JPH043475A - 電子部品 - Google Patents

電子部品

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JPH043475A
JPH043475A JP2103030A JP10303090A JPH043475A JP H043475 A JPH043475 A JP H043475A JP 2103030 A JP2103030 A JP 2103030A JP 10303090 A JP10303090 A JP 10303090A JP H043475 A JPH043475 A JP H043475A
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横谷 洋一郎
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電子冷却、加熱素子や熱電発電素子などの電
子部品に関し、特に、熱伝導性の低い熱電物質および素
子で構成された電子部品に関するものである。
(従来の技術) 近年、地球環境問題からのフロン使用規制や、電子機器
等の局所冷却、除湿などの小形冷却装置などに対する要
求、小規模廃熱の利用の要求力1ら、ペルチェ効果、ゼ
ーベック効果を利用した電子冷却、加熱素子や、熱電発
電素子等の電子部品番こ対する要求は大きい。
このうち、室温付近で用いる電子冷却用の素子としては
、B1−Te系の単結晶もしくは、多結晶凝固体を半導
体物質として使用し、p形、n形物質を交互に金属銅板
などで接合し各物質の量器ま空隙とする構成を取ってい
た。また熱電発電用素子としてはFe、Siなどの多結
晶焼結体が用0られておりp形とn形物質を高温で直接
接合した構成を取っていた。
(発明が解決しようとする課題) 電子冷却用の素子では、素子の消費電力あたりの冷却側
吸収熱量は、半導体物質の性能指数2で規定されること
が知られており、このZは半導体物質のゼーベック係数
S、電気伝導度σと熱伝導度kを用いて、z == s
 2 xσ/にで表現される。
このことから、半導体物質は、高いゼーベック係数をも
ちなから、高い電気伝導度と低い熱伝導度をもつことが
要求される。さらに、−旦冷却温度に到達後装置を間欠
運転する運転方法では、素子は、電圧印加時以外はでき
るだけ断熱性のよいことが必要であるため、性能指数が
同じでも熱伝導度が小さいことを求められる。
熱電発電用の素子では、高温側と低温側の温度差を維持
するため、素子の熱伝導度は小さいほうが好ましい。
これに対し、B1Te系の単結晶では、さらに、sbや
Seなどを固溶させて熱伝導の格子振動寄与を低下させ
る手法や、材料を溶融状態から単結晶成長させないで粒
径を制御した多結晶凝固体として熱伝導度を低下する手
法などが知られている。
本発明は上記の諸要求を解決するもので、半導体物質あ
るいは素子構成として、熱伝導度の小さい電子冷却、加
熱用、熱電発電用電子部品を提供するものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は、半導体物質を多孔体とするものである。また
は、半導体物質の間を絶縁性の無機物多孔体又は粉末で
充填するか、もしくは内部を真空状態に脱気するか、あ
るいはいずれかの手段を複合するものである。
(作 用) 半導体物質中に気孔が存在しても、物質中の歪、粒界等
によるキャリアの易動度減少の寄与は小さく、また、気
孔は絶縁性なので、ゼーベック係数はほとんど気孔の無
いものと変わらない。一方、電気伝導度と熱伝導度は、
気孔率の増加とともに低下するが、その比は気孔率の広
い範囲までほぼ気孔率の無いものと変わらないため、半
導体物質の性能指数はそのままで、熱伝導度を低下させ
ることができる。
p形、n形半導体物質の間隙を絶縁性無機多孔質もしく
は粉末で充填したり、さらにその部分を真空に脱気すれ
ば、間隙部で生ずる温度差による空気対流が防がれるた
め、素子構成体としての熱伝導度を小さくすることがで
きる。
(実施例) 本発明の実施例5例についてそれぞれ、第1図ないし第
5図により説明する。
まず、第1の実施例について説明する。
半導体物質としてB1−Te系について検討したもので
、n形物質として(Bi、5b)2Te3を、n形物質
としてB12(’re、 5e)aをそれぞれ選択した
試料を作った。まず、各物質の多結晶凝固体の原料を粗
砕した後、ボールミル中で溶媒としエタノールを、粉砕
媒体として2mnφのジルコニアボールをそれぞれ用い
て粉砕する。乾燥した粉末を白金チューブにいれ脱気後
封止し、温度500℃圧力10kg/cdから1000
kg/cdでHIP処理を施した。
作成した試料は、白金チューブより取り出し3m X 
3 mm X 20mmに切断し、常温で嵩密度を測定
し気孔率を決定した。さらに、室温で約5℃の温度差を
素子両端につけ、起電力と両端の温度を測定しゼーベッ
ク係数を求めた。さらに、素子全体を室温で保持し4端
子法により抵抗値を測定し電気伝導率を求めた。また、
素子を室温真空中で0.07Iφの導線で両端を吊リバ
ーマー法で素子性能指数2を求め、電気伝導度、ゼーベ
ック係数より熱伝導度を求めた。
第1表にp形材料、第2表にn形材料の試料の気孔率と
電気伝導度、熱伝導度、ゼーベック係数、性能指数をそ
れぞれ示す。
次に、上記の試料を用いて、第1図に示す冷却パネルを
試作した。冷却パネルは、上記のp形およびn形材料を
用い、1.5m立方に切断して作成したp形およびn形
冷却素子1および2を2.0m間隙で縦横15個ずつ計
225個をpn交互に配列し、電気的に直列に各素子1
および2をNi板3で結び、上下面に厚み1m、55!
l1lX55園のアルミナ板4を付けた。
上記の冷却パネルの上下両面間の熱伝導を測定し、パネ
ルの単位面積当りの熱伝導度を求めた。
素子気孔率と熱伝導率の関係を第3表に示す。
傘部は請求の範囲外の比較例 第 、 特許請求の範囲外の比較例 嗜印は本発明の範囲外の比較例で 半導体は多結晶凝固体を用いた。
第1表、第2表および第3表より明らかなように、半導
体物質中に気孔の存在するものは、物質としての熱伝導
度が低下し、またこれを用いて作製した冷却素子1およ
び2自体の熱伝導度も低下する。
特に気孔率が5.0%以上の範囲にあるものは、熱伝導
度が大きく低下する割に性能指数の低下が少ない。
次に、第2の実施例について説明する。
第2図は本実施例を示す冷却パネルの側面断面図で、第
1図に示した第1の実施例と異なる点は、P形およびn
形半導体物質として、第1表および第2表の比較例とし
て掲載した気孔を含まない多結晶凝固体および気孔率3
0%の試料を用いたp形およびn形冷却素子1および2
を使用した点と、両者の間隙に嵩比重0.04g/a+
?のガラス繊維断熱材又は平均粒径15μ■のパーライ
ト粉末5を充填し周辺を無機接着材6で固めた点である
。その他は第1の実施例と変わりがないので、同一構成
部品には同一符号を付して、その説明を省略する。
第4表にパネルの単位面積当りの熱伝導率(W/a+f
−deg)を示す。
第4表 第4表から明らかなように、P形およびn形冷却素子1
および2の間隙部をガラス繊維又はパーライト粉末で充
填された冷却パネルは、間隙部の空気の対流による熱伝
導が抑えられるため、パネルの熱伝導率が低下する。ま
た、半導体中に気孔を含む冷却素子1および2を用いた
パネルは、さらに熱伝導率が低下する。
次に、第3実施例について説明する。
第3図は本実施例を示す冷却パネルの側面断面図で5本
実施例が第2図に示した第2の実施例と異なる点は、ガ
ラス繊維又はパーライト粉末5による間隙充填に替って
、真空中で冷却パネル全体を加熱し、パネル外周部に低
融点ガラス封止部7を形成したのち冷却してP形および
n形冷却素子1および2の間隙を0.001mHg程度
の真空状態とした点である。
その他は第2の実施例と変わりがないので、同じ構成部
品には、同一符号を付してその説明を省略する。
第5表にパネルの単位面積あたりの熱伝導率(w/cn
−deg)を示す。
第5表 第5表より明らかなように、p形およびn形冷却素子1
および2の間隙部を真空状態にしたものは、間隙部の空
気の対流による熱伝導が抑えられるため、パネルの熱伝
導率が低下する。また、冷却パネルとして使用する際に
、冷却素子結合部に結露を生じないため、結合部の腐食
劣化を防止することができる。
次に、第4.第5の実施例について説明する・第4図お
よび第5図は、共に本実施例の冷却ノ(ネルを示す側面
断面図で、第2図に示した第2の実施例と異なる点は、
第4図では、パネル全体を真空中で加熱してパネル外周
部の低融点ガラス封止部7を形成したのち、冷却して冷
却素子1および2の間隙を0.01mmHg程度の真空
状態とした点と、第5図では、周辺部を樹脂約1mmモ
ールドした樹脂封止部8を形成したのち、樹脂封止部8
の一端より内部をlmmHg程度の真空状態に脱気した
点である。
その他は第2の実施例と変わりがないので、同し構成部
品には同一符号を付してその説明を省略する。
第6表にパネルの単位面積あたりの熱伝導率(W/ff
l−deg)を示す。
第 表 第 表 つづき 第6表から明らかなように、p形およびn形冷却素子1
および2の間隙部を絶縁性のガラス繊維又はパーライト
・粉末で充填しさらに真空状態にした冷却パネルは、間
隙部の空気の対流による熱伝導が抑えられるため、パネ
ルの熱伝導率を低下する。また、冷却パネルとして使用
する際に、冷却素子1および2の接合部に結露を生じな
いため、接合部の腐食劣化を防止することができる。特
に。
試料番号63で示すように、間隙を絶縁性のガラス繊維
又はパーライト粉末で充填し、さらに真空状態にした構
成をとった場合、粉末真空断熱材の寄与で1+wn[(
g程度の低い真空度で高い熱伝導率の低下が達成でき、
構成、製造プロセスも容易であり、かつ結露防止効果も
充分である。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば、電子冷却・加熱
素子や、熱電発電用素子などの電子部品に使用すれば性
能指数を低下させることなく低い熱伝導性が得られ、電
圧を印加しない運転時の熱伝導によるロスを防ぐことが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例の電子冷却パネルの斜視
図、第2図、第3図、第4図および第5図は本発明によ
る第2.第3.第4および第5の実施例を示す電子冷却
パネルの側面断面図である。 第1図 1・・・p最冷却素子、 2・”n形冷却素子・3・・
・Ni板、 4・・・アルミナ板、  5・・ガラス繊
維又はパーライト粉末、  7・・・低融点ガラス封止
部、  8・・・樹脂封止部。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第2区 代 理 人 星 野 恒 司 パーライト粉本 第3図 第5区 第4図 8子會丁851寸止号習 手続補正書(自制 平成3年5月20日

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)p形とn形の半導体素子を電気的に直列に接合し
    、直流電流を流した時の接合界面における発熱吸熱現象
    を利用した電子冷却・加熱用電子部品や、接合界面の温
    度差による起電力を利用した熱電発電用電子部品におい
    て、半導体素子が多孔体であることを特徴とする電子部
    品。
  2. (2)半導体素子の気孔率が5.0%以上であることを
    特徴とする請求項(1)記載の電子部品。
  3. (3)複数のp形とn形の半導体素子を面状に配置し電
    気的に直列に接合し、直流電流を流した時の接合界面に
    おける発熱吸熱現象を利用した電子冷却・加熱用電子部
    品において、半導体素子の間隙を絶縁性の無機物多孔体
    もしくは粉末で充填したことを特徴とする電子部品。
  4. (4)半導体素子が多孔体であることを特徴とする請求
    項(3)記載の電子部品。
  5. (5)p形とn形の半導体物質を面状に配置し電気的に
    直列に接合した構成をとり、直流電流を流した時の接合
    界面における発熱吸熱現象を利用した電子冷却・加熱用
    電子部品において、半導体素子の間隙を真空状態にした
    ことを特徴とする電子部品。
  6. (6)半導体素子の間隙部をさらに1mmHg以下の真
    空状態に脱気したことを特徴とする請求項(5)記載の
    電子部品。
  7. (7)半導体素子の間隙部をさらに1mmHg以下の真
    空状態に脱気したことを特徴とする請求項(5)記載の
    電子部品。
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US07/688,424 US5168339A (en) 1990-04-20 1991-04-22 Thermoelectric semiconductor having a porous structure deaerated in a vacuum and thermoelectric panel using p-type and n-type thermoelectric semiconductors
US08/330,565 USRE35441E (en) 1990-04-20 1994-10-28 Thermoelectric semiconductor having a porous structure deaerated in a vacuum and thermoelectric panel using p-type and n-type thermoelectric semiconductors

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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5777427A (en) * 1994-10-05 1998-07-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electron emission cathode having a semiconductor film; a device including the cathode; and a method for making the cathode
WO2000073712A3 (de) * 1999-06-01 2001-08-23 Vtv Verfahrenstech Verwaltung Verfahren und vorrichtung zur gestaltung von thermoschenkeln mit schaumstrukturanteilen
JP2003046147A (ja) * 2001-08-02 2003-02-14 Matsushita Refrig Co Ltd 熱電素子モジュール及びその製造方法
JP2004172481A (ja) * 2002-11-21 2004-06-17 Toshiba Corp 熱電変換ユニット
JP2010278460A (ja) * 2010-07-26 2010-12-09 Toshiba Corp 熱電変換ユニット
WO2013093967A1 (ja) * 2011-12-21 2013-06-27 株式会社日立製作所 熱電変換素子とそれを用いた熱電変換モジュール
JP2013545294A (ja) * 2010-10-22 2013-12-19 エミテック ゲゼルシヤフト フユア エミツシオンステクノロギー ミツト ベシユレンクテル ハフツング 熱電モジュールに使用する熱電材料製の半導体素子
JPWO2013093967A1 (ja) * 2011-12-21 2015-04-27 株式会社日立製作所 熱電変換素子とそれを用いた熱電変換モジュール
JP2015518650A (ja) * 2012-03-29 2015-07-02 エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG 熱電素子の粉末冶金製造
JPWO2017056549A1 (ja) * 2015-09-28 2018-03-15 京セラ株式会社 熱電モジュール
US11056633B2 (en) 2016-01-21 2021-07-06 Evonik Operations Gmbh Rational method for the powder metallurgical production of thermoelectric components
JP2022142024A (ja) * 2021-03-16 2022-09-30 古河電気工業株式会社 熱電変換モジュール

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5984752A (en) * 1994-10-05 1999-11-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electron emission cathode; an electron emission device, a flat display, a thermoelectric cooling device incorporating the same; and a method for producing the electron emission cathode
US5777427A (en) * 1994-10-05 1998-07-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electron emission cathode having a semiconductor film; a device including the cathode; and a method for making the cathode
WO2000073712A3 (de) * 1999-06-01 2001-08-23 Vtv Verfahrenstech Verwaltung Verfahren und vorrichtung zur gestaltung von thermoschenkeln mit schaumstrukturanteilen
JP2003046147A (ja) * 2001-08-02 2003-02-14 Matsushita Refrig Co Ltd 熱電素子モジュール及びその製造方法
JP2004172481A (ja) * 2002-11-21 2004-06-17 Toshiba Corp 熱電変換ユニット
JP2010278460A (ja) * 2010-07-26 2010-12-09 Toshiba Corp 熱電変換ユニット
JP2013545294A (ja) * 2010-10-22 2013-12-19 エミテック ゲゼルシヤフト フユア エミツシオンステクノロギー ミツト ベシユレンクテル ハフツング 熱電モジュールに使用する熱電材料製の半導体素子
WO2013093967A1 (ja) * 2011-12-21 2013-06-27 株式会社日立製作所 熱電変換素子とそれを用いた熱電変換モジュール
JPWO2013093967A1 (ja) * 2011-12-21 2015-04-27 株式会社日立製作所 熱電変換素子とそれを用いた熱電変換モジュール
JP2015518650A (ja) * 2012-03-29 2015-07-02 エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG 熱電素子の粉末冶金製造
JPWO2017056549A1 (ja) * 2015-09-28 2018-03-15 京セラ株式会社 熱電モジュール
US11056633B2 (en) 2016-01-21 2021-07-06 Evonik Operations Gmbh Rational method for the powder metallurgical production of thermoelectric components
JP2022142024A (ja) * 2021-03-16 2022-09-30 古河電気工業株式会社 熱電変換モジュール

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