JPH043372B2 - - Google Patents

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JPH043372B2
JPH043372B2 JP12413683A JP12413683A JPH043372B2 JP H043372 B2 JPH043372 B2 JP H043372B2 JP 12413683 A JP12413683 A JP 12413683A JP 12413683 A JP12413683 A JP 12413683A JP H043372 B2 JPH043372 B2 JP H043372B2
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

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【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式() 〔式中、R1およびR2は同一または相異なり、
水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表わ
し、R3は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、
水酸基、トシルオキシ基またはメシルオキシ基を
表わす。l,mおよびnは同一または相異なり、
0または1を表わす。〕 で示されるジフエニルエーテル化合物類に関する
ものである。 本発明化合物である一般式()で示されるジ
フエニルエーテル化合物類は、たとえば下記一般
式()で示される強い幼若ホルモン様活性を有
し、鞘翅目、鱗翅目、半翅目、直翅目、双翅目等
の昆虫にきわめて高い防除効果を示す新規な化合
物の非常に重要な中間体となるものである。 〔式中、R1,R2およびmは前述同じ意味を有
し、R4は一般式
【式】または
【式】(式中、R5およびR6は同一ま たは相異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ
基、炭素数1〜4のアルキルチオ基、トリフルオ
ロメチル基またはニトロ基を表わし、R7および
R8は同一または相異なり、水素原子またはアル
キル基を表わし、kは0〜3の整数を表わす。)
で表わされる基を表わす。〕 本発明化合物は、たとえば下記に示すような合
成法で合成することができる。 1,3,5−トリフルオロベンゼンとp−メ
トキシフエノールとをアルカリ金属塩および銅
あるいは銅化合物(たとえば塩化第一銅、臭化
第一銅等)の存在下に反応させることによる、
一般式()においてl,mおよびnが0を表
わし、R3がメチル基を表わす化合物の合成法。 上記のようにして得られる4−(3,5−
ジフルオロフエノキシ)アニソールに臭化水素
を作用させることによる、一般式()におい
て、l,mおよびnが0を表わし、R3が水素
原子を表わす化合物の合成法。 4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フエ
ノールおよび一般式() 〔式中、R1およびmは前述と同じ意味を有
し、W1はアルキル基を表わす。〕 で示される化合物を塩基(たとえば炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等)の存在下に反応させ、
次に酸と反応させることにより、一般式() 〔式中、R1およびmは前述と同じ意味を有
する。〕 で示されるアルデヒドを得、さらに一般式
()で示されるアルデヒドを水素化リチウム
アルミニウムまたは一般式R2MgX(式中、R2
は前述と同じ意味を有し、Xはハロゲン原子を
表わす)で示されるGrignard試薬と反応させ
ることによる、一般式()においてlおよび
nが1を表わし、R3が水酸基を表わす化合物
の合成法。 4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フエ
ノールおよび一般式() 〔式中、R1は前述と同じ意味を有し、W2は
アルキル基を表わす。〕 で示される化合物を塩基(たとえば炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等)の存在下に反応させる
ことにより一般式() 〔式中、R1およびW2は前述と同じ意味を有
する。〕 で示される化合物を得、さらに水素化リチウム
アルミニウムで還元することによる、一般式
()においてlおよびmが1を表わし、nが
0を表わし、R3が水酸基を表わす化合物の合
成法。 4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フエ
ノールと一般式() 〔式中、R2は前述と同じ意味を有し、Xは
ハロゲン原子を表わす。〕 で示される化合物かあるいは一般式() 〔式中、R2は前述と同じ意味を有する。〕 で示される化合物とを塩基(たとえば水素化ナ
トリウム、ナトリウムエチラート、炭酸カリウ
ム等)の存在下に反応させることによる、一般
式()においてmおよびnが1を表わし、l
が0を表わし、R3が水酸基を表わす化合物の
合成法。 一般式() 〔式中、R1,R2およびmは前述と同じ意味
を有する。〕 で示される化合物を三臭化リンまたは塩化チオ
ニルと反応させることによる、一般式()に
おいて、lおよびnが1を表わし、R3が臭素
原子または塩素原子を表わす化合物の合成法。 一般式()で示される化合物と一般式
() Cl−SO2−W3 () 〔式中、W3はp−トリル基またはメチル基
を表わす。〕 で示される化合物と有機塩基(たとえばピリジ
ン、トリエチルアミン等)の存在下に反応させ
ることによる、一般式()においてlおよび
nが1を表わし、R3がトシルオキシ基または
メシルオキシ基を表わす化合物の合成法。 4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フエ
ノールと一般式(XI) 〔式中、R1,R2およびmは前述と同じ意味
を有し、Aはハロゲン原子を表わす。〕 で示される化合物とを塩基(たとえば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等)の存在下に反
応させることによる、一般式()においてl
およびnが1を表わし、R3がハロゲン原子を
表わす化合物の合成法。 次に本発明化合物のいくつかを表1に示す。
【表】
【表】 参考例 1 4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)アニソ
ールの合成 水素化ナトリウム(60%オイルサスペンジヨ
ン)7.56g(0.189mol)をn−ヘキサンで洗浄
し、オイルを分除去し、それにN,N−ジメチル
ホルムアミド100mlを加えてサスペンジヨンとし
た。そこへ撹拌しながら4−メトキシフエノール
25.84g(0.208mol)をゆつくり加え、水素ガス
の発生が終るまでそのまま撹拌した。次に、その
溶液に1,3,5−トリフルオロベンゼン30.00
g(0.227mol)および塩化第一銅0.50gを加えて
8時間加熱還流下に撹拌し、放冷後、その反応液
を氷水に注入し、トルエンで抽出した。そのトル
エン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去した後、残つたオイルを減圧蒸留することに
よつて、4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)
アニソール25.42g(bp.98.5℃/0.2mmHg)を得
た。 参考例 2 4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フエノ
ールの合成 4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)アニソ
ール22.0g(0.093mol)、酢酸200mlおよび47%臭
化水素水溶液200mlの混合溶液を8時間加熱還流
下に撹拌し、冷却後、氷水に注入し、エーテル/
n−ヘキサン=1/2混合溶媒で抽出し、その有
機層を3回水洗いし、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒留去することによつて、4−(3,
5−ジフルオロフエノキシ)フエノール20.27g
を得た。 参考例 3 2−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フ
エノキシ}エタノールの合成 エタノール40mlにナトリウム939mg
(40.9mmol)を加えてナトリウムエチラートのエ
タノール溶液を調製し、そこへ、4−(3,5−
ジフルオロフエノキシ)フエノール9.0g
(40.5mmol)を加えた。その溶液に加熱還流下、
撹拌しつつ2−クロロエタノール3.26g
(40.5mmol)をゆつくり滴下し、滴下終了後4時
間加熱還流下に撹拌した。冷却後、エタノールを
留去した後、残つた抽状物にトルエンを加えて溶
かし、そのトルエン層を水で1回、20%水酸化カ
リウム水溶液で2回、飽和食塩水で1回それぞれ
順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を留去することによつて、2−{4−(3,5−
ジフルオロフエノキシ)フエノキシ}エタノール
6.50gを得た。 参考例 4 1−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フ
エノキシ}−2−プロパノールの合成 エタノール15mlにナトリウム313mg
(13.6mmol)を加えて、ナトリウムエチラートの
エタノール溶液を調製し、そこへ、4−(3,5
−ジフルオロフエノキシ)フエノール3.0g
(13.5mmol)を加えた。その溶液に加熱還流下、
撹拌しつつ1−クロロ−2−プロパノール1.60g
(16.9mmol)をゆつくり滴下し、滴下終了後、5
時間加熱還流下撹拌した。冷却後、エタノールを
留去した後、残つた油状物にトルエンを加えて溶
かし、そのトルエン層を水で1回、20%水酸化カ
リウム水溶液で2回、飽和食塩水で1回それぞれ
順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を留去することによつて、1−{4−(3,5−
ジフルオロフエノキシ)フエノキシ}−2−プロ
パノール2.24gを得た。 参考例 5 2−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フ
エノキシ}−1−プロパノールの合成 4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フエノ
ール11.1g(50.0mmol)、エチル2−ブロモプロ
ピオネート9.96g(55.0mmol)、炭酸カリウム
7.25g(52.5mmol)およびN,N−ジメチルホ
ルムアミド50mlの混合液を内温70〜80℃で3時間
撹拌し、冷却後、氷水に注入し、トルエンで抽出
した。そのトルエン層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去することによつて、エチル 2−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フ
エノキシ}プロピオネート15.6gを得た。 得られたエチル2−{4−(3,5−ジフルオロ
フエノキシ)フエノキシ}プロピオネート15.6g
をジエチルエーテル10mlに溶かし、その溶液をリ
チウムアルミニウムハイドライド1.38g
(36.3mmol)をジエチルエーテル70mlでサスペン
ジヨンにした中に、内温−20〜−10℃で撹拌しな
がら滴下した。滴下終了後、内温0〜5℃に保ち
ながら、1時間撹拌した後、その反応混合液を氷
と塩酸の混合物にゆつくり注入し、ジエチルエー
テルで抽出した。エーテル層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去して、2−{4−
(3,5−ジフルオロフエノキシ)フエノキシ}−
1−プロパノール12.6gを得た。 参考例 6 2−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フ
エノキシ}エチル ブロミドの合成 2−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フ
エノキシ}エタノール1.00g(3.76mmol)およ
びn−ヘキサン50mlの混合物に氷冷下、撹拌しつ
つ三臭化リン0.71g(2.63mmol)をゆつくり滴
下し、滴下終了後、徐々に室温までもどし、室温
で30分間撹拌し、その後、1時間加熱還流下に撹
拌した。放冷後、上層n−ヘキサン溶液層をデカ
ンテーシヨンし、そのn−ヘキサン層を水で2
回、炭酸水素ナトリウム水溶液で3回、飽和食塩
水で1回それぞれ順に洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去することによつて、2
−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フエノ
キシ}エチル ブロミド915mgを得た。 参考例 7 2−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フ
エノキシ}エチル p−トルエンスルホネート
の合成 2−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)フ
エノキシ}エタノール2.66g(10.0mmol)のピ
リジン2.8g溶液に、−20℃に冷却しながら撹拌し
つつP−トルエンスルホニルクロライド1.91g
(10.0mmol)をゆつくり加えた後、冷蔵庫内に一
夜放置した。次にその反応液にジエチルエーテル
を加え、希塩酸で水層が酸性になるまで洗浄し、
さらに炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩
水で洗浄した。得られたエーテルを無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去することによつ
て、2−{4−(3,5−ジフルオロフエノキシ)
フエノキシ}エチル P−トルエンスルホネート
3.90gを得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() 〔式中、R1およびR2は同一または相異なり、
    水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表わ
    し、R3は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、
    水酸基、トシルオキシ基またはメシルオキシ基を
    表わす。l,mおよびnは同一または相異なり、
    0または1を表わす。〕 で示されるジフエニルエーテル化合物類。 2 一般式()において、mが0を表わす前記
    特許請求の範囲第1項に記載の化合物類。 3 一般式()において、R1およびR2が同一
    または相異なり、水素原子またはメチル基を表わ
    す前記特許請求の範囲第1項または第2項に記載
    の化合物類。 4 一般式()において、R3が水酸基を表わ
    す前記特許請求の範囲第1項、第2項または第3
    項に記載の化合物類。 5 一般式()において、R3がハロゲン原子
    を表わす前記特許請求の範囲第1項、第2項また
    は第3項に記載の化合物類。 6 一般式()において、R3がトシルオキシ
    基またはメシルオキシ基を表わす前記特許請求の
    範囲第1項、第2項または第3項に記載の化合物
    類。 7 一般式()において、l,mおよびnが0
    を表わし、R3が水素原子またはメチル基を表わ
    す前記特許請求の範囲第1項、第2項または第3
    項に記載の化合物類。 8 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第4項に記載の化合物。 9 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第4項に記載の化合物。 10 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第4項に記載の化合物。 11 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第5項に記載の化合物。 12 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第5項に記載の化合物。 13 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第5項に記載の化合物。 14 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第6項に記載の化合物。 15 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第6項に記載の化合物。 16 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第6項に記載の化合物。 17 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第6項に記載の化合物。 18 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第6項に記載の化合物。 19 式 で示される前記特許請求の範囲第1項、第2項、
    第3項または第6項に記載の化合物。
JP12413683A 1983-07-07 1983-07-07 ジフェニルエ−テル化合物類 Granted JPS6016945A (ja)

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JPS6016945A JPS6016945A (ja) 1985-01-28
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JP3218619B2 (ja) * 1990-11-28 2001-10-15 住友化学工業株式会社 芳香族系化合物、その製造法およびそれを有効成分とする有害生物防除剤

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