JPH04250401A - 反射防止層を有する基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は反射防止層を有する基板
に関する。反射防止層を有する有機高分子基板はディス
プレイや計器類の前面板、光学レンズ、自動車窓ガラス
等に用いられる。

【０００２】

【従来の技術】上記の用途に用いられる基板に、反射防
止を目的として金属酸化物薄膜を形成させる試みがなさ
れており、そのような手法の一つとして金属アルコキシ
ドの薄膜を形成させた後、これを金属酸化物に転換させ
る方法がある。

【０００３】しかし、このような方法で得られる金属酸
化物薄膜の有機高分子基板への密着性は用途によっては
不充分であり、又、金属酸化物薄膜を基板上に積層する
際、特に多層に積層させる際にクラックが発生し易いと
いう問題があり、より密着性に優れ、かつクラックの発
生し難い金属酸化物薄膜及びその製法の開発が要望され
ていた。

【０００４】このような要望に応える試みとして、特開
昭６１−２３６５０１号公報に、金属アルコキシドと二
官能シラン、三官能シランを併用して反射防止層中に金
属原子に結合した有機基を多量に残したものが提案され
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような反射防止膜
を形成させようとすると、反射防止層形成用の溶液中に
コロイダルシリカや二官能シラン、三官能シランを多量
に用いる必要があり、このため溶液が高粘度となるので
膜厚の制御が困難になると同時に塗布液形成時に気泡を
巻き込み易く、しかも巻き込んだ気泡を除去し難いとい
う問題があり、更に、反射防止層として性能の優れたも
のとするためには反射防止層を少なくとも３層以上とし
、各層の膜厚及び屈折率を充分制御されたものとし、か
つその中の少なくとも１層の屈折率を高いものとする必
要があるが、上記のように有機成分を多量に含有するも
のでは充分屈折率を高いものにすることが困難であると
いう問題があった。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
状況に鑑み、鋭意検討した結果、上述の問題のない優れ
た反射防止層を得る方法を見出し、本発明に到達した。

【０００７】即ち、本発明の要旨は有機高分子基板上に
平均粒径１０００オングストローム以下のコロイダルシ
リカを分散状態で含有する一般式（１）で示されるシラ
ン化合物の部分加水分解物の溶液を塗布、縮合・硬化し
てなるアンダーコート層と、屈折率１．９以上である層
を一層以上含む多層からなる反射防止層を該アンダーコ
ート層の上に有することを特徴とする反射防止層を有す
る基板にある。

【０００８】 ＳｉＲ１ｍＲ２ｎ（ＯＲ３　）４−ｍ−ｎ　　　　　　
　　　　　（１）（式中、Ｒ１　、Ｒ２　は各々独立に
水素、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキ
ル基又はアルケニル基又は置換基を有していてもよい炭
素数６〜１２のアリール基であって、アルキル基、アル
ケニル基又はアリール基が置換基を有するものである場
合はその置換基はビニル基、アミノ基、シアノ基、エポ
キシ基、グリシジルオキシ基、メタクリロイルオキシ基
、メルカプト基、塩素及び弗素からなる群より選ばれる
１種以上であり、Ｒ３は炭素数１〜６の炭化水素基を示
し、ｍ及びｎは各々０、１又は２であって、但しｍ＋ｎ
が１又は２を満足するものを示す。）

【０００９】本発明において用いられる基板としてはど
のようなものも用いることができるが、光学用途に用い
る場合は透明性、分散性、屈折率等の光学特性の適切な
ものであることが好ましく、ポリメチルメタクリレート
あるいはその共重合体、ポリカーボネート、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート、ポリスチレン、Ａ
Ｓ樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート
等のポリエステル樹脂等を好ましい基板の材料として例
示できる。なお、基板としては平板に限定されるもので
はなく、レンズ等の成形品もその概念に含まれるもので
ある。

【００１０】本発明でいうアンダーコート層とは基板と
金属酸化物薄膜の間に設けられ、基板と金属酸化物薄膜
の熱膨張係数の差によって生じる応力を緩和する役割を
担っている。そこで、アンダーコート層の熱膨張係数は
基板の熱膨張係数と金属酸化物薄膜の熱膨張係数の中間
となるようにするのが好ましい。このアンダーコート層
の熱膨張係数のコントロールはコロイダルシルカを低熱
膨張係数成分として用い、二官能及び三官能シランの一
種以上の加水分解、縮合・硬化物を高熱膨張係数成分と
して用い、これらの混合比によって該層の熱膨張係数を
調整するのが、両成分の相溶性が良いこと、反射防止層
に悪影響を与えることが少ないこと等から好ましい。

【００１１】従って、本発明においては、平均粒径１０
００オングストローム以下のコロイダルシリカを分散状
態で含有する前記一般式（１）で示されるシラン化合物
の部分加水分解物の溶液をアンダーコート層形成用溶液
として用いる。コロイダルシリカの平均粒径が１０００
オングストロームを超えるとアンダーコート層における
全光線透過率が低下するので好ましくない。

【００１２】前記一般式（１）で示されるシラン化合物
の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルジメトキシエトキシシラン
、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリフ
ェノキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，３，
３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
タクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシ
ラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、グリシジ
ルメチルトリメトキシシラン、グリシジルメチルトリエ
トキシシラン、β−グリシジルエチルトリメトキシシラ
ン、β−グリシジルエチルトリエトキシシラン、γ−グ
リシジルプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジル
プロピルトリエトキシシラン、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメ
トキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル
）ブチルトリメトキシシラン、グリシジルオキシメチル
トリメトキシシラン、グリシジルオキシメチルトリエト
キシシラン、β−グリシジルオキシエチルトリメトキシ
シラン、β−グリシジルオキシエチルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、
δ−グリシジルオキシブチルトリメトキシシラン、δ−
グリシジルオキシブチルトリエトキシシラン、クロロメ
チルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシ
ラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメ
チルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシ
ラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン
、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチル
ビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラ
ン、グリシジルオキシメチル（メチル）ジメトキシシラ
ン、グリシジルオキシメチル（エチル）ジメトキシシラ
ン、グリシジルオキシメチル（フェニル）ジメトキシシ
ラン、グリシジルオキシメチル（ビニル）ジメトキシシ
ラン、β−グリシジルオキシエチル（メチル）ジメトキ
シシラン、β−グリシジルオキシエチル（エチル）ジメ
トキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル（メチル
）ジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル（
エチル）ジメトキシシラン、δ−グリシジルオキシブチ
ル（メチル）ジメトキシシラン、δ−グリシジルオキシ
ブチル（エチル）ジメトキシシラン、ビス（グリシジル
オキシメチル）ジメトキシシラン、ビス（グリシジルオ
キシメチル）ジエトキシシラン、ビス（β−グリシジル
オキシエチル）ジメトキシシラン、ビス（γ−グリシジ
ルオキシプロピル）ジエトキシシラン等を示すことがで
き、これらの２種以上を混合して用いることもできる。

【００１３】これらのシラン化合物は部分加水分解物の
溶液として用いられるが、溶剤としてはシラン化合物に
対して不活性である溶剤であれば何でも用いることがで
きるが、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタ
ノール等の低級アルコール、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のカルボン酸エステル類を好ましいものとし
て例示でき、これらは混合溶媒として用いることもでき
る。

【００１４】又、上記シラン化合物の部分加水分解物を
得るためには上記のシラン化合物に塩酸、酢酸、硫酸等
の酸性化合物の水溶液を添加すればよい。加水分解に用
いる酸性化合物の量はシラン化合物の１．５〜１０倍モ
ルであることが好ましい。酸性化合物の量が上記下限未
満であると反射防止層を形成した時にクラックが発生し
易くなり、上記上限を越えると得られる反射防止層の外
観が不良となる。

【００１５】本発明において用いられるアンダーコート
層形成用溶液におけるシラン化合物部分加水分解物とコ
ロイダルシリカの比は、シラン化合物部分加水分解物１
００重量部に対しコロイダルシリカが１０〜７００重量
部であることが好ましい。

【００１６】本発明においてアンダーコート層形成用溶
液として用いられるコロイダルシリカを含有するシラン
化合物の部分加水分解物の溶液の粘度は塗布のし易さ、
塗布された塗膜の均一性の観点から２０センチポアズ以
下であることが好ましく、１０センチポアズ以下である
ことがより好ましい。

【００１７】本発明においては上記のアンダーコート層
形成用溶液を基板上に塗布し、溶媒が含まれている場合
は溶媒を蒸発させ、更に焼成してアンダーコート層を形
成させる。この塗布乾燥は必要に応じて複数回繰り返し
てもよく、繰り返す場合は同じ組成の溶液を繰り返し塗
布してもよく、塗布の都度組成の異なる溶液を用いても
よい。塗布の都度溶液中のシラン化合物とコロイダルシ
リカの混合比率を変えることによって、熱膨張係数が厚
み方向で勾配を持つようにすることもでき、こうするこ
とにより耐熱性を向上させることができる。アンダーコ
ート層形成のための焼成条件は基板の耐熱性によっても
左右されるが、６０℃以上であって基板の熱変形温度以
下であることが好ましい。６０℃以上で焼成するとアン
ダーコート層の耐摩耗性が向上する。又、活性エネルギ
ー線による加熱硬化も可能である。

【００１８】アンダーコート層の厚みは０．２〜３μｍ
であることが好ましく、０．２μｍ未満であると基板と
反射防止層の熱膨張係数の違いによる応力をアンダーコ
ート層で緩和する役割を充分果たせないようになる。厚
みが３μｍを越えても何のメリットもなく、むしろ加熱
硬化に時間がかかるという欠点を生ずる。

【００１９】本発明において、反射防止層はその機能を
果たすために、膜厚、屈折率が一定の条件の範囲内にあ
ることが好ましい。即ち反射防止層を３層以上からなる
多層のものとし、反射防止層を形成する各層の屈折率を
基板側（アンダーコート層側）から最外層の隣の層（反
射防止層の層の数をｎとし、基板側から１層、２層とし
た時第ｎ−１層）まで順に屈折率が高くなるようにし、
最も外の層（第ｎ層）はその隣の層（第ｎ−１層）より
低い屈折率のものとし、少なくとも最も屈折率の高い層
の屈折率が１．９以上であるようにすることが好ましい
。又、反射防止層を形成する各層の厚みは可視周辺領域
内で選ばれる任意の基準波長（単位ｎｍ）をλとした時
、その層の屈折率と厚みの積が最も屈折率の高い層では
λ／４の整数倍に近く、それ以外の層ではλ／４の奇数
倍に近い値となるように選ばれたものであることが好ま
しい。

【００２０】なお、反射防止層の層の数は多ければ多い
ほど幅広い波長範囲で反射率を下げることができるが、
層の数が多くなるとそれだけ製造に手間とコストがかか
るようになるので、反射防止層の層の数としては３〜８
であることが好ましく、３〜４であることがより好まし
い。

【００２１】３層及び４層の場合、基板側から第ｎ層の
屈折率をｎｎ　とした時、 ３層では、１．５５≦ｎ１　≦１．８５１．９０≦ｎ２
　≦２．２５ １．３８≦ｎ３　≦１．５０ ４層では、１．３８≦ｎ１　≦１．６５１．５５≦ｎ２
　≦１．８５ １．９０≦ｎ３　≦２．４０ １．３８≦ｎ４　≦１．５０とし、膜厚は上記の条件を
満足するものであるものを設計例として例示できる。

【００２２】反射防止層の各層は金属アルコキシドある
いはその部分加水分解物の溶液を塗布、溶媒を蒸発、焼
成して金属酸化物とすることにより得ることができる。 ここで用いられる金属アルコキシドの種類については特
に限定されるものではなく、目的とする屈折率とするた
めに金属アルコキシドを適宜組み合わせて用いることが
できる。例えば周期律表におけるランタナイド元素を除
くＩＩＢ　〜ＶＩＢ　族の元素、窒素を除くＩＩＩＡ〜
ＶＡ　族の元素、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、
銅のいずれのアルコキシドをも用いることができ、これ
らを適宜組み合わせて用いることができる。

【００２３】又、上記の元素のアルコキシドと組み合わ
せて用いる限りは、水素、フランシウム、ラジウムを除
くＩＡ　、ＩＩＡ　の元素、ランタナイド族元素、硫黄
、セレン、テルル、トリウム、プロトアクチニウム、ウ
ラン、プルトニウム等のアルコキシドも用いることがで
きる。

【００２４】上記の中、好ましい金属アルコキシドの金
属成分としてチタン、ジルコニウム、インジウム、ハフ
ニウム、イットリウム、タンタル、アンチモン、錫、亜
鉛、アルミニウム、ビスマス、モリブデン、スカンジウ
ム、タングステン、珪素或いはこれらの２種以上の組み
合わせ等を挙げることができ、これらと組み合わせて用
いる好ましい金属アルコキシドの金属成分としてセリウ
ム、プラセオジム、ネオジム、ユーロピウム、ランタン
或いはこれらの２種以上の組み合わせを挙げることがで
きる。

【００２５】金属アルコキシドのアルコキシド成分の炭
素数は１〜５であることが好ましい。これが６以上であ
ると焼成後でもアルコキシドに由来する有機成分が残存
し易い傾向にある。金属アルコキシドとしては１種の金
属アルコキシド中で全てのアルコキシドが同じ炭素数の
ものであってもよく、互いに異なるものであってもよい
。又、金属アルコキシドとして異なる炭素数の金属アル
コキシドの混合物であってもよい。

【００２６】金属アルコキシド或いはその部分加水分解
物の溶液に用いられる溶媒としてはアルコール、脂肪族
炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ケト
ン系溶媒、エステル系溶媒、セロソルブ類等を用いるこ
とができ、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸
ブチル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等を好ましいも
のとして例示でき、これらの２種以上を混合して用いて
もよい。

【００２７】即ち、反射防止層形成用液としては上述の
金属アルコキシドの溶液に少量の酸と水を添加したもの
を用いてもよく、この溶液をしばらく放置してある程度
加水分解と部分縮合したもの（部分加水分解物という）
を用いてもよい。

【００２８】屈折率が１．９以上の反射防止層を形成す
るためにはチタン、ジルコニウム、インジウム、ハフニ
ウム、イットリウム、タンタル、アンチモン、錫、亜鉛
の１種以上、或いはこれにセリウム、プラセオジム、ネ
オジウムを組み合わせたものを金属アルコキシドの金属
成分として選び、アルコキシドとして炭素数１〜３のも
のを用い、溶剤としてメタノール、エタノール、プロパ
ノール、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン等の
低沸点のものを選ぶのが好ましい。

【００２９】上述の金属の中ではチタンが安定な反射防
止層形成用液を形成できるので好ましい。チタン以外の
金属を用いる場合は該液の調製をごく乾燥した条件下で
行なうか、該液に少量のキレート剤を添加するのが好ま
しい。

【００３０】反射防止層形成用液の粘度は塗布のし易さ
、塗布された塗膜の均一性等の観点から２０センチポア
ズ以下であることが好ましく、１０センチポアズ以下で
あることがより好ましい。

【００３１】反射防止層の形成は各層毎に、所定の屈折
率になるように調製した上記反射防止層形成用液を塗布
、溶媒の蒸発、焼成を行なって所定の膜厚の金属酸化物
薄膜を形成させるという一連の操作を層の数だけ繰り返
すことにより行なわれる。

【００３２】焼成条件はアンダーコート層形成の時と同
様、６０℃以上、かつ、基板の熱変形温度以下で行なう
のが好ましい。

【００３３】

【実施例】以下に実施例を用いて本発明を更に詳しく説
明する。なお、物性評価は下記の方法で行なった。 １）密着性：反射防止層を形成させた基板の反射防止層
をカミソリで１ｍｍ×１ｍｍの升目を１００個形成する
ようにクロスカットし、クロスカット面にセロハン粘着
テープ（ニチバン（株）製、品番４０５）を充分に密着
させた後該粘着テープを剥離することを３度繰り返した
後、剥離しないで残った反射防止層の升目の数を密着性
の尺度とした。

【００３４】２）膜厚：エリプソメーター（溝尻光学工
業所製）で測定した。３）粘度：回転式粘度計（東京計
器製）で測定した。 ４）クラック発生の有無：倍率４００倍の光学顕微鏡を
用いて目視観察した。

【００３５】５）耐熱衝撃性：反射防止層を有する基板
を８０℃で５分間加熱した後、氷水中に投入して急冷し
た後のクラックの発生の有無を上記方法で観察した。 ６）耐温水性：反射防止層を有する基板を６０℃の温水
中に２４時間浸漬後のクラックの発生の有無を上記方法
で観察した。 ７）全光線透過率：ＪＩＳ　　Ｋ　　７１０５に従って
測定した。

【００３６】実施例１ γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン８．
５ｇに１０℃で０．０５Ｎ塩酸水溶液１．３ｇを滴下し
、更に室温で１時間撹拌を続けてシラン部分加水分解物
を得た。これにコロイダルシリカのイソプロパノール分
散液（触媒化成性、オスカル１４３２、固形分３２％、
粒径１００〜２００オングストローム）３０ｇとイソプ
ロパノール４０ｇを添加して１時間撹拌混合してアンダ
ーコート層形成用溶液（粘度４．７センチポアズ）を得
た。

【００３７】又、テトラｎ−ブチルオルソチタネート２
８．４ｇをｎ−ブタノール１００ｍｌに加えてなる溶液
に２Ｎ塩酸２．７ｍｌとｎ−ブタノール１００ｍｌを添
加して撹拌してテトラｎ−ブチルオルソチタネートの部
分加水分解物からなる反射防止層第１層形成用溶液（粘
度３．７センチポアズ）を得た。

【００３８】又、テトライソプロピルオルソチタネート
２８．４ｇをエタノール１００ｍｌに溶解した溶液に２
Ｎ塩酸２．７ｍｌとエタノール１００ｍｌを添加して撹
拌してテトライソプロピルオルソチタネートの部分加水
分解物からなる反射防止層第２層形成用溶液（粘度１．
８センチポアズ）を得た。

【００３９】又、テトラエチルオルソシリケート２０．
８ｇをイソプロパノール６５ｍｌに溶解した溶液に水９
．０ｇと２Ｎ塩酸１ｇとイソプロパノール１００ｍｌを
添加して撹拌してテトラエチルオルソシリケートの部分
加水分解物からなる反射防止層第３層形成用溶液（粘度
２．８センチポアズ）を得た。

【００４０】上記で得たアンダーコート層形成用溶液を
ポリメチルメタクリレートＡＲ板（三菱レイヨン（株）
製、屈折率１．４９）に浸漬法で塗布した後、室温で５
分、更に８０℃で１時間加熱乾燥し、硬化させて基板上
に膜厚１．５μｍのアンダーコート層を形成した。更に
、その上に上記で得た反射防止層第１層形成用溶液を浸
漬法を用いて引き上げ速度４．１ｃｍ／ｍｉｎで塗布し
た後、室温で５分、更に８０℃で３０分間加熱硬化させ
、その上に上記で得た反射防止層第２層形成用溶液を浸
漬法を用いて引き上げ速度１４．２ｃｍ／ｍｉｎで塗布
した後、室温で５分、更に８０℃で３０分間加熱硬化さ
せ、その上に上記で得た反射防止層第３層形成用溶液を
浸漬法を用いて引き上げ速度６．５ｃｍ／ｍｉｎで塗布
した後、室温で５分、更に８０℃で１時間加熱硬化させ
て３層からなる反射防止層を形成させた。得られた反射
防止層付き基板の全光線透過率は９９．３％であった。

【００４１】反射防止層第１層の屈折率は１．８３、膜
厚は７５０オングストローム、第２層の屈折率は１．９
９、膜厚は６９０オングストローム、第３層の屈折率は
１．４４、膜厚は９５５オングストロームであった。反
射防止層の密着性は１００％で、クラックの発生はなく
、耐熱衝撃性試験及び耐温水試験のいずれでもクラック
は発生しなかった。

【００４２】実施例２ 反射防止層第１層形成用溶液としてテトライソプロピル
オルソチタネート２６．０ｇ、テトラエチルオルソシリ
ケート１０．５ｇ及びエタノール１５０ｍｌに水４．８
ｇ、塩酸１．０ｇ、エタノール１２５ｍｌを添加して撹
拌して得た部分加水分解物（粘度１．９センチポアズ）
を用い、反射防止層第２層形成用溶液としてテトライソ
プロピルオルソチタネート２８．４ｇ、イソプロパノー
ル６８ｍｌ、ｎ−ブタノール３２ｍｌの混合溶液に２Ｎ
塩酸２．７ｍｌ、イソプロパノール６８ｍｌ、ｎ−ブタ
ノール３２ｍｌを添加、撹拌して得た部分加水分解物（
粘度２．９センチポアズ）を用い、反射防止層第３層及
び第４層として実施例１で反射防止層第２層及び第３層
に用いた溶液を各々用い、実施例１と同様にして得たア
ンダーコート層で被覆されたポリメチルメタクリレート
板の上にいずれも浸漬法で、引き上げ速度を第１層では
１２．８ｃｍ／ｍｉｎ、第２層では６．４ｃｍ／ｍｉｎ
、第３層では１４．２ｃｍ／ｍｉｎ、第４層では６．５
ｃｍ／ｍｉｎで塗布し、いずれも塗布後室温で５分、８
０℃で３０分間か熱硬化させることにより、４層からな
る反射防止層を形成させた。得られた反射防止層付き基
板の全光線透過率は９９．１％であった。 又、反射防止層各層の屈折率は第１層が１．５６、第２
層が１．８９、第３層が１．９９、第４層が１．４４、
であり、これらの層の膜厚は第１層から順に各々８８０
、７３０、６９０及び９５５オングストロームであった
。反射防止層の密着性は１００％で、クラックの発生は
なく、耐熱衝撃性試験及び耐温水試験のいずれでもクラ
ックは発生しなかった。

【００４３】実施例３ 反射防止層第１層形成用溶液としてテトライソプロピル
オルソチタネート３５．２ｇ、テトラエチルオルソシリ
ケート８．１ｇ及びエタノール１５０ｍｌに水４．８ｇ
、塩酸１．０ｇ、エタノール１２５ｍｌを添加して撹拌
して得た部分加水分解物（粘度１．８センチポアズ）を
用い、反射防止層第２層形成用溶液としてテトライソプ
ロピルオルソチタネート２８．４ｇ、イソプロパノール
１００ｍｌの溶液に２Ｎ塩酸２．７ｍｌ、イソプロパノ
ール１００ｍｌを添加、撹拌して得た部分加水分解物（
粘度２．４センチポアズ）を用い、反射防止層第１層と
第２層の引き上げ速度を各々１３．７ｃｍ／ｍｉｎ、７
．０ｃｍ／ｍｉｎとした以外は実施例１と同様にして３
層からなる反射防止層を設けた基板を得た。この全光線
透過率は９９．１％であり、反射防止層各層の屈折率は
第１層から順に１．７７、１．９３、１．４４であり、
膜厚は第１層から順に７７０、７１０、９５５オングス
トロームであり、反射防止層の密着性は１００％で、ク
ラックの発生はなく、耐熱衝撃性試験及び耐温水試験の
いずれでもクラックは発生しなかった。

【００４４】実施例４〜１１ アンダーコート層形成用溶液に用いるシラン部分加水分
解物として １）γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
８．５ｇの代わりにγ−メタクリロイルオキシプロピル
トリメトキシシラン８．３ｇを用いた以外は実施例１と
同様にして得たもの（実施例４） ２）γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
８．５ｇの代わりにフェニルトリメトキシシラン８．３
ｇを用いた以外は実施例１と同様にして得たもの（実施
例５） ３）γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
８．５ｇの代わりにビニルトリメトキシシラン８．３ｇ
を用いた以外は実施例１と同様にして得たもの（実施例
６） ４）γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
８．５ｇの代わりにジメチルジエトキシシラン８．３ｇ
を用いた以外は実施例１と同様にして得たもの（実施例
７）

【００４５】５）γ−グリシジルオキシプロピルトリメ
トキシシラン８．５ｇの代わりにメチルトリエトキシシ
ラン８．３ｇを用いた以外は実施例１と同様にして得た
もの（実施例８） ６）γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
８．５ｇの代わりにγ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン８．３ｇを用いた以外は実施例１と同様にして得た
もの（実施例９） ７）γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
８．５ｇの代わりにγ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン８．３ｇを用いた以外は実施例１と同様にして
得たもの（実施例１０） ７）γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
８．５ｇの代わりにトリフルオロエチルトリメトキシシ
ラン８．３ｇを用いた以外は実施例１と同様にして得た
もの（実施例１１）を各々用いた以外は実施例１と同様
にして３層の反射防止層付き基板を得た。用いたアンダ
ーコート形成用溶液の粘度はいずれも４．７センチポア
ズであり、得られた反射防止層付き基板の全光線透過率
はいずれの場合も９９．３％であり、いずれの場合も反
射防止層の密着性は１００％で、クラックの発生はなく
、耐熱衝撃性試験及び耐温水試験のいずれでもクラック
は発生しなかった。

【００４６】実施例１２ 基板としてポリメチルメタクリレートＡＲ板の代わりに
ポリカーボネート板（三菱レイヨン（株）製、屈折率１
．５９、全光線透過率８７％）を用いた以外は実施例１
と同様にした。反射防止層付き基板の全光線透過率は８
６．７％であった。反射防止層の密着性は１００％で、
クラックの発生はなく、耐熱衝撃性試験及び耐温水試験
のいずれでもクラックは発生しなかった。

【００４７】実施例１３、１４ アンダーコート層形成用溶液に用いるシアン化合物とイ
ソプロパノール分散コロイダルシリカの量を実施例１の
８．５ｇ、３０ｇの代わりに３３．０ｇ、７．０ｇ（実
施例１３）、５．０ｇ、３５．０ｇ（実施例１４）とし
た以外は実施例１と同様にした。アンダーコート層用溶
液の粘度は前者が４．９センチポアズ、後者が４．５セ
ンチポアズであり、得られた反射防止層付き基板の全光
線透過率はいずれの場合も９９．３％であり、いずれの
場合も反射防止層の密着性は１００％で、クラックの発
生はなく、耐熱衝撃性試験及び耐温水試験のいずれでも
クラックは発生しなかった。

【００４８】比較例１ 基板上にアンダーコート層を設けずに直接反射防止層を
形成させた以外は実施例１と同様にした。得られた反射
防止層付き基板の全光線透過率は９９．３％であり、反
射防止層の密着性は１００％であったが、反射防止層第
２層を形成させるために塗布後に焼成した際にクラック
が発生した。

【００４９】比較例２ 反射防止層第１層形成用溶液としてテトライソプロピル
オルソチタネート２３．９ｇ、テトラエチルオルソシリ
ケート１６．２ｇ及びエタノール１５０ｍｌに水４．８
ｇ、塩酸１．０ｇ、エタノール１２５ｍｌを添加して撹
拌して得た部分加水分解物（粘度１．９センチポアズ）
を用い、反射防止層第２層形成用溶液としてテトライソ
プロピルオルソチタネート２８．４ｇ、イソプロパノー
ル５０ｍｌ、ｎ−ブタノール５０ｍｌの混合溶液に２Ｎ
塩酸２．７ｍｌ、イソプロパノール５０ｍｌ、ｎ−ブタ
ノール５０ｍｌを添加、撹拌して得た部分加水分解物（
粘度３．５センチポアズ）を用い、反射防止層第１層と
第２層の引き上げ速度を各々１３．７ｃｍ／ｍｉｎ、５
．２ｃｍ／ｍｉｎとした以外は実施例１と同様にして３
層からなる反射防止層を設けた基板を得た。この全光線
透過率は９８．８％であり、同様の基板を用いて行なっ
た各実施例で得られたものに比べて低い値を示した。反
射防止層各層の屈折率は第１層から順に１．７０、１．
８５、１．４４であり、膜厚は第１層から順に８１０、
７４０、９５５オングストロームであった。

【００５０】

【発明の効果】以上述べたように本発明の反射防止層を
有する基板は全光線透過率に優れ、しかも反射防止層の
密着性に優れ、反射防止層にクラックの発生もなく、耐
熱衝撃性、耐温水性に優れるという特徴を有する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】有機高分子基板上に平均粒径１０００オン
   グストローム以下のコロイダルシリカを分散状態で含有
   する一般式（１）で示されるシラン化合物の部分加水分
   解物の溶液を塗布、縮合・硬化してなるアンダーコート
   層と、屈折率１．９以上である層を一層以上含む多層か
   らなる反射防止層を該アンダーコート層の上に有するこ
   とを特徴とする反射防止層を有する基板。 ＳｉＲ１ｍＲ２ｎ（ＯＲ３　）４−ｍ−ｎ　　　　　　
   　　　　　（１）（式中、Ｒ１　、Ｒ２　は各々独立に
   水素、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキ
   ル基又はアルケニル基又は置換基を有していてもよい炭
   素数６〜１２のアリール基であって、アルキル基、アル
   ケニル基又はアリール基が置換基を有するものである場
   合はその置換基はビニル基、アミノ基、シアノ基、エポ
   キシ基、グリシジルオキシ基、メタクリロイルオキシ基
   、メルカプト基、塩素及び弗素からなる群より選ばれる
   １種以上であり、Ｒ３は炭素数１〜６の炭化水素基を示
   し、ｍ及びｎは各々０、１又は２であって、但しｍ＋ｎ
   が１又は２を満足するものを示す。）