JPH0433792A - Optical equipment for laser marking - Google Patents
Optical equipment for laser markingInfo
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- JPH0433792A JPH0433792A JP2138225A JP13822590A JPH0433792A JP H0433792 A JPH0433792 A JP H0433792A JP 2138225 A JP2138225 A JP 2138225A JP 13822590 A JP13822590 A JP 13822590A JP H0433792 A JPH0433792 A JP H0433792A
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- Japan
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- mask
- light source
- laser marking
- laser light
- laser
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- Pending
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- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザマーキング用の光学装置に係り、特に、
マスクを用いるレーザマーキング用光学装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical device for laser marking, and in particular,
The present invention relates to an optical device for laser marking using a mask.
従来の装置は、実開昭63−196382号公報に記載
(第5図)の様に、レーザ光源10から出射されたビー
ムをビーム整形用レンズ20によってビーム整形を行い
、非コリメート光111としてマスク21を照射し、マ
スクを透過したビーム112をレンズ22で集光し、マ
スクの像をIC1電子部品などのパッケージ30上に照
射する。光学系は非コリメート系を用いて、マスクでの
反射光がビーム整形用レンズにもどりビームが収束され
、パワー密度の高い反射スポットが光学素子やジンバル
を損傷させることを防いでいる。As described in Japanese Utility Model Application Publication No. 63-196382 (FIG. 5), the conventional device shapes the beam emitted from the laser light source 10 using a beam shaping lens 20, and masks it as non-collimated light 111. A beam 112 transmitted through the mask is focused by a lens 22, and the image of the mask is irradiated onto a package 30 such as an IC1 electronic component. The optical system uses a non-collimating system, so that the reflected light from the mask returns to the beam shaping lens, where the beam is converged and prevents the reflected spot with high power density from damaging the optical elements and gimbals.
上記従来技術は、光学設計の簡単化の点について考慮さ
れておらず、非コリメート光学系を用いているため、用
いる光学素子の位置焦点距離を決める光学設計が難しく
なる。The above-mentioned conventional technology does not take into consideration the simplification of optical design and uses a non-collimated optical system, which makes optical design difficult for determining the position and focal length of the optical element to be used.
本発明の目的は、光学系設計の簡素化を図ることにある
。An object of the present invention is to simplify optical system design.
上記目的を達成するために、本発明は光学設計が容易な
コリメート光学系を用い、かつ、レーザ光の入射方向と
マスク反射面の接線方向となす角が90°とならない様
にマスク配置、又は、マスク反射面形状としたものであ
る。In order to achieve the above object, the present invention uses a collimating optical system that is easy to optically design, and arranges the mask so that the angle between the incident direction of the laser beam and the tangential direction of the mask reflection surface is not 90 degrees, or , the mask has a reflective surface shape.
不要光反射型のマスクをレーザビーム光に対し傾斜させ
て取り付けることにより、マスクでの反射光が光源近傍
で収束することが無く、レーザ光源へ損傷を与えること
がない。By attaching the mask that reflects unnecessary light at an angle with respect to the laser beam light, the light reflected by the mask does not converge near the light source, and the laser light source is not damaged.
マスク形状を凹面とすることにより、マスクでの反射光
がビーム整形手段のレンズの焦点距離の内側で収束し、
レーザ光源には発散光が戻るためレーザ光源へ損傷を与
えることがない。By making the mask shape concave, the reflected light from the mask is converged inside the focal length of the lens of the beam shaping means,
Since the diverging light returns to the laser light source, no damage is caused to the laser light source.
マスク形状を凸面とすることにより、マスクでの反射光
がビーム整形手段のレンズの外側へ発散し、レーザ光源
には発散光が戻るためレーザ光源へ損傷を与えることが
ない。By making the mask shape convex, the reflected light from the mask diverges to the outside of the lens of the beam shaping means, and the diverging light returns to the laser light source, thereby preventing damage to the laser light source.
マスク形状を凸凹面とすることにより、マスクでの反射
光が乱反射光となり、レーザ光源には発散光が戻るため
、レーザ光源へ損傷を与えることがない。By making the mask shape uneven, the light reflected by the mask becomes diffusely reflected light, and the diverging light returns to the laser light source, so that no damage is caused to the laser light source.
以下、本発明の実施例を第1図により説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIG.
第1図は本発明の一実施例のレーザマーキング用光学系
であり、光ファイバで導びかれたレーザ光源10はビー
ム整形手段を通り、マスク21を照射する。マスク21
を透過したビーム212は結像レンズ22を通りビーム
213となって被加工物3o上にマスク上のパターンを
焼付ける。このとき、マスク21は傾斜しているので反
射光はジンバル41、又は、レーザ光源10の表面、又
は、その近傍に像を結ぶことがなく、損傷を与えること
がない。FIG. 1 shows a laser marking optical system according to an embodiment of the present invention, in which a laser light source 10 guided by an optical fiber passes through a beam shaping means and irradiates a mask 21. mask 21
The transmitted beam 212 passes through the imaging lens 22 and becomes a beam 213 to print a pattern on the mask onto the workpiece 3o. At this time, since the mask 21 is tilted, the reflected light does not form an image on the gimbal 41 or the surface of the laser light source 10 or its vicinity, and does not cause damage.
第2図は、本発明の第二の実施例を示す。マスク形状を
凹面とすることによってマスク上で反射されたビームは
、ビーム整形手段のレンズの焦点距離の内側で収束し、
レーザ光源には発散光が戻るためレーザ光源へ損傷を与
えることは無い。FIG. 2 shows a second embodiment of the invention. By making the mask shape concave, the beam reflected on the mask is converged inside the focal length of the lens of the beam shaping means,
Since the divergent light returns to the laser light source, there is no damage to the laser light source.
第3図は本発明の第三の実施例を示す。マスク反射面を
凸面とすることによってマスク上で反射されたビームは
、ビーム整形手段の外側へ発散し、レーザ光源には発散
光が戻るため、レーザ光源へ損傷を与えることは無い。FIG. 3 shows a third embodiment of the invention. By making the mask reflection surface a convex surface, the beam reflected on the mask diverges to the outside of the beam shaping means, and the divergent light returns to the laser light source, so that the laser light source is not damaged.
第4図は本発明の第四の実施例を示す。マスク反射面を
凹凸面とすることによってマスク上で反射されたビーム
は、乱反射光となり、レーザ光源に発散光が戻るため、
レーザ光源へ損傷を与えることは無い。FIG. 4 shows a fourth embodiment of the invention. By making the mask reflection surface uneven, the beam reflected on the mask becomes diffusely reflected light and divergent light returns to the laser light source.
There is no damage to the laser light source.
本発明によれば、光学設計が容易となるコリメート光学
系を用いた上で、レーザ光の入射方向とマスク反射面の
接線方向となす角度が90’にならない様に、マスクの
配置位置、マスク形状にするという簡単な方法でマスク
での反射光によるレーザ発振器への損傷を無くすること
ができ、光学系の設計が容易になる。According to the present invention, in addition to using a collimating optical system that facilitates optical design, the arrangement position of the mask, the mask The simple method of shaping can eliminate damage to the laser oscillator due to light reflected by the mask, making it easier to design the optical system.
第1図ないし第4図はそれぞれ異なる本発明の詳細な説
明図、第5図は従来のレーザマーキング用光学系構成の
側面図である。
10・・・レーザ光源、40.41・・・ジンバル、2
0・・・ビーム整形手段のレンズ、21・・・マスク、
22・・・結像用レンズ、30・・・被加工物、110
.111゜112.113,120,121,210,
211゜第1図
第3図
第4図1 to 4 are detailed explanatory views of different embodiments of the present invention, and FIG. 5 is a side view of a conventional laser marking optical system configuration. 10...Laser light source, 40.41...Gimbal, 2
0... Lens of beam shaping means, 21... Mask,
22... Imaging lens, 30... Workpiece, 110
.. 111゜112.113,120,121,210,
211゜Figure 1 Figure 3 Figure 4
Claims (1)
わせるためのビーム整形手段によつて拡げ、不要光反射
型のマスクに形成されたパターンをレンズで結像するレ
ーザマーキング用光学系において、 前記マスクで反射された前記ビームが前記ビーム整形手
段にもどつた後、前記レーザ光源の近傍で収束すること
がないように前記マスクの反射面が前記レーザ光源に対
し直角をなさぬように取り付けたことを特徴とするレー
ザマーキング用光学装置。 2、請求項1において、前記マスクの反射面が凹面をな
すレーザマーキング用光学装置。3、請求項1において
、前記マスクの反射面が凸面をなすレーザマーキング用
光学装置。[Claims] 1. For laser marking, in which a beam emitted from a laser light source is expanded by a beam shaping means to match the shape of the mask, and a pattern formed on a mask that reflects unnecessary light is imaged with a lens. In the optical system, the reflective surface of the mask is not perpendicular to the laser light source so that the beam reflected by the mask does not converge near the laser light source after returning to the beam shaping means. An optical device for laser marking, characterized in that it is installed in the following manner. 2. The optical device for laser marking according to claim 1, wherein the reflective surface of the mask is a concave surface. 3. The optical device for laser marking according to claim 1, wherein the reflective surface of the mask is a convex surface.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2138225A JPH0433792A (en) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | Optical equipment for laser marking |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2138225A JPH0433792A (en) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | Optical equipment for laser marking |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0433792A true JPH0433792A (en) | 1992-02-05 |
Family
ID=15217016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2138225A Pending JPH0433792A (en) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | Optical equipment for laser marking |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0433792A (en) |
-
1990
- 1990-05-30 JP JP2138225A patent/JPH0433792A/en active Pending
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