JPH0434203B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0434203B2 JPH0434203B2 JP56164535A JP16453581A JPH0434203B2 JP H0434203 B2 JPH0434203 B2 JP H0434203B2 JP 56164535 A JP56164535 A JP 56164535A JP 16453581 A JP16453581 A JP 16453581A JP H0434203 B2 JPH0434203 B2 JP H0434203B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- disk
- magnetic
- force
- adsorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
本発明は、磁気デイスク装置又は磁気ドラム装
置等の磁気記憶装置に用いられる磁気ヘツド浮揚
面の仕上げ方法に関する。 高密度磁気デイスク装置の高密度化をはかる為
には、磁気ヘツドと磁気デイスクとの間隔（以下
スペーシングと呼ぶ）を小さくする必要がある。 近年スペーシングを小さくする方法として、接
触始動・停止形の磁気デイスク装置が用いられて
おり、そこで使用される磁気ヘツド（以下ヘツド
と呼ぶ）の浮揚面及び磁気デイスク（以下デイス
クと呼ぶ）表面の面粗さは研磨により10〜100〓
程度の小さな値になつている。 この為、ヘツドがデイスク表面に長時間接触停
止した場合、ヘツドとデイスクが互いに密着し、
デイスクを回転させるモーターが回転不能となつ
たり、著るしい場合は、ヘツドの支持バネが破損
することが生じる。（以下この現象をヘツド吸着
と称する。） ヘツド吸着は油や水などの吸着層がヘツド、デ
イスク界面に存在すると特に顕著に見られる。 デイスクとヘツドが摺動している時に両者間に
働く摩擦力も又、接触始動・停止形の磁気デイス
ク装置において装置の信頼性に関して大きな要因
となつている。 すなわち、摩擦力が小さい方が、ヘツドとデイ
スクが互いに接触摺動している時にヘツド又はデ
イスクに与えられる機械的負担が少なく、キズな
ども生じにくい。 上述のヘツド吸着によりヘツドデイスク間に働
く力（ヘツド吸着力）は一般に言う摩擦力ではな
い。ヘツド吸着力は平滑な面どうしが接触した場
合働く力で、接触面の面積に比例するが、摩擦力
は接触面の面積には関係しない。ヘツドとデイス
ク間に働く力はヘツド吸着力と摩擦力の和になる
が、ヘツドとのデイスクの接触が短時間の場合
（秒の程度）はヘツド吸着力は無視できるので摩
擦力（荷重で除せば静摩擦係数、動摩擦係数）で
表わし、接触が長時間（日の程度）の場合ヘツド
吸着力として表わす。 本発明の目的は、表面粗さの小さな磁気デイス
クとの組合せにおいて上記ヘツド吸着及び摩擦力
を減少させ、信頼性に優れた磁気ヘツドを製造す
るための磁気ヘツド浮揚面の仕上げ方法を提供す
ることにある。 本発明による磁気ヘツド浮揚面の仕上げ方法は
研磨仕上げされた磁気ヘツドの浮揚面をリアクテ
イブイオンエツチングによりエツチングすること
により表面を粗くすることを特徴としている。一
般に磁気ヘツド浮揚面を粗くする方法にはポリシ
ングなどの機械的方法、化学薬品処理による化学
的方法、イオンエツチングを代表とするドライエ
ツチング方法が考えられるが、機械的および化学
的方法では、磁気ヘツドの情報を読み書きするヘ
ツドギヤツプ部を侵食し、ヘツドの電磁変換特性
を損ねる。ドライエツチング法の中でも、イオン
エツチングはアルゴンイオンを対象物にぶつけて
エツチングするため、ヘツドギヤツプ部もエツチ
ングしてしまいヘツドの電磁変換特性を損ねる。 ここで言うリアクテイブイオンエツチング法と
は、反応性ガスのラジカルによる化学反応でエツ
チングを進行させる方法で、材料を選択的にエツ
チングできる。例えば、反応性ガスに塩素を用い
れば、磁気ヘツド浮揚面によく用いられるマンガ
ン・亜鉛フエライト、ニツケル・亜鉛フエライ
ト、アルミナ・炭化チタンなどの酸化物を良くエ
ツチングし、かつ情報を読み書きするヘツドギヤ
ツプ部に使用されるパーマロイ、コバルト・ジル
コニウム、鉄合金などの金属材料はエツチングさ
れにくいため、ヘツドギヤツプ部を侵すことなし
に、すなわちヘツドの電磁変換特性を損ねること
なしにヘツドの浮揚面を粗くし、ヘツド吸着を防
ぐことが出来る。これは酸、塩基などの化学薬品
によるエツチングに見られない特徴である。又、
ヘツドコアはデイスクに比べて形状が小さいので
真空系を用いるリアクテイブイオンエツチング法
を用いても量産性に与える影響は極めて少ない。 以下、実施例により本発明を詳細に説明する。 実施例 １ 市販の磁気デイスク装置に使用する荷重6gの
磁気ヘツド用のMnZnフエライトコアのヘツド浮
揚面表面粗さ0.01μmに研磨した後、リアクテイ
ブイオンエツチング法を用いて表面粗さを
0.04μmに粗くした後、支持バネ及びコイル装着
し磁気ヘツドを装着し、摩擦係数、ヘツド吸着力
を評価した。 実施例 ２ 実施例１と同様にして但しMnZnフエライトコ
アの代りにNiZnフエライトコアを用いて磁気ヘ
ツドを製作した。 以上実施例１〜２で示したヘツドを用いて最大
静摩擦係数、平均動摩擦係数、ステイツクスリツ
プ量を測定したところ下表の様であつた。
置等の磁気記憶装置に用いられる磁気ヘツド浮揚
面の仕上げ方法に関する。 高密度磁気デイスク装置の高密度化をはかる為
には、磁気ヘツドと磁気デイスクとの間隔（以下
スペーシングと呼ぶ）を小さくする必要がある。 近年スペーシングを小さくする方法として、接
触始動・停止形の磁気デイスク装置が用いられて
おり、そこで使用される磁気ヘツド（以下ヘツド
と呼ぶ）の浮揚面及び磁気デイスク（以下デイス
クと呼ぶ）表面の面粗さは研磨により10〜100〓
程度の小さな値になつている。 この為、ヘツドがデイスク表面に長時間接触停
止した場合、ヘツドとデイスクが互いに密着し、
デイスクを回転させるモーターが回転不能となつ
たり、著るしい場合は、ヘツドの支持バネが破損
することが生じる。（以下この現象をヘツド吸着
と称する。） ヘツド吸着は油や水などの吸着層がヘツド、デ
イスク界面に存在すると特に顕著に見られる。 デイスクとヘツドが摺動している時に両者間に
働く摩擦力も又、接触始動・停止形の磁気デイス
ク装置において装置の信頼性に関して大きな要因
となつている。 すなわち、摩擦力が小さい方が、ヘツドとデイ
スクが互いに接触摺動している時にヘツド又はデ
イスクに与えられる機械的負担が少なく、キズな
ども生じにくい。 上述のヘツド吸着によりヘツドデイスク間に働
く力（ヘツド吸着力）は一般に言う摩擦力ではな
い。ヘツド吸着力は平滑な面どうしが接触した場
合働く力で、接触面の面積に比例するが、摩擦力
は接触面の面積には関係しない。ヘツドとデイス
ク間に働く力はヘツド吸着力と摩擦力の和になる
が、ヘツドとのデイスクの接触が短時間の場合
（秒の程度）はヘツド吸着力は無視できるので摩
擦力（荷重で除せば静摩擦係数、動摩擦係数）で
表わし、接触が長時間（日の程度）の場合ヘツド
吸着力として表わす。 本発明の目的は、表面粗さの小さな磁気デイス
クとの組合せにおいて上記ヘツド吸着及び摩擦力
を減少させ、信頼性に優れた磁気ヘツドを製造す
るための磁気ヘツド浮揚面の仕上げ方法を提供す
ることにある。 本発明による磁気ヘツド浮揚面の仕上げ方法は
研磨仕上げされた磁気ヘツドの浮揚面をリアクテ
イブイオンエツチングによりエツチングすること
により表面を粗くすることを特徴としている。一
般に磁気ヘツド浮揚面を粗くする方法にはポリシ
ングなどの機械的方法、化学薬品処理による化学
的方法、イオンエツチングを代表とするドライエ
ツチング方法が考えられるが、機械的および化学
的方法では、磁気ヘツドの情報を読み書きするヘ
ツドギヤツプ部を侵食し、ヘツドの電磁変換特性
を損ねる。ドライエツチング法の中でも、イオン
エツチングはアルゴンイオンを対象物にぶつけて
エツチングするため、ヘツドギヤツプ部もエツチ
ングしてしまいヘツドの電磁変換特性を損ねる。 ここで言うリアクテイブイオンエツチング法と
は、反応性ガスのラジカルによる化学反応でエツ
チングを進行させる方法で、材料を選択的にエツ
チングできる。例えば、反応性ガスに塩素を用い
れば、磁気ヘツド浮揚面によく用いられるマンガ
ン・亜鉛フエライト、ニツケル・亜鉛フエライ
ト、アルミナ・炭化チタンなどの酸化物を良くエ
ツチングし、かつ情報を読み書きするヘツドギヤ
ツプ部に使用されるパーマロイ、コバルト・ジル
コニウム、鉄合金などの金属材料はエツチングさ
れにくいため、ヘツドギヤツプ部を侵すことなし
に、すなわちヘツドの電磁変換特性を損ねること
なしにヘツドの浮揚面を粗くし、ヘツド吸着を防
ぐことが出来る。これは酸、塩基などの化学薬品
によるエツチングに見られない特徴である。又、
ヘツドコアはデイスクに比べて形状が小さいので
真空系を用いるリアクテイブイオンエツチング法
を用いても量産性に与える影響は極めて少ない。 以下、実施例により本発明を詳細に説明する。 実施例 １ 市販の磁気デイスク装置に使用する荷重6gの
磁気ヘツド用のMnZnフエライトコアのヘツド浮
揚面表面粗さ0.01μmに研磨した後、リアクテイ
ブイオンエツチング法を用いて表面粗さを
0.04μmに粗くした後、支持バネ及びコイル装着
し磁気ヘツドを装着し、摩擦係数、ヘツド吸着力
を評価した。 実施例 ２ 実施例１と同様にして但しMnZnフエライトコ
アの代りにNiZnフエライトコアを用いて磁気ヘ
ツドを製作した。 以上実施例１〜２で示したヘツドを用いて最大
静摩擦係数、平均動摩擦係数、ステイツクスリツ
プ量を測定したところ下表の様であつた。
【表】
ここで最大静摩擦係数、平均摩擦係数、ステイ
ツクスリツプ量は次の様に定義される。 最大静摩擦係数：デイスクの回転開始直後のヘ
ツドにかかる力をヘツド荷重で除した値でヘツド
吸着量と正の相関関係にある。 平均動摩擦係数：デイスクが0.5mm／secでヘツ
ドと摺動している時にヘツドにかかる力の平均値
をヘツド荷重で除した値。ステイツクスリツプ量
はデイスクが0.5mm／secでヘツドと摺動時にヘツ
ドにかかる力の最大値と最小値の差であり、ヘツ
ド吸着と正の相関を有する量である。 以上の様に、実施例１〜２に示したリアクテイ
ブイオンエツチングにより浮揚面をエツチングし
たヘツドはリアクテイブイオンエツチングしない
ヘツドに比べ各々の値が非常に減少していること
が分る。 又、ヘツドとデイスクを湿度50％、温度25℃で
接触させたまま39時間放置した時のヘツドとデイ
スクに働くヘツド吸着力はリアクテイブイオンエ
ツチングしないヘツドの10gに比べ実施例１〜２
に示したリアクテイブイオンエツチングしたヘツ
ドは全て2.5g以下であつた。以上の様にリアクテ
イブイオンエツチングにより浮揚面をエツチング
する方法はヘツドデイスク間に働く力を非常に減
少させ信頼性に優れた磁気デイスク装置を製造で
きることが分つた。
ツクスリツプ量は次の様に定義される。 最大静摩擦係数：デイスクの回転開始直後のヘ
ツドにかかる力をヘツド荷重で除した値でヘツド
吸着量と正の相関関係にある。 平均動摩擦係数：デイスクが0.5mm／secでヘツ
ドと摺動している時にヘツドにかかる力の平均値
をヘツド荷重で除した値。ステイツクスリツプ量
はデイスクが0.5mm／secでヘツドと摺動時にヘツ
ドにかかる力の最大値と最小値の差であり、ヘツ
ド吸着と正の相関を有する量である。 以上の様に、実施例１〜２に示したリアクテイ
ブイオンエツチングにより浮揚面をエツチングし
たヘツドはリアクテイブイオンエツチングしない
ヘツドに比べ各々の値が非常に減少していること
が分る。 又、ヘツドとデイスクを湿度50％、温度25℃で
接触させたまま39時間放置した時のヘツドとデイ
スクに働くヘツド吸着力はリアクテイブイオンエ
ツチングしないヘツドの10gに比べ実施例１〜２
に示したリアクテイブイオンエツチングしたヘツ
ドは全て2.5g以下であつた。以上の様にリアクテ
イブイオンエツチングにより浮揚面をエツチング
する方法はヘツドデイスク間に働く力を非常に減
少させ信頼性に優れた磁気デイスク装置を製造で
きることが分つた。
Claims (1)
- １ 研磨仕上げされた磁気ヘツドの浮揚面をリア
クテイブイオンエツチングにより電磁変換に供す
る部分を残し、選択的にエツチングすることを特
徴とする磁気ヘツド浮揚面の仕上げ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16453581A JPS5866625A (ja) | 1981-10-15 | 1981-10-15 | 磁気ヘツド浮揚面の仕上げ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16453581A JPS5866625A (ja) | 1981-10-15 | 1981-10-15 | 磁気ヘツド浮揚面の仕上げ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5866625A JPS5866625A (ja) | 1983-04-20 |
| JPH0434203B2 true JPH0434203B2 (ja) | 1992-06-05 |
Family
ID=15795000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16453581A Granted JPS5866625A (ja) | 1981-10-15 | 1981-10-15 | 磁気ヘツド浮揚面の仕上げ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5866625A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01133274A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Victor Co Of Japan Ltd | 浮動磁気ヘッドとその製造方法 |
| JPH0719459B2 (ja) * | 1987-12-03 | 1995-03-06 | 日立金属株式会社 | 浮動型磁気ヘッド |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423517A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Floating head slider |
-
1981
- 1981-10-15 JP JP16453581A patent/JPS5866625A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5866625A (ja) | 1983-04-20 |
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