JPH04345821A - 押出成形用サイジングダイ - Google Patents
押出成形用サイジングダイInfo
- Publication number
- JPH04345821A JPH04345821A JP3118525A JP11852591A JPH04345821A JP H04345821 A JPH04345821 A JP H04345821A JP 3118525 A JP3118525 A JP 3118525A JP 11852591 A JP11852591 A JP 11852591A JP H04345821 A JPH04345821 A JP H04345821A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sizing die
- vinyl chloride
- extrusion molding
- vacuum
- chloride resin
- Prior art date
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- Pending
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塩化ビニル系樹脂押出
成形用のサイジングダイに関する。
成形用のサイジングダイに関する。
【０００２】
【従来の技術】塩化ビニル系樹脂の押出成形では、押出
機で混練、溶融された樹脂は金型から特定形状で押し出
された後、サイジングダイを通過することで最終の製品
寸法に成形され、冷却固化され最終製品となる。なお、
従来、一般的にサイジングダイには最終製品の形状、寸
法を確定するための真空孔と真空溝が設けられ、基材の
金属（ステンレス等）表面には樹脂との摩擦抵抗を低減
するための硬質クロムめっきやニッケルめっきが施され
ている。
機で混練、溶融された樹脂は金型から特定形状で押し出
された後、サイジングダイを通過することで最終の製品
寸法に成形され、冷却固化され最終製品となる。なお、
従来、一般的にサイジングダイには最終製品の形状、寸
法を確定するための真空孔と真空溝が設けられ、基材の
金属（ステンレス等）表面には樹脂との摩擦抵抗を低減
するための硬質クロムめっきやニッケルめっきが施され
ている。
【０００３】しかしながら、上記めっきには、長期使用
によるめっき面の磨耗、メンテナンス時のバフ研磨によ
るめっき面の傷、樹脂の熱分解時に発生する塩化水素ガ
スによるめっき面の腐食、めっき面への樹脂の付着（ビ
ルドアップ）が原因でめっき面の平滑性が損なわれ、そ
の結果、成形品表面に傷が発生して良品が得られないと
いう欠点を有していた。
によるめっき面の磨耗、メンテナンス時のバフ研磨によ
るめっき面の傷、樹脂の熱分解時に発生する塩化水素ガ
スによるめっき面の腐食、めっき面への樹脂の付着（ビ
ルドアップ）が原因でめっき面の平滑性が損なわれ、そ
の結果、成形品表面に傷が発生して良品が得られないと
いう欠点を有していた。
【０００４】又、実開昭５７−３９７１９号公報では、
ポリエステル樹脂と接触する部分をフッ素樹脂で被覆し
たポリエステル樹脂製パイプの押出成形用サイジングダ
イが開示されている。
ポリエステル樹脂と接触する部分をフッ素樹脂で被覆し
たポリエステル樹脂製パイプの押出成形用サイジングダ
イが開示されている。
【０００５】しかしながら、上記フッ素樹脂を被覆した
サイジングダイでは、炭酸カルシウム、酸化チタン等の
無機充填剤を含有した塩化ビニル系樹脂を押出成形した
場合、フッ素樹脂被膜の硬度が不充分なため被膜の磨耗
が著しく、フッ素樹脂被覆による塩化ビニル系樹脂との
摩擦抵抗の低減効果は持続できず、ひいては成形品表面
に傷が発生するという欠点を有していた。
サイジングダイでは、炭酸カルシウム、酸化チタン等の
無機充填剤を含有した塩化ビニル系樹脂を押出成形した
場合、フッ素樹脂被膜の硬度が不充分なため被膜の磨耗
が著しく、フッ素樹脂被覆による塩化ビニル系樹脂との
摩擦抵抗の低減効果は持続できず、ひいては成形品表面
に傷が発生するという欠点を有していた。
【０００６】又、上記従来のサイジングダイでは、最終
製品の形状、寸法を確定するために設けられた真空孔と
真空溝が狭窄なため、樹脂と接触するそれらの部分には
硬質クロムめっきやニッケルめっき及びフッ素樹脂被覆
は施し難かったという欠点も有していた。
製品の形状、寸法を確定するために設けられた真空孔と
真空溝が狭窄なため、樹脂と接触するそれらの部分には
硬質クロムめっきやニッケルめっき及びフッ素樹脂被覆
は施し難かったという欠点も有していた。
【０００７】一方、金型表面に耐磨耗性、耐蝕性等を付
与するためにセラミックス被膜を形成することが提案さ
れており、例えば特開昭６３−２７２２３号公報には、
射出成形用金型の射出成形表面の一部又は全部にセラミ
ックス被膜を真空蒸着法もしくはＣＶＤ法により形成し
た射出成形用金型が開示されている。
与するためにセラミックス被膜を形成することが提案さ
れており、例えば特開昭６３−２７２２３号公報には、
射出成形用金型の射出成形表面の一部又は全部にセラミ
ックス被膜を真空蒸着法もしくはＣＶＤ法により形成し
た射出成形用金型が開示されている。
【０００８】しかしながら、上記セラミックス被膜をサ
イジングダイに応用しても、真空蒸着法によるセラミッ
クス被膜は基材との密着性、狭窄部への被覆性、表面硬
度に劣るという欠点があり、ＣＶＤ法によるセラミック
ス被膜は被膜形成温度が高いために基材が熱により寸法
変化を起こし、所定寸法の製品が得られないという欠点
を有していた。
イジングダイに応用しても、真空蒸着法によるセラミッ
クス被膜は基材との密着性、狭窄部への被覆性、表面硬
度に劣るという欠点があり、ＣＶＤ法によるセラミック
ス被膜は被膜形成温度が高いために基材が熱により寸法
変化を起こし、所定寸法の製品が得られないという欠点
を有していた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みてなされたものであり、その目的は基材との密着性
、狭窄部への被覆性に優れたセラミックス被膜が、基材
表面の樹脂と接触する面に形成された表面硬度が大きく
、しかも耐蝕性に優れた塩化ビニル系樹脂押出成形用の
サイジングダイを提供することにある。
鑑みてなされたものであり、その目的は基材との密着性
、狭窄部への被覆性に優れたセラミックス被膜が、基材
表面の樹脂と接触する面に形成された表面硬度が大きく
、しかも耐蝕性に優れた塩化ビニル系樹脂押出成形用の
サイジングダイを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の押出成形用サイ
ジングダイは、上記サイジングダイ表面の少なくとも塩
化ビニル系樹脂と接触する面（真空孔、真空溝も含む）
に、イオンプレ−ティング法により、セラミックス被膜
が形成されている。なお、サイジングダイ全体の腐食防
止からサイジングダイ全体をセラミックス被膜で被覆し
てもよい。
ジングダイは、上記サイジングダイ表面の少なくとも塩
化ビニル系樹脂と接触する面（真空孔、真空溝も含む）
に、イオンプレ−ティング法により、セラミックス被膜
が形成されている。なお、サイジングダイ全体の腐食防
止からサイジングダイ全体をセラミックス被膜で被覆し
てもよい。
【００１１】上記サイジングダイの材質は特に限定され
るものではなく、ステンレス鋼系、炭素鋼系、銅合金系
、アルミニウム合金系等があげられ、樹脂と接触する内
周面は鏡面研磨仕上げがなされている。
るものではなく、ステンレス鋼系、炭素鋼系、銅合金系
、アルミニウム合金系等があげられ、樹脂と接触する内
周面は鏡面研磨仕上げがなされている。
【００１２】上記セラミックス被膜としては、Ｂ、Ｓｉ
、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる群から選ばれた
少なくとも１種以上の金属の窒化物、炭化物、炭窒化物
又は酸化物の１種以上からなるセラミックスが、その大
きい表面硬度と優れた耐蝕性からあげられる。
、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる群から選ばれた
少なくとも１種以上の金属の窒化物、炭化物、炭窒化物
又は酸化物の１種以上からなるセラミックスが、その大
きい表面硬度と優れた耐蝕性からあげられる。
【００１３】上記セラミックス被膜の膜厚は、薄すぎる
と被膜面の表面硬度が低下したり、被膜にピンホ−ルが
発生して耐蝕性が低下し、厚すぎると被膜の残留応力が
増加して基材との密着性が低下したりするので、０．５
〜１０ミクロンが好ましく、より好ましくは１〜７ミク
ロンである。
と被膜面の表面硬度が低下したり、被膜にピンホ−ルが
発生して耐蝕性が低下し、厚すぎると被膜の残留応力が
増加して基材との密着性が低下したりするので、０．５
〜１０ミクロンが好ましく、より好ましくは１〜７ミク
ロンである。
【００１４】上記セラミックス被膜と基材表面との間に
は、基材との密着性を確保する目的からＢ、Ｓｉ、Ｔｉ
、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる群から選ばれた少なく
とも１種以上の金属からなる中間層を設けてもよい。 この中間層の膜厚は、上記セラミックス被膜の密着性が
確保される範囲であればよい。
は、基材との密着性を確保する目的からＢ、Ｓｉ、Ｔｉ
、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる群から選ばれた少なく
とも１種以上の金属からなる中間層を設けてもよい。 この中間層の膜厚は、上記セラミックス被膜の密着性が
確保される範囲であればよい。
【００１５】さらに、セラミックス被膜と基材表面との
密着性を向上させるために、上記中間層の被膜を形成す
る前に予め基材表面を有機溶剤で洗浄し、さらに減圧下
Ａｒガス等の不活性ガスもしくはＴｉ等の金属イオンで
ボンバ−ド処理して基材表面を清浄にしておくのが好ま
しい。
密着性を向上させるために、上記中間層の被膜を形成す
る前に予め基材表面を有機溶剤で洗浄し、さらに減圧下
Ａｒガス等の不活性ガスもしくはＴｉ等の金属イオンで
ボンバ−ド処理して基材表面を清浄にしておくのが好ま
しい。
【００１６】上記Ｂ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈ
ｆからなる群から選ばれた少なくとも１種以上の金属か
らなる中間層及びＢ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈ
ｆからなる群から選ばれた少なくとも１種以上の金属の
窒化物、炭化物、炭窒化物又は酸化物の１種以上からな
るセラミックス被膜をイオンプレ−ティング法により形
成するには、該金属を加熱して蒸発させ、さらにその蒸
発粒子をイオン化させて基材表面に所定膜厚だけ中間層
を成膜した後、反応性ガス（例えば、セラミックス被膜
が窒化物なら窒素ガス、炭化物ならメタンガス、アセチ
レンガス等の炭化水素ガス、炭窒化物なら窒素ガスと炭
化水素ガスの混合ガス、酸化物なら酸素ガス）を導入し
てイオン化した金属と反応させて、該中間層上に所定膜
厚だけセラミックス被膜を成膜すればよい。
ｆからなる群から選ばれた少なくとも１種以上の金属か
らなる中間層及びＢ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈ
ｆからなる群から選ばれた少なくとも１種以上の金属の
窒化物、炭化物、炭窒化物又は酸化物の１種以上からな
るセラミックス被膜をイオンプレ−ティング法により形
成するには、該金属を加熱して蒸発させ、さらにその蒸
発粒子をイオン化させて基材表面に所定膜厚だけ中間層
を成膜した後、反応性ガス（例えば、セラミックス被膜
が窒化物なら窒素ガス、炭化物ならメタンガス、アセチ
レンガス等の炭化水素ガス、炭窒化物なら窒素ガスと炭
化水素ガスの混合ガス、酸化物なら酸素ガス）を導入し
てイオン化した金属と反応させて、該中間層上に所定膜
厚だけセラミックス被膜を成膜すればよい。
【００１７】上記イオンプレ−ティング法としては、特
に限定されるものではなく、従来公知の方法が使用でき
、例えば、直流放電法、中空陰極放電法（ＨＣＤ法）、
高周波励起法（ＲＦ法）、ア−クプラズマ法（ＡＩＰ法
）等の方式があげられ、真空孔と真空溝が設けられた該
サイジングダイの如き複雑な表面形状のものにも成膜で
きることから、ＨＣＤ法、ＲＦ法及びＡＩＰ法が好まし
い。
に限定されるものではなく、従来公知の方法が使用でき
、例えば、直流放電法、中空陰極放電法（ＨＣＤ法）、
高周波励起法（ＲＦ法）、ア−クプラズマ法（ＡＩＰ法
）等の方式があげられ、真空孔と真空溝が設けられた該
サイジングダイの如き複雑な表面形状のものにも成膜で
きることから、ＨＣＤ法、ＲＦ法及びＡＩＰ法が好まし
い。
【００１８】本発明の押出成形用サイジングダイを用い
て押出成形される塩化ビニル系樹脂としては、押出成形
体として使用されている従来公知のものが用いられてよ
く、塩化ビニルの単独重合体、塩化ビニルと塩化ビニル
以外の重合性単量体が共重合された共重合体、塩化ビニ
ル以外の重合体に塩化ビニルをグラフトさせたグラフト
共重合体及びそれらの混合物が使用できる。なお、上記
塩化ビニル系樹脂には押出成形性を確保するために従来
公知の熱安定剤、滑剤、無機充填剤、加工助剤、顔料等
が配合されている。
て押出成形される塩化ビニル系樹脂としては、押出成形
体として使用されている従来公知のものが用いられてよ
く、塩化ビニルの単独重合体、塩化ビニルと塩化ビニル
以外の重合性単量体が共重合された共重合体、塩化ビニ
ル以外の重合体に塩化ビニルをグラフトさせたグラフト
共重合体及びそれらの混合物が使用できる。なお、上記
塩化ビニル系樹脂には押出成形性を確保するために従来
公知の熱安定剤、滑剤、無機充填剤、加工助剤、顔料等
が配合されている。
【００１９】
【作用】本発明の押出成形用サイジングダイの表面の少
なくとも塩化ビニル系樹脂と接触する面には、イオンプ
レ−ティング法によりセラミックス被膜が形成されてい
るので、真空孔と真空溝が設けられた該サイジングダイ
の如き複雑な表面形状のものにも、基材が熱により寸法
変化を起こすことなく均一に成膜できる。
なくとも塩化ビニル系樹脂と接触する面には、イオンプ
レ−ティング法によりセラミックス被膜が形成されてい
るので、真空孔と真空溝が設けられた該サイジングダイ
の如き複雑な表面形状のものにも、基材が熱により寸法
変化を起こすことなく均一に成膜できる。
【００２０】又、上記セラミックス被膜が、Ｂ、Ｓｉ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる群から選ばれた少
なくとも１種以上の金属の窒化物、炭化物、炭窒化物又
は酸化物の１種以上からなるので、従来のサイジングダ
イよりも表面硬度が大きく、耐磨耗性及び耐蝕性に優れ
たものとなり、長期使用による被膜の磨耗、メンテナン
ス時のバフ研磨による被膜の傷、樹脂の熱分解時に発生
する塩化水素ガスによる被膜の腐食、被膜への樹脂の付
着（ビルドアップ）が防止できる。
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる群から選ばれた少
なくとも１種以上の金属の窒化物、炭化物、炭窒化物又
は酸化物の１種以上からなるので、従来のサイジングダ
イよりも表面硬度が大きく、耐磨耗性及び耐蝕性に優れ
たものとなり、長期使用による被膜の磨耗、メンテナン
ス時のバフ研磨による被膜の傷、樹脂の熱分解時に発生
する塩化水素ガスによる被膜の腐食、被膜への樹脂の付
着（ビルドアップ）が防止できる。
【００２１】又、上記セラミックス被膜と基材表面との
間に、Ｂ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる
群から選ばれた少なくとも１種以上の金属からなる中間
層を形成すると、基材との密着性により優れる。
間に、Ｂ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる
群から選ばれた少なくとも１種以上の金属からなる中間
層を形成すると、基材との密着性により優れる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図１は本
実施例に使用した塩化ビニル系樹脂製パイプの押出成形
用サイジングダイ３を真空冷却水槽２の先端に装着した
状態の断面図である。サイジングダイ３は、一端に真空
冷却水槽２に装着できるフランジ部３２を有し、漸次内
径が縮小した筒状体からなり、その内周面には金型１で
賦形された塩化ビニル系樹脂製パイプ４の製品寸法や外
観を整えるために、真空孔３０と真空溝３１が数個所設
けられている。さらに、サイジングダイ３の塩化ビニル
系樹脂製パイプ４と接触する面、真空孔３０と真空溝３
１の最表面には本発明のセラミックス被膜５が形成され
ている。
実施例に使用した塩化ビニル系樹脂製パイプの押出成形
用サイジングダイ３を真空冷却水槽２の先端に装着した
状態の断面図である。サイジングダイ３は、一端に真空
冷却水槽２に装着できるフランジ部３２を有し、漸次内
径が縮小した筒状体からなり、その内周面には金型１で
賦形された塩化ビニル系樹脂製パイプ４の製品寸法や外
観を整えるために、真空孔３０と真空溝３１が数個所設
けられている。さらに、サイジングダイ３の塩化ビニル
系樹脂製パイプ４と接触する面、真空孔３０と真空溝３
１の最表面には本発明のセラミックス被膜５が形成され
ている。
【００２３】実施例１
セラミックス被膜がＴｉＮの場合を以下に示す。サイジ
ングダイ（材質はＳＵＳ３０４）をトリクレンを用いて
超音波洗浄を行い、表面の油分を除去した後、ＨＣＤ法
イオンプレ−ティング装置（日本真空技術社製、型式：
ＩＰＢ６０／６０）に供給し、下記成膜条件にてＴｉＮ
被膜を形成した。
ングダイ（材質はＳＵＳ３０４）をトリクレンを用いて
超音波洗浄を行い、表面の油分を除去した後、ＨＣＤ法
イオンプレ−ティング装置（日本真空技術社製、型式：
ＩＰＢ６０／６０）に供給し、下記成膜条件にてＴｉＮ
被膜を形成した。
【００２４】（成膜条件）
（１） 初期真空度：１×１０−５Ｔｏｒｒ（２） 基
材加熱温度：５００℃ （３） Ａｒボンバ−ド処理時のＡｒガス圧力：０．１
Ｔｏｒｒ （４） 蒸発源となる金属：Ｔｉ（純度９９．７％）（
５） 反応性ガス：Ｎ２ ガス（Ａｒガス併用）（６）
成膜時のＮ２ ガス圧力：０．８×１０−３Ｔｏｒｒ
（７） 基材への直流印加電圧：−１００Ｖ（８） 成
膜時間：２０分 得られたＴｉＮ被膜の膜厚は蛍光Ｘ線微小部膜厚計（セ
イコ−電子工業社製、型式：ＳＦＴ−１５７）で、表面
硬度はビッカ−ス微小硬度計（明石製作所社製、型式：
マイクロハ−ドネステスタ−ＭＶＫ−Ｅ）で測定した結
果、膜厚は２．２ミクロン、表面硬度は２１６５Ｈｖで
あった。
材加熱温度：５００℃ （３） Ａｒボンバ−ド処理時のＡｒガス圧力：０．１
Ｔｏｒｒ （４） 蒸発源となる金属：Ｔｉ（純度９９．７％）（
５） 反応性ガス：Ｎ２ ガス（Ａｒガス併用）（６）
成膜時のＮ２ ガス圧力：０．８×１０−３Ｔｏｒｒ
（７） 基材への直流印加電圧：−１００Ｖ（８） 成
膜時間：２０分 得られたＴｉＮ被膜の膜厚は蛍光Ｘ線微小部膜厚計（セ
イコ−電子工業社製、型式：ＳＦＴ−１５７）で、表面
硬度はビッカ−ス微小硬度計（明石製作所社製、型式：
マイクロハ−ドネステスタ−ＭＶＫ−Ｅ）で測定した結
果、膜厚は２．２ミクロン、表面硬度は２１６５Ｈｖで
あった。
【００２５】このＴｉＮ被膜が形成されたサイジングダ
イを用いて塩化ビニル系樹脂製パイプを１週間連続生産
したが、得られたパイプの外観は傷もなくきれいであっ
た。又、サイジングダイの樹脂通過面を観察したところ
樹脂の付着、腐食や傷もなかった。
イを用いて塩化ビニル系樹脂製パイプを１週間連続生産
したが、得られたパイプの外観は傷もなくきれいであっ
た。又、サイジングダイの樹脂通過面を観察したところ
樹脂の付着、腐食や傷もなかった。
【００２６】実施例２
実施例１において、反応性ガスをアセチレンガスにかえ
、成膜時間を４０分とした以外は実施例１と同様にして
ＴｉＣ被膜を得た。得られたＴｉＣ被膜の膜厚は３．６
ミクロン、表面硬度は３２５５Ｈｖであった。このＴｉ
Ｃ被膜が形成されたサイジングダイを用いて塩化ビニル
系樹脂製パイプを１週間連続生産したが、得られたパイ
プの外観は傷もなくきれいであった。又、サイジングダ
イの樹脂通過面を観察したところ樹脂の付着、腐食や傷
もなかった。比較例 実施例１で用いたサイジングダイに３０ミクロンの硬質
クロムめっきを施したサイジングダイを用いて、塩化ビ
ニル系樹脂製パイプを１週間連続生産したが、得られた
パイプの外観には多数の傷やかすれが発生し、又、サイ
ジングイの樹脂通過面を観察したところ樹脂の付着が筋
状にみられ、真空孔と真空溝には腐食が発生していた。
、成膜時間を４０分とした以外は実施例１と同様にして
ＴｉＣ被膜を得た。得られたＴｉＣ被膜の膜厚は３．６
ミクロン、表面硬度は３２５５Ｈｖであった。このＴｉ
Ｃ被膜が形成されたサイジングダイを用いて塩化ビニル
系樹脂製パイプを１週間連続生産したが、得られたパイ
プの外観は傷もなくきれいであった。又、サイジングダ
イの樹脂通過面を観察したところ樹脂の付着、腐食や傷
もなかった。比較例 実施例１で用いたサイジングダイに３０ミクロンの硬質
クロムめっきを施したサイジングダイを用いて、塩化ビ
ニル系樹脂製パイプを１週間連続生産したが、得られた
パイプの外観には多数の傷やかすれが発生し、又、サイ
ジングイの樹脂通過面を観察したところ樹脂の付着が筋
状にみられ、真空孔と真空溝には腐食が発生していた。
【００２７】
【発明の効果】本発明の押出成形用サイジングダイを用
いて得られる塩化ビニル系樹脂製押出成形品の表面には
、長期ランニング時においても、傷、筋、かすれ等の外
観不良が発生しなくなる。
いて得られる塩化ビニル系樹脂製押出成形品の表面には
、長期ランニング時においても、傷、筋、かすれ等の外
観不良が発生しなくなる。
【図１】本発明の押出形用サイジングダイの一実施例を
示す要部断面図である。
示す要部断面図である。
１ 金型
２ 真空冷却水槽
３ サイジングダイ
３０ 真空孔
３１ 真空溝
３２ フランジ部
４ 塩化ビニル系樹脂製パイプ
５ セラミックス被膜
Claims (2)
- 【請求項１】塩化ビニル系樹脂を押出成形するためのサ
イジングダイであって、上記サイジングダイ表面の少な
くとも塩化ビニル系樹脂と接触する面に、イオンプレ−
ティング法により、セラミックス被膜が形成されている
ことを特徴とする押出成形用サイジングダイ。 - 【請求項２】上記セラミックス被膜が、Ｂ、Ｓｉ、Ｔｉ
、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆからなる群から選ばれた少なく
とも１種以上の金属の窒化物、炭化物、炭窒化物又は酸
化物の１種以上からなることを特徴とする請求項１記載
の押出成形用サイジングダイ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3118525A JPH04345821A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 押出成形用サイジングダイ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3118525A JPH04345821A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 押出成形用サイジングダイ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04345821A true JPH04345821A (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=14738768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3118525A Pending JPH04345821A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 押出成形用サイジングダイ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04345821A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002144426A (ja) * | 2000-11-16 | 2002-05-21 | Sekisui Chem Co Ltd | 管渠内面ライニング用部材及びその製造方法 |
| WO2005110697A1 (de) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Cfs Kempten Gmbh | Werkzeug, insbesondere zur extrusion von kunststoffen, verwendung des werkzeugs und verfahren zur wiederaufbereitung des werkzeugs |
| WO2005110698A3 (en) * | 2004-05-14 | 2006-03-02 | Teer Coatings Ltd | Coating with hard wear and non-stick characteristics |
-
1991
- 1991-05-23 JP JP3118525A patent/JPH04345821A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002144426A (ja) * | 2000-11-16 | 2002-05-21 | Sekisui Chem Co Ltd | 管渠内面ライニング用部材及びその製造方法 |
| WO2005110697A1 (de) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Cfs Kempten Gmbh | Werkzeug, insbesondere zur extrusion von kunststoffen, verwendung des werkzeugs und verfahren zur wiederaufbereitung des werkzeugs |
| WO2005110698A3 (en) * | 2004-05-14 | 2006-03-02 | Teer Coatings Ltd | Coating with hard wear and non-stick characteristics |
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