JPH0434712A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

薄膜磁気ヘッド

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JPH0434712A
JPH0434712A JP14071990A JP14071990A JPH0434712A JP H0434712 A JPH0434712 A JP H0434712A JP 14071990 A JP14071990 A JP 14071990A JP 14071990 A JP14071990 A JP 14071990A JP H0434712 A JPH0434712 A JP H0434712A
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JP
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magnetic
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permeability
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thin film
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Tetsuya Iwata
哲也 岩田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、薄膜形成技術の応用により製造されるWI膜
磁気ヘッドに関するものである。
「従来の技術」 この種の薄膜磁気ヘッドの一従来例を第5図に示す。こ
の薄膜磁気ヘッドは、底面1a(第5図においては上面
として示されている)を磁気ディスク等の媒体に向けて
配されるスライダlの前面部に、フォトリングラフィ技
術により薄膜磁気ヘッド素子2を設けてなるものである
その薄膜磁気ヘッド素子2は、第6図にその要部の詳細
断面を示すように、上記スライダlの筋面1bを基板と
してその表面に、絶縁層3、下部磁性層(下部コア)4
、ギャップ層5、絶縁層6で被包されたコイル導体7、
上部磁性層(上部コア)8、保護層(オーバーコート層
)9を順次積層してなるものであって、各磁性層4,8
の先端部をギャップ層5を介して重ね合わせることでそ
れら磁性層4,8の先端部を対の磁極(ボール)10.
11となしたものである。
この場合、下部磁性層4および上部磁性層8はたとえば
パーマロイ等の強磁性材料により形成され、絶縁層3お
よび保護層9はいずれもたとえばA I20、.5i0
2等の酸化物からなる非磁性材料により形成されている
「発明が解決しようとする課題」 ところで、上記従来の薄膜磁気ヘッドは、その磁気的な
特性に起因して次のような問題点を有している。
すなわち、この薄膜磁気ヘッドは、第7図および第8図
に模式的に示すように、各磁性層4.8の透磁率μmが
十分に大きく、他の部分の透磁率μ2は小さくされ(通
常、CGS単位系においてはμ2=1とされる)、した
がって、透磁率μの分布は、磁極端12.13(磁性層
4.8の先端における絶縁層3および保護層9との境界
)において急激にかつ大きく変化するものとなっている
。そしト て、そのために、この薄膜磁気ヘッドにおける記録磁場
の分布は、第9図に示すように磁極端12゜13の位置
において大きなデイツプが生じるものとなり、しかも、
それら磁極端12.13はギャップと平行となっている
ので、磁極端12.13が疑似ギャップとなってしまっ
ていわゆるコンタ−効果が顕著に生じ、その結果、第1
0図に示すように周波数特性の波打ち現象が生じてしま
うものであった。そして、そのために、隣接波形に対し
て悪影響が及んで誤り率が増大し、高記録密度化を図る
上での障害となっていた。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、より一層
の高記録密度化を図ることのできる薄膜磁気ヘッドを提
供することを目的としている。
「課題を解決するだめの手段」 本発明は、基板の表面に、絶縁層、下部磁性層、ギャッ
プ層、上部磁性層、保護層が順次積層されて形成されて
なる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記絶縁層および保護層
を、それぞれ磁性材料、もしくは磁性材料を添加した非
磁性材料により形成してなることを特徴としている。
「作用」 本発明の薄膜磁気ヘッドでは、下部磁性層、上部磁性層
にそれぞれ隣接している絶縁層および保護層が、それぞ
れ磁性材料、もしくは磁性材料が添加された非磁性材料
により形成されていることにより、それらの透磁率の値
は、非磁性材料により形成されている従来の場合に比し
て大きなものとなっている。これによって、磁極端にお
ける透磁率の差が従来のものに比して低減し、その結果
、磁極端における磁場のデイツプが解消してコンタ−効
果が抑制され、周波数特性の波打ち現象が解消する。
「実施例」 以下、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一実施例を第1図
〜第4図を参照して説明する。
本実施例の薄膜磁気ヘッドは、第5図および第6図に示
した従来のものと同様の構造とされたものであるが、本
実施例においては、絶縁層3および保護層9が、いずれ
も弱磁性材料(たとえばNi−Znフェライト)、もし
くは磁性材料が添加された非磁性材料(たとえばA 1
.03にN1、Co、Fe等を添加したもの)により形
成されたものとなっている。それら絶縁層3および保護
層9を形成するには、上記のような材料をターゲットと
してそれを基板lの表面および上部磁性層8の表面に直
接的にスパッタすれば良い。
上記の薄膜磁気ヘッドでは、絶縁層3および保護層9を
上記のような材料により形成したことによって、それら
絶縁層3および保護層9の透磁率μ3の値は第2図に示
すように非磁性材料により形成する場合に比して大きな
ものとなり、その結果、絶縁層3と下部磁性層4の境界
面における透磁率の差、上部磁性層8と保護層9の境界
面における透磁率の差は従来のものに比して自ずと小さ
くなる。これによって、従来においては生じていた記録
磁場のデイツプが第3区に示すよ)に生じることがなく
、したがって、従来においては顕著に生じていたコンタ
−効果が抑制され、その結果、第4図に示すように周波
数特性の波打ちが解消されて優れた周波数特性が得られ
る。そして、そのために、隣接波形に対する悪影響が一
解消されて、より一層の高記録密度化を図ることができ
るものとなっている。
「発明の効果」 以上で詳細に説明したように、本発明の薄膜磁気ヘッド
は、絶縁層および保護層を、それぞれ磁性材料、もしく
は磁性材料を添加した非磁性材料により形成してなるも
のであるから、絶縁層と下部磁性層との透磁率の差、保
護層と上部絶縁層との透磁率の差が小さくなり、このた
め、記録磁場にデイツプが生じることがなくなってコン
タ−効果が抑制され、その結果、優れた周波数特性を得
ることができ、ひいてはより一層の高記録密度化を図る
ことができる、という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一実施
例を説明するだめの図であって、第1図はこの薄膜磁気
ヘッドの要部を模式的に示した図、第2図はその透磁率
の分布を示す図、第3図は記録磁場の分布を示す図、第
4図は周波数特性を示す図である。 第5図〜第10図は薄膜磁気ヘッドの一従来例を示すも
ので、第5図は全体概略構成を示す斜視図、第6図は薄
膜磁気ヘッド素子の要部拡大断面図、第7図は要部を模
式的に示した図、第8図は透磁率の分布を示す図、第9
図は記録磁場の分布を示す図、第10図は周波数特性を
示す図である。 5・・・・・・ギャップ層、8・・・・・・上部磁性層
、9・・・・・・保 護層、lo、11・・・・・・磁極、 2.13・・・・・・磁極端、 μ(μm、μ2.μ、)・・・・・・透磁率。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板の表面に、絶縁層、下部磁性層、ギャップ層、上部
    磁性層、保護層が順次積層されて形成されてなる薄膜磁
    気ヘッドにおいて、前記絶縁層および保護層を、それぞ
    れ磁性材料、もしくは磁性材料を添加した非磁性材料に
    より形成してなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
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