JPH04352773A - （＋）−シクロフェリトールの合成方法 - Google Patents

（＋）−シクロフェリトールの合成方法

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JPH04352773A
JPH04352773A JP3125910A JP12591091A JPH04352773A JP H04352773 A JPH04352773 A JP H04352773A JP 3125910 A JP3125910 A JP 3125910A JP 12591091 A JP12591091 A JP 12591091A JP H04352773 A JPH04352773 A JP H04352773A
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JP
Japan
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group
compound
reaction
methyl
mmol
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Withdrawn
Application number
JP3125910A
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English (en)
Inventor
Akihiro Isaka
井　坂　明　洋
Morihisa Machida
町　田　守　久
Kunio Kageyama
影　山　邦　夫
Shoichiro Ozaki
尾　崎　庄一郎
Takahiko Akiyama
秋　山　隆　彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokohama Rubber Co Ltd
Original Assignee
Yokohama Rubber Co Ltd
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Publication date
Application filed by Yokohama Rubber Co Ltd filed Critical Yokohama Rubber Co Ltd
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Publication of JPH04352773A publication Critical patent/JPH04352773A/ja
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、β−グルコシダーゼ阻
害活性を示すことからエイズウイルス（ＨＩＶ）の増殖
を抑えることが期待されている（＋）−シクロフェリト
ールの合成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カスタノスペルミンや１−デオキシノジ
リマイシンのようなβ−グルコシダーゼ阻害活性を示す
化合物は、エイズウイルス（ＨＩＶ）の増殖を抑えるこ
とが報告されている。また、カスタノスペルミンは、腫
瘍の転移を抑えることも知られている。
【０００３】この様な中、きのこ（Ｐｈｅｌｌｉｎｕｓ
　ｓｐ．　）の培養液よりβ−グルコシダーゼ阻害活性
を示す化合物が単離され、（＋）−シクロフェリトール
と命名された１）。 （＋）−シクロフェリトールは、これまでは、ニトリル
基を有する化合物を次亜塩素酸ナトリウムによって分子
内環化し、ニトリルオキシド部分を有する化合物を経由
してイソオキサゾリンを有する化合物を得る工程を鍵反
応として合成されている２）が、その際、入手しにくい
Ｌ−グルコースを出発原料として用い、かつ、１８工程
を要するため、この方法は大量合成には不向きであった
。 １）　Ｓ．Ａｔｓｕｍｉ　ｅｔ　ａｌ．，　Ｊ．Ａｎｔ
ｉｂｉｏｔ．，　４３，　４９（１９９０）．２）　Ｋ
．Ｔａｔｓｕｔａ　ｅｔ　ａｌ．，　Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ　Ｌｅｔｔ．，　３１，　１１７１（１９９０）
．
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、β−グルコ
シダーゼ阻害活性を示すことからエイズウイルス（ＨＩ
Ｖ）の増殖を抑えることが期待されている（＋）−シク
ロフェリトールの、原料が入手し易く、かつ、大量合成
も可能な合成方法の提供を目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式Ｉ
で表される化合物から、その５位のメチルエーテルのメ
チル基と３，４位の保護基を切断して水酸基とする工程
と、その１，２位をエポキシ化する工程を経て、下記式
ＩＩで示される（＋）−シクロフェリトールを合成する
ことを特徴とする（＋）−シクロフェリトールの合成方
法を提供するものである。
【化３】 （式Ｉ中、Ｒ１　はＲ３　ＣＯ−またはＲ３　ＯＣＯ−
であり、Ｒ２　は２価の炭化水素基、Ｒ３　は１価の炭
化水素基である。Ｒ２　、Ｒ３　において、炭化水素基
中の水素原子の一部あるいは全部が、アルキル基、アリ
ール基、ハロゲン原子、アルコキシ基で置換されていて
もよい。）
【化４】
【０００６】以下に、本発明を詳細に説明する。本発明
に係る合成方法の出発原料は、前記一般式Ｉで表わされ
る化合物である。
【０００７】前記一般式Ｉにおいて、Ｒ１　はＲ３　Ｃ
Ｏ−またはＲ３　ＯＣＯ−である。Ｒ３　はアルキル基
、アリール基などの１価の炭化水素基、あるいは、該炭
化水素基中の水素原子の一部あるいは全部が、アルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基で置換さ
れてなる基である。
【０００８】前記一般式ＩにおけるＲ１　Ｏ−で示され
る置換基部分をより具体的に述べると、安息香酸エステ
ル、酢酸エステル、３−フェニルプロピオン酸エステル
、２−メチルプロピオン酸エステル、２，２−ジメチル
プロピオン酸エステル、１−アダマンタンカルボン酸エ
ステル、クロトン酸エステル、（Ｅ）−２−メチル−２
−ブテン酸エステル、２，４，６−トリメチル安息香酸
エステル等（Ｒ１　がＲ３ＣＯ−の場合）、あるいは、
炭酸メチル、炭酸エチル等（Ｒ１　がＲ３　ＯＣＯ−の
場合）、さらには、これらの置換基の骨格部分を構成す
る水素原子の一部あるい全部が、アルキル基、アリール
基、ハロゲン原子、アルコキシ基等で置換されてなる基
が例示されるが、本発明で用いる原料は、Ｒ１　Ｏ−部
分が安息香酸エステルである化合物が最も好ましい。
【０００９】前記一般式Ｉにおいて、Ｒ２　はアルキリ
デン基などの２価の炭化水素基、あるいは、該炭化水素
基中の水素原子の一部あるいは全部が、アルキル基、ア
リール基、ハロゲン原子、アルコキシ基で置換されてな
る基である。
【００１０】前記一般式ＩにおけるＲ２　について、具
体的に述べると、シクロヘキシリデン基、１−ｔ−ブチ
ルエチリデン基、１−フェニルエチリデン基、イソプロ
ピリデン基、シクロペンチリデン基、シクロヘプチリデ
ン基、エチリデン基、ブチリデン基、ベンジリデン基、
および、これらの置換基の骨格部分を構成する水素原子
の一部あるいは全部が、アルキル基、アリール基、ハロ
ゲン原子、アルコキシ基で置換されてなる基が例示され
るが、本発明で用いる原料は、Ｒ２　がシクロヘキシリ
デン基である化合物が最も好ましい。
【００１１】この、出発原料である前記一般式Ｉで表さ
れる化合物の由来はいかようであってもよいが、Ｌ−ク
エブラキトールから合成したものがよく、特に、Ｌ−ク
エブラキトールの１位の水酸基の酸化、１位へのアルキ
レン基の導入、該アルキレン基のヒドロキシアルキル基
への変換の工程を経て合成したものがよい。
【００１２】なお、１位へのアルキレン基の導入は、ピ
ーターソン反応により行なうのがよく、ヒドロキシアル
キレン基への変換は、ヒドロホウソ化反応により行なう
のがよい。また、ヒドロキシアルキレン基へ変換した後
、前記式Ｉで示される化合物とするには、公知の方法に
よって保護基（前記式ＩにおいてＲ１　で示される基）
の導入を行なえばよい。
【００１３】ここで、Ｌ−クエブラキトールについて説
明する。Ｌ−クエブラキトール（１Ｌ−（−）−２−Ｏ
−Ｍｅｔｈｙｌ−ｃｈｉｒｏ−ｉｎｏｓｉｔｏｌ　）は
、イノシトールのモノメチルエーテルである。また、Ｌ
−クエブラキトールは、ケブラコ皮や、パラゴムノキ（
ｈｅｖｅａ　ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）の汁液、その
他植物体中に広く見いだされており、Ｌ−クエブラキト
ールのこうした植物体からの採取方法については、例え
ば、パラゴムノキからＬ−クエブラキトールを採取する
方法が特願平０２−１９３３２号および特願平０３−２
７３３９号に記載されているので、これら植物由来のＬ
−クエブラキトールを出発原料として用いればよい。
【００１４】続いて、Ｌ−クエブラキトールから前記一
般式Ｉで表される化合物の合成工程を含む、本発明によ
る（＋）−シクロフェリトールの好適合成例を、図１お
よび図２に基づいて説明する。なお、図１はＬ−クエブ
ラキトールから前記一般式Ｉで表される化合物までの工
程、図２は前記一般式Ｉで表される化合物から（＋）−
シクロフェリトールまでの工程を示す。
【００１５】Ｌ−クエブラキトール１は、２位がメチル
エーテル化してメトキシ基となっており、二つの隣り合
った水酸基（３，４位の水酸基と５，６位の水酸基）を
選択的にブリッジ型保護基で保護することができる。こ
のようなブリッジ型保護基としては、例えば、シクロヘ
キシリデン基、１−ｔ−ブチルエチリデン基、１−フェ
ニルエチリデン基、イソプロピリデン基、シクロペンチ
リデン基、シクロヘプチリデン基、エチリデン基、ブチ
リデン基、ベンジリデン基、および、これらの骨格部分
を構成する水素原子の一部あるいは全部が、アルキル基
、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基等で置換さ
れてなる基等が挙げられる。
【００１６】二つの隣り合った水酸基を選択的に保護す
るために用いる前記した保護基部分を有する化合物とし
ては、前記した保護基部分を有するケトン（アルデヒド
）、エノールエーテル、ケトンアセタール（アセタール
）など、より具体的には、保護基がシクロヘキシリデン
基の場合は、シクロヘキサノン、１−エトキシシクロヘ
キセン、１，１−ジメトキシシクロヘキサンなどが例示
される。あるいは、前記した保護基部分を有するジハロ
ゲン化された化合物、より具体的には、保護基がベンジ
リデン基の場合は、α，α−ジブロモトルエン等が例示
される。
【００１７】前記ケトン（アルデヒド）、エノールエー
テル、ケトンアセタール（アセタール）などをＬ−クエ
ブラキトールと反応させる場合は、酸触媒、例えばｐ−
トルエンスルホン酸などの酸と共に用いるのが簡便でよ
く、また、ジハロゲン化された化合物と反応させる場合
は、塩基、例えば水素化ナトリウム、と共に用いてもよ
い。
【００１８】Ｌ−クエブラキトール１を上述のブリッジ
型保護基（図１の例ではシクロヘキシリデン基）で保護
し、化合物２を得る。次に、化合物２を、無水ベンゼン
および酸無水物中で、ジメチルスルホキシドで酸化し、
化合物３を得る。これにより、１位の水酸基が選択的に
酸化され、ケトンとなる。
【００１９】化合物２の酸化方法は、他にもあり、例え
ば、三酸化クロムおよびピリジンを用いる方法や、ピリ
ジニウムクロロクロメートを用いる方法でもよい。また
、酸化ルテニウム、過ヨウ素酸ナトリウムおよび炭酸水
素ナトリウムを用いる方法なども挙げられる。
【００２０】化合物３が得られたら、次に、１位への炭
素官能基（アルキレン基）の導入、図１によれば、化合
物５を得る反応を行なう。
【００２１】炭素官能基の導入反応としては、ウィッテ
ィヒ反応、ホーナーエモンズ反応、ピーターソン反応等
が知られており、いずれの反応によって行なってもよい
が、ピーターソン反応が最も好ましい。
【００２２】すなわち、“（Ｒａ　）３　ＳｉＣＨ２　
ＭｇＸ”または“（Ｒａ　）３　ＳｉＣＨ２　Ｌｉ”（
Ｒａ　：アルキル基、Ｘ：ハロゲン原子）で表される試
薬により生じる“（Ｒａ　）３　ＳｉＣＨ２−”を化合
物３の１位（ケトン部分）に反応させ、中間体混合物（
図１の場合は化合物４ａと化合物４ｂとの混合物）を得
た後、これらを分離することなく、簡便には、例えばア
ルカリ金属水素化物などの塩基で処理することで、ケト
ン部分がメチレン基に変換された化合物５を得る。なお
、この反応工程において、中間体混合物は分離する必要
がない。
【００２３】ピーターソン反応を行なうに際し、反応溶
媒は必須ではないが、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル等を用いてもよい。また、反応温度は、−８０〜
１００℃が好適である。
【００２４】次いで、化合物５に水酸基を導入し、メチ
レン基をヒドロキシメチル基に変換する。水酸基の導入
反応としては、エポキシ化に続く還元反応等も知られて
いるが、ヒドロホウ素化反応によるのがよい。
【００２５】ヒドロホウ素化反応は、オレフィンからア
ルコール化合物への変換に用いられる反応であり、一般
に穏和な条件下で進行し、シス−及びアンチ−マルコフ
ニコフ型生成物を与える。
【００２６】ヒドロホウ素化反応に用いるヒドロホウ素
化試薬としては、例えば、ボラン−テトラヒドロフラン
錯体、ＢＨ３　・Ｓ（ＣＨ３　）２　、Ｈ２　ＢＣｌ・
Ｏ（Ｃ２　Ｈ５）２　、Ｈ２　ＢＣｌ・Ｓ（ＣＨ３　）
２　、ＨＢＣｌ２　・Ｏ（Ｃ２　Ｈ５　）２　、ＨＢＢ
ｒ２　・Ｓ（ＣＨ３　）２　、ビス（３−メチル−２−
ブチル）ボラン、ジシクロヘキシルボラン、２，３−ジ
メチル−２−ブチルボラン、９−ボラビシクロ［３．３
．１］ノナン、カテコールボランなどが挙げられる。
【００２７】図１の例では、最も基本的なボラン−テト
ラヒドロフラン錯体を用いているが、上記した他のヒド
ロホウ素化試薬を用いることにより、さらに、位置選択
性、立体選択性、官能基選択性の向上に有利な結果や収
率の向上が期待できる。
【００２８】上記の反応によってヒドロキシメチル基を
有する化合物（図１の例では化合物６）を得たら、次い
で、その水酸基を保護する。
【００２９】ここで、水酸基の保護のために用いる保護
基は、先に一般式Ｉについての説明中で述べたＲ３　Ｃ
Ｏ−またはＲ３　ＯＣＯ−で示される基（Ｒ３　は、１
価の炭化水素基、あるいは該炭化水素基中の水素原子の
一部あるいは全部が、アルキル基、アリール基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基で置換されてなる基である。）で
あり、具体的にはベンゾイル基、アセチル基、３−フェ
ニルプロピオニル基、イソブタノイル基、１−アダマン
チルカルボニル基、クロトニル基、（Ｅ）−２−メチル
−２−ブテノイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
さらには、これらの基の骨格部分を構成する水素原子の
一部あるいは全部が、アルキル基、アリール基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基等で置換されてなる基等が例示さ
れる。
【００３０】なお、保護基の導入に際しては、Ｒ３　Ｃ
ＯＸ、Ｒ３　ＯＣＯＸ、（Ｒ３　ＣＯ）２Ｏ（Ｘはハロ
ゲン原子であり、Ｒ３　は上記と同様である。）で表わ
される試薬、例えば、ベンゾイル基を導入する場合には
、塩化ベンゾイルあるいは無水安息香酸を用いる。その
際、ピリジン、トリエチルアミンなどの第三アミン（活
性水素を持たないアミン）と共に用いるのが良い。
【００３１】このようにして、Ｌ−クエブラキトールか
ら前記一般式Ｉで表される化合物（図１では化合物７）
を得ることができる。本発明は、この前記一般式Ｉで表
される化合物を出発原料として用い、その５位のメチル
エーテルのメチル基と３，４位の保護基を切断して水酸
基とする工程と、その１，２位をエポキシ化する工程を
経る、前記式ＩＩで示される（＋）−シクロフェリトー
ルの合成方法である。
【００３２】まず第一の工程は、前記一般式Ｉで表され
る化合物の３，４位のトランスシクロヘキシリデン基な
どのブリッジ型保護基と、その５位の、メチルエーテル
のメチル基とを切断する工程である。この工程では、そ
の１，２位のブリッジ型保護基は切断してはならない。 従って、例えばアセトニトリル中で、塩化アルミニウム
とヨウ化ナトリウムで処理する等の、５位のメチルエー
テルのメチル基と３，４位のトランスシクロヘキシリデ
ン基などのブリッジ型保護基を選択的に切断できる方法
により、トリオール化合物（図２では化合物８）を得る
。
【００３３】次は、保護基の着脱を行ない、１位および
２位が遊離の水酸基となっているジオール化合物（図２
では化合物１０）を得る工程である。
【００３４】まず、化合物８の３個の水酸基を保護する
必要がある。ここで用いる保護基は、後工程の酸性条件
および塩基性条件において、反応性が低い必要があり、
また、後工程のここで導入した保護基の切断の際の化合
物の状態は、求核試薬に対して反応性に富むエポキシ基
を有するので、例えば、ベンジル基、ｏ−ニトロベンジ
ル基、ｐ−ニトロベンジル基など、あるいは、これらの
水素原子の一部あるいは全部がアルコキシ基などで置換
されてなる基などの、接触還元などの中性条件で切断さ
れ得る保護基がよい。
【００３５】これらの保護基を導入する際には、例えば
水素化ナトリウムなどの強塩基を用い、化合物８の遊離
の水酸基をアルコキシドとして反応性を高めた後、導入
しようとする保護基のハロゲン化物を反応させるとよい
。図２に示すように、ベンジル基を導入するのであれば
、水素化ナトリウムを加えた後、臭化ベンジルを用いる
のが簡便でよい。また、反応溶媒は必須ではないが、用
いる場合は、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド等がよい。
【００３６】ところで、図２に示す例では、化合物８に
水素化ナトリウムおよび臭化ベンジルを反応させること
により、３個の水酸基の保護のみならず、６位の保護基
の交換も生じる。これは、塩基性条件下で反応性の高い
７位のエステルまたはカーボネート結合（図２の例では
ベンゾイロキシ基部分）が一旦切断された後、エーテル
結合で保護基（図２の例ではベンジル基）が導入される
ことがあり、図２に示す例はそれに相当するためである
。
【００３７】このようにして化合物９を得たら、その１
，２位のブリッジ型保護基（図２の例ではシクロヘキシ
リデン基）を切断し、ジオール化合物（図２の例では化
合物１０）を得る。この工程は、化合物９に、例えばト
リフルオロ酢酸などの酸を作用させればよい。なお、強
すぎる酸性条件は３，４，５，７位の保護基の切断を招
き、また、弱すぎる酸性条件では、１，２位のブリッジ
型保護基を切断することが出来ないため、適切な条件を
用いる必要がある。また、反応溶媒は、必須ではないが
、用いる場合は、メタノール等の低級アルコール、低級
アルコールとジクロロメタンなどとの混合溶媒、これら
の含水溶液等がよい。
【００３８】次は、ジオール化合物（図２において化合
物１０）の１，２位の水酸基をエポキシ基とする工程で
ある。この際、望みのエポキシ基は下向きであるため、
２位の水酸基に二分子的求核置換反応（ＳＮ　２型反応
）によって立体反転を伴なうハロゲン化処理を行なった
後、塩基処理で、１位の置換基の２位の置換基に対する
分子内求核置換反応を生じさせてエポキシ化するのがよ
い。
【００３９】図２における化合物１０から化合物１４ま
での工程をより具体的に述べると、以下の通りである。
【００４０】化合物１０の２位をハロゲン化するため、
まず、２位に、−ＳＯ２　Ｒｂ　（Ｒｂはアルキル基な
どの１価の炭化水素基であり、また、その水素原子の一
部あるいは全部がハロゲン原子で置換されていてもよい
。）で示される、トリフルオロメタンスルホニル基、メ
タンスルホニル基、トルエンスルホニル基などのスルホ
ニル基に代表される脱離基（図２の例ではトリフルオロ
メタンスルホニル基）を導入する。このとき、化合物１
０の１位の水酸基はアキシャル結合であるために反応性
が低く、一方、２位の水酸基はエクアトリアル結合であ
るために反応性が高い。従って、容易に２位の水酸基の
みに脱離基を導入することができる。
【００４１】なお、脱離基の導入に際しては、脱離基の
ハロゲン化物または酸無水物などを、例えばトリフルオ
ロメタンスルホニル基を導入するのであれば、トリフル
オロメタンスルホニルクロリドまたはトリフロオロメタ
ンスルホン酸無水物をピリジン、トリエチルアミンなど
の第三アミンなどと共に、ジオール化合物（図２の例で
は化合物１０）に反応させるのがよい。また、反応溶媒
は必須ではないが、用いる場合は、ジクロロメタン等が
よい。
【００４２】２位の水酸基に脱離基が導入され、化合物
１１が得られたら、続いて遊離の１位の水酸基を保護す
る。この際、酢酸エステルとして保護するのが望ましい
が、例えば安息香酸エステル、３−フェニルプロピオン
酸エステル、２−メチルプロピオン酸エステルなどの他
のエステル結合によって保護してもよい。
【００４３】また、上記のエステル結合の形成反応に際
しては、ハロゲン化物または酸無水物、例えば酢酸エス
テルとするのであれば、アセチルクロリドまたは無水酢
酸を、ピリジン、トリエチルアミンなどの第三アミン（
活性水素を持たないアミン）などと共に、化合物１１に
反応させるのがよい。
【００４４】次に、例えばテトラブチルアンモニウムヨ
ージドに代表されるヨウ素化剤などのハロゲン化剤を用
い、２位に、二分子的求核置換反応（ＳＮ２型反応）に
より、立体反転を伴なうハロゲン化を行なう。
【００４５】この際、反応溶媒は必須ではないが、用い
る場合は、ベンゼン、トルエン等がよい。
【００４６】このようにして、２位にハロゲン原子が導
入されてなる化合物（図２の例では化合物１３）が得ら
れたら、それを、ナトリウムメトキシドに代表されるア
ルカリ金属アルコキシドなどの塩基で処理すると、１，
２位に下向きにエポキシ基を有する化合物（図２の例で
は化合物１４）が得られる。
【００４７】この際、反応溶媒は必須ではないが、用い
る場合は、メタノール、メタノールとテトラヒドロフラ
ンとの混合溶媒等がよい。
【００４８】最後は、化合物１４の保護基を切断する工
程である。この化合物１４は、求核試薬に対して反応性
に富むエポキシ基を有するため、例えば接触還元によっ
て脱保護するのがよい。より具体的には、化合物１４を
、水素雰囲気下、望ましくはパラジウム−炭素あるいは
ラネーニッケルなどの還元触媒と接触させ、３，４，５
，７位の保護基（図２の例ではベンジル基）を還元的に
除去するのがよい。それにより、（＋）−シクロフェリ
トールが得られる。
【００４９】上記接触還元は、固定床式、流動床式のい
ずれの方式で行なってもよい。また、この工程は、反応
溶媒を用いるのがよく、反応溶媒としては、メタノール
、酢酸エチル、これらの混合溶媒等が好適である。
【００５０】以上が本発明の（＋）−シクロフェリトー
ルの合成方法であるが、各工程において、通常は、必要
により、抽出、精製等の操作も行なう。
【００５１】以下、実施例を示し、本発明について具体
的に説明する。
【００５２】（実施例１）Ｌ−クエブラキトールを出発
原料とする１Ｌ−（１，２，４，６／３，５）−６−ベ
ンゾイロキシメチル−１，２：３，４−ビス−Ｏ−シク
ロヘキシリデン−５−Ｏ−メチル−１，２，３，４，５
−シクロヘキサンペントールの合成図１に従って説明す
る。
【００５３】■　　Ｌ−クエブラキトール（化合物１）
（３．００ｇ、１５．４ｍｍｏｌ）に、窒素雰囲気下、
無水ジメチルホルムアミド５ｍｌを加え、０℃とし、エ
トキシシクロヘキセン（６．６０ｍｌ、４６．３ｍｍｏ
ｌ）とｐ−トルエンスルホン酸（０．２９４ｇ、１．５
４ｍｍｏｌ）とを加えた後、８０℃に加熱する。１．５
時間後、エトキシシクロヘキセン（２．２０ｍｌ、１５
．４ｍｍｏｌ）を加え、さらに１．５時間後、エトキシ
シクロヘキセン（１．１０ｍｌ、７．７２ｍｍｏｌ）を
加え、０．５時間撹拌する。反応液を、氷を入れた分液
ロートに移し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた
後、ジクロロメタン抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で２回、水で１回洗浄する。有機層に無水
硫酸ナトリウムを加えて乾燥、濾過し、溶媒を減圧溜去
する。これについて、カラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝２／１）を行ない、ヘキサンで再結
晶して化合物２を得る。 化合物２ 収　　量　　４．０１ｇ（７３％） Ｒｆ値　　０．３３（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）
融　　点　　１１４．５〜１１５．５℃比旋光度　　〔
α〕Ｄ２０　＝−１５．５°（ｃ、３．５０　　ｉｎＣ
ＨＣｌ３　） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、２７０Ｍ
Ｈｚ）１．３５〜１．７５（２０Ｈ、ｍ）、 ２．８０（１Ｈ、ｓ）、 ３．５７（３Ｈ、ｓ）、 ３．５４〜３．７５（３Ｈ、ｍ）、 ４．２６〜４．３９（３Ｈ、ｍ） ＩＲ（ｎｕｊｏｌ） ３５００、１１００および１０３５ｃｍ−１元素分析（
Ｃ１９Ｈ３０Ｏ６　） Ｃ：６４．３９％；Ｈ：８．５３％（理論値）Ｃ：６４
．３８％；Ｈ：８．６７％（測定値）（参考）融　　点
　　　　１１７〜１１９℃比旋光度　　〔α〕Ｄ２０　
＝−１９．３°（ｃ、０．７７５　　ｉｎ　　ＣＨＣｌ
３　） Ｓ．　Ｄ．　Ｇ’ｅｒｏ，　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　
Ｌｅｔｔ．，　Ｖｏｌ．　２５，　ｐ．ｐ．５６８１　
〜　５６８７　（１９６９）による
【００５４】■　　化合物２（１．００ｇ、２．８２ｍ
ｍｏｌ）に、窒素雰囲気下、無水ベンゼン１８ｍｌを加
え、室温でジメチルスルホキシド（２．００ｍｌ、２８
．２　ｍｍｏｌ　）と無水酢酸（１．３３ｍｌ、１４．
１　ｍｍｏｌ　）とを加え、７時間加熱還流する。反応
液を氷を入れた分液ロートに移し、水で１回、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で１回洗浄した後、有機層に無水
硫酸ナトリウムを加えて乾燥、濾過し、溶媒を減圧留去
する。これを、カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル
／ヘキサン＝１／４）によって精製し、化合物３を得る
。 化合物３ 収　　量　　０．９９ｇ（１００％） Ｒｆ値　　０．４５（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）
比旋光度　　〔α〕Ｄ２２　＝−１２．０°（ｃ、７．
０７　　ｉｎＣＨＣｌ３　） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＣｌ４　、９０ＭＨｚ
）１．３０〜１．８７（２０Ｈ、ｍ）、 ３．４７（３Ｈ、ｓ）、 ３．２４〜３．７０（２Ｈ、ｍ）、 ３．７３〜３．９３（１Ｈ、ｍ）、 ４．３６〜４．７１（２Ｈ、ｍ） ＩＲ（ｎｅａｔ） １７３０、１２２０、１１６０および１０９０ｃｍ−１
【００５５】■　　化合物３のテトラヒドロフラン溶液
（化合物３を５．２４ｇ、１４．９ｍｍｏｌ含有、１２
０ｍｌ）に、０℃にて（ＣＨ３）３　ＳｉＣＨ２　Ｍｇ
Ｃｌのジエチルエーテル溶液（４．６ｍｍｏｌ含有、濃
度２．５２ｍｍｏｌ／ｍｌ、１７．８ｍｌ）を加え、室
温とした後、９時間撹拌する。さらに、２時間加熱還流
する。０℃に冷却すると共に、反応液中に氷水（４０ｍ
ｌ）を加えて反応を停止する。反応液を酢酸エチル（４
０ｍｌ×３）で抽出した後、有機層を、５％硫酸水素カ
リウム水溶液（１０ｍｌ）、２．５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液（１０ｍｌ）、飽和食塩水（１０ｍｌ）で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。無水硫酸ナト
リウムを濾別した後、減圧下に濃縮する。得られた油状
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（酢酸エチル／
ヘキサン＝１／２０）によって精製し、化合物４ａ（１
Ｌ−３，４：５，６−ビス−Ｏ−シクロヘキシリデン−
２−Ｏ−メチル−１−Ｃ−トリメチルシリルメチル−キ
ロ−イノシトール）と化合物４ｂ（１Ｌ−２，３：４，
５−ビス−Ｏ−シクロヘキシリデン−６−Ｏ−メチル−
１−Ｃ−トリメチルシリルメチル−ミオ−イノシトール
）との混合物を得る。 化合物４ａ、化合物４ｂ 収　　量　　合計４．９６ｇ（７６％）１Ｈ−ＮＭＲ（
δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨｚ）１Ｈ−ＮＭ
Ｒの測定を、化合物４ａと化合物４ｂとの混合物につい
て行なうと、そのシグナルは必ずペアになって現れるが
、いずれが化合物４ａ（あるいは化合物４ｂ）であるか
は不明である。そこで、ここでは、一方を異性体α、他
方を異性体βとする。 異性体α ０．０６（９Ｈ、ｓ、（ＣＨ３　）３　Ｓｉ）、１．０
１、１．２１（２Ｈ、ＡＢｑ、Ｊ＝１４．７Ｈｚ、Ｓｉ
ＣＨ２　）、 １．３５〜１．７５（２０Ｈ、ｍ、（ＣＨ２　）１０）
、２．４２（１Ｈ、ｓ、ＯＨ）、 ３．４３（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝１０．１Ｈｚ、Ｊ＝７．３
Ｈｚ）、 ３．４６（３Ｈ、ｓ、ＯＣＨ３　）、 ３．５１（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝７．３Ｈｚ）、４．０８（１
Ｈ、ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．０８（１Ｈ、ｔ、Ｊ１
　＝Ｊ２　＝７．５Ｈｚ、Ｈ５）、 ４．３５（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ、Ｊ＝１０．１
Ｈｚ） 異性体β ０．０８（９Ｈ、ｓ、（ＣＨ３　）３　Ｓｉ）、１．２
０、１．３８（２Ｈ、ＡＢｑ、Ｊ＝１４．６Ｈｚ、Ｓｉ
ＣＨ２　）、 １．３０〜１．８０（２０Ｈ、ｍ、（ＣＨ２　）１０）
、２．５５（１Ｈ、ｓ、ＯＨ）、 ３．２３（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．４Ｈｚ）、３．５２（１
Ｈ、ｔ、Ｊ１　＝Ｊ２　＝９．４Ｈｚ）、３．６４（３
Ｈ、ｓ、ＯＣＨ３　）、 ３．６７（１Ｈ、ｔ、Ｊ１　＝Ｊ２　＝９．４Ｈｚ）、
４．１６（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝５．３Ｈｚ）、４．２９（１
Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝９．４Ｈｚ、Ｊ＝５．３Ｈｚ） ＩＲ（混合物、ＣＨＣｌ３　） ３５５０、２９００、２８５０、１７２０、１４２０、
１３４０、１３１０、１２６０、１２２０、１１４０、
１０７０、９８０、９４０、９２０、８８０、８１０、
６６０および５８０ｃｍ−１ 元素分析（混合物、Ｃ２３Ｈ４１Ｏ６　Ｓｉ）Ｃ：６２
．５５％；Ｈ：９．３６％（理論値）Ｃ：６２．８１％
；Ｈ：９．２０％（測定値）
【００５６】■　　水素化
カリウム（３０％油中分散物４．５５ｇ、水素化カリウ
ム３４．０ｍｍｏｌ含有）の入った１００ｍｌのナスフ
ラスコに、化合物４ａと化合物４ｂとを含むテトラヒド
ロフラン溶液（化合物４ａ＋化合物４ｂを４．９６ｇ、
１１．２ｍｍｏｌ含有、５０ｍｌ）を３０分間かけて滴
下する。室温で３時間撹拌した後、０℃に冷却すると共
に、反応液に氷水（４０ｍｌ）を加えて反応を停止する
。反応液を酢酸エチル（４０ｍｌ×３）で抽出した後、
有機層を、５％硫酸水素カリウム水溶液（１０ｍｌ）、
２．５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）、飽和
食塩水（１０ｍｌ）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥する。無水硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下
に濃縮する。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ（酢酸エチル／ヘキサン＝１／２０）によっ
て精製し、化合物５（１Ｌ−（１，２，４／３，５）−
６−メチレン−１，２：３，４−ビス−Ｏ−シクロヘキ
シリデン−５−Ｏ−メチル−１，２，３，４，５−シク
ロヘキサンペントール）を得る。 化合物５ 収　　量　　２．９９ｇ（７６％） 比旋光度　　〔α〕Ｄ２４　＝＋３３．６°（ｃ、１．
９２　　ｉｎＣＨＣｌ３　） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．２５〜１．７８（２０Ｈ、ｍ、（ＣＨ２　）１
０）、３．４４（３Ｈ、ｓ、ＯＣＨ３　）、 ３．５０〜３．６５（２Ｈ、ｍ、Ｈ３，４）、３．９９
（１Ｈ、ｄ、Ｊ４，５　＝６．４Ｈｚ、Ｈ５）、４．３
２（１Ｈ、ｔ，Ｊ２，３　＝Ｊ１，２　＝７．１Ｈｚ、
Ｈ２）、 ４．７６（１Ｈ、ｄ、Ｊ１，２　＝７．１Ｈｚ、Ｈ１）
、５．３６〜５．４１（１Ｈ、ｍ、ＣＨ２　＝）、５．
５４〜５．６０（１Ｈ、ｍ、ＣＨ２　＝）ＩＲ（ＣＨＣ
ｌ３　） ３０００、２９３０、２８５０、１６００、１４３０、
１３４０、１２６０、１２００、１１５０、９１０、７
００および９５０ｃｍ−１ 元素分析（Ｃ２０Ｈ３０Ｏ５　） Ｃ：６８．５４％；Ｈ：８．６３％（理論値）Ｃ：６８
．０９％；Ｈ：８．５５％（測定値）
【００５７】■　
　化合物５のテトラヒドロフラン溶液（化合物５を２．
４６ｇ、７．０２ｍｍｏｌ含有、１２ｍｌ）に、室温に
て、ＢＨ３　：ＴＨＦ（アルドリッチ社製のＢｏｒａｎ
ｅ　Ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ　Ｃｏｍｐｌｅｘ
、７．０２ｍｌ、７．０２ｍｍｏｌ）ゆっくりと５分間
で滴下する。室温にて４時間撹拌した後、さらに、ＢＨ
３　：ＴＨＦ（２．８ｍｌ、２．８ｍｍｏｌ）を加える
。室温にて１時間撹拌した後、水（２ｍｌ）、３Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液（５ｍｌ）、３０％過酸化水素水溶
液（５ｍｌ）を順次加える。５０℃に加温して１時間加
熱撹拌した後、０℃に冷却すると共に、反応液中に氷水
（１０ｍｌ）を加えて反応を停止する。反応液をエーテ
ル（１００ｍｌ×３）で抽出した後、有機層を飽和食塩
水（５ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する
。無水硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に濃縮する
。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（酢酸エチル／ヘキサン＝１／６）によって精製し、化
合物６（１Ｌ−（１，２，４，６／３，５）−６−ヒド
ロキシメチル−１，２：３，４−ビス−Ｏ−シクロヘキ
シリデン−５−Ｏ−メチル−１，２，３，４，５−シク
ロヘキサンペントール）を得る。 化合物６ 収　　量　　１．９２ｇ（７４％） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．１０〜１．９０（２０Ｈ、ｍ、（ＣＨ２　）１
０）、１．８２〜１．９４（１Ｈ、ｍ、Ｈ６）、２．８
１（１Ｈ、ｔ、ＯＨ）、 ３．３６（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，４　＝Ｊ３，４　＝１０．
１Ｈｚ、Ｈ４）、 ３．５１（１Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ２，３　＝１０．
１Ｈｚ、Ｈ３）、 ３．６１（３Ｈ、ｓ、ＯＣＨ３　）、 ３．７４（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，６　＝Ｊ４，５　＝１０．
１Ｈｚ、Ｈ５）、 ３．９２〜４．０５（２Ｈ、ｍ、Ｈａ、Ｈｂ）、４．２
０（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝１０．１Ｈｚ、Ｊ１，２
　＝４．９Ｈｚ、Ｈ２）、 ４．４３（１Ｈ、ｔ、Ｊ１，６　＝Ｊ１，２　＝４．９
Ｈｚ、Ｈ１） ＩＲ（ＣＨＣｌ３　） ３５５０、２９３０、２８５０、１４３０、１３９０、
１３５０、１３２０、１２６０、１２００、１１５０、
１１３０、１０８０、１０２０、９００および８４０ｃ
ｍ−１
【００５８】■　　化合物６のピリジン溶液（化合物６
を１．８９ｇ、５．１２ｍｍｏｌ含有、１５ｍｌ）に、
０℃にて、触媒量のジメチルアミノピリジンと、無水安
息香酸（１．７４ｍｌ、７．６８ｍｍｏｌ）とを加える
。室温とし、終夜撹拌した後、反応液中に氷水を加え、
反応を停止する。反応液を酢酸エチル（１５ｍｌ×３）
で抽出した後、有機層を、５％硫酸水素カリウム水溶液
（５ｍｌ）、２．５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍ
ｌ）、飽和食塩水（５ｍｌ）で順次洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。無水硫酸ナトリウムを濾別した後
、減圧下に濃縮する。得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ（酢酸エチル／ヘキサン＝１／５０
〜１／５）によって精製し、化合物７（１Ｌ−（１，２
，４，６／３，５）−６−ベンゾイロキシメチル−１，
２：３，４−ビス−Ｏ−シクロヘキシリデン−５−Ｏ−
メチル−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントー
ル）を得る。 化合物７ 収　　量　　１．０４ｇ（化合物５に対して３１％）１
Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨｚ
）１．２５〜１．７０（２０Ｈ、ｍ、（ＣＨ２　）１０
）、２．２５〜２．３６（１Ｈ、ｍ、Ｈ６）、３．３７
（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，６　＝Ｊ３，４　＝９．８Ｈｚ、Ｈ
４）、 ３．５０（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，４　＝Ｊ４，５　＝９．８
Ｈｚ、Ｈ５）、 ３．５７（３Ｈ、ｓ、ＯＣＨ３　）、 ３．５８（１Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ２，３　＝９．８
Ｈｚ、Ｈ３）、 ４．２０（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝９．８Ｈｚ、Ｊ１
，２　＝５．２Ｈｚ、Ｈ２）、 ４．５０（１Ｈ、ｔ、Ｊ１，６　＝Ｊ１，２　＝５．２
Ｈｚ、Ｈ１）、 ４．５９（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ｂ，６＝９．５Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝１０．７Ｈｚ、Ｈ７ｂ）、 ４．７８（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ａ，６＝４．６Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝１０．７Ｈｚ、Ｈ７ａ）、 ７．３９〜７．６０（３Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）、
７．９９〜８．０２（２Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）
【
００５９】（実施例２）１Ｌ−（１，２，４，６／３，
５）−６−ベンゾイロキシメチル−１，２：３，４−ビ
ス−Ｏ−シクロヘキシリデン−５−Ｏ−メチル−１，２
，３，４，５−シクロヘキサンペントールを出発原料と
する（＋）−シクロフェリトールの合成図２に従って説
明する。
【００６０】■　　１Ｌ−（１，２，４，６／３，５）
−６−ベンゾイロキシメチル−１，２：３，４−ビス−
０−シクロヘキシリデン−５−０−メチル−１，２，３
，４，５−シクロヘキサンペントール（化合物７）のア
セトニトリル溶液（化合物７を４１．３ｍｇ、０．０８
７ｍｍｏｌ含有、０．６ｍｌ）に、０℃にて、ヨウ化ナ
トリウム（１６５ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）および塩化ア
ルミニウム（１４７ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を加える。 室温とし、３時間撹拌した後、反応液に氷水を加えて反
応を停止する。 反応液をジクロロメタン（５ｍｌ×３）で抽出した後、
有機層を、飽和食塩水（２ｍｌ）、１０％亜硫酸ナトリ
ウム水溶液（２ｍｌ）、飽和食塩水（３ｍｌ）で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。無水硫酸ナトリ
ウムを濾別した後、減圧下に濃縮する。得られた油状物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（酢酸エチル／ヘ
キサン＝１／６）によって精製し、化合物８（１Ｌ−（
１，２，４，６／３，５）−６−ベンゾイロキシメチル
−１，２−Ｏ−シクロヘキシリデン−１，２，３，４，
５−シクロヘキサンペントール）を得る。 化合物８ 収　　量　　１９．８ｍｇ（６１％） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．２５〜１．７０（１０Ｈ、ｍ、（ＣＨ２　）５
　）、２．２０〜２．３５（１Ｈ、ｍ、Ｈ６）、３．３
８（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，４　＝Ｊ３，４　＝１０．１Ｈｚ
、Ｈ４）、 ３．５９（１Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ２，３　＝１０．
１Ｈｚ、Ｈ３）、 ３．６８（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，６　＝Ｊ４，５　＝１０．
１Ｈｚ、Ｈ５）、 ３．９９（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝１０．１Ｈｚ、Ｊ
１，２　＝４．６Ｈｚ、Ｈ２）、 ４．０８（２Ｈ、ｂｒｓ、ＯＨ）、 ４．３７（１Ｈ、ｔ、Ｊ１，６　＝Ｊ１，２　＝４．６
Ｈｚ、Ｈ１）、 ４．３９（１Ｈ、ｂｒｓ、ＯＨ）、 ４．５６（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ｂ，６＝９．２Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝１１．０Ｈｚ、Ｈ７ｂ）、 ４．８４（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ａ，６＝４．３Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝１１．０Ｈｚ、Ｈ７ａ）、 ７．３７〜７．５７（３Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）、
７．９９〜８．０２（２Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）Ｉ
Ｒ（ＣＨＣｌ３　） ３６００〜３３００（ｂｒ）、２４００、１７００、１
５００、１４１０、１２００、１０４０、９２０、７２
０（ｂｒ）および６５０ｃｍ−１
【００６１】■　　化合物８のジメチルホルムアミド溶
液（化合物８を３５８ｍｇ、０．９６０３ｍｍｏｌ含有
、１０ｍｌ）に、０℃にて水素化ナトリウム（１９２ｍ
ｇ、４．８１ｍｍｏｌ）を加える。０℃で１０分間撹拌
した後、臭化ベンジル（６８７μｌ、５．７７ｍｍｏｌ
）を加え、室温とした後、３時間撹拌する。０℃に冷却
し、水素化ナトリウム（１２０ｍｇ、２．８９ｍｍｏｌ
）およびメタノール（１０μｌ）を加え、室温とした後
、１時間撹拌する。０℃に冷却し、水素化ナトリウム（
２００ｍｇ、４．８ｍｍｏｌ）、続いて臭化ベンジル（
２００μｌ、４．８ｍｍｏｌ）を加え、室温とした後、
１時間撹拌する。反応液中に氷水（１０ｍｌ）を加えて
反応を停止する。反応液を酢酸エチル（１０ｍｌ×３）
で抽出した後、有機層を、飽和食塩水（５ｍｌ）、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ）、飽和食塩水（５
ｍｌ）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。 無水硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に濃縮する。 得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（
酢酸エチル／ヘキサン＝１／１５）によって精製し、化
合物９（１Ｌ−（１，２，４，６／３，５）−６−ベン
ゾイロキシメチル−１，２−Ｏ−シクロヘキシリデン−
３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−１，２，３，４，５
−シクロヘキサンペントール）を得る。 化合物９ 収　　量　　５０６ｍｇ（８３％） 比旋光度　　〔α〕Ｄ２４　＝＋１７．０°（ｃ、２．
０　　ｉｎ　　ＣＨＣｌ３　） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．３０〜１．７５（１０Ｈ、ｍ、（ＣＨ２　）５
　）、２．１５〜２．３０（１Ｈ、ｍ、Ｈ６）、３．４
７（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，４　＝Ｊ３，４　＝９．２Ｈｚ、
Ｈ４）、 ３．５８（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ５，６　＝１１．０Ｈｚ、Ｊ
４，５　＝９．２Ｈｚ、Ｈ５）、 ３．６６（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ｂ，６＝８．２Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝８．４Ｈｚ、Ｈ７ｂ）、 ３．６９（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ３，４　＝９．２Ｈｚ、Ｊ２
，３　＝７．０Ｈｚ、Ｈ３）、 ３．８５（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ａ，６＝４．３Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝８．４Ｈｚ、Ｈ７ａ）、 ４．１２（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝７．０Ｈｚ、Ｊ１
，２　＝５．２Ｈｚ、Ｈ２）、 ４．４６（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ１，６　＝１．０Ｈｚ、Ｊ１
，２　＝５．２Ｈｚ、Ｈ１）、 ４．４７（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．７Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．５３（２Ｈ、ｓ、ＰｈＣＨ）、 ４．７４（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．７Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．７５（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．７Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．８６（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．７Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．８９（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．７Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．９３（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．７Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
７．１５〜７．２０（２０Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）
ＩＲ（ＣＨＣｌ３　） ３０００、２９２０、２８５０、１４８０、１４３０、
１３４０、１１８０、１０１０、９００、６８０および
６４０ｃｍ−１ 元素分析（Ｃ４１Ｈ４６Ｏ６　） Ｃ：７７．５７％；Ｈ：７．３０％（理論値）Ｃ：７７
．６９％；Ｈ：７．５０％（測定値）
【００６２】■　
　化合物９（１６．９ｍｇ、０．０２７ｍｍｏｌ）に、
室温にて、トリフルオロ酢酸／メタノール混液（容量比
で８：１）（２．５ｍｌ）　を加え、２時間撹拌する。 減圧下、溶媒を留去した後、得られた油状物を薄層シリ
カゲルカラムクロマトグラフィ（酢酸エチル／ヘキサン
＝１／２）によって精製し、化合物１０（１Ｌ−（１，
２，４，６／３，５）−３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジ
ル−６−ベンジロキシメチル−１，２，３，４，５−シ
クロヘキサンペントール）を得る。 化合物１０ 収　　量　　１３．３ｍｇ（９０％） 融　　点　　（酢酸エチル／ヘキサン中）　　１１４〜
１１５℃ 比旋光度　　〔α〕Ｄ２２　＝＋１５．８°（ｃ、０．
７６　　ｉｎＣＨＣｌ３　） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．６８〜１．８０（１Ｈ、ｍ、Ｈ６）、２．３８
（１Ｈ、ｂｒｓ、ＯＨ）、 ３．３０（１Ｈ、ｂｒｓ、ＯＨ）、 ３．８５（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ａ，６＝３．１Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝９．０Ｈｚ、Ｈ７ａ）、 ３．５５（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，４　＝Ｊ３，４　＝９．０
Ｈｚ、Ｈ４）、 ３．７２（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ｂ，６＝３．１Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝９．０Ｈｚ、Ｈ７ｂ）、 ３．８３（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，６　＝Ｊ４，５　＝９．３
Ｈｚ、Ｈ５）、 ３．８９（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝９．３Ｈｚ、Ｊ１
，２　＝３．７Ｈｚ、Ｈ２）、 ３．９１（１Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ２，３　＝９．３
Ｈｚ、Ｈ３）、 ４．２５（１Ｈ、ｂｒｔ、Ｈ１）、 ４．４７（２Ｈ、ｓ、ＰｈＣＨ２　）、４．５１（１Ｈ
、ｄ、Ｊ＝１１．３Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、４．７８（１Ｈ
、ｄ、Ｊ＝１１．３Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、４．８６〜４．
９６（４Ｈ、ｍ、ＰｈＣＨ２　）、７．１６〜７．３３
（２０Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）ＩＲ（ＣＨＣｌ３　
） ３４５０（ｂｒ）、３０００、２８７０、１４８０、１
４４０、１３４０、１２００、１０６０、９１０、７４
０（ｂｒ）、６６０および５６０ｃｍ−１元素分析（Ｃ
３５Ｈ３８Ｏ６　） Ｃ：７５．７９％；Ｈ：６．９１％（理論値）Ｃ：７５
．７２％；Ｈ：７．１３％（測定値）
【００６３】■　
　化合物１０のジクロロメタン溶液（化合物１０を２６
．６ｍｇ、０．０４８ｍｍｏｌ含有、１ｍｌ）に、０℃
にてピリジン（１６μｌ、０．１９ｍｍｏｌ）およびト
リフルオロメタンスルホン酸無水物（１６μｌ、０．０
９６ｍｍｏｌ）を加える。０℃で４０分間撹拌した後、
反応液に氷水（３ｍｌ）を加えて反応を停止する。反応
液を酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出した後、有機層を
、飽和食塩水（３ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液（３ｍｌ）、飽和食塩水（３ｍｌ）で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。無水硫酸ナトリウムを濾
別した後、減圧下に濃縮する。得られた油状物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ（酢酸エチル／ヘキサン＝
１／２）によって精製し、化合物１１（１Ｌ−（１，２
，４，６／３，５）−３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル
−６−ベンジロキシメチル−２−Ｏ−トリフルオロメタ
ンスルホニル−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペ
ントール）を得る。 化合物１１ 収　　量　　３０．２ｍｇ（９２％） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．６０〜１．７２（１Ｈ、ｍ、Ｈ６）、３．５８
（１Ｈ、ｔ、Ｊ４，５　＝Ｊ３，４　＝９．５Ｈｚ、Ｈ
４）、 ３．７３（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ａ，６＝２．７Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝９．２Ｈｚ、Ｈ７ａ）、 ３．７８（１Ｈ、ｂｒｓ、ＯＨ）、 ３．９６（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ｂ，６＝４．０Ｈｚ、Ｊ７
ａ，７ｂ＝９．２Ｈｚ、Ｈ７ｂ）、 ４．０２（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ５，６　＝１１．３Ｈｚ、Ｊ
４，５　＝９．５Ｈｚ、Ｈ５）、 ４．２１（１Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ２，３　＝９．５
Ｈｚ、Ｈ３）、 ４．４２（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．４７（１Ｈ、ｂｒｓ、Ｈ６）、 ４．５０（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．５１（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．７０（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝９．５Ｈｚ、Ｊ１
，２　＝２．８Ｈｚ、Ｈ２）、 ４．７８〜４．９３（５Ｈ、ｍ、ＰｈＣＨ）、７．１３
〜７．４３（２０Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）
【００６
４】■　　化合物１１のピリジン溶液（化合物１１を３
１．６ｍｇ、０．０４６ｍｍｏｌ含有、１．５ｍｌ）に
、室温にて、触媒量のジメチルアミノピリジンおよび無
水酢酸（８７μｌ、０．９２ｍｍｏｌ）を加え、室温で
終夜撹拌する。反応液に氷水（３ｍｌ）を加えて反応を
停止する。反応液をジクロロメタン（５ｍｌ×３）で抽
出した後、有機層を、５％硫酸水素カリウム水溶液（５
ｍｌ）、飽和食塩水（３ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液（３ｍｌ）、飽和食塩水（３ｍｌ）で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。無水硫酸ナトリウ
ムを濾別した後、減圧下に濃縮する。得られた油状物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィ（酢酸エチル／ベン
ゼン＝１／１５０）によって精製し、化合物１２（１Ｌ
−（１，２，４，６／３，５）−１−Ｏ−アセチル−３
，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−６−ベンジロキシメチ
ル−２−Ｏ−トリフルオロメタンスルホニル−１，２，
３，４，５−シクロヘキサンペントール）を得る。 化合物１２ 収　　量　　２２ｍｇ（６６％） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．８２〜１．９５（１Ｈ、ｍ、Ｈ６）、１．９３
（３Ｈ、ｓ、ＣＯＣＨ３　）、３．４６（１Ｈ、ｄｄ、
Ｊ７ａ，７ｂ　＝９．２Ｈｚ、Ｊ７ａ，６＝７．３Ｈｚ
、Ｈ７ａ）、 ３．６４（１Ｈ、ｔ、Ｊ４，５　＝Ｊ３，４　＝９．４
Ｈｚ、Ｈ４）、 ３．６５（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ７ａ，７ｂ　＝９．２Ｈｚ、
Ｊ７ｂ，６＝３．４Ｈｚ、Ｈ７ｂ）、 ３．８０（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ５，６　＝１１．４Ｈｚ、Ｊ
５，４　＝９．４Ｈｚ、Ｈ５）、 ４．００（１Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ２，３　＝９．４
Ｈｚ、Ｈ３）、 ４．３４、４．３９（２Ｈ、ＡＢｑ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ
、ＰｈＣＨ２　）、 ４．５６（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．７８（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝９．４Ｈｚ、Ｊ１
，２　＝３．１Ｈｚ、Ｈ２）、 ４．８４〜４．９０（５Ｈ、ｍ、ＰｈＣＨ２　）、５．
８２（１Ｈ、ｔ、Ｊ１，６　＝Ｊ１，２　＝３．１Ｈｚ
、Ｈ１）、 ７．１５〜７．３８（２０Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）
【００６５】■　　化合物１２のベンゼン溶液（化合物
１２を２２ｍｇ、０．０３０ｍｍｏｌ含有、３ｍｌ）に
、（Ｃ４　Ｈ９　）４　ＮＩ（１１２ｍｇ、０．３０ｍ
ｍｏｌ）を加え、６時間加熱還流する。反応液に氷水（
３ｍｌ）を加えて反応を停止する。反応液を酢酸エチル
（５ｍｌ×３）で抽出した後、有機層を、１０％亜硫酸
ナトリウム水溶液（２ｍｌ）、飽和食塩水（２ｍｌ）、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２ｍｌ）、飽和食塩水
（２ｍｌ）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。無水硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に濃縮す
る。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ（酢酸エチル／ベンゼン＝１／１５０）によって精製
し、化合物１３（１Ｌ−（１，４，６／２，３，５）−
１−Ｏ−アセチル−３，４，５−トリ−Ｏ−ベンジル−
６−ベンジロキシメチル−２−ヨード−１，３，４，５
−シクロヘキサンテトロール）を得る。 化合物１３ 収　　量　　２０ｍｇ（９４％） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．７７（３Ｈ、ｓ、ＣＯＣＨ３　）、２．８８〜
３．００（１Ｈ、ｍ、Ｈ６）、２．９７（１Ｈ、ｄｄ、
Ｊ３，４　＝９．０Ｈｚ、Ｊ２，３　＝４．０Ｈｚ、Ｈ
３）、 ３．４２（１Ｈ、ｔ、Ｊ４，５　＝Ｊ３，４　＝９．０
Ｈｚ、Ｈ４）、 ３．６２〜３．６９（２Ｈ、ｍ、Ｈ７ａ、Ｈ７ｂ）、３
．９１（１Ｈ、ｔ、Ｊ５，６　＝Ｊ５，４　＝９．０Ｈ
ｚ、Ｈ５）、 ４．３１（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．４６（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝４．０Ｈｚ、Ｊ１
，２　＝２．５Ｈｚ、Ｈ２）、 ４．４７（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．４９（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．５７（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．６９（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．７８（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．８９（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
４．９６（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１１．６Ｈｚ、ＰｈＣＨ）、
５．４６（１Ｈ、ｔ、Ｊ１，６　＝Ｊ１，２　＝２．５
Ｈｚ、Ｈ１）、 ７．１８〜７．４０（２０Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）
【００６６】■　　化合物１３（２０ｍｇ、０．０２８
ｍｍｏｌ）をメタノール（０．６ｍｌ）およびテトラヒ
ドロフラン（０．６ｍｌ）に溶解させ、０℃として水素
化ナトリウム（０．１７ｍｍｏｌ）を加えた後、２０分
間撹拌する。反応液に氷水（３ｍｌ）を加えて反応を停
止する。 反応液を酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出した後、有機
層を、５％硫酸水素カリウム水溶液（２ｍｌ）、飽和食
塩水（２ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２ｍ
ｌ）、飽和食塩水（２ｍｌ）で順次洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。無水硫酸ナトリウムを濾別した後
、減圧下に濃縮する。得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ（酢酸エチル／ベンゼン＝１／１０
０）によって精製し、化合物１４を得る。 化合物１４ 収　　量　　１７ｍｇ（定量的） 比旋光度　　〔α〕Ｄ２７　＝＋７１．６°（ｃ、０．
６４　　ｉｎＣＨＣｌ３　） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）２．３０（１Ｈ、ｍ、Ｈ５）、 ３．２０（１Ｈ、ｄ、Ｊ１，６　＝３．７Ｈｚ、Ｈ１）
、３．２６（１Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ４，５　＝１０
．１Ｈｚ、Ｈ４）、 ３．４８（１Ｈ、ｂｒｄｄ、Ｊ１，６　＝３．７Ｈｚ、
Ｊ５，６＜１Ｈｚ、Ｈ６）、 ３．５５（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝８．２Ｈｚ、Ｊ３
，４　＝１０．１Ｈｚ、Ｈ３）、 ３．５７（１Ｈ、ｔ、Ｊ８ａ，８ｂ　＝Ｊ８ｂ，５＝８
．９Ｈｚ、Ｈ８ｂ）、 ３．７５（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ８ａ，８ｂ　＝８．９Ｈｚ、
Ｊ８ａ，５＝３．２Ｈｚ、Ｈ８ａ） ３．８６（１Ｈ、ｄ、Ｊ２，３　＝８．２Ｈｚ、Ｈ２）
、４．３９（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝１０．７Ｈｚ、ＰｈＣＨ）
、４．５０、４．５５（２Ｈ、ＡＢｑ、Ｊ＝１２．２Ｈ
ｚ、ＰｈＣＨ２　）、 ４．７０〜４．８５（５Ｈ、ｍ、ＰｈＣＨ）、７．１０
〜７．４０（２０Ｈ、ｍ、ａｒｏｍａｔｉｃ）
【００６
７】■　　化合物１４（２３．１ｍｇ、０．０４３ｍｍ
ｏｌ）をメタノール（５ｍｌ）および酢酸エチル（２ｍ
ｌ）に溶解し、水素雰囲気下、５％パラジウム−炭素（
２５ｍｇ）触媒を加えて終夜撹拌する。触媒を濾別し、
溶媒を濃縮することにより、化合物１５（（＋）−シク
ロフェリトール）を得る。 化合物１５ 収　　量　　７．６ｍｇ（定量的） 融　　点　　１４７〜１４９℃　　（文献１）値　　１
４９〜１５１℃） 比旋光度　　〔α〕Ｄ２７　＝＋１０１°（ｃ、０．４
　　ｉｎ　　Ｈ２　Ｏ） （文献１）値　　〔α〕Ｄ２７　＝＋１０３°（ｃ、０
．５　　ｉｎ　　Ｈ２　Ｏ）） １Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　Ｄ２　Ｏ、内部標準：Ｄ
ＯＨ（δ＝４．８０））２．１２（１Ｈ、ｍ、Ｈ５）、
３．２５（１Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ４，５　＝１０．
１Ｈｚ、Ｈ４）、 ３．２６（１Ｈ、ｄ、Ｊ１，６　＝３．８Ｈｚ、Ｈ１）
、３．３７（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ３，４　＝１０．１Ｈｚ、
Ｊ３，２　＝８．４Ｈｚ、Ｈ３）、 ３．５５（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ４，５　＝１０．１Ｈｚ、Ｊ
５，６　＝１．８Ｈｚ、Ｈ６）、 ３．７８（１Ｈ、ｂｒｄ、Ｊ１，２　＜０．１Ｈｚ、Ｈ
２）、 ３．８２（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ８ａ，８ｂ　＝１１．３Ｈｚ
、Ｊ５，８ｂ＝７．５Ｈｚ、Ｈ８ｂ）、 ４．００（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ８ａ，８ｂ　＝１１．３Ｈｚ
、Ｊ５，８ａ＝４．０Ｈｚ、Ｈ８ａ）、 なお、この　１Ｈ−ＮＭＲスペクトル値は、文献１）値
と一致する。 １）Ｓ．　Ａｔｓｕｍｉ，　Ｋ．　Ｕｍｅｚａｗａ，　
Ｈ．　Ｉｉｎｕｍａ，Ｈ．　Ｎａｇａｎａｗａ，　Ｈ．
　Ｎａｋａｍｕｒａ，　Ｙ．　Ｉｉｔａｋａ　ａｎｄ　
Ｔ．　Ｔａｋｅｕｃｈｉ，　Ｊ．　Ａｎｔｉｂｉｏｔ．
，　４３，　ｐ．４９　（１９９０）
【００６８】
【発明の効果】本発明により、β−グルコシダーゼ阻害
活性を示すことからエイズウイルス（ＨＬＶ）の増殖を
抑えることが期待されている（＋）−シクロフェリトー
ルの、原料が入手し易く、かつ、大量合成も可能な合成
方法が提供される。本発明の方法は、その原料として、
容易に入手可能なＬ−クエブラキトールを用いることが
でき、また、各合成工程も、工業的規模でも実施可能な
反応や精製の工程からなるので、産業上の有用性が高い
。
【図面の簡単な説明】
【図１】Ｌ−クエブラキトールから１Ｌ−（１，２，４
，６／３，５）−６−ベンゾイロキシメチル−１，２：
３，４−ビス−Ｏ−シクロヘキシリデン−５−Ｏ−メチ
ル−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントールに
到る反応経路図である。
【図２】１Ｌ−（１，２，４，６／３，５）−６−ベン
ゾイロキシメチル−１，２：３，４−ビス−Ｏ−シクロ
ヘキシリデン−５−Ｏ−メチル−１，２，３，４，５−
シクロヘキサンペントールから（＋）−シクロフェリト
ールに到る反応経路図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　下記一般式Ｉで表される化合物から、
    その５位のメチルエーテルのメチル基と３，４位の保護
    基を切断して水酸基とする工程と、その１，２位をエポ
    キシ化する工程を経て、下記式ＩＩで示される（＋）−
    シクロフェリトールを合成することを特徴とする（＋）
    −シクロフェリトールの合成方法。 【化１】 （式Ｉ中、Ｒ１　はＲ３　ＣＯ−またはＲ３　ＯＣＯ−
    であり、Ｒ２　は２価の炭化水素基、Ｒ３　は１価の炭
    化水素基である。Ｒ２　、Ｒ３　において、炭化水素基
    中の水素原子の一部あるいは全部が、アルキル基、アリ
    ール基、ハロゲン原子、アルコキシ基で置換されていて
    もよい。）【化２】
  2. 【請求項２】　　Ｌ−クエブラキトールの１位の水酸基
    の酸化、１位へのアルキレン基の導入、該アルキレン基
    のヒドロキシアルキル基への変換の工程を経て合成した
    前記一般式Ｉで表される化合物を用いる請求項１に記載
    の（＋）−シクロフェリトールの合成方法。
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