JPH04335321A - カラー表示装置の製造方法 - Google Patents
カラー表示装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH04335321A JPH04335321A JP3106143A JP10614391A JPH04335321A JP H04335321 A JPH04335321 A JP H04335321A JP 3106143 A JP3106143 A JP 3106143A JP 10614391 A JP10614391 A JP 10614391A JP H04335321 A JPH04335321 A JP H04335321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- forming
- color
- film
- display device
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般的にはカラーフィ
ルターを用いたカラー表示装置、特にTFTとカラーフ
ィルターとを用いたマトリックス型カラー表示装置の製
造方法に関する。
ルターを用いたカラー表示装置、特にTFTとカラーフ
ィルターとを用いたマトリックス型カラー表示装置の製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶を利用したカラー表示装置は
、いわゆるポケットテレビ等に使われてきたが、その傾
向は大型化,大画面化が急速に進められている。画質も
TN液晶からSTN液晶やTFTに代表されるアクティ
ブ駆動素子の開発でCRTに迫るものが商品化されてい
る。TFTによるカラー表示装置の画質向上と生産性の
改善については様々な検討が行われているが、その重要
な技術の一つとしてカラーフィルターの問題がある。
、いわゆるポケットテレビ等に使われてきたが、その傾
向は大型化,大画面化が急速に進められている。画質も
TN液晶からSTN液晶やTFTに代表されるアクティ
ブ駆動素子の開発でCRTに迫るものが商品化されてい
る。TFTによるカラー表示装置の画質向上と生産性の
改善については様々な検討が行われているが、その重要
な技術の一つとしてカラーフィルターの問題がある。
【0003】カラーフィルターの製造方法は、可染性樹
脂であるゼラチンをパターニングし染料を用いて染色す
る染色法、オフセット印刷等によりガラス基板上にカラ
ーインキを転写印刷する印刷法、予めパターニングされ
た透明電極上に高分子樹脂と顔料を電気泳動により共折
させる高分子電着法、感光性樹脂中に顔料を分散させた
着色レジストを用いてフォトファブリケーションにより
パターン化する顔料分散法等がある。
脂であるゼラチンをパターニングし染料を用いて染色す
る染色法、オフセット印刷等によりガラス基板上にカラ
ーインキを転写印刷する印刷法、予めパターニングされ
た透明電極上に高分子樹脂と顔料を電気泳動により共折
させる高分子電着法、感光性樹脂中に顔料を分散させた
着色レジストを用いてフォトファブリケーションにより
パターン化する顔料分散法等がある。
【0004】いずれの方法によるカラーフィルターを用
いる場合にも、TFTの光リーク防止及び画質向上(見
かけのコントラスト)のためブラックマトリックスと呼
ばれる遮光膜が必要である。ブラックマトリックスの製
法は主に3種類の方法がある。以下、図面を用いて説明
する。
いる場合にも、TFTの光リーク防止及び画質向上(見
かけのコントラスト)のためブラックマトリックスと呼
ばれる遮光膜が必要である。ブラックマトリックスの製
法は主に3種類の方法がある。以下、図面を用いて説明
する。
【0005】図2は、従来公知である多色表示装置の製
法を示したものである。カラーフィルター2R,2G,
2Bの間隙部に金属膜によるブラックマトリックス22
を形成した断面図である。これはガラス基板上にスパッ
タリング等で金属膜を形成した後、フォトファブリケー
ションの各工程を経てパターニングされたブラックマト
リックス22である。
法を示したものである。カラーフィルター2R,2G,
2Bの間隙部に金属膜によるブラックマトリックス22
を形成した断面図である。これはガラス基板上にスパッ
タリング等で金属膜を形成した後、フォトファブリケー
ションの各工程を経てパターニングされたブラックマト
リックス22である。
【0006】その後、赤色,緑色,青色のカラーフィル
ター2R,2G,2Bを順次形成し、保護膜23及び透
明電極24を設ける方法である。図3は、従来公知であ
る黒色顔料を感光性樹脂に分散させたレジストを使用し
てフォトファブリケーションにより形成させたブラック
マトリックスを示す断面図である。
ター2R,2G,2Bを順次形成し、保護膜23及び透
明電極24を設ける方法である。図3は、従来公知であ
る黒色顔料を感光性樹脂に分散させたレジストを使用し
てフォトファブリケーションにより形成させたブラック
マトリックスを示す断面図である。
【0007】カラーフィルター3R,3G,3Bを順次
形成した後、ブラックマトリックス32を形成するか、
または、反対にブラックマトリックス32を形成した後
、カラーフィルターを形成するどちらの方法もある。 その後は同様に保護膜33及び透明電極34を順に設け
ていく方法である。図4は、従来公知であるブラックマ
トリックスが形成される部分にカラーフィルター4R,
4G,4Bを順次重ねていく方法を示したものである。
形成した後、ブラックマトリックス32を形成するか、
または、反対にブラックマトリックス32を形成した後
、カラーフィルターを形成するどちらの方法もある。 その後は同様に保護膜33及び透明電極34を順に設け
ていく方法である。図4は、従来公知であるブラックマ
トリックスが形成される部分にカラーフィルター4R,
4G,4Bを順次重ねていく方法を示したものである。
【0008】もちろん、カラーフィルターの形成順序は
任意である。
任意である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし最近、将来が有
望視されているTFT方式のLCDにおいては、スイッ
チング素子の光リークを防ぐため、遮光膜の遮光率向上
が要求されている。更に、画質向上のため、遮光膜のパ
ターンは格子状であることが望ましい。しかし、従来の
製造方法では、レジスト中に黒色顔料を分散させている
ため添加量に限界があり、要求される遮光率が得られて
いない。また、着色層をマスクとした基板背面からの露
光により遮光膜を形成しているため、遮光膜を格子状に
形成することが困難であるという課題があった。
望視されているTFT方式のLCDにおいては、スイッ
チング素子の光リークを防ぐため、遮光膜の遮光率向上
が要求されている。更に、画質向上のため、遮光膜のパ
ターンは格子状であることが望ましい。しかし、従来の
製造方法では、レジスト中に黒色顔料を分散させている
ため添加量に限界があり、要求される遮光率が得られて
いない。また、着色層をマスクとした基板背面からの露
光により遮光膜を形成しているため、遮光膜を格子状に
形成することが困難であるという課題があった。
【0010】そこで、この発明の目的は、従来のこのよ
うな課題を解決し、高遮光率であり且つ任意のパターン
形状が可能な遮光膜を有するカラーパターンの製造方法
を得ることである。
うな課題を解決し、高遮光率であり且つ任意のパターン
形状が可能な遮光膜を有するカラーパターンの製造方法
を得ることである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、カラーパターンの製造方法においてガラ
ス基板にカラーフィルターを形成する工程、カラーフィ
ルター間に有機膜を形成する工程、カラーフィルター上
に透明導電膜を形成する工程、透明導電性薄膜上に金属
膜を形成する工程、金属膜をフォトファブリケーション
によりパターンを形成する工程を構成することにより高
遮光率で且つ任意のパターン形状が可能な遮光膜を有す
るカラーパターンの製造が図れるようにした。
に、本発明は、カラーパターンの製造方法においてガラ
ス基板にカラーフィルターを形成する工程、カラーフィ
ルター間に有機膜を形成する工程、カラーフィルター上
に透明導電膜を形成する工程、透明導電性薄膜上に金属
膜を形成する工程、金属膜をフォトファブリケーション
によりパターンを形成する工程を構成することにより高
遮光率で且つ任意のパターン形状が可能な遮光膜を有す
るカラーパターンの製造が図れるようにした。
【0012】
【作用】上記のように構成されたカラーパターンの製造
方法において、カラーフィルター間に感光性樹脂を露光
して現像するために平坦性がよくなり液晶配向性の優れ
た画像品質の良いカラー表示装置が得られる。使用可能
な感光性樹脂としては、ネガ型のポリエステルアクリレ
ート,ポリエステルポリアクリレート,エポキシアクリ
レート,ウレタンアクリレート,シリコンアクリレート
,ポリブタジエンアクリレート,光マイケル付加型(ポ
リエン−チオール系)オリゴマー,光カチオン重合型(
エポキシ及びビニルエーテル系)オリゴマーがある。
方法において、カラーフィルター間に感光性樹脂を露光
して現像するために平坦性がよくなり液晶配向性の優れ
た画像品質の良いカラー表示装置が得られる。使用可能
な感光性樹脂としては、ネガ型のポリエステルアクリレ
ート,ポリエステルポリアクリレート,エポキシアクリ
レート,ウレタンアクリレート,シリコンアクリレート
,ポリブタジエンアクリレート,光マイケル付加型(ポ
リエン−チオール系)オリゴマー,光カチオン重合型(
エポキシ及びビニルエーテル系)オリゴマーがある。
【0013】また光増感剤を適量配合し、溶剤にて粘度
調整した組成より成る。塗布方法としては、スピンナー
,ロールコーター及びオフセット印刷等の印刷方法のど
れでも良い。カラーフィルターとの間隙を埋め平坦性を
良くするには、紫外線照射条件(ピーク,積算照射量,
ランプ高源高さ等)光開始剤種,量,プレベーク条件に
よって調整し膜厚均一性を向上させることができる。
調整した組成より成る。塗布方法としては、スピンナー
,ロールコーター及びオフセット印刷等の印刷方法のど
れでも良い。カラーフィルターとの間隙を埋め平坦性を
良くするには、紫外線照射条件(ピーク,積算照射量,
ランプ高源高さ等)光開始剤種,量,プレベーク条件に
よって調整し膜厚均一性を向上させることができる。
【0014】
【実施例】以下、具体的に実施例により説明する。図1
に、本発明のカラー表示装置に使用されるカラーフィル
ターの製造工程を示す。■ 絶縁基板1上にスパッタ
リング法等でITO膜2を製膜し、電着可能な任意のパ
ターンにエッチングする。(図1(a))■ 電着法
によりITO膜上に赤,緑,青色の三原色のカラーフィ
ルター3を1.5μm形成する。(図1(b))(電着
液:シントーケミトロン製)■ 感光性樹脂(アロニ
ックスM5515 東亜合成化学工業製)に光開始剤
イルガキュア184(チバガイギー製)を0.2PHR
配合した15%(重量)固形分のクリヤー液をスピンナ
ーで1000rpmで15秒間塗布後、70℃×10分
のプレベークを行い、形成された膜は2.0μmであっ
た。(図1(c))■ 塗布面の背面より高圧水銀灯
UVランプ(80W/cmウシオ電機製)で照射(0.
3WS/cm2 )した。(図1(d))■ 現像液
(シントーケミトロン製)に2分浸漬して未硬化部分の
塗膜を溶出させた。
に、本発明のカラー表示装置に使用されるカラーフィル
ターの製造工程を示す。■ 絶縁基板1上にスパッタ
リング法等でITO膜2を製膜し、電着可能な任意のパ
ターンにエッチングする。(図1(a))■ 電着法
によりITO膜上に赤,緑,青色の三原色のカラーフィ
ルター3を1.5μm形成する。(図1(b))(電着
液:シントーケミトロン製)■ 感光性樹脂(アロニ
ックスM5515 東亜合成化学工業製)に光開始剤
イルガキュア184(チバガイギー製)を0.2PHR
配合した15%(重量)固形分のクリヤー液をスピンナ
ーで1000rpmで15秒間塗布後、70℃×10分
のプレベークを行い、形成された膜は2.0μmであっ
た。(図1(c))■ 塗布面の背面より高圧水銀灯
UVランプ(80W/cmウシオ電機製)で照射(0.
3WS/cm2 )した。(図1(d))■ 現像液
(シントーケミトロン製)に2分浸漬して未硬化部分の
塗膜を溶出させた。
【0015】次によくイソプロピルアルコールで洗浄し
乾燥した後、200℃×60分で焼成した。(図1(e
))■ スパッタリング法によりITO膜5を製膜し
た。膜厚は800Å、シート抵抗は35Ω/□であった
。(図1(f))■さらにスパッタリング法によりCr
の金属膜6を製膜し(図1(g))、格子状のパターン
をフォトファブリケーションにより形成した。(図1(
h)(i)(j))このようにして製作されたカラーフ
ィルターを、対向基板にTFT素子を形成したTFT基
板と共に図5に示したカラー表示装置として製作した。
乾燥した後、200℃×60分で焼成した。(図1(e
))■ スパッタリング法によりITO膜5を製膜し
た。膜厚は800Å、シート抵抗は35Ω/□であった
。(図1(f))■さらにスパッタリング法によりCr
の金属膜6を製膜し(図1(g))、格子状のパターン
をフォトファブリケーションにより形成した。(図1(
h)(i)(j))このようにして製作されたカラーフ
ィルターを、対向基板にTFT素子を形成したTFT基
板と共に図5に示したカラー表示装置として製作した。
【0016】この本発明のカラー表示装置に形成したブ
ラックマトリックス52の遮光率は99.99%でTF
Tの光リークを全く起こさない高品質な結果を得た。
ラックマトリックス52の遮光率は99.99%でTF
Tの光リークを全く起こさない高品質な結果を得た。
【0017】
【発明の効果】実施例で説明したように本発明の方法を
採用することにより、光リークによるTFT素子の故障
を起こさない良好な品質を有するカラー表示装置が得ら
れた。また、生産性の良い廉価な設備を使うことにより
、低廉価な製品を供給することが可能である。
採用することにより、光リークによるTFT素子の故障
を起こさない良好な品質を有するカラー表示装置が得ら
れた。また、生産性の良い廉価な設備を使うことにより
、低廉価な製品を供給することが可能である。
【0018】より詳しくは、透明導電膜と金属膜が積層
されるため、透明導電膜自体の抵抗値が高くても、金属
膜により結果的に透明導電膜の低抵抗化が図れるという
効果を合わせもつ。このことは、透明導電膜の膜厚を薄
くできるため、透明導電膜の透過率の向上と製膜時間の
短縮が図れる。前者はカラー表示装置の品質向上につな
がり、後者は低コスト化に寄与することができる。
されるため、透明導電膜自体の抵抗値が高くても、金属
膜により結果的に透明導電膜の低抵抗化が図れるという
効果を合わせもつ。このことは、透明導電膜の膜厚を薄
くできるため、透明導電膜の透過率の向上と製膜時間の
短縮が図れる。前者はカラー表示装置の品質向上につな
がり、後者は低コスト化に寄与することができる。
【図1】本発明によるブラックマトリックスを含むカラ
ーフィルターの製作工程を示す図である。
ーフィルターの製作工程を示す図である。
【図2】従来公知である金属膜をブラックマトリックス
としたカラーフィルター基板の縦断面図である。
としたカラーフィルター基板の縦断面図である。
【図3】従来公知である黒色感光性樹脂をブラックマト
リックスとしたカラーフィルター基板の縦断面図である
。
リックスとしたカラーフィルター基板の縦断面図である
。
【図4】従来公知であるカラーフィルターの重ね合わせ
をブラックマトリックスとした基板の縦断面図である。
をブラックマトリックスとした基板の縦断面図である。
【図5】本発明による多色表示装置の製造方法によって
作成されたカラーフィルター基板の断面模式図である。
作成されたカラーフィルター基板の断面模式図である。
1,21,31,41,45,51,55 ガラス基
板2R,3R,4R,5R 赤色フィルター2G,3
G,4G,5G 緑色フィルター2B,3B,4B,
5B 青色フィルター22,32,42,52 ブ
ラックマトリックス23,33,43,53 保護膜 5,24,34,44,54,57 透明導電膜56
TFT素子 58,59 ポラライザー 50 液晶 60 有機膜
板2R,3R,4R,5R 赤色フィルター2G,3
G,4G,5G 緑色フィルター2B,3B,4B,
5B 青色フィルター22,32,42,52 ブ
ラックマトリックス23,33,43,53 保護膜 5,24,34,44,54,57 透明導電膜56
TFT素子 58,59 ポラライザー 50 液晶 60 有機膜
Claims (1)
- 【請求項1】 透明ガラス基板と着色部と遮光性薄膜
とを有するカラーフィルター基板とが光学的活性材料を
介して対向するカラー表示装置において、該カラーフィ
ルター基板が以下の製造工程よりなることを特徴とする
カラー表示装置の製造方法。 (a)ガラス基板にカラーフィルターを形成する工程(
b)感光性樹脂を用いて背面露光法によりカラーフィル
ター間に有機膜を形成する工程 (c)該カラーフィルター基板上に透明導電性薄膜を形
成する工程 (d)透明導電性薄膜上に金属膜を形成する工程(e)
金属膜をフォトファブリケーションによりパターンを形
成する工程
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3106143A JPH04335321A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | カラー表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3106143A JPH04335321A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | カラー表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04335321A true JPH04335321A (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=14426139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3106143A Pending JPH04335321A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | カラー表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04335321A (ja) |
-
1991
- 1991-05-10 JP JP3106143A patent/JPH04335321A/ja active Pending
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