JPH04346318A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH04346318A JPH04346318A JP3118910A JP11891091A JPH04346318A JP H04346318 A JPH04346318 A JP H04346318A JP 3118910 A JP3118910 A JP 3118910A JP 11891091 A JP11891091 A JP 11891091A JP H04346318 A JPH04346318 A JP H04346318A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜トランジスタをス
イッチング素子に用いたアクティブマトリクス方式の液
晶表示装置に関する。
イッチング素子に用いたアクティブマトリクス方式の液
晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、LCD(Liquid C
rystal Display)の表示方式として単
純マトリクス方式を採用した液晶表示装置が広く利用さ
れている。しかしながら、画面を高精細化するために走
査線数を増加させると、液晶に印加される実効電圧の低
下等によってコントラストが低下したり、視覚範囲がせ
まくなるという問題があった。
rystal Display)の表示方式として単
純マトリクス方式を採用した液晶表示装置が広く利用さ
れている。しかしながら、画面を高精細化するために走
査線数を増加させると、液晶に印加される実効電圧の低
下等によってコントラストが低下したり、視覚範囲がせ
まくなるという問題があった。
【0003】そこで、近年、表示方式として、画面を数
万から数十万に分割し、画素の1個1個に非線形素子、
例えば、薄膜トランジスタ(TFT)を設け、そのスイ
ッチング特性を利用して各画素の動作を制御するという
アクティブマトリクス方式が、走査線を増加させてもコ
ントラストや視覚範囲,応答速度の低下を生じないとい
うことで注目されている。図12にはアクティブマトリ
クス方式を用いた従来のTFT−LCDの模式的な回路
図が示されている。
万から数十万に分割し、画素の1個1個に非線形素子、
例えば、薄膜トランジスタ(TFT)を設け、そのスイ
ッチング特性を利用して各画素の動作を制御するという
アクティブマトリクス方式が、走査線を増加させてもコ
ントラストや視覚範囲,応答速度の低下を生じないとい
うことで注目されている。図12にはアクティブマトリ
クス方式を用いた従来のTFT−LCDの模式的な回路
図が示されている。
【0004】このLCDは、TFT3,電極画素5及び
補助容量7とからなる基本画素1がマトリクス状に配列
された構成をしている。TFT3のゲ−ト,ソ−ス,ド
レインはそれぞれ走査線Gn ,信号線Sm ,画素電
極5に接続され、補助容量7は画素電極3に接続されて
いる。
補助容量7とからなる基本画素1がマトリクス状に配列
された構成をしている。TFT3のゲ−ト,ソ−ス,ド
レインはそれぞれ走査線Gn ,信号線Sm ,画素電
極5に接続され、補助容量7は画素電極3に接続されて
いる。
【0005】このように構成された基本画素1を用いた
LCDでは、走査線Gn に与えられた走査信号により
TFT3のオン/オフが選択されると共に、この走査信
号に同期した信号線Sm に与えられた映像信号によっ
て振幅変調されたパルス信号を、TFT3のドレインを
介して画素電極5に与えることで液晶(不図示)の配向
を制御している。
LCDでは、走査線Gn に与えられた走査信号により
TFT3のオン/オフが選択されると共に、この走査信
号に同期した信号線Sm に与えられた映像信号によっ
て振幅変調されたパルス信号を、TFT3のドレインを
介して画素電極5に与えることで液晶(不図示)の配向
を制御している。
【0006】しかしながら、構造、製造プロセスが複雑
なため、画面が大型化すると、歩留まりが急激に低下す
るという問題があった。例えば、TFT−LCDで64
0×480画素のカラ−表示の実現するには、640×
3×480=92万画素が必要になるので、92万個の
TFT,1920本の信号線,480本の走査線の全て
にわたり断線やショ−ト等の不良を無くさなければなら
ない。
なため、画面が大型化すると、歩留まりが急激に低下す
るという問題があった。例えば、TFT−LCDで64
0×480画素のカラ−表示の実現するには、640×
3×480=92万画素が必要になるので、92万個の
TFT,1920本の信号線,480本の走査線の全て
にわたり断線やショ−ト等の不良を無くさなければなら
ない。
【0007】このような不良があると画面に表示欠陥が
生じる。表示欠陥には線欠陥と点欠陥があり、一般に、
点欠陥の方が発生しやすい。点欠陥となる原因はいくつ
かあるが、そのひとつしてTFTの不良がある。TFT
の不良による点欠陥の対策として、複数TFT方式のア
クティブマトリクス方式が提案されている。
生じる。表示欠陥には線欠陥と点欠陥があり、一般に、
点欠陥の方が発生しやすい。点欠陥となる原因はいくつ
かあるが、そのひとつしてTFTの不良がある。TFT
の不良による点欠陥の対策として、複数TFT方式のア
クティブマトリクス方式が提案されている。
【0008】図13はこのような方式を用いた従来のT
FT−LCDの模式的な回路図が示されている。これが
先に説明したものと異なる点は、各基本画素1にそれぞ
れ2つのTFT3a,3bを設けたことにある。
FT−LCDの模式的な回路図が示されている。これが
先に説明したものと異なる点は、各基本画素1にそれぞ
れ2つのTFT3a,3bを設けたことにある。
【0009】即ち、TFT3aのゲ−ト,ソ−ス,ドレ
インはそれぞれ走査線Gn ,信号線Sm ,画素電極
5に接続され、TFT3bのゲ−ト,ソ−ス,ドレイン
はそれぞれ走査線Gn+1 ,信号線Sm,画素電極5
に接続されている。そして、TFT3a,3bがともに
正常の場合には、TFT3bの出力信号が画素電極5に
与えられように制御されている。したがって、TFT3
aが不良の場合には、レ−ザ等を用いてTFT3aを画
素電極5又は信号線Sm から切り離すことでLCDの
修復できる。
インはそれぞれ走査線Gn ,信号線Sm ,画素電極
5に接続され、TFT3bのゲ−ト,ソ−ス,ドレイン
はそれぞれ走査線Gn+1 ,信号線Sm,画素電極5
に接続されている。そして、TFT3a,3bがともに
正常の場合には、TFT3bの出力信号が画素電極5に
与えられように制御されている。したがって、TFT3
aが不良の場合には、レ−ザ等を用いてTFT3aを画
素電極5又は信号線Sm から切り離すことでLCDの
修復できる。
【0010】また、TFT3bが不良の場合には、TF
T3aと同様にしてTFT3bを画素電極5又は信号線
Sm から切り離してLCDの修復を行なう。しかしな
がら、この場合、TFT3aの信号は正規の信号ではな
く、1つ上の画素のTFTの信号と同じ信号であるため
、1ドットごとに正規の信号を用いないと情報を正確に
表現できないLCD、例えば、OA用のLCDにおいて
は画像が変化するという問題が生じる。また、テレビ用
のLCDなどでは、1画素がずれても画像は大きく変化
しないが、やはりTFTの不良は点欠陥として現われる
ので画質が低下する。
T3aと同様にしてTFT3bを画素電極5又は信号線
Sm から切り離してLCDの修復を行なう。しかしな
がら、この場合、TFT3aの信号は正規の信号ではな
く、1つ上の画素のTFTの信号と同じ信号であるため
、1ドットごとに正規の信号を用いないと情報を正確に
表現できないLCD、例えば、OA用のLCDにおいて
は画像が変化するという問題が生じる。また、テレビ用
のLCDなどでは、1画素がずれても画像は大きく変化
しないが、やはりTFTの不良は点欠陥として現われる
ので画質が低下する。
【0011】更に、顕微鏡等を用いても形状からは不良
なTFTを発見するのが困難であるため、どのTFTを
修復すればよいのか分からないという問題があった。何
故なら、不良なTFTでもその形状は正常であることが
多いからである。
なTFTを発見するのが困難であるため、どのTFTを
修復すればよいのか分からないという問題があった。何
故なら、不良なTFTでもその形状は正常であることが
多いからである。
【0012】そこで、TFTに不良が生じた画素に正規
の信号を送るために、1画素当たりの走査線や信号線の
数を複数にすることが提案された。しかしながら、この
場合、配線領域が増えるので開口率が低下したり、隣接
する配線同志のショ−トが発生し易くなるという問題が
生じる。
の信号を送るために、1画素当たりの走査線や信号線の
数を複数にすることが提案された。しかしながら、この
場合、配線領域が増えるので開口率が低下したり、隣接
する配線同志のショ−トが発生し易くなるという問題が
生じる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上述の如く従来のアク
ティブマトリクス方式を採用した液晶表示装置では、大
画面化すると、TFTの数が非常に多くなるため、TF
Tの不良による点欠陥が発生し易くなり、画質が低下す
るという問題があった。このような問題を解決する対策
はいくつか提案されていたが、その欠点も顕著になり、
本命視されるものはまだなかった。
ティブマトリクス方式を採用した液晶表示装置では、大
画面化すると、TFTの数が非常に多くなるため、TF
Tの不良による点欠陥が発生し易くなり、画質が低下す
るという問題があった。このような問題を解決する対策
はいくつか提案されていたが、その欠点も顕著になり、
本命視されるものはまだなかった。
【0014】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、不良なTFTを容易に
見つけだせ、点欠陥の少ない液晶表示装置を提供するこ
とにある。
ので、その目的とするところは、不良なTFTを容易に
見つけだせ、点欠陥の少ない液晶表示装置を提供するこ
とにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、各画素
に複数の電界効果トランジスタを設けると共にこれら電
界効果トランジスタのいずれかを介して信号線と画素電
極との間に可変抵抗体を挿設したことにある。
に複数の電界効果トランジスタを設けると共にこれら電
界効果トランジスタのいずれかを介して信号線と画素電
極との間に可変抵抗体を挿設したことにある。
【0016】即ち、上記の目的を達成するために、本発
明の液晶表示装置は、液晶の配向を入力信号により制御
する画素電極と、一方のソ−ス・ドレインが前記画素電
極に接続され、他方のソ−ス・ドレインに信号線に接続
され、ゲ−トが走査線に接続された複数の電界効果トラ
ンジスタとを有する画素がマトリクス配列されてなる液
晶表示装置において、前記複数の電界効果トランジスタ
のいずれかを介して信号線と画素電極との間に可変抵抗
体を挿設したことを特徴とする。
明の液晶表示装置は、液晶の配向を入力信号により制御
する画素電極と、一方のソ−ス・ドレインが前記画素電
極に接続され、他方のソ−ス・ドレインに信号線に接続
され、ゲ−トが走査線に接続された複数の電界効果トラ
ンジスタとを有する画素がマトリクス配列されてなる液
晶表示装置において、前記複数の電界効果トランジスタ
のいずれかを介して信号線と画素電極との間に可変抵抗
体を挿設したことを特徴とする。
【0017】
【作用】可変抵抗体が低抵抗の状態で液晶表示装置を駆
動すると、即ち、画素内の全電界トランジスタと画素電
極とを電気的に接続にすると、不良な電界効果トランジ
スタは正常な動作をしないため、表示や電気的応答等の
良否から不良な電界効果トランジスタを有する画素を発
見することができる。
動すると、即ち、画素内の全電界トランジスタと画素電
極とを電気的に接続にすると、不良な電界効果トランジ
スタは正常な動作をしないため、表示や電気的応答等の
良否から不良な電界効果トランジスタを有する画素を発
見することができる。
【0018】次に可変抵抗体が高抵抗の状態で液晶表示
装置を駆動すると、即ち、可変抵抗体に接続された電界
トランジスタと画素電極とを電気的に切断すると、可変
抵抗体に接続された電界効果トランジスタが不良な場合
と、可変抵抗体に接続されていない電界効果トランジス
タが不良な場合とでは、表示や電気的応答等などが異な
るため、どちらの電界効果トランジスタが不良なのか特
定できる。
装置を駆動すると、即ち、可変抵抗体に接続された電界
トランジスタと画素電極とを電気的に切断すると、可変
抵抗体に接続された電界効果トランジスタが不良な場合
と、可変抵抗体に接続されていない電界効果トランジス
タが不良な場合とでは、表示や電気的応答等などが異な
るため、どちらの電界効果トランジスタが不良なのか特
定できる。
【0019】このようにして不良な電界効果トランジス
タを特定できるので、その電界効果トランジスタを画素
電極又は信号線から分離することで点欠陥の発生を防止
できる。
タを特定できるので、その電界効果トランジスタを画素
電極又は信号線から分離することで点欠陥の発生を防止
できる。
【0020】
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明する
。図1には本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の
単位画素の模式的な回路図が示されている。
。図1には本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の
単位画素の模式的な回路図が示されている。
【0021】単位画素1は、ゲ−トが走査線Gn に接
続され、ソ−ス、ドレインがそれぞれ信号線Sm ,画
素電極5に接続された2つのTFT3a,3bと、画素
電極5とグランド線GNDn との間に挿設された補助
容量7と、TFT3aのドレインと画素電極5との間に
挿設された可変抵抗体9とで構成されている。図2は上
記のように構成された単位画素1を用いて作成したLC
Dの平面図を示し、図3は図2のA−A´断面図である
。図3に示すようにTFT3aは、ゲ−ト電極13がゲ
−ト絶縁膜15を介して活性層17の下部に形成された
逆スタガ−型TFTである。
続され、ソ−ス、ドレインがそれぞれ信号線Sm ,画
素電極5に接続された2つのTFT3a,3bと、画素
電極5とグランド線GNDn との間に挿設された補助
容量7と、TFT3aのドレインと画素電極5との間に
挿設された可変抵抗体9とで構成されている。図2は上
記のように構成された単位画素1を用いて作成したLC
Dの平面図を示し、図3は図2のA−A´断面図である
。図3に示すようにTFT3aは、ゲ−ト電極13がゲ
−ト絶縁膜15を介して活性層17の下部に形成された
逆スタガ−型TFTである。
【0022】即ち、TFT3aは、ガラス基板等の透光
性絶縁基板11上に設けられ、走査線Gn に接続した
ゲ−ト電極13と、このゲ−ト電極13上に設けられた
ゲ−ト絶縁膜15と、このゲ−ト絶縁膜15上に設けら
れたアモルファスシリコンからなる活性層17と、この
活性層17上に設けられた保護膜19と、信号線Sn
に接続し、不純物が添加されたコンタクト層21を介し
て活性層17に接合したソ−ス電極23と、可変抵抗体
9に接続したドレイン電極25とからなる。なお、TF
T3bの構成はTFT3aのそれと同じである。
性絶縁基板11上に設けられ、走査線Gn に接続した
ゲ−ト電極13と、このゲ−ト電極13上に設けられた
ゲ−ト絶縁膜15と、このゲ−ト絶縁膜15上に設けら
れたアモルファスシリコンからなる活性層17と、この
活性層17上に設けられた保護膜19と、信号線Sn
に接続し、不純物が添加されたコンタクト層21を介し
て活性層17に接合したソ−ス電極23と、可変抵抗体
9に接続したドレイン電極25とからなる。なお、TF
T3bの構成はTFT3aのそれと同じである。
【0023】可変抵抗体9は、TFT3aからゲ−ト電
極を除いたものと基本的に同じ構成であり、接続電極2
7を介して画素電極5に接続されている。可変抵抗体9
の活性層17の材料及び形成工程はTFT3aのそれと
同じである。また、可変抵抗体9の抵抗は、通常強度の
バックライト光の照射で十分に小さくなるようになって
いる。
極を除いたものと基本的に同じ構成であり、接続電極2
7を介して画素電極5に接続されている。可変抵抗体9
の活性層17の材料及び形成工程はTFT3aのそれと
同じである。また、可変抵抗体9の抵抗は、通常強度の
バックライト光の照射で十分に小さくなるようになって
いる。
【0024】TFT3a,可変抵抗体9上には保護膜2
9が堆積されている。そしてこのような基本画素1がマ
トリクス配列された透光性絶縁基板11(マトリクスア
レイ基板)上には、配向膜31,液晶33,配向膜35
,対向電極37,カラ−フィルタ39,ブラックマトリ
クス41が設けられ、マトリクスアレイ基板と透光性絶
縁基板43とにより挾持されている。また、液晶33と
反対側の透光性絶縁基板11,41の表面にはそれぞれ
偏向板43,45が設けられている。
9が堆積されている。そしてこのような基本画素1がマ
トリクス配列された透光性絶縁基板11(マトリクスア
レイ基板)上には、配向膜31,液晶33,配向膜35
,対向電極37,カラ−フィルタ39,ブラックマトリ
クス41が設けられ、マトリクスアレイ基板と透光性絶
縁基板43とにより挾持されている。また、液晶33と
反対側の透光性絶縁基板11,41の表面にはそれぞれ
偏向板43,45が設けられている。
【0025】なお、図2に示すように走査線Gn と信
号線Sm ,Sm+1 との交差部49a,b、グラン
ド線GNDn と信号線Sm ,Sm+1 との交差部
49c,dには活性層17,コンタクト層21の材料膜
が残されており、オ−バエッチングによる層間ショ−ト
の低減が図られている。このように構成された液晶表示
装置では、以下のようにして不良なTFTが特定される
。
号線Sm ,Sm+1 との交差部49a,b、グラン
ド線GNDn と信号線Sm ,Sm+1 との交差部
49c,dには活性層17,コンタクト層21の材料膜
が残されており、オ−バエッチングによる層間ショ−ト
の低減が図られている。このように構成された液晶表示
装置では、以下のようにして不良なTFTが特定される
。
【0026】最初、TFTを駆動して画面全体の表示を
黒にすると共に、液晶表示装置のバックライトを調整し
て通常強度のバックライト光51をLCDに照射する。 そして、目視或いは画像認識を利用した装置により、表
示状態を調べて不良な画素、つまり、不良なTFTを有
する画素を見つけだす。
黒にすると共に、液晶表示装置のバックライトを調整し
て通常強度のバックライト光51をLCDに照射する。 そして、目視或いは画像認識を利用した装置により、表
示状態を調べて不良な画素、つまり、不良なTFTを有
する画素を見つけだす。
【0027】次にバックライト光の強度を弱め、上記不
良な基本画素の表示状態を調べる。このとき、不良な基
本画素の表示が良好になれば可変抵抗9に接続されたT
FT3aが不良だと特定でき、不良な基本画素の表示が
変わらなれば、可変抵抗体9に接続されていないTFT
3bが不良だと特定できる。このように不良なTFTを
特定できるのは次のように説明される。
良な基本画素の表示状態を調べる。このとき、不良な基
本画素の表示が良好になれば可変抵抗9に接続されたT
FT3aが不良だと特定でき、不良な基本画素の表示が
変わらなれば、可変抵抗体9に接続されていないTFT
3bが不良だと特定できる。このように不良なTFTを
特定できるのは次のように説明される。
【0028】バックライト光51の強度が弱いと、可変
抵抗体9の抵抗が高くなるため、可変抵抗体9に接続さ
れたTFT3aの良好,不良にかかわらずTFT3aの
出力レベルは低下する。即ち、可変抵抗体9に接続され
ていないTFT3bのみで画素電極5を制御しているの
と同じ状態になる。
抵抗体9の抵抗が高くなるため、可変抵抗体9に接続さ
れたTFT3aの良好,不良にかかわらずTFT3aの
出力レベルは低下する。即ち、可変抵抗体9に接続され
ていないTFT3bのみで画素電極5を制御しているの
と同じ状態になる。
【0029】その結果、TFT3aが不良であっても、
画素電極5はその影響を受けないため、TFT3bが良
好であれば、表示は良好になり、TFT3bが不良であ
れば、表示は不良なまま変わらない。したがって、バッ
クライト光51の強度を弱くすることで基本画素1のT
FT3a,3bのどちらが不良なのか特定できる。
画素電極5はその影響を受けないため、TFT3bが良
好であれば、表示は良好になり、TFT3bが不良であ
れば、表示は不良なまま変わらない。したがって、バッ
クライト光51の強度を弱くすることで基本画素1のT
FT3a,3bのどちらが不良なのか特定できる。
【0030】次にLCDの修復を行なう。即ち、透光性
基板11の裏面からYAGレ−ザ等のレ−ザ光を照射し
、不良なTFTと画素電極との接続を断つ。例えば、可
変抵抗体9に接続しているTFT3aが不良ならば、ド
レイン電極25又は接続電極27にレ−ザ光を照射して
切断すれば良い。このとき、TFT3a,3bのゲ−ト
は共通の走査線Gn に接続されているので1つ上の基
本画素の信号が画素電極5に与えられるという問題は生
じない。
基板11の裏面からYAGレ−ザ等のレ−ザ光を照射し
、不良なTFTと画素電極との接続を断つ。例えば、可
変抵抗体9に接続しているTFT3aが不良ならば、ド
レイン電極25又は接続電極27にレ−ザ光を照射して
切断すれば良い。このとき、TFT3a,3bのゲ−ト
は共通の走査線Gn に接続されているので1つ上の基
本画素の信号が画素電極5に与えられるという問題は生
じない。
【0031】また、可変抵抗体9の抵抗は、通常動作に
おけるバックライト光で十分小さくなるため、TFT3
bが不良の場合でも、TFT3aだけでも所定レベルの
信号を画素電極5に与えることができる。
おけるバックライト光で十分小さくなるため、TFT3
bが不良の場合でも、TFT3aだけでも所定レベルの
信号を画素電極5に与えることができる。
【0032】更に、TFT3aの出力レベルが低下した
場合でも、TFT3aを含む基本画素1の表示は、周囲
の画素の表示が黒であっても白くなるということがなく
、実用上の問題はなっかた。なお、本実施例ではバック
ライト光の強度を変えて不良なTFTを特定したが、バ
ックライト光の強度を一定にしたままでも、不良なTF
Tを特定できる。
場合でも、TFT3aを含む基本画素1の表示は、周囲
の画素の表示が黒であっても白くなるということがなく
、実用上の問題はなっかた。なお、本実施例ではバック
ライト光の強度を変えて不良なTFTを特定したが、バ
ックライト光の強度を一定にしたままでも、不良なTF
Tを特定できる。
【0033】即ち、可変抵抗体9の抵抗が十分小さくな
る程度の強度のバックライト光を透光性基板11の裏面
から照射して表示が異常な基本画素1を見つけた後、L
CDを裏返し、透光性基板41側からバックライト光を
照射して不良なTFTを特定する。
る程度の強度のバックライト光を透光性基板11の裏面
から照射して表示が異常な基本画素1を見つけた後、L
CDを裏返し、透光性基板41側からバックライト光を
照射して不良なTFTを特定する。
【0034】不良なTFTが特定できるのは、透光性基
板41側からバックライト光を照射すると、ブラックマ
トリクス39により可変抵抗体9への光が遮断されるた
めである。
板41側からバックライト光を照射すると、ブラックマ
トリクス39により可変抵抗体9への光が遮断されるた
めである。
【0035】かくして本実施例の液晶表示装置では不良
なTFTの検出が容易になるため、点欠陥を完全に修復
することができるようになり、その結果、画質の低下を
未然に防止することができ、歩留まりが改善される。
なTFTの検出が容易になるため、点欠陥を完全に修復
することができるようになり、その結果、画質の低下を
未然に防止することができ、歩留まりが改善される。
【0036】図4には本発明の第2の実施例に係る液晶
表示装置の基本画素の模式的な回路図が示されている。 なお、図1の基本画素1と対応する部分には図1と同一
符号を付し、詳細な説明は省略する。この実施例の液晶
表示装置の第1の実施例のそれと異なる点は、可変抵抗
体9をTFT3bのソ−スと信号線Sm との間に挿設
したことにある。
表示装置の基本画素の模式的な回路図が示されている。 なお、図1の基本画素1と対応する部分には図1と同一
符号を付し、詳細な説明は省略する。この実施例の液晶
表示装置の第1の実施例のそれと異なる点は、可変抵抗
体9をTFT3bのソ−スと信号線Sm との間に挿設
したことにある。
【0037】このように構成された基本画素1を用いた
LCDでも、バックライト光を照射することで可変抵抗
体9の抵抗を変えることでTFT3bの動作を制御でき
るので第1の実施例と同様な効果が得られるのは勿論の
こと、可変抵抗体9が基本画素の形成領域ではなく、配
線部分に形成されているので透光性基板11に占める基
本画素の割合を小さくでき、開口率等の性能指標が改善
されるという効果がある。
LCDでも、バックライト光を照射することで可変抵抗
体9の抵抗を変えることでTFT3bの動作を制御でき
るので第1の実施例と同様な効果が得られるのは勿論の
こと、可変抵抗体9が基本画素の形成領域ではなく、配
線部分に形成されているので透光性基板11に占める基
本画素の割合を小さくでき、開口率等の性能指標が改善
されるという効果がある。
【0038】図5には本発明の第3の実施例に係る液晶
表示装置の基本画素の模式的な回路図が示されている。 なお、図1の基本画素1と対応する部分には図1と同一
符号を付し、詳細な説明は省略する。
表示装置の基本画素の模式的な回路図が示されている。 なお、図1の基本画素1と対応する部分には図1と同一
符号を付し、詳細な説明は省略する。
【0039】この実施例の液晶表示装置の第1の実施例
のそれと異なる点は、TFT3a,3bのゲ−トを走査
線Gn 上に形成するのではなく、走査線Gn から分
岐した配線上に形成したことにある。
のそれと異なる点は、TFT3a,3bのゲ−トを走査
線Gn 上に形成するのではなく、走査線Gn から分
岐した配線上に形成したことにある。
【0040】このように構成されたLCDでも第1の実
施例と同様な効果が得られるは勿論のこと、走査線Gn
の幅をTFT3a,3bに左右されずに決めることが
できるため、走査線Gn の抵抗を容易に制御できると
いう効果がある。
施例と同様な効果が得られるは勿論のこと、走査線Gn
の幅をTFT3a,3bに左右されずに決めることが
できるため、走査線Gn の抵抗を容易に制御できると
いう効果がある。
【0041】図6には本発明の第4の実施例に係る液晶
表示装置の基本画素の模式的な回路図が示されている。 なお、図1の基本画素1と対応する部分には図1と同一
符号を付し、詳細な説明は省略する。この実施例の液晶
表示装置が第1の実施例のそれと異なる点は、電極構造
体53を可変抵抗体9に並列接続したことにある。図7
は図6のように構成された基本画素1を用いて作成した
LCDの平面図を示し、図8,図9はそれぞれ図7のB
−B´断面図,C−C´断面図である。
表示装置の基本画素の模式的な回路図が示されている。 なお、図1の基本画素1と対応する部分には図1と同一
符号を付し、詳細な説明は省略する。この実施例の液晶
表示装置が第1の実施例のそれと異なる点は、電極構造
体53を可変抵抗体9に並列接続したことにある。図7
は図6のように構成された基本画素1を用いて作成した
LCDの平面図を示し、図8,図9はそれぞれ図7のB
−B´断面図,C−C´断面図である。
【0042】電極構造体53の構成は、基本的にはTF
T3a,3bと同じある。下部電極55は、接続電極2
3と同一の材料からなり、上部電極57と平面的に重な
り合っている。電極構造体53のポイントは直流的には
絶縁されているが後の処理で電極館をショ−トできる構
造を有していることである。したがって、電極構造体5
3は本実施例の構成に限るものではない。
T3a,3bと同じある。下部電極55は、接続電極2
3と同一の材料からなり、上部電極57と平面的に重な
り合っている。電極構造体53のポイントは直流的には
絶縁されているが後の処理で電極館をショ−トできる構
造を有していることである。したがって、電極構造体5
3は本実施例の構成に限るものではない。
【0043】このように構成された基本画素を用いたL
CDでもバックライト光を照射することで可変抵抗体9
の抵抗を変えることでTFT3bの動作を制御できるの
で第1の実施例と同様な効果が得られる。
CDでもバックライト光を照射することで可変抵抗体9
の抵抗を変えることでTFT3bの動作を制御できるの
で第1の実施例と同様な効果が得られる。
【0044】更に、TFT3aが不良の場合、透光性基
板11の裏面からYAGレ−ザ光等を用いて下部電極5
5を部分的に溶融して下部電極55と上部電極57とを
短絡することでTFT3bの駆動能力の低下を防止でき
るという利点がある。
板11の裏面からYAGレ−ザ光等を用いて下部電極5
5を部分的に溶融して下部電極55と上部電極57とを
短絡することでTFT3bの駆動能力の低下を防止でき
るという利点がある。
【0045】即ち、TFT3bには可変抵抗体9が直列
接合しているのでTFT3bの駆動能力が低下する恐れ
があるが、下部電極55と上部電極57とを短絡するこ
とでTFT3bの出力信号を可変抵抗体9を介さずに低
抵抗の電極構造体53を介して画素電極5に与えること
ができる。このため、可変抵抗体9の形成領域が狭く、
断面積が小さい場合でもTFT3bの駆動能力の低下を
確実に防止できる。
接合しているのでTFT3bの駆動能力が低下する恐れ
があるが、下部電極55と上部電極57とを短絡するこ
とでTFT3bの出力信号を可変抵抗体9を介さずに低
抵抗の電極構造体53を介して画素電極5に与えること
ができる。このため、可変抵抗体9の形成領域が狭く、
断面積が小さい場合でもTFT3bの駆動能力の低下を
確実に防止できる。
【0046】図10には本発明の第5の実施例に係る液
晶表示装置の基本画素1の模式的な回路図が示されてい
る。なお、図1,図6の基本画素と対応する部分には図
1,図6と同一符号を付し、詳細な説明は省略する。
晶表示装置の基本画素1の模式的な回路図が示されてい
る。なお、図1,図6の基本画素と対応する部分には図
1,図6と同一符号を付し、詳細な説明は省略する。
【0047】この実施例の液晶表示装置が第1の実施例
のそれと異なる点は、予備用のTFT3cを設け、この
TFT3cと画素電極5との間に電極構造体53を挿設
したことにある。
のそれと異なる点は、予備用のTFT3cを設け、この
TFT3cと画素電極5との間に電極構造体53を挿設
したことにある。
【0048】このように構成された基本画素からなるL
CDでは、不良なTFTを画素電極5とから切り離した
後、電極構造体53の下部電極と上部電極とを短絡する
こと修復できる。
CDでは、不良なTFTを画素電極5とから切り離した
後、電極構造体53の下部電極と上部電極とを短絡する
こと修復できる。
【0049】その結果、TFT3cが不良なTFTの代
わりとして使用できるため、2つのTFTで画素電極の
電位を制御でるようになり、素子特性、例えば、オン電
流やトランジスタの電極間容量を正常な基本画素と同じ
にすることができる。したがって、修復にともなう基本
画素の特性のばらつきを抑制でき、より画質の優れた液
晶表示装置を得ることができる。なお、本実施例の液晶
表示装置でも第1の実施例のそれと同様な効果が得られ
るのはいうまでもない。
わりとして使用できるため、2つのTFTで画素電極の
電位を制御でるようになり、素子特性、例えば、オン電
流やトランジスタの電極間容量を正常な基本画素と同じ
にすることができる。したがって、修復にともなう基本
画素の特性のばらつきを抑制でき、より画質の優れた液
晶表示装置を得ることができる。なお、本実施例の液晶
表示装置でも第1の実施例のそれと同様な効果が得られ
るのはいうまでもない。
【0050】図11には本発明の第6の実施例に係る液
晶表示装置の基本画素の模式的な回路図が示されている
。なお、図1の基本画素と対応する部分には図1と同一
符号を付し、詳細な説明は省略する。
晶表示装置の基本画素の模式的な回路図が示されている
。なお、図1の基本画素と対応する部分には図1と同一
符号を付し、詳細な説明は省略する。
【0051】この実施例の液晶表示装置が第1の実施例
のそれと異なる点は、可変抵抗体9aにFETを用いた
ことにある。FETのゲ−ト,ソ−ス,ドレインはそれ
ぞれは補助容量7,TFT3aのドレイン,ゲ−トに接
続されている。このように構成された基本画素1からな
るLCDでは、以下のような手順で不良なTFTを特定
できる。
のそれと異なる点は、可変抵抗体9aにFETを用いた
ことにある。FETのゲ−ト,ソ−ス,ドレインはそれ
ぞれは補助容量7,TFT3aのドレイン,ゲ−トに接
続されている。このように構成された基本画素1からな
るLCDでは、以下のような手順で不良なTFTを特定
できる。
【0052】最初、TFTを駆動すると共に、グランド
線GNDn の電位を高電位にしてFETのソ−ス・ド
レイン間の抵抗を十分小さくする。この状態でLCDの
表示状態を調べて不良なTFTを有する基本画素を見つ
ける。
線GNDn の電位を高電位にしてFETのソ−ス・ド
レイン間の抵抗を十分小さくする。この状態でLCDの
表示状態を調べて不良なTFTを有する基本画素を見つ
ける。
【0053】次にグランド線GNDGn の電位を低電
位にしてTFT3bのみで基本画素5の電位を制御する
。 このとき、第1の実施例と同じ理由で、不良なTFTを
有する基本画素の表示が良くなれば、FETに接続され
たTFTが不良だと特定でき、表示状態が変わらなけれ
ばFETに接続されていない方のTFTが不良だと特定
できる。不良なTFTが特定されたら、第1の実施例と
同様にして不良なTFTを画素電極又は信号線から切り
離してLCDを修復する。
位にしてTFT3bのみで基本画素5の電位を制御する
。 このとき、第1の実施例と同じ理由で、不良なTFTを
有する基本画素の表示が良くなれば、FETに接続され
たTFTが不良だと特定でき、表示状態が変わらなけれ
ばFETに接続されていない方のTFTが不良だと特定
できる。不良なTFTが特定されたら、第1の実施例と
同様にして不良なTFTを画素電極又は信号線から切り
離してLCDを修復する。
【0054】このように構成された基本画素を用いたL
CDでは、バックライト光を用いなくても可変抵抗体9
の抵抗を変えることができるので反射型の液晶表示装置
にも適用できるという利点がある。
CDでは、バックライト光を用いなくても可変抵抗体9
の抵抗を変えることができるので反射型の液晶表示装置
にも適用できるという利点がある。
【0055】なお、上記実施例では、不良なTFTを見
つけるために正規の信号を用いたが、例えば、可変抵抗
体9の抵抗を小さくできないとき、つまり、可変抵抗体
9が低抵抗の状態でもTFT3aの出力レベルが所定の
値まで上がらないときには、正規のパルス信号よりパル
ス幅が広いパルス信号を走査線Gに与えてTFT3aの
駆動力を高めても良い。
つけるために正規の信号を用いたが、例えば、可変抵抗
体9の抵抗を小さくできないとき、つまり、可変抵抗体
9が低抵抗の状態でもTFT3aの出力レベルが所定の
値まで上がらないときには、正規のパルス信号よりパル
ス幅が広いパルス信号を走査線Gに与えてTFT3aの
駆動力を高めても良い。
【0056】また、第1〜第5の実施例のように2つの
TFT3a,3bを用いた基本画素1では、これらTF
T3a,3bがともに正常なときは、TFT3aの能力
を完全には利用できないが,TFT3bが1つのみより
オン電流が大きくなるのでTFTが1つしかない基本画
素に比べて小さいTFTを用いることができる。
TFT3a,3bを用いた基本画素1では、これらTF
T3a,3bがともに正常なときは、TFT3aの能力
を完全には利用できないが,TFT3bが1つのみより
オン電流が大きくなるのでTFTが1つしかない基本画
素に比べて小さいTFTを用いることができる。
【0057】即ち、TFTが1つの基本画素のTFTの
駆動力,大きさをともに1とすると、TFT3a,3b
の駆動力,大きさをそれぞれ0.7,0.4とすること
でTFT全体の駆動力,大きさをそれぞれ1.4,0.
8とすることができる。なお、本発明は上述した実施例
に限定されるものではない。
駆動力,大きさをともに1とすると、TFT3a,3b
の駆動力,大きさをそれぞれ0.7,0.4とすること
でTFT全体の駆動力,大きさをそれぞれ1.4,0.
8とすることができる。なお、本発明は上述した実施例
に限定されるものではない。
【0058】例えば、上記実施例では透光性基板11の
裏面から光を照射したが、透光性基板41の表面から光
を照射してもTFTの検査を行なうことができる。また
、可変抵抗体9に光を照射する代わりに温度を変えるこ
とで抵抗を制御しても良い。更に、光と電圧とを利用し
て可変抵抗体の抵抗を制御するなど、複数の制御方法を
組合わせて抵抗を制御してもよい。更にまた、可変抵抗
体9としてアモルファスシリコンを用いる代わりに多結
晶シリコンを用いても良い。
裏面から光を照射したが、透光性基板41の表面から光
を照射してもTFTの検査を行なうことができる。また
、可変抵抗体9に光を照射する代わりに温度を変えるこ
とで抵抗を制御しても良い。更に、光と電圧とを利用し
て可変抵抗体の抵抗を制御するなど、複数の制御方法を
組合わせて抵抗を制御してもよい。更にまた、可変抵抗
体9としてアモルファスシリコンを用いる代わりに多結
晶シリコンを用いても良い。
【0059】また、上記実施例では1つのTFTにしか
可変抵抗体9を設けなかったが、複数のTFTに設けて
も良い。この場合、抵抗値の変化が各TFTで異なるよ
うにし、どのTFTが不良なのか特定し易いようにする
ことが望ましい。これは可変抵抗体9の幅や長さを調整
することで実現できる。
可変抵抗体9を設けなかったが、複数のTFTに設けて
も良い。この場合、抵抗値の変化が各TFTで異なるよ
うにし、どのTFTが不良なのか特定し易いようにする
ことが望ましい。これは可変抵抗体9の幅や長さを調整
することで実現できる。
【0060】更に、上記実施例では、LCDを作成した
後に、TFTの検査を行なったが、マトリクスアレイ基
板の状態で行なっても良い。例えば、信号線から電荷を
書き込み、一定時間後にその電荷をTFTを介して読み
だし、正規の電荷が保持されているか否かを調べれば不
良なTFTを見つけることができる。更にまた、上記実
施では、TFTの検査について説明したが、同じ方法を
用いて補助容量7の検査もできる。そしてまた、本発明
は、TFT以外のスイッチング素子を用いた液晶表示装
置にも適用できる。その他、本発明の要旨を逸脱しない
範囲で、種々変形して実施できる。
後に、TFTの検査を行なったが、マトリクスアレイ基
板の状態で行なっても良い。例えば、信号線から電荷を
書き込み、一定時間後にその電荷をTFTを介して読み
だし、正規の電荷が保持されているか否かを調べれば不
良なTFTを見つけることができる。更にまた、上記実
施では、TFTの検査について説明したが、同じ方法を
用いて補助容量7の検査もできる。そしてまた、本発明
は、TFT以外のスイッチング素子を用いた液晶表示装
置にも適用できる。その他、本発明の要旨を逸脱しない
範囲で、種々変形して実施できる。
【0061】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、不
良なTFTを容易に見つけることができるので点欠陥が
少ない液晶表示装置を得ることができる。
良なTFTを容易に見つけることができるので点欠陥が
少ない液晶表示装置を得ることができる。
【図1】本発明の第1の実施例に係る液晶表示装置の単
位画素の模式的な回路図。
位画素の模式的な回路図。
【図2】図1の単位画素を用いたLCDの平面図。
【図3】図2のLCDのA−A´断面図。
【図4】本発明の第2の実施例に係る液晶表示装置の基
本画素の模式的な回路図。
本画素の模式的な回路図。
【図5】本発明の第3の実施例に係る液晶表示装置の基
本画素の模式的な回路図。
本画素の模式的な回路図。
【図6】本発明の第4の実施例に係る液晶表示装置の基
本画素の模式的な回路図。
本画素の模式的な回路図。
【図7】図6の単位画素を用いたLCDの平面図。
【図8】図7のLCDのB−B´断面図。
【図9】図7のLCDのC−C´断面図。
【図10】本発明の第5の実施例に係る液晶表示装置の
基本画素の模式的な回路図。
基本画素の模式的な回路図。
【図11】本発明の第6の実施例に係る液晶表示装置の
基本画素の模式的な回路図。
基本画素の模式的な回路図。
【図12】従来のTFT−LCDの模式的な回路図
【図
13】従来の複数TFT方式のTFT−LCDの模式的
な回路図
13】従来の複数TFT方式のTFT−LCDの模式的
な回路図
1…単位画素、3a,3b,3c…TFT、5…画素電
極、7…補助容量、9,9a…可変抵抗体、11…透光
性絶縁基板、13…接続電極、15…ゲ−ト絶縁膜、1
7…活性層、19…保護膜、21…コンタクト層、23
,25,27…接続電極、29,31…保護膜、33…
液晶、35…対向電極、37…カラ−フィルタ、39…
ブラックマトリクス、41…透光性絶縁基板、43,4
5…偏向板、49a〜49b…交差部、51…バックラ
イト、53…電極構造体、55…下部電極、57…上部
電極。
極、7…補助容量、9,9a…可変抵抗体、11…透光
性絶縁基板、13…接続電極、15…ゲ−ト絶縁膜、1
7…活性層、19…保護膜、21…コンタクト層、23
,25,27…接続電極、29,31…保護膜、33…
液晶、35…対向電極、37…カラ−フィルタ、39…
ブラックマトリクス、41…透光性絶縁基板、43,4
5…偏向板、49a〜49b…交差部、51…バックラ
イト、53…電極構造体、55…下部電極、57…上部
電極。
Claims (1)
- 【請求項1】液晶の配向を入力信号により制御する画素
電極と、一方のソ−ス・ドレインが前記画素電極に接続
され、他方のソ−ス・ドレインが信号線に接続され、ゲ
−トが走査線に接続された複数の電界効果トランジスタ
とを有する画素がマトリクス配列されてなる液晶表示装
置において、前記複数のトランジスタのいずれかを介し
て前記信号線と前記画素電極との間に可変抵抗体が挿設
されていることを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11891091A JP3029319B2 (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11891091A JP3029319B2 (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04346318A true JPH04346318A (ja) | 1992-12-02 |
| JP3029319B2 JP3029319B2 (ja) | 2000-04-04 |
Family
ID=14748200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11891091A Expired - Fee Related JP3029319B2 (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3029319B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004070685A1 (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-19 | Agilent Technologies,Inc. | アクティブマトリクスディスプレイ回路基板、それを含むディスプレイパネル、その検査方法、及びそのための検査装置 |
| JP2006084672A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Future Vision:Kk | 表示装置用基板およびこの表示装置用基板を用いた画像表示装置 |
| JP2007292879A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2011176008A (ja) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Sony Corp | 薄膜トランジスタ構造体およびその製造方法、ならびに電子機器 |
| US20160349569A1 (en) * | 2015-06-01 | 2016-12-01 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
-
1991
- 1991-05-23 JP JP11891091A patent/JP3029319B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004070685A1 (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-19 | Agilent Technologies,Inc. | アクティブマトリクスディスプレイ回路基板、それを含むディスプレイパネル、その検査方法、及びそのための検査装置 |
| JP2006084672A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Future Vision:Kk | 表示装置用基板およびこの表示装置用基板を用いた画像表示装置 |
| JP2007292879A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
| US8289464B2 (en) | 2006-04-21 | 2012-10-16 | Hitachi Displays, Ltd. | LCD device with pixels including first and second transistors of different sizes and connections |
| JP2011176008A (ja) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Sony Corp | 薄膜トランジスタ構造体およびその製造方法、ならびに電子機器 |
| US20160349569A1 (en) * | 2015-06-01 | 2016-12-01 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
| US9958737B2 (en) * | 2015-06-01 | 2018-05-01 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3029319B2 (ja) | 2000-04-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |