JPH0434712A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0434712A JPH0434712A JP14071990A JP14071990A JPH0434712A JP H0434712 A JPH0434712 A JP H0434712A JP 14071990 A JP14071990 A JP 14071990A JP 14071990 A JP14071990 A JP 14071990A JP H0434712 A JPH0434712 A JP H0434712A
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- Japan
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- magnetic
- layer
- permeability
- magnetic head
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
磁気ヘッドに関するものである。
の薄膜磁気ヘッドは、底面1a(第5図においては上面
として示されている)を磁気ディスク等の媒体に向けて
配されるスライダlの前面部に、フォトリングラフィ技
術により薄膜磁気ヘッド素子2を設けてなるものである
。
断面を示すように、上記スライダlの筋面1bを基板と
してその表面に、絶縁層3、下部磁性層(下部コア)4
、ギャップ層5、絶縁層6で被包されたコイル導体7、
上部磁性層(上部コア)8、保護層(オーバーコート層
)9を順次積層してなるものであって、各磁性層4,8
の先端部をギャップ層5を介して重ね合わせることでそ
れら磁性層4,8の先端部を対の磁極(ボール)10.
11となしたものである。
パーマロイ等の強磁性材料により形成され、絶縁層3お
よび保護層9はいずれもたとえばA I20、.5i0
2等の酸化物からなる非磁性材料により形成されている
。
特性に起因して次のような問題点を有している。
に模式的に示すように、各磁性層4.8の透磁率μmが
十分に大きく、他の部分の透磁率μ2は小さくされ(通
常、CGS単位系においてはμ2=1とされる)、した
がって、透磁率μの分布は、磁極端12.13(磁性層
4.8の先端における絶縁層3および保護層9との境界
)において急激にかつ大きく変化するものとなっている
。そしト て、そのために、この薄膜磁気ヘッドにおける記録磁場
の分布は、第9図に示すように磁極端12゜13の位置
において大きなデイツプが生じるものとなり、しかも、
それら磁極端12.13はギャップと平行となっている
ので、磁極端12.13が疑似ギャップとなってしまっ
ていわゆるコンタ−効果が顕著に生じ、その結果、第1
0図に示すように周波数特性の波打ち現象が生じてしま
うものであった。そして、そのために、隣接波形に対し
て悪影響が及んで誤り率が増大し、高記録密度化を図る
上での障害となっていた。
の高記録密度化を図ることのできる薄膜磁気ヘッドを提
供することを目的としている。
プ層、上部磁性層、保護層が順次積層されて形成されて
なる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記絶縁層および保護層
を、それぞれ磁性材料、もしくは磁性材料を添加した非
磁性材料により形成してなることを特徴としている。
にそれぞれ隣接している絶縁層および保護層が、それぞ
れ磁性材料、もしくは磁性材料が添加された非磁性材料
により形成されていることにより、それらの透磁率の値
は、非磁性材料により形成されている従来の場合に比し
て大きなものとなっている。これによって、磁極端にお
ける透磁率の差が従来のものに比して低減し、その結果
、磁極端における磁場のデイツプが解消してコンタ−効
果が抑制され、周波数特性の波打ち現象が解消する。
〜第4図を参照して説明する。
した従来のものと同様の構造とされたものであるが、本
実施例においては、絶縁層3および保護層9が、いずれ
も弱磁性材料(たとえばNi−Znフェライト)、もし
くは磁性材料が添加された非磁性材料(たとえばA 1
.03にN1、Co、Fe等を添加したもの)により形
成されたものとなっている。それら絶縁層3および保護
層9を形成するには、上記のような材料をターゲットと
してそれを基板lの表面および上部磁性層8の表面に直
接的にスパッタすれば良い。
上記のような材料により形成したことによって、それら
絶縁層3および保護層9の透磁率μ3の値は第2図に示
すように非磁性材料により形成する場合に比して大きな
ものとなり、その結果、絶縁層3と下部磁性層4の境界
面における透磁率の差、上部磁性層8と保護層9の境界
面における透磁率の差は従来のものに比して自ずと小さ
くなる。これによって、従来においては生じていた記録
磁場のデイツプが第3区に示すよ)に生じることがなく
、したがって、従来においては顕著に生じていたコンタ
−効果が抑制され、その結果、第4図に示すように周波
数特性の波打ちが解消されて優れた周波数特性が得られ
る。そして、そのために、隣接波形に対する悪影響が一
解消されて、より一層の高記録密度化を図ることができ
るものとなっている。
は、絶縁層および保護層を、それぞれ磁性材料、もしく
は磁性材料を添加した非磁性材料により形成してなるも
のであるから、絶縁層と下部磁性層との透磁率の差、保
護層と上部絶縁層との透磁率の差が小さくなり、このた
め、記録磁場にデイツプが生じることがなくなってコン
タ−効果が抑制され、その結果、優れた周波数特性を得
ることができ、ひいてはより一層の高記録密度化を図る
ことができる、という効果を奏する。
例を説明するだめの図であって、第1図はこの薄膜磁気
ヘッドの要部を模式的に示した図、第2図はその透磁率
の分布を示す図、第3図は記録磁場の分布を示す図、第
4図は周波数特性を示す図である。 第5図〜第10図は薄膜磁気ヘッドの一従来例を示すも
ので、第5図は全体概略構成を示す斜視図、第6図は薄
膜磁気ヘッド素子の要部拡大断面図、第7図は要部を模
式的に示した図、第8図は透磁率の分布を示す図、第9
図は記録磁場の分布を示す図、第10図は周波数特性を
示す図である。 5・・・・・・ギャップ層、8・・・・・・上部磁性層
、9・・・・・・保 護層、lo、11・・・・・・磁極、 2.13・・・・・・磁極端、 μ(μm、μ2.μ、)・・・・・・透磁率。
Claims (1)
- 基板の表面に、絶縁層、下部磁性層、ギャップ層、上部
磁性層、保護層が順次積層されて形成されてなる薄膜磁
気ヘッドにおいて、前記絶縁層および保護層を、それぞ
れ磁性材料、もしくは磁性材料を添加した非磁性材料に
より形成してなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14071990A JP2731449B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | 薄膜磁気ヘッド |
| US07/707,730 US5146379A (en) | 1990-05-30 | 1991-05-30 | Thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14071990A JP2731449B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0434712A true JPH0434712A (ja) | 1992-02-05 |
| JP2731449B2 JP2731449B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=15275119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14071990A Expired - Fee Related JP2731449B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2731449B2 (ja) |
-
1990
- 1990-05-30 JP JP14071990A patent/JP2731449B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2731449B2 (ja) | 1998-03-25 |
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Legal Events
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