JPH04352103A - 反射防止膜を有する物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板上に反射防止層を
形成してなる物品に関する。この物品は、ディスプレイ
の前面板、光学レンズ、自動車窓ガラス、計器類の前面
板等に用いられる。

【０００２】

【従来の技術】基板上に反射防止膜を形成するためには
、所定の膜厚、屈折率を有する薄膜を１層または複数層
積層することが必要である。このような薄膜形成方法の
１つとして、金属アルコキシドの薄膜を形成させた後、
これを加熱硬化して金属酸化物に転換させる方法がある
。この方法で充分な反射防止性能を得るためには、反射
防止層を少なくとも３層以上とし、うち少なくとも１層
の屈折率を高いものとする必要がある。さらに、形成さ
れた反射防止膜は、長時間使用しても、反射防止性能が
変化しないものでなければならない。

【０００３】しかし、基板として有機材料を用いる場合
には、高温で加熱することが困難である。このような限
定された条件下では、薄膜形成時の条件によっては、薄
膜の細孔径が大きくなりすぎ、充分高い屈折率が得られ
ないことがある。また、条件によっては、薄膜中にアル
コキシ基が多く残存し、経時変化が起こりやすいものと
なる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、このよ
うな従来技術の状況に鑑み、鋭意検討した結果、有機高
分子基板上に多層の反射防止膜を形成することにより、
充分な反射防止性能と安定性を具備した反射防止膜を有
する物品が得られることを見出し、本発明に到達した。 従って、本発明は、充分な反射防止性能と安定性を具備
した反射防止膜を有する物品を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、上
記課題を解決するため、有機高分子基板上に多層の反射
防止膜を形成してなり、原子間力顕微鏡で観察した高屈
折率層の細孔径が　３００Å以下であることを特徴とす
る物品を提供する。

【０００６】本発明においては、反射防止層中の残存有
機物量が、炭素原子の金属原子に対するモル比で０．０
２以下であるのが好ましい。

【０００７】本発明において用いられる有機高分子基板
は、特に限定されるものではないけれども、光学用途に
用いる場合は透明性、分散性、屈折率等の光学特性の適
切なものであることが好ましく、ポリメチルメタクリレ
ートあるいはその共重合体、ポリカーボネート、ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート、ポリスチレン
、ＡＳ樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレ
ート等のポリエステル樹脂等が好ましい基板の材料とし
て例示される。なお、基板としては、平板に限定される
ものではなく、レンズ等の成形品もその概念に含まれる
ものである。

【０００８】本発明において、反射防止層はその機能を
果たすために、膜厚および屈折率が一定の条件の範囲内
にあることが好ましい。即ち、反射防止層を３層以上か
らなる多層のものとし、反射防止層を形成する各層の屈
折率を基板側（アンダーコート層側）から最外層の隣の
層（反射防止層の層の数をｎとし、基板側から１層、２
層とした時、第ｎ−１層）まで順に屈折率が高くなるよ
うにし、最も外の層（第ｎ層）はその隣の層（第ｎ−１
層）より低い屈折率のものとし、少なくとも最も屈折率
の高い層の屈折率が１．７８以上であるようにすること
が好ましい。また、反射防止層を形成する各層の厚みは
、可視周辺領域で選ばれる任意の基板波長（単位ｎｍ）
　をλとした時、その層の屈折率と厚みの積が最も屈折
率の高い層ではλ／４の整数倍に近く、それ以外の層で
はλ／４の奇数倍に近い値となるように選ばれたもので
あることが好ましい。

【０００９】なお、反射防止層の層の数は多ければ多い
ほど幅広い波長範囲で反射率を下げることができるが、
層の数が多くなるとそれだけ製造に手間とコストがかか
るようになるので、反射防止層の層の数としては３〜８
であることが好ましく、３〜４であることがより好まし
い。

【００１０】３層および４層の場合、基板側から第ｎ層
の屈折率をｎｎ　とした時、 ３層では、１．５５≦ｎ１　≦１．８５１．７８≦ｎ２
　≦２．２５ １．３８≦ｎ３　≦１．５０ ４層では、１．３８≦ｎ１　≦１．６５１．５５≦ｎ２
　≦１．８５ １．７８≦ｎ３　≦２．４０ １．３８≦ｎ４　≦１．５０ とし、膜厚は上記の条件を満足するものであるものを設
計例として例示することができる。

【００１１】反射防止層の各層は、金属アルコキシドあ
るいはその部分加水分解物の溶液を塗布し、溶媒を蒸発
させ、次いで焼成して金属酸化物とすることにより得る
ことができる。ここで用いられる金属アルコキシドの種
類については、特に限定されるものではなく、目的とす
る屈折率とするために金属アルコキシドを適宜組み合わ
せて用いることができる。例えば、周期律表におけるラ
ンタナイド元素を除くＩＩＢ　〜ＶＩＢ　族の元素、窒
素を除く　ＩＩＩＡ　〜ＶＡ　族の元素、マンガン、鉄
、コバルト、ニッケル、および銅のいずれのアルコキシ
ドをも用いることができ、これらを適宜組み合わせて用
いることができる。

【００１２】また、上記の元素のアルコキシドと組み合
わせて用いる限りは、水素、フランシウム、ラジウムを
除くＩＡ　およびＩＩＡ　族の元素、ランタナイド族元
素、硫黄、セレン、テルル、トリウム、プロトアクチニ
ウム、ウラン、プルトニウム等のアルコキシドも用いる
ことができる。

【００１３】上記のうち、好ましい金属アルコキシドの
金属成分としてチタン、ジルコニウム、インジウム、ハ
フニウム、イットリウム、タンタル、アンチモン、錫、
亜鉛、アルミニウム、ビスマス、モリブテン、スカンジ
ウム、タングステン、珪素あるいはこれらの２種以上の
組合せ等を挙げることができ、これらと組み合わせて用
いる好ましい金属アルコキシドの金属成分としてセリウ
ム、プラセオジム、ネオジム、ユーロピウム、ランタン
あるいはこれらの２種以上の組合せを挙げることができ
る。

【００１４】金属アルコキシドのアルコキシド成分の炭
素数は、１〜５であることが好ましい。これが６以上で
あると、後述する焼成後の湿熱処理によっても、残存有
機物が除去しにくくなる。金属アルコキシドとしては、
１種の金属アルコキシド中で全てのアルコキシドが同じ
炭素数のものであってもよく、互いに異なるものであっ
てもよい。また、金属アルコキシドとして異なる炭素数
の金属アルコキシドの混合物であってもよい。

【００１５】金属アルコキシドあるいはその部分加水分
解物の溶液に用いられる溶媒としては、アルコール、脂
肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、
ケトン系溶媒、エステル系溶媒、セロソルブ類等を用い
ることができ、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、トルエン、キシレン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等を好まし
いものとして例示でき、これらの２種以上を混合して用
いてもよい。

【００１６】すなわち、反射防止層形成用液としては、
上述の金属アルコキシドの溶液に少量の酸と水を添加し
たものを用いてもよく、この溶液をしばらく放置してあ
る程度加水分解と部分縮合したもの（部分加水分解物と
いう）を用いてもよい。

【００１７】屈折率が１．８５以上の反射防止層を形成
するためには、チタン、ジルコニウム、インジウム、ハ
フニウム、イットリウム、タンタル、アンチモン、錫、
亜鉛の１種以上、あるいはこれにセリウム、プラセオジ
ム、ネオジウムを組み合わせたものを金属アルコキシド
の金属成分として選び、アルコキシドとして炭素数１〜
５のものを用い、溶剤としてメタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、トルエン等を選ぶのが好ましい。

【００１８】上述の金属の中では、チタンが安定な反射
防止層形成用液を形成できるので好ましい。チタン以外
の金属を用いる場合は、液の調製をごく乾燥した条件下
で行うか、液に少量のキレート剤を添加するのが好まし
い。

【００１９】反射防止層形成用液の粘度は、塗布のし易
さ、塗布された塗膜の均一性等の観点から２０センチポ
アズ以下であることが好ましく、１０センチポアズ以下
であることがより好ましい。

【００２０】反射防止層の形成は、各層毎に、所定の屈
折率になるように調製した上記反射防止層形成用液を塗
布し、溶媒の蒸発および焼成を行って所定の膜厚の金属
酸化薄膜を形成させるという一連の操作を、層の数だけ
繰り返すことにより行われる。

【００２１】焼成は、６０℃以上でかつ基板の熱変形温
度以下の温度で行うことが好ましい。残存有機物の少な
い薄膜を得るためには、必要に応じて、焼成後さらに高
温高湿下で処理する必要がある。高温高湿下での処理は
、温度４０〜８０℃、湿度５０〜　１００％で行うこと
が好ましい。 これ以上温度が低い場合や湿度が低い場合は、残存有機
物を低減するのに時間がかかるか、あるいは有機物を低
減する効果がない。一方、これ以上温度が高いと、有機
高分子基板が変形するおそれがある。

【００２２】屈折率１．７８以上の反射防止層を得るた
めには、反射防止膜の焼成時の湿度が３０％以下である
ことが好ましい。湿度がこれより高いと、原子間力顕微
鏡で測定した細孔径が　３００Åより大きくなる。この
ような薄膜は、屈折率が１．７８より低くなる。

【００２３】また、本発明では、基板と反射防止層の間
に、応力を緩和する目的でアンダーコート層を塗布する
。本発明でいうアンダーコート層とは、基板と金属酸化
物薄膜の間に設けられ、基板と金属酸化物薄膜の熱膨張
係数の差によって生じる応力を緩和する役割を担ってい
る。そこで、アンダーコート層の熱膨張係数は、基板の
熱膨張係数と金属酸化物薄膜の熱膨張係数の中間となる
ようにするのが好ましい。このアンダーコート層の熱膨
張係数のコントロールは、コロイダルシリカを低熱膨張
係数成分として用い、二官能および三官能シランの１種
以上の加水分解、縮合・硬化物を高熱膨張係数成分とし
て用い、これらの混合比によって該層の熱膨張係数を調
整するのが、両成分の相溶性が良いこと、反射防止層に
悪影響を与えることが少ないこと等から好ましい。

【００２４】従って、本発明においては、平均粒径１０
００Å以下のコロイダルシリカを分散状態で含有する前
記シラン化合物の部分加水分解物の溶液をアンダーコー
ト層形成用溶液として用いる。コロイダルシリカの平均
粒径が１０００Åを超えると、アンダーコート層におけ
る全光線透過率が低下するので好ましくない。

【００２５】有用なシラン化合物の具体例としては、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
メチルジメトキシエトキシシラン、メチルトリブトキシ
シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルト
リエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−シアノエチ
ルトリエトキシシラン、グリシジルメチルトリメトキシ
シラン、グリシジルメチルトリエトキシシラン、β−グ
リシジルエチルトリメトキシシラン、β−グリシジルエ
チルトリエトキシシラン、γ−グリシジルプロピルトリ
メトキシシラン、γ−グリシジルプロピルトリエトキシ
シラン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルトリメ
トキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル
）　エチルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）　プロピルトリメトキシシラン、δ
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメト
キシシラン、グリシジルオキシメチルトリメトキシシラ
ン、グリシジルオキシメチルトリエトキシシラン、β−
グリシジルオキシエチルトリメトキシシラン、β−グリ
シジルオキシエチルトリエトキシシラン、γ−グリシジ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジル
オキシプロピルトリエトキシシラン、δ−グリシジルオ
キシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシジルオキシ
ブチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシ
シラン、クロロメチルトリエトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタク
リロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン
、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシ
シラン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシジルオ
キシメチル（メチル）ジメトキシシラン、グリシジルオ
キシメチル（エチル）ジメトキシシラン、グリシジルオ
キシメチル（フェニル）ジメトキシシラン、グリシジル
オキシメチル（ビニル）ジメトキシシラン、β−グリシ
ジルオキシエチル（メチル）ジメトキシシラン、β−グ
リシジルオキシエチル（エチル）ジメトキシシラン、γ
−グリシジルオキシプロピル（メチル）ジメトキシシラ
ン、γ−グリシジルオキシプロピル（エチル）ジメトキ
シシラン、δ−グリシジルオキシブチル（メチル）ジメ
トキシシラン、δ−グリシジルオキシブチル（エチル）
ジメトキシシラン、ビス（グリシジルオキシメチル）ジ
メトキシシラン、ビス（グリシジルオキシメチル）ジエ
トキシシラン、ビス（β−グリシジルオキシエチル）ジ
メトキシシラン、ビス（γ−グリシジルオキシプロピル
）ジエトキシシラン等を示すことができ、これらの２種
以上を混合して用いることもできる。

【００２６】これらのシラン化合物は、部分加水分解物
の溶液として用いられるが、溶剤としてはシラン化合物
に対して不活性な溶剤であればいかなるものであっても
よい。メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール等の低級アルコール、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸
ブチル等のカルボン酸エステル類を好ましいものとして
例示でき、これらは混合溶媒として用いることもできる
。

【００２７】また、上記シラン化合物の部分加水分解物
を得るためには、上記のシラン化合物に塩酸、酢酸、硫
酸等の酸性化合物の水溶液を添加すればよい。加水分解
に用いる酸性化合物の量は、シラン化合物の　１．５〜
１０倍モルであることが好ましい。酸性化合物の量が上
記下限未満であると反射防止層を形成した時にクラック
が発生し易くなり、上記上限を超えると得られる反射防
止層の外観が不良となる。

【００２８】本発明において用いられるアンダーコート
層形成用溶液におけるシラン化合物部分加水分解物とコ
ロイダルシリカとの比は、シラン化合物部分加水分解物
　１００重量部に対し、コロイダルシリカが１０〜　７
００重量部であることが好ましい。

【００２９】本発明において、アンダーコート層形成用
溶液として用いられるコロイダルシリカを含有するシラ
ン化合物の部分加水分解物の溶液の粘度は、塗布のし易
さ、塗布された塗膜の均一性の観点から２０センチポア
ズ以下であることが好ましく、１０ンチポアズ以下であ
ることがより好ましい。

【００３０】本発明においては、上記のアンダーコート
層形成用溶液を基板上に塗布し、溶媒が含まれている場
合は溶媒を蒸発させ、さらに焼成してアンダーコート層
を形成させる。この塗布乾燥は必要に応じて複数回繰り
返してもよく、繰り返す場合は同じ組成の溶液を繰り返
し塗布してもよく、塗布の都度、組成の異なる溶液を用
いてもよい。塗布の都度、溶液中のシラン化合物とコロ
イダルシリカの混合比率を変えることによって、熱膨張
係数が厚み方向で勾配を持つようにすることもでき、こ
うすることにより耐熱性を向上させることができる。ア
ンダーコート層形成のための焼成条件は基板の耐熱性に
よっても左右されるが、６０℃以上であって基板の熱変
形温度以下であることが好ましい。６０℃以上で焼成す
ると、アンダーコート層の耐摩耗性が向上する。また、
活性エネルギー線による加熱硬化も可能である。

【００３１】アンダーコート層の厚みは　０．２〜３μ
ｍであることが好ましく、　０．２μｍ未満であると基
板と反射防止層の熱膨張係数の違いによる応力をアンダ
ーコート層で緩和する役割を充分果たせないようになる
。厚みが３μｍを超えても何のメリットもなく、むしろ
加熱硬化に時間がかかるという欠点を生ずる。

【００３２】

【実施例】以下に実施例を用いて本発明をさらに説明す
る。なお、物性評価は下記の方法で行った。

【００３３】（１）　密着性：反射防止層を形成させた
基板の反射防止層をカミソリで１ｍｍ×１ｍｍの枡目を
　１００個形成するようにクロスカットし、クロスカッ
ト面にセロハン粘着テープ　（ニチバン　（株）　製、
品番　４０５）　を充分に密着させた後、該粘着テープ
を剥離することを３度繰り返した後、剥離しないで残っ
た反射防止層の枡目の数を密着性の尺度とした。

【００３４】（２）　膜厚：エリプソメーター（溝尻光
学工業所製）で測定した。 （３）　粘度：回転式粘度計（東京計器製）で測定した
。 （４）　クラック発生の有無：倍率　４００倍の光学顕
微鏡を用いて目視観察した。 （５）　耐熱衝撃製：反射防止層を有する基板を８０℃
で５分間加熱した後、氷水中に投入して急冷した後のク
ラックの発生の有無、全光線透過率を上記方法で観察し
た。

【００３５】（６）　耐温水性：反射防止層を有する基
板を６０℃の温水中に２４時間浸漬後のクラックの発生
の有無、全光線透過率を上記方法で観察した。 （７）　全光線透過率：　ＪＩＳ　Ｋ　７１０５　に従
って測定した。 （８）　細孔径：原子間力顕微鏡（Ｎａｎｏ　Ｓｃｏｐ
ｅ　ＡＦＭ、東洋テクニカ製）　を用いて、測定した。 （９）　残存有機物量：元素分析装置（２４０Ｃ　ＥＬ
ＥＭＥＮＴＡＬ　ＡＮＡＲＩＺＥＲ）　を用いて測定し
た。

【００３６】参考例１ １０℃でγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
　８．５ｇに０．０５規定の塩酸水溶液　１．３ｇを滴
下混合し、滴下終了後、室温でさらに１時間攪拌を行っ
て、シラン部分加水分解物を得た。

【００３７】このシラン部分加水分解物にイソプロピル
アルコールに分散した平均粒径　１００〜　２００Åの
コロイダルシリカ　（触媒化成製、オスカル１４３２、
固形分３２％）とイソプロピルアルコール４０ｇを添加
し、１時間攪拌混合してアンダーコート層用コーティン
グ溶液を得た。 溶液の粘度は　４．７センチポアズであった。

【００３８】参考例２ テトラエチルオルソシリケート２０．８ｇ、テトライソ
プロピルオルソチタネート１８．０ｇとエチルアルコー
ル　１５０ｍｌの混合溶液に水　４．８ｇ、塩酸１ｇお
よびエチルアルコール　１２５ｍｌを添加し、室温で１
時間攪拌混合してＳｉＯ２／ＴｉＯ２　層用コーティン
グ溶液を得た。この溶液の粘度は　１．９センチポアズ
であった。

【００３９】参考例３ テトライソプロピルオルソチタネート１４．２ｇ、イソ
プロピルアルコール２５ｍｌおよびｎ−ブチルアルコー
ル２５ｍｌの混合溶液に２規定の塩酸水溶液１．３５ｇ
、イソプロピルアルコール２５ｍｌおよびｎ−ブチルア
ルコール２５ｍｌの混合物を添加し、室温で１時間攪拌
混合してＴｉＯ２層用コーティング溶液を得た。この溶
液の粘度は　３．５センチポアズであった。

【００４０】参考例４ また、テトライソプロピルオルソチタネート２８．４ｇ
をエタノール　１００ｍｌに溶解した溶液に２Ｎ塩酸　
２．７ｍｌとエタノール　１００ｍｌを添加して攪拌し
、テトライソプロピルオルソチタネートの部分加水分解
物からなるＴｉＯ２層形成用溶液　（粘度　１．８セン
チポアズ）　を得た。

【００４１】参考例５ また、テトラエチルオルソシリケート２０．８ｇをイソ
プロパノール６５ｍｌに溶解した溶液に水　９．０ｇと
２Ｎ塩酸１ｇとイソプロパノール１００ｍｌを添加して
攪拌し、テトラエチルオルソシリケートの部分加水分解
物からなるＳｉＯ２層形成用溶液　（粘度　２．８セン
チポアズ）　を得た。

【００４２】実施例１ ポリメチルメタクリレートＡＲ板（三菱レイヨン（株）
製）に参考例１で合成したアンダーコート層用液を、浸
漬法にり、引き上げ速度３０ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後
、室温で５分間、さらに８０℃、湿度５％で１時間加熱
して硬化させた。その後、６０℃、湿度　１００％で３
時間処理した。

【００４３】この上に、参考例２で合成したＳｉＯ２／
ＴｉＯ２　層用コーティング溶液を、浸漬法により、引
き上げ速度１３．１ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で
５分間、さらに８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化
させた。その後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理
した。

【００４４】この上に、参考例３で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度１
６．０ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。その
後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００４５】この上に、参考例５で合成したＳｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　
６．６ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。その
後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００４６】得られた板のアンダーコート層の屈折率は
、１．４９、膜厚は１μｍ、ＳｉＯ２／ＴｉＯ２　層の
屈折率は１．５７、膜厚は　８７５Å、ＴｉＯ２層の屈
折率は１．７８、膜厚は１５４５Å、ＳｉＯ２層の屈折
率は１．４３、膜厚は　９６０Åであった。

【００４７】得られた膜の残存有機物量を炭素原子と金
属原子のモル比　（〔Ｃ〕／〔Ｍ〕）で表すと、ＳｉＯ
２／ＴｉＯ２　層は０．０２、ＴｉＯ２層は０．０２、
ＳｉＯ２層は０．０２であった。また、ＴｉＯ２層の細
孔径は　２００Åであった。

【００４８】こうして得られた板の全光線透過率は９８
．６％であり、反射防止層にクラックは認められなかっ
た。 また、反射防止層の密着性は　１００％であった。また
、熱衝撃性試験を行っても、温水試験を行っても、クラ
ック発生や、全光線透過率の変化は起こらなかった。

【００４９】実施例２ ポリメチルメタクリレートＡＲ板（三菱レイヨン（株）
製）に参考例１で合成たアンダーコート層用液を、浸漬
法にり、引き上げ速度３０ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、
室温で５分間、さらに８０℃、湿度５％で１時間加熱し
て硬化させた。その後、６０℃、湿度　１００％で３時
間処理した。

【００５０】この上に、参考例３で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　
５．６ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。その
後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００５１】この上に、参考例４で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法にり、引き上げ速度１４
．６ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さらに
８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。その後
、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００５２】この上に、参考例５で合成したＳｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　
６．６ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。その
後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００５３】得られた板の、アンダーコート層の屈折率
は１．４９、膜厚は１μｍ、ＴｉＯ２層（第１層）の屈
折率は１．７８、膜厚は　７７０Å、ＴｉＯ２層（第２
層）の屈折率は１．９５、膜厚は　７００Å、ＳｉＯ２
層の屈折率は１．４３、膜厚さは　９６０Åであった。

【００５４】得られた膜の残存有機物量を炭素原子と金
属原子のモル比　（〔Ｃ〕／〔Ｍ〕）で表すと、ＴｉＯ
２層（第１層）は０．０２、ＴｉＯ２層　（第２層）は
０．０２、ＳｉＯ２層は０．０２であった。また、Ｔｉ
Ｏ２層　（第２層）の細孔径は　１７０Åであった。

【００５５】こうして得られた板の全光線透過率は９８
．８％であり、反射防止層にクラックは認められなかっ
た。 また、反射防止層の密着性は　１００％であった。また
、熱衝撃性試験を行っても、温水試験を行っても、クラ
ック発生や全光線透過率の変化は起こらなかった。

【００５６】比較例１ ポリメチルメタクリレートＡＲ板（三菱レイヨン（株）
製）に参考例１で合成したアンダーコート層用液を、浸
漬法により、引き上げ速度３０ｃｍ／ｍｉｎで塗布した
後、室温で５分間、さらに８０℃、湿度８０％で１時間
加熱して硬化させた。

【００５７】この上に、参考例２で合成したＳｉＯ２／
ＴｉＯ２　層用コーティング溶液を、浸漬法により、引
き上げ速度１３．３ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で
５分間、さらに８０℃、湿度８０％で１時間加熱して硬
化させた。その後、６０℃、湿度　１００％で３時間処
理した後、室温で５分間、さらに８０℃、湿度８０％で
１時間加熱して硬化させた。その後、６０℃、湿度　１
００％で３時間処理した。

【００５８】この上に、参考例３で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度１
８．１ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度８０％で１時間加熱して硬化させた。そ
の後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００５９】この上に、参考例５で合成したＳｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　
６．７ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度８０％で１時間加熱して硬化させた。そ
の後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した後、室
温で５分間、さらに８０℃、湿度８０％で１時間加熱し
て硬化させた。その後、６０℃、湿度　１００％で３時
間処理した。

【００６０】得られた板のアンダーコート層の屈折率は
１．４８、膜厚は１μｍ、ＳｉＯ２／ＴｉＯ２　層の屈
折率は１．５５、膜厚は　８９０Å、ＴｉＯ２層の屈折
率は１．６８、膜厚は１６４０Å、ＳｉＯ２層の屈折率
は１．４２、膜厚は　９７０Åであった。

【００６１】得られた膜の残存有機物量を炭素原子と金
属原子のモル比　（〔Ｃ〕／〔Ｍ〕）で表すと、ＳｉＯ
２／ＴｉＯ２　層は０．０１、ＴｉＯ２層は０．０１、
ＳｉＯ２層は０．０１であった。また、ＴｉＯ２層の細
孔径は　５５０Åであった。

【００６２】こうして得られた板の全光線透過率は９５
．８％であり、反射防止層にクラックは認められなかっ
た。 また、反射防止層の密着性は　１００％であった。また
、熱衝撃性試験を行っても、温水試験を行っても、クラ
ック発生や、全光線透過率の変化は起こらなかった。

【００６３】比較例２ ポリメチルメタクリレートＡＲ板（三菱レイヨン（株）
製）に参考例１で合成したアンダーコート層用液を、浸
漬法により、引き上げ速度３０ｃｍ／ｍｉｎで塗布した
後、室温で５分間、さらに８０℃、湿度８０％で１時間
加熱して硬化させた。その後、６０℃、湿度　１００％
で３時間処理した。

【００６４】この上に、参考例３で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　
６．６ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度８０％で１時間加熱して硬化させた。そ
の後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００６５】この上に、参考例４で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度１
７．７ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度８０％で１時間加熱して硬化させた。そ
の後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００６６】この上に、参考５で合成したＳｉＯ２層用
コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　６
．７ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さらに
８０℃、湿度８０％で１時間加熱して硬化させた。その
後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００６７】得られた板のアンダーコート層の屈折率は
１．４８、膜厚は１μｍ、ＴｉＯ２層（第１層）の屈折
率は１．６４、膜厚は　８４０Å、ＴｉＯ２層（第２層
）の屈折率は１．７３、膜厚は７９５Å、ＳｉＯ２層の
屈折率は１．４２、膜厚は　９７０Åであった。

【００６８】得られた膜の残存有機物量を炭素原子と金
属原子のモル比（〔Ｃ〕／〔Ｍ〕）で表すと、ＴｉＯ２
層（第１層）は０．０１、ＴｉＯ２層　（第２層）は０
．０１、ＳｉＯ２層は０．０１であった。また、ＴｉＯ
２層（第２層）の細孔径は、　４６０Åであった。

【００６９】こうして得られた板の全光線透過率は９６
．３％であり、反射防止層にクラックは認められなかっ
た。 また、反射防止層の密着性は　１００％であった。また
、熱衝撃性試験を行っても、温水試験を行っても、クラ
ック発生や、全光線透過率の変化は起こらなかった。

【００７０】比較例３ ポリメチルメタクリレートＡＲ板（三菱レイヨン（株）
製）に参考例１で合成したアンダーコート層用液を、浸
漬法により、引き上げ速度３０ｃｍ／ｍｉｎで塗布した
後、室温で５分間、さらに８０℃、湿度５％で１時間加
熱して硬化させた。その後、６０℃、湿度　１００％で
３時間処理した。

【００７１】この上に、参考例２で合成したＳｉＯ２／
ＴｉＯ２　層用コーティング溶液を、浸漬法により、引
き上げ速度１３．０ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で
５分間、さらに８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化
させた。

【００７２】この上に、参考例３で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度１
５．６ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。

【００７３】この上に、参考例５で合成したＳｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　
６．５ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。

【００７４】得られた板の、アンダーコート層の屈折率
は１．４９、膜厚は１μｍ、ＳｉＯ２／ＴｉＯ２　層の
屈折率は１．５８、膜厚は　８７０Å、ＴｉＯ２層の屈
折率は１．８１、膜厚は１５２０Å、ＳｉＯ２層の屈折
率は１．４４、膜厚は　９５５Åであった。

【００７５】得られた膜の残存有機物量を炭素原子と金
属原子のモル比　（〔Ｃ〕／〔Ｍ〕）で表すと、ＳｉＯ
２／ＴｉＯ２　層は０．０５、ＴｉＯ２層は０．０８、
ＳｉＯ２層は０．０４であった。また、ＴｉＯ２層の細
孔径は　２００Åであった。

【００７６】こうして得られた板の全光線透過率は９８
．０％であり、反射防止層にクラックは認められなかっ
た。 また、反射防止層の密着性は　１００％であった。熱衝
撃性試験を行っても、温水試験を行っても、クラック発
生は見られなかったが、温水試験の結果、全光線透過率
が、９８．５％となり、緑色に着色した。

【００７７】比較例４ ポリメチルメタクリレートＡＲ板（三菱レイヨン（株）
製）に参考例１で合成したアンダーコート層用液を、浸
漬法により、引き上げ速度３０ｃｍ／ｍｉｎで塗布した
後、室温で５分間、さらに８０℃、湿度５％で１時間加
熱して硬化させた。その後、６０℃、湿度　１００％で
３時間処理した。

【００７８】この上に、参考例３で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　
４．１ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。その
後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００７９】この上に、参考例４で合成したＴｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度１
４．２ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、さら
に８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。その
後、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００８０】この上に、参考例５で合成したＳｉＯ２層
用コーティング溶液を、浸漬法により、引き上げ速度　
６．５ｃｍ／ｍｉｎで塗布した後、室温で５分間、更に
８０℃、湿度５％で１時間加熱して硬化させた。その後
、６０℃、湿度　１００％で３時間処理した。

【００８１】得られた板の、アンダーコート層の屈折率
は１．４９、膜厚は１μｍ、ＴｉＯ２層（第１層）の屈
折率は１．８３、膜厚は　７５０Å、ＴｉＯ２層（第２
層）の屈折率は１．９９、膜厚は　６９０Å、ＳｉＯ２
層の屈折率は１．４４、膜厚は　９５５Åであった。

【００８２】得られた膜の残存有機物量を炭素原子と金
属原子のモル比　（〔Ｃ〕／〔Ｍ〕）で表すと、ＴｉＯ
２層（第１層）は０．０５、ＴｉＯ２層（第２層）は０
．０５、ＳｉＯ２層は０．０４であった。また、ＴｉＯ
２層（第２層）の細孔径は　１７０Åであった。

【００８３】こうして得られた板の全光線透過率は９９
．３％であり、反射防止層にクラックは認められなかっ
た。 また、反射防止層の密着性は　１００％であった。熱衝
撃性試験を行っても、温水試験を行っても、クラック発
生は見られなかったが、温水試験の結果、全光線透過率
が９８．８％となり、緑色に着色した。

【００８４】

【発明の効果】本発明によれば、充分な反射防止性能と
安定性を具備した反射防止膜を有する物品を提供するこ
とができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　有機高分子基板上に多層の反射防止膜
   を形成してなり、原子間力顕微鏡で観察した高屈折率層
   の細孔径が　３００Å以下であることを特徴とする物品
   。