JPH0435372A - 固体撮像素子の駆動方法 - Google Patents

固体撮像素子の駆動方法

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JPH0435372A
JPH0435372A JP2138870A JP13887090A JPH0435372A JP H0435372 A JPH0435372 A JP H0435372A JP 2138870 A JP2138870 A JP 2138870A JP 13887090 A JP13887090 A JP 13887090A JP H0435372 A JPH0435372 A JP H0435372A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は埋め込みチャネル型電荷結合素子(以下BC
CDと呼ぶ)を用いた固体撮像素子の駆動方法の改良に
関するものである。
〔従来の技術〕
VLS I技術の進歩に従い、CCDを用いた1次元あ
るいは2次元面体操像素子が広く開発されている。
CCDは構造上、表面チャネル型と埋め込みチャネル型
に分けられるが、埋め込みチャネル型が一般に用いられ
る。このBCCDは転送キャリアが5i−3iO□界面
より離れてバルク中を転送されるため、転送効率がよい
という利点があるが、Si  Stow界面が空乏化し
ている領域が存在し、このため表面チャネル型のものに
比べ暗電流が大きいという欠点を持つ。
第2図(a)にBCCDを用いた4×4画素フレームト
ランスファ(FT)方式イメージセンサの平面図を示す
。図において1は垂直BCCD、2は垂直BCCDI間
を分離する分離領域、3は水平CCD、4は出力アンプ
を示す。上記垂直BCCDIは2つの領域A、Bに分け
られ、領域Aは撮像領域で、領域Bは遮光された蓄積領
域である。
本例では、この垂直BCCDIが3相駆動である場合を
示し、撮像領域(領域A)にはクロックφ11.φ1□
、φ1.が与えられ、蓄積領域(領域B)にはクロック
φM + +  φ、2.φ3.が与えられる。第2図
℃)にこれらクロックφ11〜φ11.φ3.〜φ、。
のタイミングチャートを示す、なお、水平CCD3の構
成及びそのクロックタイミングは本発明とは直接関係し
ないのでここではその説明は省略する。
第3図(a)は第2図(a)における、Y−Y ’部の
断面構造を示した図であり、5は垂直BCCDIの電極
群を示し、光透過性のある物質、例えばPo1ySiな
どを用いて形成されている。6は例えばStowからな
る絶縁体膜、7は埋め込みチャネルを形成するためのn
形シリコンからなる半導体層で、外部から印加される電
圧(図示せず)により完全空乏化している。また8はP
形シリコンからなる半導体基板である。
また第3図℃)は蓄積期間TST時におけるイメージセ
ンサのy方向のポテンシャル分布を示した図であり、第
3図(C)はその電極φ、下の深さ方向(Z方向)のバ
ンドダイヤグラムを示した図である。
次に動作について説明する。
蓄積期間TST中では、第2図(b)に示すように撮像
領域(領域A)の垂直BCCDIにはクロックφr +
 カHレベル、φ、tがLレベル、φ1.がLレベルで
印加される。従って第3図(b)に示すうように、クロ
ックφ、が印加される電極下にはポテンシャルウェルが
生じ、電荷が蓄積可能な状態となる。
この状態で撮像領域に光入射があると、その強度に応じ
て発生した電子がこのポテンシャルウェルに蓄えられる
蓄積期間TsTが終わると、フレームトランスファ期間
T F tに印加される3相クロツク(詳細図示せず)
により、上記撮像領域に蓄えられた信号電荷は、蓄積領
域の垂直BCCDに転送される。
蓄積領域のBCCDに移された電荷は、続く蓄積期間中
の水平帰線期間T。に印加されるクロックφ、I、φ、
t、φ、3により、1行ずつ水平CCD3に移される。
そしてこの水平CCD3は次の行の電荷を受は取るまで
にこの電荷を出力アンプ4に転送し、外部に出力する。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の固体撮像素子の駆動方法は以上のようになされて
おり、第3図(C)に示すように、蓄積期間TST中で
は、クロックφ、が印加されている電極下の5iSiO
z界面準位NSTを介しての暗電流が大きいという欠点
があった。
これはクロックφ、が長期間Hレベルで固定されている
ため、界面準位N、Tが、熱励起により価電子帯Evよ
り励起された電子でほとんど満たされた状態となってい
る。そしてこの電子は、さらに熱励起されることにより
伝導帯Ecに励起されて暗電流となる。
なお、クロックφI□、φ1.が印加される電極下の界
面準位に関しては、Lレベルを充分負にすることにより
、5i−3in、界面が反転し、正孔蓄積状態となるた
め、界面準位中の電子存在確率は著しく低くなり、これ
らの電極下での暗電流は無視できるほど小さくなる。
以上のようにして生じた暗電流は、バックグラウンドノ
イズとなるため、低照度下のS/Nを著しく劣化させる
原因となる。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、装置自体は従来と同様の構成のままで暗電流
を軽減することができ、これにより低照度でもS/Nの
よいイメージセンサを得ることができる固体撮像素子の
駆動方法を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段] この発明に係る固体撮像素子の駆動方法は、長期間Hレ
ベルに固定されているクロックをなくし、蓄積期間中に
蓄積ゲートを複数回入れ換え、一定期間5i−3iO□
界面が反転状態となるようにしたものである。
〔作用〕 この発明においては、蓄積期間中に、蓄積ゲートを複数
回入れ換えを行い、一定期間S i−3iOt界面が反
転状態となるようにしたので、長期間Hレベルが印加さ
れる電極がなくなり、一定期間、界面準位が正孔で満た
される期間が生じ、再び熱励起により界面準位が電子で
満たされるまでは、暗電流が発生することがなく、暗電
流を著しく減少させることができる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図(a)は本発明の一実施例による固体撮像素子の
駆動方法による駆動クロックのタイミングチャートを示
す図であり、蓄積領域BCCDに加えれるクロックφ3
I、φ3z、φs3に関しては従来と同じであるので省
略する。
次に動作について説明する。
本発明の駆動方法では、クロックφ、が一定期間毎にL
レベルとなり、この期間を含む期間でクロックφ1□が
Hレベルになるものであり、従ってこの期間ではクロッ
クφ、が印加されている電極下に蓄えられていた信号電
荷は、クロックφ1.が印加されている電極下に移り、
その後再びクロックφ1.が印加されている電極下にも
どることになる。
ここで、上記一定期間毎のクロックφ1.のしレベルを
5iSiOz界面が反転するのに充分な負電圧とした場
合の、クロックφ1、がLレベルになっている期間での
電極下の深さ方向のバンドダイヤグラムは、第1図ら)
に示すように、電子で満たされていた界面準位N3.は
正孔と再結合し、界面準位N、エア中は電子がほとんど
存在しなくなる。
そして、再びクロックφ1.をHレベルとなっても暗電
流が発生するためには、電子が価電子帯EVに励起され
再び界面準位N、アを電子で満たされなければならなく
なり、導電帯Ecに電子が励起されるまでの時間に遅延
をもたらすことにより暗電流の発生は抑制される。
以上のような蓄積ゲートの入れ換えは、第1図(a)に
示したように水平帰線期間T。で行うのが望ましい。と
いうのは、信号出力期間に行うとクロックの切り換えに
ともなうノイズが入るからである。
次に本実施例の一実験結果について述べる。
この実験によれば、50+secの蓄積期間のうち、5
0μsec毎にクロックφ11を200nsecの期間
Lレベルに落とせば、暗電流は1/15に減少すること
か確認された。なお、この実験に用いたCCDはチャネ
ル幅6.5μm、ピッチ8.1μmで963段の3相B
CCDである。P型基板濃度はlX 10 ”cm−’
、埋め込みチャネルはリンのイオン注入で形成されて、
その注入量は1.8X 10 ”cs+2で1000°
Cでlhrのドライブを行っている。
なお、上記実施例では3相駆動BCCDを用いた2次元
フレームトランスファイメージセンサについて説明した
が、本発明の固体撮像素子の駆動方法は以下に示すよう
な種々の変形例においても同様の効果を示す。
■ 基板をn形に、埋め込みチャネル層をP形にして正
孔をキャリアとして扱う場合。
■ 駆動相数が3相以外、例えば4相駆動の場合。
■ 垂直BCODが1本からなり、水平CCDが存在し
ないリニアイメージセンサの場合。
■ 蓄積領域CCDが存在しない、いわゆるフルフレー
ム方式のイメージセンサの場合。
■ 蓄積ゲートの入れ換えを3つのゲート間あるいはそ
れ以上のゲート間で行う場合。
ここで第2図(a)に示した構成のイメージセンサを用
いて、3つのゲート間で入れ換えを行う場合の水平帰線
期間T□に印加されるクロックφ11〜φ1.の例を第
4図に示す。
図において、時刻t1においてクロックφ11が印加さ
れているゲート間の信号電荷は、クロックφ1□が印加
されているゲート下に移り、時刻tzになるとクロック
φ1.が印加されているゲート下に移り、時刻t3にな
ると再びクロックφ1□が印加されているゲート下に移
り、時刻t4になると再びクロックφ、。
が印加されているゲート下にもどる。
■ また蓄積ゲートの入れ換えサイクルを1つの水平帰
線期間T。内で完了するのではなく、複数の水平走査期
間にまたがってに入れ換えを行う場合、例えば第5図に
示すように2水平走査期間周期毎で入れ換えを行なって
もよく、要は電子が価電子帯へ励起するのに時間的な遅
延を与え、価電子帯が電子で満たされることがないよう
にすればよい。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明に係る固体撮像素子の駆動方法に
よれば、長期間Hレベルに固定されているクロックをな
くし、蓄積期間中に蓄積ゲートを複数回入れ換え、一定
期間5i−3iO,界面が反転状態となるようなクロッ
クを加えるようにしたので、暗電流の発生を効果的に低
減することができ、低照度でもS/Nのよいイメージセ
ンサを得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)はこの発明の一実施例による固体撮像素子
の駆動方法によるクロックタイミング図、第1図(ハ)
はこの発明の一実施例による固体撮像素子の駆動方法に
よる暗電流低減効果を説明するためのバンドダイヤグラ
ムを示す図、第2図(a)は従来のBCCDを用いた4
×4画素フレームトランスファイメージセンサの平面図
、第2図□□□)は従来の固体撮像素子の駆動方法にお
けるクロックタイミング図、第3図(a)は第2図(a
)のY−Y“部の断面構造を示す図、第3図(b)は従
来の固体撮像素子の駆動方法のクロックタイミングにお
ける撮像領域BCCD内のポテンシャル分布を示す図、
第3図(C)は従来の固体撮像素子の駆動方法のクロッ
クタイミングにおいて暗電流が発生するメカニズムを説
明するための図、第4図および第5図は本発明の他の実
施例におけるクロックタイミング図である。 1は垂直BCCD、2は分離領域、5はBCCDの電極
、6は絶縁体膜、8は半導体基板、7は埋め込みチャネ
ルを形成する半導体層を示す。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1導電型の半導体基板上に第2導電型の半導体
    層を設け、その上に絶縁体膜及び導電性の電極が設けら
    れた埋め込み型チャネル電荷結合素子を用いた固体撮像
    素子の駆動方法において、信号電荷蓄積期間中に一定期
    間、蓄積電極の入れ換えを行い、蓄積を行っていない電
    極下の上記絶縁体膜と上記第2の半導体層の界面が反転
    状態となるようなクロックを印加するようにしたことを
    特徴とする固体撮像素子の駆動方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6422894B1 (en) 1996-04-08 2002-07-23 Yazzki Corporation Connector fitting detection construction
JP2007158411A (ja) * 2005-11-30 2007-06-21 Sanyo Electric Co Ltd 固体撮像素子の駆動方法及び撮像装置
JP2007202109A (ja) * 2005-12-26 2007-08-09 Sanyo Electric Co Ltd 固体撮像装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6422894B1 (en) 1996-04-08 2002-07-23 Yazzki Corporation Connector fitting detection construction
JP2007158411A (ja) * 2005-11-30 2007-06-21 Sanyo Electric Co Ltd 固体撮像素子の駆動方法及び撮像装置
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