JPH04337621A - 位置決めステージ装置 - Google Patents
位置決めステージ装置Info
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- JPH04337621A JPH04337621A JP3137092A JP13709291A JPH04337621A JP H04337621 A JPH04337621 A JP H04337621A JP 3137092 A JP3137092 A JP 3137092A JP 13709291 A JP13709291 A JP 13709291A JP H04337621 A JPH04337621 A JP H04337621A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回転、上下及びレベリ
ング用位置決めステージ装置に関するもので、特に半導
体製造装置に用いられウエハを縮小投影レンズの焦点位
置および回転方向位置に位置決めするためのセンタ−ス
テ−ジの駆動機構の改良に関するものである。
ング用位置決めステージ装置に関するもので、特に半導
体製造装置に用いられウエハを縮小投影レンズの焦点位
置および回転方向位置に位置決めするためのセンタ−ス
テ−ジの駆動機構の改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置において、ウエハにリソ
グラフィ−加工する場合、水平面内における１方向（Ｘ
方向）とこれに直交する他方向（Ｙ方向）に駆動可能な
ＸＹステ−ジ上方の載置台にウエハを載置する。さらに
このＸＹステ−ジを水平面内における回転方向（Θ方向
）と、この水平面に直交する（Ｚ方向）にウエハの中に
あるマ−クを或る基準マ−クを用いて調整移動させて、
リソグラフィ−加工を行う。
グラフィ−加工する場合、水平面内における１方向（Ｘ
方向）とこれに直交する他方向（Ｙ方向）に駆動可能な
ＸＹステ−ジ上方の載置台にウエハを載置する。さらに
このＸＹステ−ジを水平面内における回転方向（Θ方向
）と、この水平面に直交する（Ｚ方向）にウエハの中に
あるマ−クを或る基準マ−クを用いて調整移動させて、
リソグラフィ−加工を行う。
【０００３】一般にリソグラフィ−加工装置は、図１２
に示すようにＬ字型ミラ−５０とレ−ザ干渉器５１とに
よって位置制御が行われるＸステ−ジ５２、Ｙステ−ジ
５３の上部中央にΘＺステ−ジ５４を設け、レチクルに
対してウエハの位置を適正に位置合わせして露光するよ
うになっている。この場合、Θ方向の駆動機構は回転成
分誤差を除去するためのものであり、粗動（分解能１０
μｒａｄ 相当） と微動（分解能１μｒａｄ相当）
調整することにより行う。 また、Ｚ方向の駆動機構は投影レンズ５４に対する高さ
方向の位置合わせをするためのものであり、やはり粗動
（分解能１〜２μｍ）と微動（分解能０．０１μｍ）調
整することにより行う。なお、リソグラフィ−加工作業
における露光は、反射鏡５５を有する光源５６からの光
を、コンデンサレンズ５７、レチクル５８、投影レンズ
５４を透過させて行う。
に示すようにＬ字型ミラ−５０とレ−ザ干渉器５１とに
よって位置制御が行われるＸステ−ジ５２、Ｙステ−ジ
５３の上部中央にΘＺステ−ジ５４を設け、レチクルに
対してウエハの位置を適正に位置合わせして露光するよ
うになっている。この場合、Θ方向の駆動機構は回転成
分誤差を除去するためのものであり、粗動（分解能１０
μｒａｄ 相当） と微動（分解能１μｒａｄ相当）
調整することにより行う。 また、Ｚ方向の駆動機構は投影レンズ５４に対する高さ
方向の位置合わせをするためのものであり、やはり粗動
（分解能１〜２μｍ）と微動（分解能０．０１μｍ）調
整することにより行う。なお、リソグラフィ−加工作業
における露光は、反射鏡５５を有する光源５６からの光
を、コンデンサレンズ５７、レチクル５８、投影レンズ
５４を透過させて行う。
【０００４】ウエハを載置した台を水平面内のＸ、Ｙ、
Θ方向に動作させる場合の動作量は、ウエハのローデイ
ング時の移動量とローデイング精度によって決定される
。また、Ｚ方向に動作させる場合は、投影レンズ５４と
ウエハ間の距離をオ−トフォ−カス検出器によって検出
し、検出信号に基づいてフィ−ドバックし駆動量を調整
する。なお、これらの位置決め手段の具体的構成につい
ての説明は省略する。以上のごとくして、ウエハを適正
位置にセットした後にリソグラフィ−加工作業に入り、
Ｘ方向、Ｙ方向の移動動作を繰り返しながら各チップが
順次加工されるのである。
Θ方向に動作させる場合の動作量は、ウエハのローデイ
ング時の移動量とローデイング精度によって決定される
。また、Ｚ方向に動作させる場合は、投影レンズ５４と
ウエハ間の距離をオ−トフォ−カス検出器によって検出
し、検出信号に基づいてフィ−ドバックし駆動量を調整
する。なお、これらの位置決め手段の具体的構成につい
ての説明は省略する。以上のごとくして、ウエハを適正
位置にセットした後にリソグラフィ−加工作業に入り、
Ｘ方向、Ｙ方向の移動動作を繰り返しながら各チップが
順次加工されるのである。
【０００５】図１３以降に示したものは、上記位置決め
手段のうちのΘ方向、Ｚ方向に移動調整するための従来
例である。これは、刊行物「自動化技術」（１９８７，
第１９巻第９号）に開示されているものである。図１
３はΘ、Ｚステ−ジの縦断面図であり、図１４は平面図
である。Ｑ回転板５９は円柱状の回転軸６０により回転
するようになっており、さらにこの回転軸６０は傾きを
防止するために、外周面に対して３方向から摩擦するよ
うに支持する部材が設けられている（接合個所が線状で
ある３線摩擦方式）。 また、その内の１方向からの支持部材は、バネ性を有し
ており、この支持部材に付設されているネジにより、傾
きとラジアル方向のガタが生じないように予圧調整され
ている。また、Θ回転板５９の外周部の３個所には、ベ
−ス６１との平行面を保持するための平面受けピン６２
が設けられているとともに、Θ回転板５９の上面はスプ
リング６３で押さえてあり浮き上がりを防止するように
なっている。
手段のうちのΘ方向、Ｚ方向に移動調整するための従来
例である。これは、刊行物「自動化技術」（１９８７，
第１９巻第９号）に開示されているものである。図１
３はΘ、Ｚステ−ジの縦断面図であり、図１４は平面図
である。Ｑ回転板５９は円柱状の回転軸６０により回転
するようになっており、さらにこの回転軸６０は傾きを
防止するために、外周面に対して３方向から摩擦するよ
うに支持する部材が設けられている（接合個所が線状で
ある３線摩擦方式）。 また、その内の１方向からの支持部材は、バネ性を有し
ており、この支持部材に付設されているネジにより、傾
きとラジアル方向のガタが生じないように予圧調整され
ている。また、Θ回転板５９の外周部の３個所には、ベ
−ス６１との平行面を保持するための平面受けピン６２
が設けられているとともに、Θ回転板５９の上面はスプ
リング６３で押さえてあり浮き上がりを防止するように
なっている。
【０００６】Θ回転板５９を粗・微動させるには、Θ回
転板５９の外周部の一部にレバ−部６４を形成し、この
レバ−部６４を送りナット６５とその移動を受ける微動
用ＰＺＴ６６を介して進退動させながら行う。そして、
粗動はステッピングモ−タ６７と高精度リ−ドネジ６８
の動作によって行わせ、微動はＰＺＴホルダ６９内に設
けられた微動用ＰＺＴ６６の動作によって行わせるよう
になっている。
転板５９の外周部の一部にレバ−部６４を形成し、この
レバ−部６４を送りナット６５とその移動を受ける微動
用ＰＺＴ６６を介して進退動させながら行う。そして、
粗動はステッピングモ−タ６７と高精度リ−ドネジ６８
の動作によって行わせ、微動はＰＺＴホルダ６９内に設
けられた微動用ＰＺＴ６６の動作によって行わせるよう
になっている。
【０００７】次に、Ｚ方向の粗動はインチワ−ムモ−タ
７０を用いて行う。図１５Ａ、Ｂはインチワ−ムの概要
図と動作説明図である。このようにインチワ−ムモ−タ
７０は、上下２個の円筒部を弾性ヒンジバネで接続した
圧電アクチュエ−タ・ホルダ部７１、保持レバ−７２、
７３でホルダ円筒部に対して押圧保持する可動部７４と
、ホルダと保持レバ−を駆動する圧電アクチュエ−タを
有している。 図１５Ｂに示すように、各圧電アクチュエ−タへの電圧
印加を順次切り換えることによって、円筒部を尺取り虫
が動くように上下変位を繰り返させるのである。この場
合、上昇、下降のそれぞれの変位は平均２．５ μｍ／
ステップとなっている。以上のごとくして、ウエハ７５
の適正な位置決めができるのである。
７０を用いて行う。図１５Ａ、Ｂはインチワ−ムの概要
図と動作説明図である。このようにインチワ−ムモ−タ
７０は、上下２個の円筒部を弾性ヒンジバネで接続した
圧電アクチュエ−タ・ホルダ部７１、保持レバ−７２、
７３でホルダ円筒部に対して押圧保持する可動部７４と
、ホルダと保持レバ−を駆動する圧電アクチュエ−タを
有している。 図１５Ｂに示すように、各圧電アクチュエ−タへの電圧
印加を順次切り換えることによって、円筒部を尺取り虫
が動くように上下変位を繰り返させるのである。この場
合、上昇、下降のそれぞれの変位は平均２．５ μｍ／
ステップとなっている。以上のごとくして、ウエハ７５
の適正な位置決めができるのである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例は、Θ回転
板５９を微動させる場合に圧電素子（ストロ−ク１０μ
ｍ）を用いて行うように構成してあるので、回転軸６０
のガタ（傾きとラジアル）及び高精度リ−ドネジ６８の
バックラッシュ等スラスト方向のガタ成分をできるだけ
とらなければならず、回転軸６０に対する予圧圧力を高
めに設定しなければならない。すると、ステッピングモ
−タ６７の回転負荷が大となりステッピングモ−タ６７
の発熱原因となってしまう。この発熱は、装置の周辺部
材の膨張を招き、ウエハを数μｍ 上方に変位させてし
まうこととなり、投影レンズが有している焦点深度を遙
かに超えてしまい適正なリソグラフィ−加工ができない
という不具合があった。
板５９を微動させる場合に圧電素子（ストロ−ク１０μ
ｍ）を用いて行うように構成してあるので、回転軸６０
のガタ（傾きとラジアル）及び高精度リ−ドネジ６８の
バックラッシュ等スラスト方向のガタ成分をできるだけ
とらなければならず、回転軸６０に対する予圧圧力を高
めに設定しなければならない。すると、ステッピングモ
−タ６７の回転負荷が大となりステッピングモ−タ６７
の発熱原因となってしまう。この発熱は、装置の周辺部
材の膨張を招き、ウエハを数μｍ 上方に変位させてし
まうこととなり、投影レンズが有している焦点深度を遙
かに超えてしまい適正なリソグラフィ−加工ができない
という不具合があった。
【０００９】また、Ｚ方向の移動をさせるための構成に
おけるインチワ−ムモ−タは、圧電アクチュエ−タ・ホ
ルダ部７１のＰＺＴホルダ７１ａ と可動部７４との３
個所の接触部（３線接触部）において磨耗が生じ、動作
中に滑り現象が起こり一定の変位量を得られないという
不具合があった。さらに、可動部７４の保持レバ−７２
、７３の強度が十分でない時、或いは上下の保持レバ−
の押圧バランスが異なっているとＸＹ動作中にＺ軸が傾
いてしまい、いわゆる首振り現象を生じさせてしまうと
いう不具合があった。この首振りは、ウエハの位置合わ
せ精度に極めて大きな影響を与えてしまうのである。
おけるインチワ−ムモ−タは、圧電アクチュエ−タ・ホ
ルダ部７１のＰＺＴホルダ７１ａ と可動部７４との３
個所の接触部（３線接触部）において磨耗が生じ、動作
中に滑り現象が起こり一定の変位量を得られないという
不具合があった。さらに、可動部７４の保持レバ−７２
、７３の強度が十分でない時、或いは上下の保持レバ−
の押圧バランスが異なっているとＸＹ動作中にＺ軸が傾
いてしまい、いわゆる首振り現象を生じさせてしまうと
いう不具合があった。この首振りは、ウエハの位置合わ
せ精度に極めて大きな影響を与えてしまうのである。
【００１０】本発明は、上記不具合を解決すべく提案さ
れるもので、ΘＺステ−ジの操作により例えばウエハを
レチクルに対して適正な位置決め、精度の高い加工を実
現できる位置決めステージ装置を提供することを目的と
したものである。
れるもので、ΘＺステ−ジの操作により例えばウエハを
レチクルに対して適正な位置決め、精度の高い加工を実
現できる位置決めステージ装置を提供することを目的と
したものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、水平面内を回転可能であるとともにこの回転
面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−ジ装
置において、ステージ、ステ−ジを支持するステ−ジ支
軸の回転方向外周に予圧調整可能なベアリングを設けた
水平面内回転機構、およびステ−ジの周側に付設された
ボ−ル部材、ステ−ジ近傍に配設された回転部材に固定
され勾配面を有するカム部材を有し、ボ−ル部材をカム
部材の勾配面に当接させてステ−ジを上下方向に移動さ
せる複数の粗動調整具と、該粗動調整具相互間に配設さ
れた微動調整具とを有する上下方向調整機構とを設けた
ことを特徴とする位置決めステージ装置とした。
するため、水平面内を回転可能であるとともにこの回転
面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−ジ装
置において、ステージ、ステ−ジを支持するステ−ジ支
軸の回転方向外周に予圧調整可能なベアリングを設けた
水平面内回転機構、およびステ−ジの周側に付設された
ボ−ル部材、ステ−ジ近傍に配設された回転部材に固定
され勾配面を有するカム部材を有し、ボ−ル部材をカム
部材の勾配面に当接させてステ−ジを上下方向に移動さ
せる複数の粗動調整具と、該粗動調整具相互間に配設さ
れた微動調整具とを有する上下方向調整機構とを設けた
ことを特徴とする位置決めステージ装置とした。
【００１２】
【作用】以上のごとく、軸受けに嵌合されたステ−ジ支
軸は、ベアリングを介して回転するようになっているの
で、摩擦摺動に比べて回転負荷を減少させモ−タの発熱
防止を図ることができる。また、当接しているカムの傾
斜面とボ−ルとの作動により位置決めステ−ジを上下動
させるようにしているので、大きな予圧を与えることが
でき、ステージの倒れを防止しながら適正なステ−ジ移
動を行わせることができる。
軸は、ベアリングを介して回転するようになっているの
で、摩擦摺動に比べて回転負荷を減少させモ−タの発熱
防止を図ることができる。また、当接しているカムの傾
斜面とボ−ルとの作動により位置決めステ−ジを上下動
させるようにしているので、大きな予圧を与えることが
でき、ステージの倒れを防止しながら適正なステ−ジ移
動を行わせることができる。
【００１３】
【実施例】以下図面を参照しながら、本発明の実施例を
説明していく。図１は、本発明に係る装置の全体概要図
であり、図２以下は各構成部分を示したものである。図
１には示されていないが、図２に示すようにウエハ１は
ウエハチャック２にセットされる。該ウエハチャック２
は、トッププレ−ト３にビス止め等により固定されるよ
うになっている。トッププレ−ト３は、図３の平面図に
示すようにＺ板７に付設した抑え部材５によりΘ回転板
１６に対してＺ方向（上下方向）に可動であるが、Θ方
向（回転方向）に固定状態に設けられている。
説明していく。図１は、本発明に係る装置の全体概要図
であり、図２以下は各構成部分を示したものである。図
１には示されていないが、図２に示すようにウエハ１は
ウエハチャック２にセットされる。該ウエハチャック２
は、トッププレ−ト３にビス止め等により固定されるよ
うになっている。トッププレ−ト３は、図３の平面図に
示すようにＺ板７に付設した抑え部材５によりΘ回転板
１６に対してＺ方向（上下方向）に可動であるが、Θ方
向（回転方向）に固定状態に設けられている。
【００１４】また、トッププレ−ト３は、図４の平面図
に示すようなほぼ三角形状の本体と三角形の頂点に位置
する個所に脚部を有するＺ板７にＺ微動用ＰＺＴ６を介
して固定されている。このＺ板７の脚部には、トッププ
レ−ト３を上下動させることができるように前記のＺ微
動用ＰＺＴ６が設けられている。Ｚ微動用ＰＺＴ６は、
図５の正面図に示すようにＰＺＴ８と内部のＰＺＴ素子
９から構成されており、ＰＺＴ素子９に電圧を印加する
ことにより矢印方向に伸縮動するようになっている。そ
して、Ｚ板７の３個所に設けられたＺ微動用ＰＺＴ６を
各々伸縮動させることにより、前記トッププレ−ト３を
ベ−ス４に対して傾き調整することができるのである。 さらに、３個のＺ微動用ＰＺＴ９が同時に変位すること
によりトッププレ−ト３は、上下方向に平行移動できる
。
に示すようなほぼ三角形状の本体と三角形の頂点に位置
する個所に脚部を有するＺ板７にＺ微動用ＰＺＴ６を介
して固定されている。このＺ板７の脚部には、トッププ
レ−ト３を上下動させることができるように前記のＺ微
動用ＰＺＴ６が設けられている。Ｚ微動用ＰＺＴ６は、
図５の正面図に示すようにＰＺＴ８と内部のＰＺＴ素子
９から構成されており、ＰＺＴ素子９に電圧を印加する
ことにより矢印方向に伸縮動するようになっている。そ
して、Ｚ板７の３個所に設けられたＺ微動用ＰＺＴ６を
各々伸縮動させることにより、前記トッププレ−ト３を
ベ−ス４に対して傾き調整することができるのである。 さらに、３個のＺ微動用ＰＺＴ９が同時に変位すること
によりトッププレ−ト３は、上下方向に平行移動できる
。
【００１５】また、図６Ａの軸受け部断面図に示すよう
に、Ｚ板７の中心に軸１０がネジにより垂直に設けられ
ている。この軸１０には、軸受け（リニアブッシュ）１
１が嵌合されている。軸受け１１には、図６Ｂの平面図
に示すように長手方向にワリ１２が形成されており、図
６Ｃの平面図に示すようなリニアブッシュ受け１３によ
り締め込まれるようになっている。つまり、リニアブッ
シュ受け１３はスリット１４が形成されており、ビス１
５を締め込むことにより軸１０との径ガタを極力少なく
し、かつ上下方向に摺動可能となるのである。
に、Ｚ板７の中心に軸１０がネジにより垂直に設けられ
ている。この軸１０には、軸受け（リニアブッシュ）１
１が嵌合されている。軸受け１１には、図６Ｂの平面図
に示すように長手方向にワリ１２が形成されており、図
６Ｃの平面図に示すようなリニアブッシュ受け１３によ
り締め込まれるようになっている。つまり、リニアブッ
シュ受け１３はスリット１４が形成されており、ビス１
５を締め込むことにより軸１０との径ガタを極力少なく
し、かつ上下方向に摺動可能となるのである。
【００１６】また、軸受け１１には、Θ回転板１６が中
央部に形成されている立ち上がり部１７を介してビスに
より固定されている。立ち上がり部１７の外周には、予
圧のかかった玉軸受け１８を介してカムリング１９が設
けられている。カムリング１９の外周３方には、フラン
ジが等間隔に形成されており、フランジの上面にそれぞ
れカム２０が設けられている。フランジ下面には、ピン
４０が設けられており、Θ回転板１６上に設けられた回
転面に平行な面を有するピン４１の上を摺動することで
カムリングの動きを規制する。図７は、カム２０近傍の
拡大側面を示したものであり、カム２０の上面は傾斜面
に形成されている。さらに、カム２０の上方には、カム
軸板２１とＺ用板２２とを固定ビス２３で重ね合わせ、
粗動用ボ−ル付ネジ２４と微動用ボ−ル付ネジ２５とを
有する調整体が設けられている。図８は、カム２０周辺
の側面図であり、粗動用ボ−ル付ネジ２４の先端に形成
されているボ−ルがカム２０の傾斜面に当接しており、
カムリング１９とともにカム２０が移動することにより
、Ｚ板７が上下動することとなる。つまり、カム２０の
傾斜面の高い部分とボ−ルが当接するとＺ板７は上昇し
、傾斜面の低い部分と当接すると下降するようになるの
である。なお、カム２０と摺動する粗動用ボール付ネジ
２４のボール部は、接触部が略球面を有する回転しない
部材でもよい。
央部に形成されている立ち上がり部１７を介してビスに
より固定されている。立ち上がり部１７の外周には、予
圧のかかった玉軸受け１８を介してカムリング１９が設
けられている。カムリング１９の外周３方には、フラン
ジが等間隔に形成されており、フランジの上面にそれぞ
れカム２０が設けられている。フランジ下面には、ピン
４０が設けられており、Θ回転板１６上に設けられた回
転面に平行な面を有するピン４１の上を摺動することで
カムリングの動きを規制する。図７は、カム２０近傍の
拡大側面を示したものであり、カム２０の上面は傾斜面
に形成されている。さらに、カム２０の上方には、カム
軸板２１とＺ用板２２とを固定ビス２３で重ね合わせ、
粗動用ボ−ル付ネジ２４と微動用ボ−ル付ネジ２５とを
有する調整体が設けられている。図８は、カム２０周辺
の側面図であり、粗動用ボ−ル付ネジ２４の先端に形成
されているボ−ルがカム２０の傾斜面に当接しており、
カムリング１９とともにカム２０が移動することにより
、Ｚ板７が上下動することとなる。つまり、カム２０の
傾斜面の高い部分とボ−ルが当接するとＺ板７は上昇し
、傾斜面の低い部分と当接すると下降するようになるの
である。なお、カム２０と摺動する粗動用ボール付ネジ
２４のボール部は、接触部が略球面を有する回転しない
部材でもよい。
【００１７】なお、図４に示すようにカムリング１９の
フランジの一つには腕部２６が突出形成されており、こ
の腕部２６はＺ方向アクチュエ−タ２７の出力軸に設け
られたネジ機構にカムリングバネ２８を介して圧接され
ており、Ｚ方向アクチュエ−タ２７の駆動によってカム
２０を有するカムリング１９が前記玉軸受け１８の周囲
を回動する。このような回動により前記のようにＺ板７
の上下動が可能となるのである。
フランジの一つには腕部２６が突出形成されており、こ
の腕部２６はＺ方向アクチュエ−タ２７の出力軸に設け
られたネジ機構にカムリングバネ２８を介して圧接され
ており、Ｚ方向アクチュエ−タ２７の駆動によってカム
２０を有するカムリング１９が前記玉軸受け１８の周囲
を回動する。このような回動により前記のようにＺ板７
の上下動が可能となるのである。
【００１８】また、図６Ａに示すようにΘ回転板１６に
は、下部に回転板脚部２９が形成されており、この回転
板脚部２９は予圧のかかった大径玉軸受け３０を介して
ベ−ス４にビスで固定されているベ−ス支え３１に回転
自在に取りつけられている。さらに、図９の平面図に示
すようにΘ回転板１６には腕３１が突出形成されており
、この腕３１は図１０の側面図に示すようにＰＺＴ受け
３２に設けられたボ−ル３３に当接している。ＰＺＴ３
５は、ＰＺＴ受け３４を介してネジのナット３６に固定
されている。ナット３６には、バックラッシュが低減さ
れるようにコイルバネ３７が連結されており、またカッ
プリング３８、減速機３９を介してΘ回転駆動モ−タ４
０が連結され駆動するようになっている。なお、Θ回転
板１６は図１および図１１に示すように、Θ抑え５に設
けられたボ−ル付プランジャ−ネジ４１により規制され
るようになっている。
は、下部に回転板脚部２９が形成されており、この回転
板脚部２９は予圧のかかった大径玉軸受け３０を介して
ベ−ス４にビスで固定されているベ−ス支え３１に回転
自在に取りつけられている。さらに、図９の平面図に示
すようにΘ回転板１６には腕３１が突出形成されており
、この腕３１は図１０の側面図に示すようにＰＺＴ受け
３２に設けられたボ−ル３３に当接している。ＰＺＴ３
５は、ＰＺＴ受け３４を介してネジのナット３６に固定
されている。ナット３６には、バックラッシュが低減さ
れるようにコイルバネ３７が連結されており、またカッ
プリング３８、減速機３９を介してΘ回転駆動モ−タ４
０が連結され駆動するようになっている。なお、Θ回転
板１６は図１および図１１に示すように、Θ抑え５に設
けられたボ−ル付プランジャ−ネジ４１により規制され
るようになっている。
【００１９】また、カムリング１９には図１０に示すよ
うに、同軸で回転するセンサ遮光板４２が取りつけられ
ており、このセンサ遮光板４２の扇型開角部にカムリン
グ回転角検出用の光電式リミットセンサ４３が設けられ
、カムリング１９の回転情報を前記Θ回転駆動モ−タ４
０に供給して制御するようになっている。
うに、同軸で回転するセンサ遮光板４２が取りつけられ
ており、このセンサ遮光板４２の扇型開角部にカムリン
グ回転角検出用の光電式リミットセンサ４３が設けられ
、カムリング１９の回転情報を前記Θ回転駆動モ−タ４
０に供給して制御するようになっている。
【００２０】以上のごとく構成されているので、トップ
プレ−ト３（すなわちウエハ１）のΘ方向、Ｚ方向の粗
動と微動調整は次のようにして行われる。先ず、Θ方向
の調整をするには、Θ回転駆動用モ−タ４０によりΘ回
転板１６の腕３１を移動させて粗動調整をする。また、
ＰＺＴ３５の駆動により微動調整をする。次にＺ方向の
調整をするには、図１０に示すようにモ−タ受け４４に
保持されたＺ方向駆動用モ−タ４５とカムリング１９と
によって粗動が行われる。また、図５に示すように微動
及びレベリングは３個のＺ微動用ＰＺＴ６により直接ト
ッププレ−ト３を上下方向に微動調整する。
プレ−ト３（すなわちウエハ１）のΘ方向、Ｚ方向の粗
動と微動調整は次のようにして行われる。先ず、Θ方向
の調整をするには、Θ回転駆動用モ−タ４０によりΘ回
転板１６の腕３１を移動させて粗動調整をする。また、
ＰＺＴ３５の駆動により微動調整をする。次にＺ方向の
調整をするには、図１０に示すようにモ−タ受け４４に
保持されたＺ方向駆動用モ−タ４５とカムリング１９と
によって粗動が行われる。また、図５に示すように微動
及びレベリングは３個のＺ微動用ＰＺＴ６により直接ト
ッププレ−ト３を上下方向に微動調整する。
【００２１】
【発明の効果】以上のごとく本発明によれば、Θ回転板
に固定した軸の外周にベアリングを配設しているので、
回転負荷が著しく減少しΘ回転用のモ−タ負荷が減少す
るので発熱がかなり抑えられる。したがって、ウエハを
適正位置に保持させるための障害を無くすことができる
。また、Ｚ方向（上下方向）移動をさせる手段として、
傾斜面を有するカムとこれに当接するボ−ルとの作動に
よって行うように構成しているので、保持力不足による
ＸＹ動作時の倒れいわゆる首振りを防止しながら効率よ
く行わせることができる。
に固定した軸の外周にベアリングを配設しているので、
回転負荷が著しく減少しΘ回転用のモ−タ負荷が減少す
るので発熱がかなり抑えられる。したがって、ウエハを
適正位置に保持させるための障害を無くすことができる
。また、Ｚ方向（上下方向）移動をさせる手段として、
傾斜面を有するカムとこれに当接するボ−ルとの作動に
よって行うように構成しているので、保持力不足による
ＸＹ動作時の倒れいわゆる首振りを防止しながら効率よ
く行わせることができる。
【図１】装置の全体概要図である。
【図２】ウエアを載置した状態の平面図である。
【図３】トッププレ−トの平面図である。
【図４】Ｚ板の平面図である。
【図５】Ｚ微動用ＰＺＴの正面図である。
【図６】軸受け部近傍の断面図、リニアブッシュの平面
図、リニア受けの平面図である。
図、リニア受けの平面図である。
【図７】カムの拡大断面図である。
【図８】カム近傍の断面図である。
【図９】Θ回転板の平面図である。
【図１０】Θ回転駆動用アクチュエ−タ近傍の断面図で
ある。
ある。
【図１１】Θ抑え近傍の断面図である。
【図１２】従来の露光装置の全体斜視図である。
【図１３】ΘＺステ−ジの断面図である。
【図１４】ΘＺステ−ジの平面図である。
【図１５】インチワームの概要図および動作説明図であ
る。
る。
３ トッププレ−ト４ ベ−ス６ Ｚ微動用ＰＺ
Ｔ７ Ｚ板１０ 軸１１ リニアブッシュ１３
リニア受け１６ Θ回転板１７ カムリング１８
玉軸受け２９ Θ回転板脚部３０ 大径玉軸受
け
Ｔ７ Ｚ板１０ 軸１１ リニアブッシュ１３
リニア受け１６ Θ回転板１７ カムリング１８
玉軸受け２９ Θ回転板脚部３０ 大径玉軸受
け
Claims (1)
- 【請求項１】 水平面内を回転可能であるとともにこ
の回転面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ
−ジにおいて、ステージ、ステ−ジを支持するステ−ジ
支軸の回転方向外周に予圧調整可能なベアリングを設け
た水平面内回転機構、およびステ−ジの周側に付設され
たボ−ル部材、ステ−ジ近傍に配設された回転部材に固
定され勾配面を有するカム部材を有し、ボ−ル部材をカ
ム部材の勾配面に当接させてステ−ジを上下方向に移動
させる複数の粗動調整具と、該粗動調整具相互間に配設
された微動調整具とを有する上下方向調整機構とを設け
たことを特徴とする位置決めステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13709291A JP3086005B2 (ja) | 1991-05-14 | 1991-05-14 | 位置決めステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13709291A JP3086005B2 (ja) | 1991-05-14 | 1991-05-14 | 位置決めステージ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04337621A true JPH04337621A (ja) | 1992-11-25 |
| JP3086005B2 JP3086005B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=15190696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13709291A Expired - Fee Related JP3086005B2 (ja) | 1991-05-14 | 1991-05-14 | 位置決めステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3086005B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008192776A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Tokyo Electron Ltd | 載置装置 |
| JP2013046044A (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-04 | Canon Inc | リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 |
| CN104091618A (zh) * | 2014-06-04 | 2014-10-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种双重调节装置 |
| CN114393485A (zh) * | 2020-10-07 | 2022-04-26 | 株式会社迪思科 | 微调装置和加工装置 |
-
1991
- 1991-05-14 JP JP13709291A patent/JP3086005B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008192776A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Tokyo Electron Ltd | 載置装置 |
| US8113084B2 (en) | 2007-02-02 | 2012-02-14 | Tokyo Electron Limited | Mounting device |
| JP2013046044A (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-04 | Canon Inc | リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 |
| CN104091618A (zh) * | 2014-06-04 | 2014-10-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种双重调节装置 |
| CN114393485A (zh) * | 2020-10-07 | 2022-04-26 | 株式会社迪思科 | 微调装置和加工装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3086005B2 (ja) | 2000-09-11 |
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