JPH04335596A - スルーホールプリント配線基板の製造方法 - Google Patents

スルーホールプリント配線基板の製造方法

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JPH04335596A
JPH04335596A JP3107191A JP10719191A JPH04335596A JP H04335596 A JPH04335596 A JP H04335596A JP 3107191 A JP3107191 A JP 3107191A JP 10719191 A JP10719191 A JP 10719191A JP H04335596 A JPH04335596 A JP H04335596A
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JP
Japan
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hole
wiring board
printed wiring
manufacturing
hole printed
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JP3107191A
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Yoshihisa Takayama
佳久 高山
Fumiaki Yoshida
文昭 吉田
Yukinobu Sawada
沢田 幸延
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリイミドフィルム,
ガラスエポキシ樹脂等の絶縁基板の表裏両面に設けられ
た導通パターンの所定の部署を導通させた、いわゆるス
ルーホールプリント配線基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、スルーホールプリント配線基板を
製造する方法としては、スルーホールメッキを施す方法
が採られている。すなわち、図6に示すようにまずポリ
イミドフィルムまたはガラスエポキシ樹脂等の絶縁基板
3の両面にそれぞれ銅箔1を接着剤4により接合し、し
かる後に所定の場所に貫通孔5をあける。次いで、図7
に示すように無電解銅メッキ、電解銅メッキにより孔5
内に銅メッキ層7を形成し、表裏面の銅箔1同志を導通
させる。その後、銅箔1上にフォトレジスト等のレジス
トを塗布し、エッチングして所望の配線パターンを得る
。配線パターンは前記貫通孔5を含むように設けられ、
孔5内に付着した銅メッキ層7によって表裏面の配線パ
ターンが電気的に導通される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記製造方法
によれば、無電解メッキ及び電気メッキを施すためにコ
ストが高くなる欠点があり、また、銅箔上には電解メッ
キによる銅が付着するためそれだけで厚くなり、線間隔
の狭い配線パターンを形成する事ができない欠点があっ
た。
【0004】本発明はこれらの問題を解決し、確実な導
通が得られ、かつ、十分な信頼性を持つスルーホールプ
リント配線基板の製造方法を提供せんとするものである
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のスルーホールプ
リント配線基板の製造方法は、その金属箔よりも導電率
の低い第2の金属層が片面に形成された金属箔を、貫通
孔を設けた絶縁基板の両面に前記貫通孔を覆うようにラ
ミネートし、前記貫通孔の両面から金属箔を押圧、変形
せしめ、その貫通孔内で抵抗溶接法にて上下金属箔を接
続、導通させ、その後金属箔を所定の配線パターン形状
にエッチングする事を特徴としている。
【0006】
【作用】上述の本発明の製造法によれば、絶縁基板の貫
通孔に、電気メッキをする必要がないため、コストの削
減や、線間隔の狭い配線パターンを形成する事が可能に
なる。さらに第2の金属層が金属箔よりも高い抵抗値を
有しているため、接続部分では発熱量が多くなり、上下
金属箔間の溶解量が増し同一金属箔同志の場合よりもい
っそう金属箔間の接続強度が増す。
【0007】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図1ないし図5に
示す各工程図を参照して詳述する。まず、図1に示すよ
うに35μm厚みの銅箔1の片面に、前記銅箔1より導
電率の低い第2の金属層である亜鉛層2を100Å形成
する。次ぎに図2に示されるように、両面に20μm厚
の接着剤層4が形成された25μm厚のポリイミドから
なるフィルム状の絶縁基板3の、スルーホールを施す位
置に300μmφの貫通孔5を搾設する。しかる後に、
図3に示すように絶縁基板3の表裏面に前記貫通孔5を
覆うように第2の金属層2が対向するように銅箔1を貼
り付ける。次いで図4に示されるように、先端径が10
0μmφの加熱ツールにより貫通孔5の部分にある銅箔
1及び第2の金属層2を押圧、折曲せしめ1.7〜1.
9mVの電流を流し、上下銅箔1を抵抗加熱法により接
続する。このとき、銅箔1に比べ導電率の低い亜鉛層2
同志が接触する事になり、この導電率の低い亜鉛層2の
発熱量が高くなり、上下金属箔間の溶解量が増し、同一
金属箔同志の場合よりも良好な接続が得られる。しかる
後に図5に示すように絶縁基板3上の両面の導電層を既
知の方法でエッチングして所望の配線パターンを得る。
【0008】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、メッキ処
理によるコストアップは低減され、また、単一金属同志
の接続よりも強い強度で接続でき、信頼性の高いスルー
ホールプリント配線基板が得られるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のスルーホールプリント配線基板の製造
方法の一実施例に使用される金属箔の断面図
【図2】本
発明のスルーホールプリント配線基板の製造方法の一実
施例に使用される絶縁基板の断面図
【図3】本発明のス
ルーホールプリント配線基板の製造方法の一実施例に使
用される一工程における配線基板の断面図
【図4】本発明のスルーホールプリント配線基板の製造
方法の一実施例の一工程における配線基板の断面図
【図
5】本発明のスルーホールプリント配線基板の製造方法
の一実施例の他の一工程における配線基板の断面図
【図
6】従来のスルーホールプリント配線基板の製造方法の
一工程における配線基板の断面図
【図7】従来のスルーホールプリント配線基板の製造方
法の他の工程における配線基板の断面図
【符号の説明】 1    金属箔 2    第2の金属層 3    絶縁基板 4    接着剤 5    貫通孔 6    ツール 7    メッキ層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  片面にその金属箔より導電率の低い第
    2の金属層が形成された金属箔を、貫通孔の形成された
    絶縁基板の両面に前記第2の金属層が対向するようにラ
    ミネートし、前記貫通孔の両面から前記金属箔を押圧、
    変形せしめて前記貫通孔内で抵抗溶接法で接合し、所定
    の配線パターンを形成し回路基板とすることを特徴とす
    るスルーホールプリント配線基板の製造方法。
  2. 【請求項2】  第2の金属層が、複数の金属の合金か
    らなる層である事を特徴とする請求項1記載のスルーホ
    ールプリント配線基板の製造方法。
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US5537740A (en) * 1992-12-28 1996-07-23 International Business Machines Corporation Method of making printed circuit board
JPH09283881A (ja) * 1996-04-12 1997-10-31 Yamaichi Electron Co Ltd 回路基板における層間接続構造
US6460247B1 (en) * 1997-10-07 2002-10-08 Dimensional Circuits Corp. Wiring board constructions and methods of making same

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