JPH04352159A - 電子写真感光体の浸漬塗布法 - Google Patents
電子写真感光体の浸漬塗布法Info
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- JPH04352159A JPH04352159A JP12751391A JP12751391A JPH04352159A JP H04352159 A JPH04352159 A JP H04352159A JP 12751391 A JP12751391 A JP 12751391A JP 12751391 A JP12751391 A JP 12751391A JP H04352159 A JPH04352159 A JP H04352159A
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体の製造方
法に関し、特に円筒状感光体の浸漬塗布法に関する。
法に関し、特に円筒状感光体の浸漬塗布法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真感光体のごとく円筒状の基体上
に感光層等の薄膜を有するものを製造するには必要な化
学組成物を溶液とし、基体上に塗布乾燥する方法が広く
行われている。
に感光層等の薄膜を有するものを製造するには必要な化
学組成物を溶液とし、基体上に塗布乾燥する方法が広く
行われている。
【0003】この場合、基体円筒部の全面にむらのない
均一な厚みの層を形成することが重要である。
均一な厚みの層を形成することが重要である。
【0004】こうした層を形成し得る塗布方法として、
特開昭60−66252号に基体の温度を塗料の温度と
ほぼ等しくすることが開示されている。又、特開昭61
−149272号には、円筒状基体の浸漬塗布中の円筒
下部からの気泡の発生を防止する為に円筒基体内部の気
体の温度と塗布液の温度を調整することが開示されてい
る。
特開昭60−66252号に基体の温度を塗料の温度と
ほぼ等しくすることが開示されている。又、特開昭61
−149272号には、円筒状基体の浸漬塗布中の円筒
下部からの気泡の発生を防止する為に円筒基体内部の気
体の温度と塗布液の温度を調整することが開示されてい
る。
【0005】しかしながら近年のレーザビームプリンタ
用感光体ドラムには今なお微細な塗布むらが問題となり
満足すべき程度には到らず、塗布むらによる画像欠陥が
検知される。
用感光体ドラムには今なお微細な塗布むらが問題となり
満足すべき程度には到らず、塗布むらによる画像欠陥が
検知される。
【0006】
【発明の目的】本発明の第一の目的は、塗布むらによる
画像欠陥を抑止することにある。特にレーザビームプリ
ンタ用の感光体として反転現像を行った場合、僅かの塗
布むらでさえも検知されるのでこれら欠陥を抑止するこ
とにある。
画像欠陥を抑止することにある。特にレーザビームプリ
ンタ用の感光体として反転現像を行った場合、僅かの塗
布むらでさえも検知されるのでこれら欠陥を抑止するこ
とにある。
【0007】第二の目的は、繰返し使用した場合の画像
欠陥を抑止することにある。初期に於ては見出されなか
った塗布むらも多数回コピー後には出現するからである
。
欠陥を抑止することにある。初期に於ては見出されなか
った塗布むらも多数回コピー後には出現するからである
。
【0008】第三の目的は、高温高湿下あるいは低温下
での使用に於ても画像欠陥の発生しない感光体を提供す
ることにある。
での使用に於ても画像欠陥の発生しない感光体を提供す
ることにある。
【0009】第四の目的は、チタニルフタロシアニン感
光体等の高感度感光体に対して画像欠陥のない感光体を
提供することにある。
光体等の高感度感光体に対して画像欠陥のない感光体を
提供することにある。
【0010】第五の目的は生産コストに有利な感光体を
提供することにある。
提供することにある。
【0011】
【発明の構成】前記本発明の目的は;電子写真感光体の
製造に円筒状基体を用い、塗布槽に円筒状基体を浸漬、
引上げて塗布する浸漬塗布において、塗布液に使用する
主たる溶剤の沸点が100℃以下、25℃における粘度
が30cp以下の塗布液を用い、塗布時の円筒状基体、
塗布液及び塗布槽内空気夫々の温度(℃)を夫々TD,
TL及びTAとするとき、 30≧TD−TL≧2,かつ10≧TA−TL≧0に保
つことを特徴とする電子写真感光体の浸漬塗布法によっ
て達成される。
製造に円筒状基体を用い、塗布槽に円筒状基体を浸漬、
引上げて塗布する浸漬塗布において、塗布液に使用する
主たる溶剤の沸点が100℃以下、25℃における粘度
が30cp以下の塗布液を用い、塗布時の円筒状基体、
塗布液及び塗布槽内空気夫々の温度(℃)を夫々TD,
TL及びTAとするとき、 30≧TD−TL≧2,かつ10≧TA−TL≧0に保
つことを特徴とする電子写真感光体の浸漬塗布法によっ
て達成される。
【0012】尚本発明の態様においては、塗布液が顔料
分散液であり、塗布液の主たる溶剤の比重と顔料の比重
差が0.4g/cc以上である塗布液を用いることが好
ましい。
分散液であり、塗布液の主たる溶剤の比重と顔料の比重
差が0.4g/cc以上である塗布液を用いることが好
ましい。
【0013】本発明においては、塗布液温TL及び塗布
面が露呈される塗布槽内空気温TAは、必要によっては
循環調温によって一定に保ち、10≧TA−TL≧0(
℃)の最適温度点に定めることができる。しかし基体温
度及び基体内に閉込められる空気温は、浸漬塗布が単品
処理となるため、液温、空気温との平衡に委ねられる。 従って浸漬塗布中、基体温度TDの関る関係式を満足す
るよう、予備試験によって予め調節され、また塗布速度
(時間)も適合させられる。
面が露呈される塗布槽内空気温TAは、必要によっては
循環調温によって一定に保ち、10≧TA−TL≧0(
℃)の最適温度点に定めることができる。しかし基体温
度及び基体内に閉込められる空気温は、浸漬塗布が単品
処理となるため、液温、空気温との平衡に委ねられる。 従って浸漬塗布中、基体温度TDの関る関係式を満足す
るよう、予備試験によって予め調節され、また塗布速度
(時間)も適合させられる。
【0014】前記温度規制の関係式の2つから導かれる
ように、TDは、 TL+30≧TD≧TL+2 TA+20≧TD≧TA+2 である。即ちTDはTLより30〜2℃高く、またTA
より20〜2℃高い温度が保てるように加熱して浸漬塗
布にかけられる。
ように、TDは、 TL+30≧TD≧TL+2 TA+20≧TD≧TA+2 である。即ちTDはTLより30〜2℃高く、またTA
より20〜2℃高い温度が保てるように加熱して浸漬塗
布にかけられる。
【0015】また本発明に用いる塗布液の粘度及び顔料
に対する比重差は、使用溶剤とバインダとの量比によっ
て定められる。
に対する比重差は、使用溶剤とバインダとの量比によっ
て定められる。
【0016】基体の温度を塗布液の温度よりも上げるこ
とにより塗布むらのない感光体が得られることについて
は未だその理由がはっきりしない。しかし、低沸点、低
粘度の塗布液あるいは溶媒−顔料の比重差が大きい場合
上記の温度差の効果は大きい。
とにより塗布むらのない感光体が得られることについて
は未だその理由がはっきりしない。しかし、低沸点、低
粘度の塗布液あるいは溶媒−顔料の比重差が大きい場合
上記の温度差の効果は大きい。
【0017】下引層(UCL)用塗布液の場合、塗布液
の25℃に於ける粘度が30cp、好ましくは20cp
以下かつ塗布液の主たる溶剤の沸点が100℃以下、電
荷発生層(CGL)液の場合、塗布液の25℃に於ける
粘度が30cp、好ましくは20cp以下かつ塗布液の
主たる溶剤と顔料の比重差が0.4g/cc、好ましく
は0.5g/cc以上の場合特に有効である。
の25℃に於ける粘度が30cp、好ましくは20cp
以下かつ塗布液の主たる溶剤の沸点が100℃以下、電
荷発生層(CGL)液の場合、塗布液の25℃に於ける
粘度が30cp、好ましくは20cp以下かつ塗布液の
主たる溶剤と顔料の比重差が0.4g/cc、好ましく
は0.5g/cc以上の場合特に有効である。
【0018】本発明に用いられる塗布法は浸漬塗布方法
であればいずれの形態にも使用される。例えばオーバフ
ロー、塗布持去り量を補償供給して液面位一定とする形
態等であるが、生産にはオーバフローの形態が好ましい
。又、塗布槽底部の塗布液流入開口上方に塗布液流の整
流板或いは基体への直接の流突を緩和する緩衝円板、又
は整流板−緩衝円板の組合せを用いてもよい。
であればいずれの形態にも使用される。例えばオーバフ
ロー、塗布持去り量を補償供給して液面位一定とする形
態等であるが、生産にはオーバフローの形態が好ましい
。又、塗布槽底部の塗布液流入開口上方に塗布液流の整
流板或いは基体への直接の流突を緩和する緩衝円板、又
は整流板−緩衝円板の組合せを用いてもよい。
【0019】本発明で用いられる主たる溶剤とは塗布液
成分の溶媒として少なくとも体積比で60%以上含まれ
ている溶剤である。
成分の溶媒として少なくとも体積比で60%以上含まれ
ている溶剤である。
【0020】本発明で用いられる沸点が100℃以下の
溶剤としては、メタノール(64.5℃)、エタノール
(78.2℃)、イソプロピルアルコール(82.3℃
)、t−ブチルアルコール(82.4℃)等のアルコー
ル類、n−ヘキサン(70℃)、シクロヘキサン(80
.8℃)等の炭化水素類、アセトン(56.1℃)、メ
チルエチルケトン(79.6℃)等のケトン類、酢酸エ
チル(77℃)、酢酸t−ブチル(97.8℃)、酢酸
イソプロピル(88.4℃)等のエステル類、エチレン
クロライド(83.5℃)、トリクロルエチレン(86
.7℃)等の塩化炭化水素類が挙げられる。
溶剤としては、メタノール(64.5℃)、エタノール
(78.2℃)、イソプロピルアルコール(82.3℃
)、t−ブチルアルコール(82.4℃)等のアルコー
ル類、n−ヘキサン(70℃)、シクロヘキサン(80
.8℃)等の炭化水素類、アセトン(56.1℃)、メ
チルエチルケトン(79.6℃)等のケトン類、酢酸エ
チル(77℃)、酢酸t−ブチル(97.8℃)、酢酸
イソプロピル(88.4℃)等のエステル類、エチレン
クロライド(83.5℃)、トリクロルエチレン(86
.7℃)等の塩化炭化水素類が挙げられる。
【0021】浸漬塗布において塗布液を高粘度にすれば
膜厚むら等の塗布故障が生じやすくなる。即ち、塗布膜
厚の増大、垂れの発生や膜厚むらの伝播、累増が起り、
レーザビームプリンタ等に用いる高感度感光体の場合画
像にむらとなって表れ、使用に耐えられなくなる。又、
塗布スピードが遅くなりコスト的に非常に不利となる。
膜厚むら等の塗布故障が生じやすくなる。即ち、塗布膜
厚の増大、垂れの発生や膜厚むらの伝播、累増が起り、
レーザビームプリンタ等に用いる高感度感光体の場合画
像にむらとなって表れ、使用に耐えられなくなる。又、
塗布スピードが遅くなりコスト的に非常に不利となる。
【0022】又、高沸点溶剤を用いれば塗布後の乾燥時
間が長くなりコスト的に不利となる。
間が長くなりコスト的に不利となる。
【0023】有機光導電性層を形成する塗布液に含まれ
る光導電性物質としてはアゾ化合物、キノン化合物、フ
タロシアニン化合物、トリアゾール化合物、オキサジア
ゾール化合物、イミダゾール化合物、ピラゾリン化合物
、トリアリールアルカン化合物、フェニレンジアミン化
合物、ヒドラゾン化合物、アミノ置換カルコン化合物、
トリアリールアミン化合物、カルバゾール化合物、スチ
ルベン化合物等の電荷発生能、電荷輸送能を有する素材
が挙げられる。
る光導電性物質としてはアゾ化合物、キノン化合物、フ
タロシアニン化合物、トリアゾール化合物、オキサジア
ゾール化合物、イミダゾール化合物、ピラゾリン化合物
、トリアリールアルカン化合物、フェニレンジアミン化
合物、ヒドラゾン化合物、アミノ置換カルコン化合物、
トリアリールアミン化合物、カルバゾール化合物、スチ
ルベン化合物等の電荷発生能、電荷輸送能を有する素材
が挙げられる。
【0024】またバインダは通常使用される樹脂類、例
えばポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹脂
、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリビニルブ
チラール、スチレン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体等が挙げられる。
えばポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹脂
、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリビニルブ
チラール、スチレン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体等が挙げられる。
【0025】更に通常使用される各種添加剤は有用に活
用することができる。
用することができる。
【0026】本発明の基体はアルミニウム等自由に選択
された材料によって作成することができ、その成型方法
もインパクト加工、絞り加工の外、引抜加工による円管
の一方を別部材で閉塞する等任意の方法を選ぶことがで
きる。
された材料によって作成することができ、その成型方法
もインパクト加工、絞り加工の外、引抜加工による円管
の一方を別部材で閉塞する等任意の方法を選ぶことがで
きる。
【0027】本発明の基体に塗布される電子写真の光導
電性層の成分、層構成等は特に限定されるものではなく
、各種の光導電性物質とバインダとの分散液、溶液、或
いは光導電性層の基体に対する付着を強化する下引液等
各種の塗布液を任意に塗布することができ、その例とし
ては有機光導電体感光層を形成するための、下引液、電
荷発生層塗布液、電荷輸送層塗布液等が挙げられる。
電性層の成分、層構成等は特に限定されるものではなく
、各種の光導電性物質とバインダとの分散液、溶液、或
いは光導電性層の基体に対する付着を強化する下引液等
各種の塗布液を任意に塗布することができ、その例とし
ては有機光導電体感光層を形成するための、下引液、電
荷発生層塗布液、電荷輸送層塗布液等が挙げられる。
【0028】
【実施例】次に実施例によって本発明を具体的に説明す
る。
る。
【0029】実施例1
電荷発生層(CGL)として、Cu−Kα特性X線(波
長1.54Å)に対するブラッグ角2θの主要ピークが
少なくとも9.6±0.2°及び27.2±0.2°に
あるオキシチタニルフタロシアニン顔料3部(部は重量
を示す。以下同様)、バインダ樹脂としてシリコーン樹
脂「KR−5240;15%キシレン/ブタノール溶液
」(信越化学社製)を10部、分散媒として酢酸−t−
ブチルを加え、全固形成分3%W/Vとなるように調合
し、サンドミルにて4時間分散して、CGL液を調製し
た。この液をA−1液とする。A−1の酢酸−t−ブチ
ルの代りにイソアミルケトンを用い、同様に調液分散し
たものをB−1とする。又、CGLとして4,10−ジ
ブロムアンスアンスロン5部、ポリカーボネート〔帝人
化成(株)製〕5部、1,2−ジクロルエタン200部
を加えサンドミルにて20時間分散したものをR−1液
とする。これらA−1,B−1及びR−1の各液をそれ
ぞれ塗布槽に入れ22℃に保持した。次いで100mm
φアルミニウムシリンダの表面温度を塗布直前で、22
℃及び26℃(A−1液については第1表に記したよう
に更に細かく温度変化をつけた。)になるように調整し
、浸漬塗布法にて1m/secの塗布スピードでほぼ2
.5mg/dm2の層を形成せしめた。
長1.54Å)に対するブラッグ角2θの主要ピークが
少なくとも9.6±0.2°及び27.2±0.2°に
あるオキシチタニルフタロシアニン顔料3部(部は重量
を示す。以下同様)、バインダ樹脂としてシリコーン樹
脂「KR−5240;15%キシレン/ブタノール溶液
」(信越化学社製)を10部、分散媒として酢酸−t−
ブチルを加え、全固形成分3%W/Vとなるように調合
し、サンドミルにて4時間分散して、CGL液を調製し
た。この液をA−1液とする。A−1の酢酸−t−ブチ
ルの代りにイソアミルケトンを用い、同様に調液分散し
たものをB−1とする。又、CGLとして4,10−ジ
ブロムアンスアンスロン5部、ポリカーボネート〔帝人
化成(株)製〕5部、1,2−ジクロルエタン200部
を加えサンドミルにて20時間分散したものをR−1液
とする。これらA−1,B−1及びR−1の各液をそれ
ぞれ塗布槽に入れ22℃に保持した。次いで100mm
φアルミニウムシリンダの表面温度を塗布直前で、22
℃及び26℃(A−1液については第1表に記したよう
に更に細かく温度変化をつけた。)になるように調整し
、浸漬塗布法にて1m/secの塗布スピードでほぼ2
.5mg/dm2の層を形成せしめた。
【0030】塗布性を目視判定し、結果を第1表に示す
。表中○は良、×は不良で実用に適さない。
。表中○は良、×は不良で実用に適さない。
【0031】
【表1】
【0032】表より明らかになるように高沸点溶剤、比
較的粘度の高い液或は顔料と溶媒の比重差が少ない塗布
液の場合、塗布層は垂れなど膜厚むらがある。塗布むら
が軽度の場合には顔料色むらで検出される。チタニルフ
タロシアニンのように顔料と溶媒の比重差が大きく、し
かも低粘度、低沸点の場合でも塗布液とシリンダの温度
差が2℃以上必要であることがわかる。
較的粘度の高い液或は顔料と溶媒の比重差が少ない塗布
液の場合、塗布層は垂れなど膜厚むらがある。塗布むら
が軽度の場合には顔料色むらで検出される。チタニルフ
タロシアニンのように顔料と溶媒の比重差が大きく、し
かも低粘度、低沸点の場合でも塗布液とシリンダの温度
差が2℃以上必要であることがわかる。
【0033】実施例2
共重合ポリアミド「ラッカマイド5003」(大日本イ
ンキ社製)3部をメタノール/ブタノール=95/5(
体積比)の混合溶剤100部に溶解させ、下引液を作成
した。 この液をC−1とする。25℃の粘度は12cpであっ
た。又ラッカマイド50033部をメタノール/ブタノ
ール=35/65(体積比)混合溶剤100部に溶解さ
せた液をD−1とする。25℃の粘度は15cpであっ
た。これらC−1,D−1液を22℃一定になるように
し、しかも塗布直前の100φmmアルミニウム製シリ
ンダを22℃と25℃(C−1液については第1表に記
したように更に細かく温度変化をつけた)になるよう調
整し、浸漬塗布法にて塗布スピード0.8m/secに
て塗布した。さらにこの上にCGL液を実施例1のシリ
ンダN0.A−1−5と同じように塗布した。この結果
を第2表に示す。下層UCLの膜厚むら等が上層にCG
Lを塗布することにより、更に判明になる。
ンキ社製)3部をメタノール/ブタノール=95/5(
体積比)の混合溶剤100部に溶解させ、下引液を作成
した。 この液をC−1とする。25℃の粘度は12cpであっ
た。又ラッカマイド50033部をメタノール/ブタノ
ール=35/65(体積比)混合溶剤100部に溶解さ
せた液をD−1とする。25℃の粘度は15cpであっ
た。これらC−1,D−1液を22℃一定になるように
し、しかも塗布直前の100φmmアルミニウム製シリ
ンダを22℃と25℃(C−1液については第1表に記
したように更に細かく温度変化をつけた)になるよう調
整し、浸漬塗布法にて塗布スピード0.8m/secに
て塗布した。さらにこの上にCGL液を実施例1のシリ
ンダN0.A−1−5と同じように塗布した。この結果
を第2表に示す。下層UCLの膜厚むら等が上層にCG
Lを塗布することにより、更に判明になる。
【0034】
【表2】
【0035】表に明かなように塗布性は高沸点溶剤を用
いた塗布液の場合、膜厚むら等による塗布故障がおきる
。
いた塗布液の場合、膜厚むら等による塗布故障がおきる
。
【0036】又、色むらをなくす為には、塗布液とシリ
ンダの温度差が2℃以上必要である。
ンダの温度差が2℃以上必要である。
【0037】実施例3
実施例2のシリンダNo.C−1−4と同様な処方、塗
布条件でUCL液を7本のシリンダに塗布し、更にこの
上に実施例1のCGL液をそれぞれ同じ塗布条件処方で
塗布した。
布条件でUCL液を7本のシリンダに塗布し、更にこの
上に実施例1のCGL液をそれぞれ同じ塗布条件処方で
塗布した。
【0038】更にこの上に下記構造式の電荷輸送物質(
CTM)の120gとポリカーボネート樹脂(三菱瓦斯
化学工業製ユーピロンZ−200)165gを1,2−
ジクロルエタン1000mlへ溶解して作った電荷輸送
層(CTL)塗布液中に上記CGLまで塗布したドラム
を各々浸漬し、膜厚20μmになるように塗布した。
CTM)の120gとポリカーボネート樹脂(三菱瓦斯
化学工業製ユーピロンZ−200)165gを1,2−
ジクロルエタン1000mlへ溶解して作った電荷輸送
層(CTL)塗布液中に上記CGLまで塗布したドラム
を各々浸漬し、膜厚20μmになるように塗布した。
【0039】塗布後90℃、1時間ほど乾燥させ、実写
に供した。
に供した。
【0040】特性評価は次のように行った。その結果を
第3表に掲げた。
第3表に掲げた。
【0041】
【化1】
【0042】
【表3】
【0043】〔特性評価〕実施例及び比較例の各感光体
のそれぞれを「LP−3010」(コニカ社製)改造機
(半導体レーザ光源搭載)に搭載し、VHが−600±
10〔V〕になるようにグリッド電圧を調節し、0.7
mWの照射時の露光面の電位をVLとし、現像バイアス
−500〔V〕で反転現像を行い、画像むらを目視評価
した。
のそれぞれを「LP−3010」(コニカ社製)改造機
(半導体レーザ光源搭載)に搭載し、VHが−600±
10〔V〕になるようにグリッド電圧を調節し、0.7
mWの照射時の露光面の電位をVLとし、現像バイアス
−500〔V〕で反転現像を行い、画像むらを目視評価
した。
【0044】又、5000回のプリントを行い、500
0回のプリント後のVH,VLをVH5000,VL5
000とした。
0回のプリント後のVH,VLをVH5000,VL5
000とした。
【0045】そして、初期からのVH,VLの変位量を
それぞれ△VH5000,△VL5000とした。
それぞれ△VH5000,△VL5000とした。
【0046】従って、△VH5000=(VH5000
+600),△VL5000=(VL5000−VL)
である。
+600),△VL5000=(VL5000−VL)
である。
【0047】更に5000回後の画像むらを評価した。
結果を第3表に示す。
【0048】本発明によると5000回後の画像むらが
なく、又VH,VLの変動も少ない。
なく、又VH,VLの変動も少ない。
【0049】次に、DC−8010(コニカ社製)用の
ドラムサイズで前述した実施例と同様の各感光体を作成
した。 そして、これらの各感光体についてDC−8010で第
4表に示す各現像条件で画像出しを行ったところ、各現
像条件について、比較例を除いていずれの感光体を用い
た場合も、画像むらのない良好な画像が得られた。現像
は、2成分非接触ジャンピング現像を行った。
ドラムサイズで前述した実施例と同様の各感光体を作成
した。 そして、これらの各感光体についてDC−8010で第
4表に示す各現像条件で画像出しを行ったところ、各現
像条件について、比較例を除いていずれの感光体を用い
た場合も、画像むらのない良好な画像が得られた。現像
は、2成分非接触ジャンピング現像を行った。
【0050】
【表4】
【0051】現像条件
平均粒径0.1μmのマグネタイト粉末70wt%、バ
インダ樹脂としてポリエステル樹脂30wt%を配合、
混練し、破砕造粒した後粒径20〜30μmに分級して
キャリヤとした。このキャリヤの比重は約3.5以下で
あった。このキャリヤに、U−Bix1800(コニカ
社製)複写機用トナー(ポリエステル樹脂にカーボンを
含有させたトナー)をトナー濃度が20wt%になるよ
うに配合し、次の条件下で複写を行った。
インダ樹脂としてポリエステル樹脂30wt%を配合、
混練し、破砕造粒した後粒径20〜30μmに分級して
キャリヤとした。このキャリヤの比重は約3.5以下で
あった。このキャリヤに、U−Bix1800(コニカ
社製)複写機用トナー(ポリエステル樹脂にカーボンを
含有させたトナー)をトナー濃度が20wt%になるよ
うに配合し、次の条件下で複写を行った。
【0052】像担持体の周速を60mm/sec、感光
体と現像スリーブとの間隙を0.3mm、現像剤層厚を
0.05mm、現像スリーブの直径を24mm、その回
転数を200rpmとした。
体と現像スリーブとの間隙を0.3mm、現像剤層厚を
0.05mm、現像スリーブの直径を24mm、その回
転数を200rpmとした。
【0053】
【発明の効果】本発明を適用することによって、浸漬塗
布法によって製造される電子写真感光体の塗布むら、特
に微細な塗布むら、反復使用によって剥れ出る潜在塗布
むら及び苛酷な条件下の使用で発生する画像欠陥が防止
できる。
布法によって製造される電子写真感光体の塗布むら、特
に微細な塗布むら、反復使用によって剥れ出る潜在塗布
むら及び苛酷な条件下の使用で発生する画像欠陥が防止
できる。
Claims (2)
- 【請求項1】電子写真感光体の製造に円筒状基体を用い
、塗布槽に円筒状基体を浸漬、引上げて塗布する浸漬塗
布において、塗布液に使用する主たる溶剤の沸点が10
0℃以下、25℃における粘度が30cp以下の塗布液
を用い、塗布時の円筒状基体、塗布液及び塗布槽内空気
夫々の温度(℃)を夫々TD,TL及びTAとするとき
、30≧TD−TL≧2,かつ10≧TA−TL≧0に
保つことを特徴とする電子写真感光体の浸漬塗布法。 - 【請求項2】塗布液が顔料分散液であり、塗布液の主た
る溶剤の比重と顔料との比重差が0.4g/cc以上で
ある塗布液を用いることを特徴とする請求項1記載の電
子写真感光体の浸漬塗布法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12751391A JPH04352159A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 電子写真感光体の浸漬塗布法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12751391A JPH04352159A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 電子写真感光体の浸漬塗布法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04352159A true JPH04352159A (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=14961864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12751391A Pending JPH04352159A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 電子写真感光体の浸漬塗布法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04352159A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001312078A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Sharp Corp | 電子写真感光体およびその製造方法 |
| US6759174B2 (en) | 2001-11-02 | 2004-07-06 | Fuji Electric Imaging Device Co., Ltd. | Photoconductor for electrophotography and manufacturing method thereof |
| JP2011095663A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
-
1991
- 1991-05-30 JP JP12751391A patent/JPH04352159A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001312078A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Sharp Corp | 電子写真感光体およびその製造方法 |
| US6759174B2 (en) | 2001-11-02 | 2004-07-06 | Fuji Electric Imaging Device Co., Ltd. | Photoconductor for electrophotography and manufacturing method thereof |
| JP2011095663A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
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