットの溝断面形状の
肩ブレを小さくして情報記録密度を高密度化することを
可能とする光ディスク原盤の作製方法を提供することを
目的とする。
したもので、プリグルーブ、プリピットの溝断面形状の
肩ブレを小さくして情報記録密度を高密度化することを
可能とする光ディスク原盤の作製方法を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、基板上に設けたポジ型ホトレジストの感光
層にレーザー光を照射してトラッキング用プリグルーブ
やアドレスピットに対応するプリピット形成用の凹部を
形成する光ディスク原盤の作製方法において、上記レー
ザー光の波長を、ポジ型ホトレジストの吸光度が０．１
以下の領域となる波長としたことを特徴とする。
するために、基板上に設けたポジ型ホトレジストの感光
層にレーザー光を照射してトラッキング用プリグルーブ
やアドレスピットに対応するプリピット形成用の凹部を
形成する光ディスク原盤の作製方法において、上記レー
ザー光の波長を、ポジ型ホトレジストの吸光度が０．１
以下の領域となる波長としたことを特徴とする。
【０００８】また本発明は上記目的を達成するために、
上記レーザー光の波長を４６５ｎｍ以上５２９ｎｍ以下
の範囲のものを用いるようにすることができる。
上記レーザー光の波長を４６５ｎｍ以上５２９ｎｍ以下
の範囲のものを用いるようにすることができる。
【０００９】本発明に係る光ディスク原盤の作製方法の
原理を図３及び図４を用いて説明する。図３はポジ型ホ
トレジストの吸光度と露光波長との関係を示すグラフで
あり、図４は波長と光強度との関係を示すグラフである
。これらの図からわかるように、波長４５７．９ｎｍと
波長４８８ｎｍの吸光度を比較すると波長４８８ｎｍの
Ａｒレーザの光強度の増加度はレジスト感度の低下度よ
り大きい。即ち、波長が短くなると吸光度は上昇し、波
長が長くなると吸光度は低下するが、光強度は吸光度低
下以上の出力があり、光強度不足になることはない。こ
のような波長域は吸光度が０．１以下となる範囲、即ち
波長が４６５ｎｍ以上５２９ｎｍ以下の範囲である。ま
た、ポジ型ホトレジストの露光にこのような長波長域を
用いた場合、高光量を与えないと光反応しない。本発明
に係る光ディスク原盤の作製方法はこれらを利用するも
のである。
原理を図３及び図４を用いて説明する。図３はポジ型ホ
トレジストの吸光度と露光波長との関係を示すグラフで
あり、図４は波長と光強度との関係を示すグラフである
。これらの図からわかるように、波長４５７．９ｎｍと
波長４８８ｎｍの吸光度を比較すると波長４８８ｎｍの
Ａｒレーザの光強度の増加度はレジスト感度の低下度よ
り大きい。即ち、波長が短くなると吸光度は上昇し、波
長が長くなると吸光度は低下するが、光強度は吸光度低
下以上の出力があり、光強度不足になることはない。こ
のような波長域は吸光度が０．１以下となる範囲、即ち
波長が４６５ｎｍ以上５２９ｎｍ以下の範囲である。ま
た、ポジ型ホトレジストの露光にこのような長波長域を
用いた場合、高光量を与えないと光反応しない。本発明
に係る光ディスク原盤の作製方法はこれらを利用するも
のである。
【００１０】
【実施例】次に本発明の実施例を、図１を参照して従来
の例と比較して説明する。図１は光強度とレジスト層の
断面形状との関係を示しており、図の上側は露光レーザ
ービームの強度分布を示し、下側は現像されたホトレジ
ストのプリピットの溝断面形状を示す。図中Ａは従来使
用した波長域のレーザービームの光強度分布、Ｂは本発
明で使用する波長域のレーザービームの光強度分布であ
る。また図中Ｃは従来の溝断面形状、Ｄは本発明による
溝断面形状を示す。
の例と比較して説明する。図１は光強度とレジスト層の
断面形状との関係を示しており、図の上側は露光レーザ
ービームの強度分布を示し、下側は現像されたホトレジ
ストのプリピットの溝断面形状を示す。図中Ａは従来使
用した波長域のレーザービームの光強度分布、Ｂは本発
明で使用する波長域のレーザービームの光強度分布であ
る。また図中Ｃは従来の溝断面形状、Ｄは本発明による
溝断面形状を示す。
【００１１】光ディスク原盤は基板となるガラス円板に
ポジ型ホトレジストとしてシプリー社Ｓ１４００を０．
２６μｍの厚さに塗布して熱処理した後、記録ビームを
ホトレジスト膜に照射してプリグルーブやプリピット形
成用の凹部を形成した。記録装置は図６に示す装置と同
一のものであり、対物レンズの開口数をＮＡ＝０．９１
、従来例の記録波長は４５７．９ｎｍ、本発明の実施例
の記録波長は４８８ｎｍで、光強度は従来例の記録波長
の場合に比べ４倍となっている。ホトレジスト層Ｘの感
度の低いところの波長で露光すると、大きな光量が得ら
れた部分だけホトレジスト層Ｘが反応し、ホトレジスト
層Ｘが反応する高光量域（図中破線Ｈの上方部分）の強
度分布は急峻であることから、溝断面は急峻なものにな
り、肩ダレの少ない溝形状Ｄが得られている。これに対
して従来使用している波長域では、レジストのレジスト
分光感度が高くなって低い光強度でも光反応が起こり、
情報記録されたプリピット及びプリグルーブの溝断面形
状Ｃには肩ダレが発生している。図２に本発明の実施例
及び従来例に従って作製したプリピット及びプリグルー
ブの断面電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真像に対応する形状を
示す。
ポジ型ホトレジストとしてシプリー社Ｓ１４００を０．
２６μｍの厚さに塗布して熱処理した後、記録ビームを
ホトレジスト膜に照射してプリグルーブやプリピット形
成用の凹部を形成した。記録装置は図６に示す装置と同
一のものであり、対物レンズの開口数をＮＡ＝０．９１
、従来例の記録波長は４５７．９ｎｍ、本発明の実施例
の記録波長は４８８ｎｍで、光強度は従来例の記録波長
の場合に比べ４倍となっている。ホトレジスト層Ｘの感
度の低いところの波長で露光すると、大きな光量が得ら
れた部分だけホトレジスト層Ｘが反応し、ホトレジスト
層Ｘが反応する高光量域（図中破線Ｈの上方部分）の強
度分布は急峻であることから、溝断面は急峻なものにな
り、肩ダレの少ない溝形状Ｄが得られている。これに対
して従来使用している波長域では、レジストのレジスト
分光感度が高くなって低い光強度でも光反応が起こり、
情報記録されたプリピット及びプリグルーブの溝断面形
状Ｃには肩ダレが発生している。図２に本発明の実施例
及び従来例に従って作製したプリピット及びプリグルー
ブの断面電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真像に対応する形状を
示す。
【００１２】なお、プリピットやプリグルーブの形状の
大きさは光強度を可変することにより可変できる。また
、ホトレジスト層の膜厚が異なる場合、光強度を可変し
て適正の溝形状を得るようにすればよい。また波長の選
択は、例えばＡｒレーザ後端にある波長選択用プリズム
を移動するだけで行うことができ、特別の設備を新たに
加えることなく従来の原盤作製設備を用いて実現できる
。
大きさは光強度を可変することにより可変できる。また
、ホトレジスト層の膜厚が異なる場合、光強度を可変し
て適正の溝形状を得るようにすればよい。また波長の選
択は、例えばＡｒレーザ後端にある波長選択用プリズム
を移動するだけで行うことができ、特別の設備を新たに
加えることなく従来の原盤作製設備を用いて実現できる
。
【００１３】
【発明の効果】本発明に係る光ディスク原盤の作製方法
は以上説明してきたように、基板上に設けたポジ型ホト
レジストの感光層に照射してトラッキング用プリグルー
ブやアドレスピットに対応するプリピット形成用の凹部
を形成するレーザー光の波長を、ポジ型ホトレジストの
吸光度が０．１以下の領域となる波長としたので、肩ダ
レが小さく、従来に比べ溝幅及び溝径とも小さなプリピ
ット及びプリグルーブが形成でき光ディスクの高密度化
が可能になるという効果がある。また従来の原盤作製工
程を変更することがないので、従来と同様に扱え、低欠
陥の情報記録原盤が作製できるという効果がある。
は以上説明してきたように、基板上に設けたポジ型ホト
レジストの感光層に照射してトラッキング用プリグルー
ブやアドレスピットに対応するプリピット形成用の凹部
を形成するレーザー光の波長を、ポジ型ホトレジストの
吸光度が０．１以下の領域となる波長としたので、肩ダ
レが小さく、従来に比べ溝幅及び溝径とも小さなプリピ
ット及びプリグルーブが形成でき光ディスクの高密度化
が可能になるという効果がある。また従来の原盤作製工
程を変更することがないので、従来と同様に扱え、低欠
陥の情報記録原盤が作製できるという効果がある。
【図１】図１は本発明の実施例及び従来例における光強
度とレジスト層の断面形状との関係を示しており、図の
上側は露光レーザービームの強度分布を示し、下側は現
像されたホトレジストのプリピットの溝断面形状を示す
グラフである。
度とレジスト層の断面形状との関係を示しており、図の
上側は露光レーザービームの強度分布を示し、下側は現
像されたホトレジストのプリピットの溝断面形状を示す
グラフである。
【図２】図２は本発明の実施例及び従来例に従って作製
したプリピット及びプリグルーブの断面電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）写真像に対応する溝形状を示す断面図。
したプリピット及びプリグルーブの断面電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）写真像に対応する溝形状を示す断面図。
【図３】図３はポジ型ホトレジストの吸光度と露光波長
との関係を示すグラフである。
との関係を示すグラフである。
【図４】図４は波長と光強度との関係を示すグラフであ
る。
る。
【図５】図５は光ディスク原盤の作製手順を示す断面図
である。
である。
【図６】図６は光ディスク原盤記録装置の概略を示すブ
ロック図である。
ロック図である。
Ａ 従来例で使用する波長域のレーザービームの光強
度分布 Ｂ 本発明実施例で使用する波長域のレーザービーム
の光強度分布 Ｃ 従来例で形成される溝断面形状 Ｄ 本発明実施例で形成される溝断面形状Ｘ ホト
レジスト層
度分布 Ｂ 本発明実施例で使用する波長域のレーザービーム
の光強度分布 Ｃ 従来例で形成される溝断面形状 Ｄ 本発明実施例で形成される溝断面形状Ｘ ホト
レジスト層
Claims (2)
- 【請求項１】 基板上に設けたポジ型ホトレジストの
感光層にレーザー光を照射してトラッキング用プリグル
ーブやアドレスピットに対応するプリピット形成用の凹
部を形成する光ディスク原盤の作製方法において、上記
レーザー光の波長を、ポジ型ホトレジストの吸光度が０
．１以下の領域となる波長としたことを特徴とする光デ
ィスク原盤の作製方法。 - 【請求項２】 上記レーザー光の波長を４６５ｎｍ以
上５２９ｎｍ以下としたことを特徴とする請求項１に記
載の光ディスク原盤の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13601191A JPH04335230A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 光ディスク原盤の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13601191A JPH04335230A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 光ディスク原盤の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04335230A true JPH04335230A (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=15165099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13601191A Pending JPH04335230A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 光ディスク原盤の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04335230A (ja) |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP13601191A patent/JPH04335230A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0411525B1 (en) | A method of making optical disk master and an optical disk | |
| US4732844A (en) | Method for manufacturing optical disk with address and guide grooves | |
| US5705246A (en) | Master disc for an optical disc and method for manufacturing the master disc | |
| JPS61502426A (ja) | フォトリソグラフィに関する改良 | |
| CA2056308C (en) | Method for manufacturing a photomask for an optical memory | |
| JPH04335230A (ja) | 光ディスク原盤の作製方法 | |
| KR100629831B1 (ko) | 광디스크제조용원반을형성하는방법 | |
| JP2000021033A (ja) | 光ディスク原盤 | |
| JP3465301B2 (ja) | 光ディスク作成用原盤の作成方法 | |
| WO2002049009A2 (en) | Photolithographic method for fabricating micro-relief optical original discs, cards and other optical elements and micro-miniaturized devices | |
| JP2533613B2 (ja) | 光デイスク原盤作製法 | |
| JPH05189813A (ja) | 光ディスク用マスター原盤の製造方法 | |
| JP2003187503A (ja) | スタンパ製造方法 | |
| JP3284006B2 (ja) | 原盤製造方法と原盤加熱装置 | |
| JPS63298728A (ja) | 光学式データ記憶部材のフォーマッティングの改良 | |
| JP2000048409A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 | |
| KR100188922B1 (ko) | 광디스크 제조용 유리기판 및 포토마스크의 제조방법 | |
| JPH10302300A (ja) | 記録媒体原盤の製造方法、露光方法、記録及び／又は再生装置 | |
| JPH07192273A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH04248147A (ja) | 光ディスク原盤記録装置 | |
| JP2773540B2 (ja) | 高密度光ディスクの製造方法 | |
| JP2713083B2 (ja) | 微細パターン描画方法 | |
| JPH08221808A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 | |
| JP2000339780A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 | |
| JPH07287874A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 |