JPH04348324A - 液晶表示素子 - Google Patents

液晶表示素子

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JPH04348324A
JPH04348324A JP3179736A JP17973691A JPH04348324A JP H04348324 A JPH04348324 A JP H04348324A JP 3179736 A JP3179736 A JP 3179736A JP 17973691 A JP17973691 A JP 17973691A JP H04348324 A JPH04348324 A JP H04348324A
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育弘 鵜飼
Tomihisa Sunada
富久 砂田
Toshiya Inada
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は画素が複数の副画素に
分割され、多階調表示が可能な液晶表示素子の画素の構
成に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の従来技術として、米国特許第4
,840460号(特開平2−12「液晶表示装置の画
素および液晶表示装置における画素のグレースケールを
実現する方法」)が公知である。即ち、図1に液晶表示
パネルの1つの画素領域をパネルと垂直に切出して示す
ように、ガラスのような透明基板1の内面に制御コンデ
ンサ電極2が形成され、その制御コンデンサ電極2の上
から透明基板1の全面に渡って絶縁膜3が形成される。 その絶縁膜3上に4等分割された方形状の副画素電極4
1 乃至44 が形成される。これらの副画素電極と間
隔をおいて対向して設けられたガラスなどの透明基板5
の内面に共通電極6が形成され、共通電極6と副画素電
極4i (i=1〜4)との間に液晶7が封入されてい
る。制御コンデンサ電極2、副画素電極4i 及び共通
電極6はITOなどで作られた透明な電極である。この
ようにして1画素は副画素電極41 〜44 と対応し
て、副画素F1 〜F4 に4分割される。図2に示す
ように各副画素電極4i と制御コンデンサ電極2との
間に絶縁膜3を誘電体とする制御コンデンサCciが形
成され、また副画素電極4i と共通電極6との間に液
晶7を誘電体とする液晶コンデンサCLCi が形成さ
れている。図1の画素の電気的等価回路を図3に示す。 符号Cci及びCLCi を静電容量を表わすのに流用
すると、 CC1>CC2>CC3>CC4          
(1)となるように、制御コンデンサ電極2の各副画素
電極4i と重なる面積が調整されている。
【0003】制御コンデンサ電極2は図1の画素と隣接
して透明基板1上に形成されている薄膜トランジスタ(
TFT)8のドレイン電極Dに接続されている(図2)
。制御コンデンサ電極2と共通電極6との間には所定の
電圧Va がTFT8を介して供給される。TFT8が
オンに制御されたとき、各副画素Fi において供給電
圧Va は制御コンデンサCCiの両端電圧VCiと液
晶コンデンサCLCi の両端電圧VLCi とに分圧
される。VLCi は
【0004】
【数1】 と表わされる。各制御コンデンサCCiの容量を(1)
 式のように設定することによって、各液晶コンデンサ
CLCi の両端電圧VLCi は VLC1 >VLC2 >VLC3 >VLC4   
             (3)に設定される。
【0005】液晶の光透過が飽和状態となる電圧をVU
 、閾電圧をVL とすると、図4に示すように画素に
供給する電圧Va の大きさによって、液晶コンデンサ
CLCi の両端電圧VLCi は以下のような場合が
存在する。 (a) 全てのi=1〜4に対しVLCi =0の場合
。このときVa =0である。 (b) VLC1 =VU ,VLC2 =VL の場
合。VLC3 ,VLC4 はVL 以下である。この
時の供給電圧Va をVa1で表わす。 (c) VLC2 =VU ,VLC3 =VL の場
合。この時の供給電圧Va をVa2で表わす。 (d) VLC3 =VU ,VLC4 =VL の場
合。この時のVa をVa3で表わす。 (e) VLC4 =VU の場合。この時のVa を
Va4で表わす。
【0006】供給電圧Vaiは、 Va1>Va2>Va3>Va4>0        
(4)である。供給電圧Va の大きさを変化させて多
階調表示が行われる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術では、副画
素Fi において、画素に供給する電圧Va がVai
のとき、液晶コンデンサCLCi の両端電圧VLCi
 は液晶の光透過が飽和する電圧VU に等しくなるよ
うに設定される。即ち、
【0008】
【数2】 各制御コンデンサCCiはその容量が(5) 式を満足
するように、副画素電極4i と重なる面積が設定され
る。(5) 式からわかるようにある副画素4i の液
晶コンデンサVLCi に印加される電圧を非常に小さ
くするには対応するその制御コンデンサCCiの容量を
小さくしなければならない。即ち副画素電極4i と重
なる制御コンデンサ電極2の面積を小さくする必要があ
る。しかしながら、この重なる面積が小さくなればなる
ほど(上述の例ではCC4の重なる面積が最も小さい)
、パターンずれなどによる副画素電極41 〜44 と
制御コンデンサ電極2の重なる面積のばらつきによって
容量値CCiの誤差が大きくなる。液晶コンデンサ電圧
VLCi は光透過の飽和電圧VU に対する偏差が大
きくなり、このため多階調表示の誤差が大きくなり、表
示品位が著しく低下する問題があった。
【0009】また、副画素電極4i は画素電極を単に
行方向及び列方向に分割して形成しているので、副画素
が1つのみオンとなっている状態と複数の副画素がオン
となっている状態ではオン領域の中心が異なり、表示画
像の品質が良くなかった。この発明の第1の目的は制御
コンデンサ容量の製造ばらつきの影響による多階調表示
品位の低下が少ない液晶表示素子を提供することである
【0010】この発明の第2の目的は画素のオン領域が
増減してもその中心が移動せず、画像表示品位の優れた
液晶表示素子を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明の第1の観点に
よれば、各画素を構成する複数の互いに分離された副画
素電極が液晶を挟んで第2基板上の共通電極と対向して
第1基板上に配され、それら間に液晶コンデンサを形成
し、副画素電極の少くとも1つと第1絶縁膜を介して対
向する制御コンデンサ電極が第1基板と副画素電極の間
に設けられており、それによって上記少くとも1つの副
画素電極が上記共通電極との間に形成する液晶コンデン
サに直列に接続された制御コンデンサを形成し、上記制
御コンデンサ電極と共通電極との間に駆動電圧が供給さ
れるように構成された画素を有する液晶表示素子におい
て、この発明では、上記少くとも1つの副画素電極と第
2絶縁膜を介して対向するように付加コンデンサ電極が
形成され、それによって上記液晶コンデンサに等価的に
並列な付加コンデンサを形成している。
【0012】この発明の第2の観点によれば、各画素を
構成する複数の互いに分離された副画素電極が液晶を挟
んで第2基板上の共通電極と対向して第1基板上に配さ
れ、それら間に液晶コンデンサを形成し、副画素電極の
少くとも1つと第1絶縁膜を介して対向する制御コンデ
ンサ電極が第1基板と副画素電極の間に設けられており
、それによって上記少くとも1つの副画素電極が上記共
通電極との間に形成する液晶コンデンサに直列に接続さ
れた制御コンデンサを形成し、上記制御コンデンサ電極
と共通電極との間に駆動電圧が供給されるように構成さ
れた画素を有する液晶表示素子において、この発明では
、上記複数の副画素電極は、中央副画素領域と、その周
囲をほぼ同心状に囲む少なくとも1つのループ状副画素
領域を規定するように形成されている。
【0013】
【作用】この発明の第1の観点によれば、制御コンデン
サと直列に接続された液晶コンデンサに対して等価的に
並列に付加コンデンサが接続されるので、制御コンデン
サ電極及び付加コンデンサ電極のいずれの面積を変化さ
せてもその液晶コンデンサを構成する液晶に印加される
容量分割電圧を制御することができ、それだけ画素の設
計の自由度が大となる。
【0014】この発明の第2の観点によれば、各画素を
構成する副画素が互いに同心状に配置されるので、副画
素の表示状態を変化させてもオン領域の中心は画素のほ
ぼ中心に固定されており、表示画像の品質を改善できる
【0015】
【実施例】この発明の実施例をその1画素領域を切出し
て図5に示し、図1と対応する部分に同じ符号を付し、
重複説明を省略する。この実施例においては、制御コン
デンサ電極2は副画素電極相互間の十字ギャップGaと
全長に渡って重なると共に、この例ではほぼ長方形の画
素領域の四隅をそれぞれ所定の大きさ除去した太十字状
にITOで形成される。従って副画素電極間のギャップ
においては制御コンデンサ電極2に与えられる電圧によ
り液晶が駆動される。この発明の第1の観点によれば、
付加コンデンサ電極12と副画素電極4i (i=1〜
4)との間に絶縁膜11を誘電体とする付加コンデンサ
CSiが図6に示すように形成される。即ち、十字のギ
ャップGaで互いに分離された副画素電極41 〜44
 上に窒化シリコン(SiNx )などの絶縁膜11を
介して付加コンデンサ電極12が、この例ではアルミニ
ウムでU字状に形成される。U字状の付加コンデンサ電
極12はこれら副画素電極41 〜44 上を順次通過
していくよう形成されている。更に各行のそれぞれの画
素の付加コンデンサ電極12は図示しない配線により順
次接続され、液晶表示素子の動作時に一定の電位が与え
られる。
【0016】図5の画素の電気的等価回路は図7に示す
ように表わされる。即ち、付加コンデンサCSiは図示
してない配線により一定電位に保持されるため、等価的
には液晶コンデンサCLCi と並列に接続されている
。制御コンデンサ電極2と共通電極6との間に印加され
る駆動電圧Va は制御コンデンサ容量CCiと、液晶
コンデンサ容量CLCi 及び付加コンデンサ容量CS
iの合成容量CLCi +CSiとにより分圧され、液
晶コンデンサCLCi に印加される電圧VLCi は
【0017】
【数3】 で表わされる。従来例では液晶コンデンサ電圧VLCi
 を設定するのを、制御コンデンサ容量CCiの調整の
みで行っていたが、この発明では付加容量CSiの調整
が併用される。例えばコンデンサCLC4 の両端電圧
VLC4 がVLC1 〜VLC4 の中で最も小さく
設定される場合、CC4が小さくされると共にCS4は
大きく設定され、これにより(6) 式のCC4/(C
LC4 +CS4+CC4)の値がi=1〜3の場合よ
り最も小さく設定される。このように付加コンデンサC
Siを併用すると、制御コンデンサ容量CCiは従来の
ようにあまり小さくせず、製造ばらつきの影響が問題に
ならない程度にとどめられる。付加コンデンサ電極12
は製造ばらつきによりその位置がずれても、各副画素電
極4i と重なる面積があまり変らないようにして容量
値の製造ばらつきを小さく抑えるのが望ましい。
【0018】太十字状制御コンデンサ電極2は副画素電
極相互間のギャップと重なっているので、これらのギャ
ップ上の液晶には、制御コンデンサ電極2と共通電極6
との間に印加される電圧Va が絶縁膜3,11と液晶
7とで分圧され、電圧Va の大きさによって、この液
晶部分を光透過或いは光遮断の状態に制御し、副画素電
極と同様に多階調表示に寄与するようにする。これによ
り画素の開口率が向上される。
【0019】なお、制御コンデンサCC1〜CC4のう
ち、最大容量を形成する副画素電極41 の領域の液晶
には最大の電圧が印加されることになる。画素に供給さ
れる電圧Va を一定とした時に、この最大電圧をでき
るだけ大とするには制御コンデンサ電極2は副画素電極
41 の全面と対向して重なる形状にすればよいが、副
画素電極41 と制御コンデンサ電極2とを電気的に接
続することもできる。後述の実施例はこの場合に当り、
制御コンデンサCC1の容量を無限大にしたのと等価で
ある。その場合は制御コンデンサ電極2と副画素電極4
1 との重なりは任意でよく、重なりが無くてもよい。 電圧対透過率特性の設計 副画素F1 〜F4 の電圧対透過率特性を上述のよう
に付加コンデンサ容量CSiと制御コンデンサ容量CC
iとにより制御することによって、画素全体の透過率特
性を設計する自由度が増え、種々の好ましい特性を得る
ことができる。 (イ)副画素F1 〜F4 の特性を図8のAのように
電圧軸の方向に間隔をあけて設定することにより、画素
の総合特性を図8のBのように階段状にすることができ
る。 (ロ)副画素F1 〜F4 の特性を図9のAのように
、副画素Fi の光透過率が90%となるときの印加電
圧Va と副画素Fi+1 の光透過率が10%となる
ときの印加電圧Va とが等しくなるように副画素F1
 〜F4 の特性を設定すれば、画素の総合特性は図9
のBに示すように直線状となり、その傾斜を副画素に分
割しない場合より緩やかにすることができる。このよう
にすると、各副画素Fi の図9のAにおける直線から
の透過率の偏差は、図9のBの総合特性においては結果
としてより小さく圧縮された特性となり直線性が改善さ
れる。また画素の総合特性の直線領域も、図9のAにお
ける個々の特性より広くなる。このため通常液晶表示素
子をビテオ信号の表示器として用いるとき、印加電圧値
を調整して直線性を補正する所謂γ(ガンマ)補正が不
要となる。また電圧対透過率特性が緩やかであるため、
ビデオ表示等を行なうとき、ソースバスに信号を供給す
る駆動ICの出力偏差に対するマージンを大きくできる
。図9のAに示すようにそれぞれの副画素の電圧対透過
率特性を設定すると、図9のBに示すように画素の透過
率が飽和する電圧を図8のBの場合より低く抑えられ、
より低電圧駆動が可能となる。 (ハ)カラー表示用のTN形液晶表示素子の本質的な特
性として旋光分散に基づいてR,G,Bの各色毎に画素
の電圧対透過率特性が図10のAに示すように異なるこ
とが知られているが、この発明によれば、画素の電圧対
透過率特性の設計の自由度が増えたため所望の特性に設
計するのが容易となり、図10のBのように各色ともほ
ぼ同じ特性に補正できる。なおこの補正は画素が副画素
に分割されない場合でも、制御コンデンサ容量CC と
付加容量CS とにより液晶コンデンサ電圧  VLC
=Va CC /(CLC+CS +CC )を各色毎
に調整できるので、上記と同様の補正が可能である。
【0020】これ迄の説明では画素を4個の副画素に分
割する場合を示したが、一般にはn(2以上の整数)個
に分割できることは明らかである。この発明の第2の観
点によれば、各画素を分割した複数の副画素の領域を互
いに同心状に配置する。例えば、図5と対応するものに
同じ符号を付けて図11に示すように、ITOの画素電
極は方形ループ状のギャプGaにより2つの方形ループ
状副画素電極41,42 に同心状に分割されている。 副画素電極41 の中央は方形窓Wが形成されている。 制御コンデンサ電極2は図12に示すように、副画素電
極41 のほぼ半分の領域とは重ならないように穴2a
が形成され、その穴2a以外で副画素電極41,42 
及び方形窓Wと絶縁膜3を介して対抗するよう画素のほ
ぼ全領域に渡ってITOにより形成されている。この例
では中央窓Wにおいて絶縁膜3を介して電気的に露出さ
れる制御コンデンサ電極2の領域は副画素領域F1 を
規定する。従って、制御コンデンサ電極2と共通電極6
との間に印加する駆動電圧Vaを増加していくと、最初
に中央窓Wの副画素領域F1 がオンとなり、次に副画
素電極41 が規定する副画素領域F2 が追加的にオ
ンとなり、最後に副画素電極42 が規定する副画素領
域F3 が追加的にオンとなる。このようにオン領域が
増減してもそのオン領域の中心位置は画素のほぼ中央に
固定しているため、各画素がこのように構成された液晶
表示素子によれば人間の視覚にとって見易い画像を表示
でき、また図1のように画素電極を行方向及び列方向に
分割した場合に比べて画像の表示品質が良いことが実験
で確かめられた。 他の実施例 各画素を2つの副画素で構成し、第1の副画素電極を制
御コンデンサ電極に接続した場合のこの発明の第1と第
2の観点の組み合わせによる実施例の平面図、そのA−
A断面図及びB−B断面図を図13,図14及び図15
に、図5,図6と対応する部分に同じ符号を付して示す
。透明基板1上に島状に遮光層13が形成される。遮光
層13はTFTに光が入射しないようにするものである
。透明基板1及び遮光層13上に酸化シリコン(SiO
2 )のような絶縁膜14が形成され、その上にループ
状の制御コンデンサ電極2がITOなどにより形成され
る。制御コンデンサ電極2及び絶縁膜14上に酸化シリ
コンのような絶縁膜15が形成され、その上にITOな
どによりソースバス21、ソース電極21a、ドレイン
電極22、副画素電極41 ,42 が形成される。副
画素電極41 は制御コンデンサ電極2上の絶縁膜15
に形成されたコンタクトホール15Hにおいて、制御コ
ンデンサ電極2に接触して形成され、互いに導通状態と
される。また副画素電極41 はTFT8のドレイン電
極22迄延長され、互いに連結される。ソース電極21
a及びドレイン電極22にまたがってアモルファスシリ
コンなどの半導体層23が形成される。半導体層23及
び副画素電極41 ,42 上にまたがって窒化シリコ
ン(SiNx )などのゲート絶縁膜24が形成され、
その上に例えばアルミニウムによりゲートバス25、ゲ
ート電極25a、付加コンデンサ電極12が同時に形成
される。
【0021】上述のようにTFT8、副画素電極41 
,42 等が形成された透明基板1は共通電極6が内面
に形成されている透明基板5と対向して配され、それら
の基板間に液晶7が封入される。ソースバス21とゲー
トバス25の交叉部、及びソースバス21と付加コンデ
ンサ電極12の交叉部には島状半導体層23a及び23
bがゲート絶縁膜24の下に積層して形成され、絶縁性
を高めている。ゲートバス25とソースバス21の交叉
点の近傍にTFT8が形成される。左右のソースバス2
1及び上下のゲートバス25で囲まれた領域内に小面積
の副画素電極41 と大面積の副画素電極42が形成さ
れる。制御コンデンサ電極2は副画素電極42 の周縁
部を囲むと共にその周縁部と重なってループ状に形成さ
れる。副画素電極41 と制御コンデンサ電極2とは既
に述べたようにコンタクトホール15Hで互いに電気的
に接続される。
【0022】副画素電極41 に接続された制御コンデ
ンサ電極2は副画素電極42 を囲んで同心状に配置さ
れているので、液晶表示素子の駆動時にTFT8を通し
てある電圧Va が与えられた時にまず副画素42 を
囲む制御コンデンサ電極2の領域(副画素41 領域も
含む)がオン(光透過)となり、電圧Va をそれより
所定値だけ高くすると更に副画素42 の領域もオンと
なる。前述のように画素の表示領域を同心的に制御する
と図5のように副画素を縦、横に配置した場合より表示
品位がよい。
【0023】付加コンデンサ電極12はゲート絶縁膜2
4を介して副画素電極42 上に形成されている。付加
コンデンサ電極12はこの実施例ではH字状をしており
、その水平部12Cが制御コンデンサ電極2のほぼ中央
を水平に横切って延び、その両端部にそれぞれ垂直部1
2A,12Bが設けられている。垂直部12A,12B
は制御コンデンサ電極2の側縁と重なって延びている。 水平部12Cは両端が延長されてゲートバス25の延長
方向に隣接する画素の付加コンデンサ電極12と接続さ
れている。液晶表示素子の動作時には全ての画素のこれ
ら付加コンデンサ電極12は水平部12Cの延長端に一
定の直流電圧を与えることによりあらかじめ決めた一定
電位に保持される。制御コンデンサ電極2は、副画素電
極41 ,42 間のギャップGaと重なるように配さ
れる。
【0024】制御コンデンサ電極2と副画素電極42 
との間に制御コンデンサCC2が形成されるが、制御コ
ンデンサ電極2と副画素電極41 とは電気的に短絡さ
れているので、制御コンデンサCC1は形成されない(
或いはCC1は形成されているが両端が短絡されている
と見ることもできる)。付加コンデンサ電極12と副画
素電極42 との間に付加容量CS2が形成される。こ
の例では、副画素電極41 と付加コンデンサ電極12
との間に直接付加容量CS1を形成せず、代りに制御コ
ンデンサ電極2(副画素電極41 と接続されている)
と付加コンデンサ電極12との間に形成される。副画素
電極41 と共通電極6との間に液晶コンデンサCLC
1aが、副画素電極間のギャップGaと対向する制御コ
ンデンサ電極2と共通電極6との間に液晶コンデンサC
LC1bが、また副画素電極42 と共通電極6との間
に液晶コンデンサCLC2 がそれぞれ形成される。従
って図13,図14及び図15の実施例における画素の
電気的等価回路は図16に示すものとなる。
【0025】図13の例では、制御コンデンサ電極2が
副画素電極42 の周縁部と重ねられる寸法は12μm
 程度であるが、もし従来例のように付加容量を併用し
ない構成にすると、この重ねられる寸法は例えば 1.
5μm 程度と極めて小さくする必要があり、パターン
ずれなどに対する製造マージンが取れなくなる。図13
から分るように、付加コンデンサ電極12の垂直部12
A,12Bはその幅方向の中間において制御コンデンサ
2の両側縁と重なっているので、付加コンデンサ電極1
2の上下及び左右方向の製造上の位置ずれに対しては、
副画素電極42 と重なる面積及び制御コンデンサ電極
2(副画素電極41 と接続されている)と重なる面積
は共にほとんど変化しない。従ってパターンずれなどに
よる製造ばらつきに対し付加コンデンサ容量CS1,C
S2はほぼ一定に保たれる。なおこの付加コンデンサC
S1,CS2は信号電荷保持のための蓄積容量として作
用するものであり、リーク電流が増大する高温動作での
表示の安定性向上などに寄与する。
【0026】図13,図14及び図15においては副画
素電極42 を囲むように制御コンデンサ電極2が形成
されているが、図13に対応するものを図17に簡略化
して示すように、制御コンデンサ電極2を島状に中央に
配置し、その周縁と重なりかつ囲むように副画素電極4
2 を形成してもよい。その場合は印加電圧Vaを増加
していくと中央の副画素領域がオンとなり、次にその外
周の副画素領域もオンとなる。
【0027】更に、図18に断面でのみ示すように、図
13,図14及び図15の実施例におけるTFT8のソ
ース電極21a及びドレイン電極22を制御コンデンサ
電極2と同じ層に形成し、副画素電極41 と制御コン
デンサ電極2を連続した一体構造に形成することもでき
る。図13,図14及び図15の実施例では副画素電極
42 の上に付加コンデンサ電極12を設けたが、図1
9及び図20に示すように副画素電極41 ,42 の
下の制御コンデンサ電極2と同じ面に設けてもよい。即
ち、図19及び図20に示す実施例においては図13に
おける方形ループ状の制御コンデンサ電極2の一部を除
去して通路2Aを形成し、その通路2Aを変形H形付加
コンデンサ電極12の水平部12Cが通され、H形電極
12の垂直部12Aと12Bはそれぞれ方形ループ状電
極2の外側と内側に配置されている。またこの実施例に
おいては副画素電極41 はその両側縁が制御コンデン
サ電極2の側縁及び付加コンデンサ電極12と重なるよ
うに形成され、かつほぼ長方形の副画素電極42 の長
側辺と間隔Gaをおいて平行にほぼ全長に沿って延びて
いる。H状付加コンデンサ電極12の垂直部12Aはそ
の両端が延長されそれぞれ上下に隣接する画素の付加コ
ンデンサ電極の垂直部12Aに接続され、液晶表示素子
の動作時には付加コンデンサ電極12は一定の電位に保
持される。 この実施例におけるそれぞれの容量の接続等価回路も図
16に示すものと全く同じになる。
【0028】上述した各実施例においてはすべての副画
素電極41 ,42 ,…に対しそれぞれ付加コンデン
サCS1,CS2,…を設けた場合を示したが、場合に
よっては少くとも1つの副画素電極には付加コンデンサ
を接続しなくてもよい。例えば図13,図14及び図1
5に示す実施例において付加コンデンサCS1を省略し
た実施例を簡略化して図21,図22及び図23に示す
。この実施例においては付加コンデンサ電極12はほぼ
長方形の副画素電極42 の一側縁部とゲート絶縁膜2
4を介して重なるようにゲートバス25と平行に同じ材
料(例えばアルミニウム)で同時に形成されている。副
画素電極41 は図13,図14及び図15の実施例と
同様に絶縁膜15に形成されたコンタクトホール15H
を通して制御コンデンサ電極2に接続されている。制御
コンデンサ電極2は付加コンデンサ電極12と互いに重
なっておらず、従ってこの実施例においては副画素電極
41には付加コンデンサが接続されていない。この実施
例の画素の電気的等価回路は図16において付加コンデ
ンサCS1を除去したものと同一である。
【0029】同様に図19,図20に示す実施例におい
て付加コンデンサCS1を除去した実施例を簡略化して
図24,図25及び図26に示す。この実施例では付加
コンデンサ電極12はITOにより制御コンデンサ電極
2と同じ面に同時に形成され、副画素電極42 と重な
るようにソースバス21と同じ方向に延長されている。 副画素電極41 は絶縁膜15に形成されたコンタクト
ホール15Hを通して制御コンデンサ電極2に接続され
ているが付加コンデンサ電極12とは互いに重ならない
。従って副画素電極41 には付加コンデンサが接続さ
れておらず、画素の電気的等価回路は図16において付
加コンデンサCS1を除去したものと同一である。
【0030】前述のようにこの発明の第1の観点の原理
による付加コンデンサの効果はその付加コンデンサが接
続される副画素電極に対する制御コンデンサの設計自由
度を高める点にある。従って図21,図22及び図23
の実施例及び図24,図25及び図26の実施例から明
らかなように制御コンデンサが直列に接続されない副画
素電極に対してはこの発明の原理を適用できないので、
付加コンデンサを設けなくてもよい。しかしながら付加
コンデンサを接続することにより液晶コンデンサの容量
が増加し、それだけ電荷を多く蓄積できるので周知のよ
うに高温におけるリーク電流の増大に対し電圧低下を遅
くする効果が得られる。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の第1の
観点によれば複数の副画素のうち少くとも1つの副画素
Fi においては従来の制御コンデンサCCiと共に付
加コンデンサCSiが液晶コンデンサCLCi の両端
電圧VLCi を決定するのに用いられ、その副画素の
電圧対透過率特性の設計自由度がそれだけ増加する。こ
のため制御コンデンサ電極2はパターンずれなどによる
容量誤差の影響が問題になるほど、副画素電極4i と
重なる面積を小さくする必要がなくなり、各液晶コンデ
ンサ電圧VLCi を従来より精度よく設定することが
できる。このため画素の多階調表示を従来より正確に行
うことができ、表示品位を向上できる。この付加コンデ
ンサの併用によって各副画素の電圧対透過率特性を精度
よく設定することができるので、画素の総合的な電圧対
透過率特性の直線性を向上することが容易となり、直線
性補正のため従来行っていた所謂γ補正が不要となる。 また同じ理由からカラーTN形液晶表示素子における旋
光分散に起因する、色の異なる画素間の電圧対透過率特
性のずれを容易に補正できる。
【0032】この発明の第2の観点によれば、各画素は
複数の副画素が同心状に配置されるように構成されるの
で画像の表示品質を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の液晶表示素子における画素構成を示す斜
視図である。
【図2】図1の各電極間に形成される静電容量を示す図
である。
【図3】図1の画素の電気的等価回路を示す図である。
【図4】図1の副画素Fi (i=1〜4)における印
加電圧Va対液晶コンデンサ電圧VLCi 特性を示す
図である。
【図5】この発明の第1の観点にもとずく実施例におけ
る画素構成を示す斜視図である。
【図6】図5における各電極間に形成される静電容量を
示す図である。
【図7】図5の画素の電気的等価回路を示す図である。
【図8】Aは図5の各副画素の電圧対透過率特性の一例
を示す図であり、BはAの総合電圧対透過率特性を示す
図である。
【図9】Aは図5の各副画素の電圧対透過率特性の他の
例を示す図であり、BはAの総合電圧対透過率特性を示
す図である。
【図10】AはTN形カラー液晶表示素子におけるR,
G,Bの各画素の一般的な電圧対透過率特性を示す図で
あり、Bはこの発明の液晶表示素子におけるR,G,B
の各画素の電圧対透過率特性の一例を示す図である。
【図11】この発明の第2の観点にもとずく画素構成の
実施例を示す斜視図である。
【図12】図11における制御コンデサ電極の平面図で
ある。
【図13】この発明の他の実施例の要部を示す平面図で
ある。
【図14】図13のA−A断面図である。
【図15】図13のB−B断面図である。
【図16】図13,図14及び図15の画素の電気的等
価回路を示す図である。
【図17】図13に対応する変形実施例を簡略化して示
す平面図である。
【図18】図13,図14及び図15の実施例の変形例
を示す断面図である。
【図19】この発明の更に他の実施例を示す平面図であ
る。
【図20】図19のA−A断面図である。
【図21】更に他の実施例の平面図である。
【図22】図21におけるA−A断面図である。
【図23】図21におけるB−B断面図である。
【図24】更に他の実施例の平面図である。
【図25】図24におけるA−A断面図である。
【図26】図24におけるB−B断面図である。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  各画素の領域の一部を占める少なくと
    も1つの副画素電極が第2基板上の共通電極と液晶を挟
    んで対向して第1基板上に形成された第1絶縁膜上に配
    され、上記少くとも1つの副画素電極と上記第1絶縁膜
    を介して少くとも一部が対向する制御コンデンサ電極が
    設けられており、それによって上記少くとも1つの副画
    素電極が上記共通電極との間に形成する液晶コンデンサ
    に直列に接続された制御コンデンサを形成し、上記制御
    コンデンサ電極と上記共通電極との間に駆動電圧が供給
    されるように構成された上記画素を有する液晶表示素子
    において、上記少くとも1つの副画素電極と第2絶縁膜
    を介して対向するように付加コンデンサ電極が形成され
    、それによって上記液晶コンデンサに等価的に並列な付
    加コンデンサを形成していることを特徴とする液晶表示
    素子。
  2. 【請求項2】  各画素の領域の一部を占める少なくと
    も1つの副画素電極が第2基板上の共通電極と液晶を挟
    んで対向して第1基板上に形成された絶縁膜上に配され
    、上記少なくとも1つの副画素電極と上記絶縁膜を介し
    て少くとも一部が対向する制御コンデンサ電極が設けら
    れておりそれによって上記少くとも1つの副画素電極が
    上記共通電極との間に形成する液晶コンデンサに直列に
    接続された制御コンデンサを形成し、上記制御コンデン
    サ電極と上記共通電極との間に駆動電圧が供給されるよ
    うに構成された上記画素を有する液晶表示素子において
    、上記少くとも1つの副画素電極と上記制御コンデンサ
    電極は一方が他方をほぼ囲むと共に少なくとも周縁で上
    記絶縁膜を介して互いに重なるように同心状に配され、
    それによって島状の第1副画素領域とそれをほぼ囲むル
    ープ状の第2副画素領域とを規定していることを特徴と
    する液晶表示素子。
  3. 【請求項3】  上記第1副画素領域は上記第2副画素
    領域の内側に規定された上記制御コンデンサ電極の領域
    の一部であり、上記副画素電極は上記第1副画素領域を
    ほぼ囲むループ状に形成されている請求項2記載の液晶
    表示素子。
  4. 【請求項4】  上記第1副画素領域は上記第2副画素
    領域の内側に配置された上記少なくとも1つの副画素電
    極であり、上記制御コンデンサ電極は上記少なくとも1
    つの副画素電極をほぼ囲む領域を有し、上記第2副画素
    領域を規定している請求項2記載の液晶表示素子。
  5. 【請求項5】  上記少なくとも1つの副画素電極とギ
    ャップで隔てられたもう1つの副画素電極が設けられ、
    上記もう1つの副画素電極と上記制御コンデンサ電極と
    は電気的に接続されている請求項1記載の液晶表示素子
  6. 【請求項6】  上記制御コンデンサ電極は、上記少な
    くとも1つの副画素電極の周縁部をほぼ囲むと共にその
    周縁部と重なって形成されている請求項5記載の液晶表
    示素子。
  7. 【請求項7】  上記少なくとも1つの副画素電極は上
    記制御コンデンサ電極の周縁部をほぼ囲むと共にその周
    縁部と重なるように形成されている請求項5記載の液晶
    表示素子。
  8. 【請求項8】  上記第2絶縁膜は上記少なくとも1つ
    の副画素電極の上から上記第1基板のほぼ全面に渡って
    形成されており、その上に上記付加コンデンサ電極が形
    成されている請求項1記載の液晶表示素子。
  9. 【請求項9】  上記もう1つの副画素電極は上記制御
    コンデンサ電極と一体に同一面上に形成されている請求
    項5記載の液晶表示素子。
  10. 【請求項10】  上記第2絶縁膜は上記第1絶縁膜に
    より兼用されており、上記制御コンデンサ電極と上記付
    加コンデンサ電極は同一面上に形成されている請求項1
    記載の液晶表示素子。
  11. 【請求項11】  上記もう1つの副画素電極と上記制
    御コンデンサ電極とは上記第1絶縁膜に形成したコンタ
    クトホールを通して互いに接続されている請求項5記載
    の液晶表示素子。
  12. 【請求項12】  上記もう1つの副画素電極は上記少
    なくとも1つの副画素電極と同一面に互いにギャップに
    より分離されて形成され、上記制御コンデンサ電極は上
    記ギャップとそのほぼ全長に渡って重なる領域を有する
    請求項5記載の液晶表示素子。
  13. 【請求項13】  上記付加コンデンサ電極は上記行配
    列及び列配列のいずれか一方の方向に隣接する上記画素
    の上記付加コンデンサ電極に接続される延長部を有して
    いる請求項1記載の液晶表示素子。
  14. 【請求項14】  各画素の領域の一部をそれぞれ占め
    る複数の副画素電極が第2基板上の共通電極と液晶を挟
    んで対向して第1基板上に形成された絶縁膜上に配され
    、上記複数の副画素電極と上記絶縁膜を介してそれぞれ
    少くとも一部が対向する制御コンデンサ電極が設けられ
    ておりそれによって上記複数の副画素電極が上記共通電
    極との間にそれぞれ形成する液晶コンデンサにそれぞれ
    直列に接続された制御コンデンサを形成し、上記制御コ
    ンデンサ電極と上記共通電極との間に駆動電圧が供給さ
    れるように構成された上記画素を有する液晶表示素子に
    おいて、上記複数の副画素電極は中央の島状の1つを他
    の少なくとも1つがほぼ囲むと共に少なくとも周縁で上
    記絶縁膜を介して互いに重なるように同心状に配され、
    それによって中央の島状の第1副画素領域とそれをほぼ
    囲むループ状の第2副画素領域とを規定していることを
    特徴とする液晶表示素子。
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