JPH04354517A - 排ガス処理方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、ディーゼルエンジン排
ガス・ボイラ排ガスなどのようにダスト、窒素酸化物（
ＮＯｘ）及び硫黄酸化物（ＳＯｘ）を含有する排ガス、
ダスト及び硫化水素（Ｈ２　Ｓ）などの硫黄化合物を含
む排ガス（例えば、石炭ガス化ガス）を、回転している
外側ダスト除去用粒子層及び内側触媒粒子層に通して、
集じんと脱硝、集じんと脱硫、又は集じんと脱硝と脱硫
を同時に連続的に行なう排ガス処理方法及び装置に関す
るものである。 【０００２】 【従来の技術】従来、ディーゼルエンジン排ガス中のダ
スト除去方法としては、発泡セラミックなどの多孔質フ
ィルターによるろ過集じんが主流である。この方法では
、フィルター内に捕集されたダストによって、フィルタ
ーの目詰まりが進行し、通気抵抗が一定値以上に高くな
ると、排ガスを切り換え捕集されたダストを焼却・除去
することによって、フィルターを再生する。 【０００３】また、特開平１−１５９０３４号公報には
、ディーゼルエンジン排ガスの煙道中にアンモニアガス
を注入し、その後、消石灰とバナジウム酸化物を担持し
たγ−アルミナ又はアナターゼ型チタニアの粉末を噴射
し、つぎに、排ガス後流にセラミックスフィルターを設
けて、排ガス中の粉末及び燃焼ばいじんを捕集するとと
もに、この捕集灰の層を排ガスが通過するようにして脱
硝する方法が記載されている。また、特開昭６１−１１
１１２８号公報、１１１１２９号公報には、灰分、塩化
水素、窒素酸化物、硫黄酸化物を含む焼却炉排ガス処理
装置として、多孔質セラミック材の排ガス流入面側に目
詰まり防止用の特殊反応助剤プリコート層を介して、消
石灰又は炭酸カルシウム及び塩化カルシウムを含む固形
物層を形成し、排ガス流出面側に窒素酸化物除去用触媒
層を設けた装置が記載されている。また、実開昭５６−
１２６２３７号公報には、中空円筒状の触媒層に排ガス
を流し、触媒層に付着したダストを、触媒層の外方向か
ら、ノズルを有する清浄管により空気を吹きつけて分離
・除去するようにした装置が記載されている。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】上記従来の多孔質フィ
ルターを用いる方法は、つぎのような問題点を有してい
る。（１）　　フィルターの圧力損失が、ダスト堆積に
伴って連続的に上昇する。間欠的に再生することによっ
て、フィルターの圧力損失は回復するが、エンジン背圧
が一定値とならないため、エンジンの運転に悪影響を及
ぼす。（２）　　多孔質フィルターを再生するために、
排ガスを切り換える必要があり、また、複数のフィルタ
ーを並列に設置する必要がある。（３）多孔質フィルタ
ーを再生するために、ダストを焼却する際、フィルター
温度が過度に上昇するとフィルターが破損したり、焼結
の進行によってフィルター気孔が潰れる。このため、低
温で燃焼させるための触媒担持や、微妙な燃焼コントロ
ールを行なう必要がある。（４）　　ダストの燃焼残渣
が気孔内に残存するため、フィルターの圧力損失は完全
には回復しない。（５）　　硫黄酸化物、窒素酸化物は
、別途処理することが必要である。また、特開平１−１
５９０３４号公報記載の方法においても、上記と同様の
問題点を有している。また、特開昭６１−１１１１２８
号公報、１１１１２９号公報には、焼却炉排ガスから、
ダストとともに窒素酸化物を除去することが記載されて
いるが、この場合も、多孔質セラミックフィルターを使
用するものであり、上記と同様の問題点を有している。 また、実開昭５６−１２６２３７号公報記載の装置にお
いては、空気を吹きつけて分離されたダストは、処理済
みガス中に流入するので、この処理後のガスはダスト含
有ガスとなるという問題点がある。また、この公報には
、触媒層を小区画に仕切ることについては、何も記載さ
れていない。 【０００５】本発明は、上記の諸点に鑑みなされたもの
で、回転している小区画に仕切られたダスト除去用粒子
層の一部及び小区画に仕切られた触媒粒子層の一部に排
ガスを通して、脱じんと同時に、脱硫又は／及び脱硝を
行ない、粒子層の他の一部に隣接してダスト分離手段を
設けて、粒子間に捕捉されていたダストの分離を行い、
分離されたダストは処理ガスとは別に抜き出すように構
成することにより、集じんと脱硝、集じんと脱硫、又は
集じんと脱硝と脱硫を同時に連続的に効率よく行なうこ
とができる排ガス処理方法及び装置を提供することを目
的とするものである。 【０００６】 【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１の排ガス処理方法は、図１及び図４に示
すように、つぎの（ａ）、（ｂ）の工程、すなわち、（
ａ）　　連続的又は間欠的に回転する中空円筒状で小区
画に仕切られた内側触媒粒子層２０及び小区画に仕切ら
れた外側ダスト除去用粒子層２２の一部に、外側から内
側の方向に排ガスを通過させて、排ガス中のダストを捕
集するとともに、排ガス中の窒素酸化物又は／及び硫黄
酸化物を除去する工程、（ｂ）　　内側触媒粒子層２０
及び外側ダスト除去用粒子層２２の一部に、内側から外
側の方向にダスト分離用ガスを連続的若しくは間欠的に
吹きつけるか、又は外側ダスト除去用粒子層２２の外側
から連続的若しくは間欠的に吸引してダストを分離する
工程、を包含することを特徴としている。請求項２の方
法は、請求項１の方法において、図１に示すように、内
側触媒粒子層２０及び外側ダスト除去用粒子層２２の一
部に、内側から外側の方向に触媒再生ガスを流して触媒
を再生することを特徴としている。 【０００７】また、上記の排ガス処理方法において、触
媒粒子の少なくとも一部を脱硫活性を有する粒子として
、ダストの除去とともに硫黄酸化物を除去するようにし
たり、触媒粒子の少なくとも一部を脱硝活性を有する粒
子とし、排ガス中に還元剤を添加して、ダストの除去と
ともに窒素酸化物を除去するようにしたり、触媒粒子の
少なくとも一部を脱硫活性を有する粒子及び脱硝活性を
有する粒子とし、排ガス中に還元剤を添加して、ダスト
の除去とともに硫黄酸化物及び窒素酸化物を除去するよ
うにしたり、触媒粒子の少なくとも一部を同時脱硫・脱
硝活性を有する粒子とし、排ガス中に還元剤を添加して
、ダストの除去とともに硫黄酸化物及び窒素酸化物を除
去するようにすることができる。なお、還元剤としては
、アンモニア、炭化水素などが用いられる。さらに、硫
黄酸化物を除去する代わりに、硫化水素を除去する場合
もある。 【０００８】請求項８の排ガス処理装置は、図１及び図
４に示すように、同心円筒状に配置された３個の通気性
支持板１２、１４、１６の空隙部を多数の小区画に仕切
るために放射状に設けられた多数の仕切板１８と、内側
の空隙部の各小区画内に触媒粒子を密に充填して形成さ
れた触媒粒子層２０と、外側の空隙部の各小区画内にダ
スト除去用粒子を粗に充填して形成されたダスト除去用
粒子層２２と、触媒粒子層及びダスト除去用粒子層を一
体として回転可能に収納する装置本体１０と、触媒粒子
層２０及びダスト除去用粒子層２２を一体として回転さ
せる回転手段と、装置本体に設けられた排ガス入口２４
及び処理ガス出口２６と、触媒粒子層２０の内側又はダ
スト除去用粒子層２２の外側に設けられたダスト分離手
段と、を包含することを特徴としている。請求項９の装
置は、請求項８の装置において、図１に示すように、触
媒粒子層２０の内側に、触媒再生ガス供給手段を設けた
ことを特徴としている。 【０００９】また、図２に示すように、通気性支持板を
４個として触媒粒子層を２層とし、各々の層を、異なる
触媒粒子を充填した触媒粒子層４８、５０とする場合が
ある。この場合、例えば、一方の層を脱硫活性を有する
粒子を充填した触媒粒子層とし、他方の層を脱硝活性を
有する粒子を充填した触媒粒子層とする。さらに図３に
示すように、通気性支持板を４個として、触媒粒子層２
０とダスト除去用粒子層２２との間に、ガスの整流を行
なうための空間部５２を形成する場合もある。ダスト分
離用ガスとしては、空気、処理済み排ガスなどの酸素含
有ガス、又は酸素が用いられる。また、不活性ガスが用
いられることもある。また、触媒再生ガスとしては、ス
チーム、高温ガス（燃焼ガスなど）、空気又は酸素など
が用いられる。一般に、同一排ガス中にＳＯｘとＮＯｘ
とは共存し得るが、Ｈ２　ＳとＮＯｘとの共存はまずあ
り得ない。このため、本願明細書において、「脱硫」に
は、ＳＯｘ除去とＨ２　Ｓ除去の２つの意味があり、「
同時脱硫・脱硝」という場合は、ＳＯｘ及びＮＯｘの除
去を意味し、「同時脱硫・脱じん」という場合は、ＳＯ
ｘ又はＨ２　Ｓの除去とダストの除去を意味し、「脱硫
」という場合は、ＳＯｘ又はＨ２　Ｓの除去を意味する
。 【００１０】 【作用】図１及び図４において、中空円筒状のダスト除
去用粒子層２２及び触媒粒子層２０は一体となって矢印
Ａ方向に回転する。ダスト除去用粒子層２２の外側から
排ガスが導入され、排ガス中のダストが捕集されるとと
もに、排ガス中のＮＯｘ又は／及びＳＯｘもしくはＨ２
　Ｓは触媒粒子層２０で除去される。ダストを捕集した
ダスト除去用粒子層２２は、さらに回転して触媒粒子層
２０の内側からダスト分離用ガスを連続的又は間欠的に
吹きつけるか、又はダスト除去用粒子層２２の外側から
連続的又は間欠的に吸引することによりダストが分離さ
れる。また、脱硫を行なう場合は、図１に示すように、
触媒粒子層２０の内側から触媒再生ガスが供給されて、
触媒を再生する。ここで、触媒粒子の一部又は全部を脱
硫活性を有する粒子とすることにより、ダストと同時に
ＳＯｘ又はＨ２　Ｓも除去される。また、触媒粒子の一
部又は全部を脱硝活性を有する粒子とすることにより、
ダストと同時にＮＯｘも除去される。また、触媒粒子の
一部又は全部を脱硫活性を有する粒子及び脱硝活性を有
する粒子とするか、又は同時脱硫・脱硝活性を有する粒
子とすることにより、ダストと同時にＳＯｘ（又はＨ２
　Ｓ）、ＮＯｘも除去される。なお、脱硝を行なう場合
は、排ガスに還元剤を添加する。 【００１１】 【実施例】以下、図面を参照して本発明の好適な実施例
を詳細に説明する。ただし、この実施例に記載されてい
る構成機器の形状、その相対配置などは、とくに特定的
な記載がない限りは、本発明の範囲をそれらのみに限定
する趣旨のものではなく、単なる説明例にすぎない。 実施例１ 図１において、装置本体１０内に、同心円筒状に３個の
通気性支持板１２、１４、１６が一体として回転可能に
収納される。通気性支持板は金網、パンチングメタル、
多孔板などからなる。通気性支持板間の空隙部には、多
数の小区画に仕切るために多数の仕切板１８が放射状に
設けられる。内側の空隙部の各小区画内には、触媒粒子
が密に充填されて触媒粒子層２０が形成され、外側の空
間部の各小区画内には、ダスト除去用粒子が粗に充填さ
れてダスト除去用粒子層２２が形成される。すなわち、
各粒子層２０、２２は、通気性支持板、仕切板及び粒子
から構成される。 【００１２】触媒粒子層２０及びダスト除去用粒子層２
２は、一体として連続的又は間欠的に回転するように構
成される。この回転手段としては、図示していないが、
円筒状の通気性支持板の端部に歯車、ベルト溝又はスプ
ロケット部を設け、モータにより駆動する歯車、ベルト
又はチェーンを係合させる構造や、円筒状の通気性支持
板の中心部に回転軸を設けるなどの構造とする。装置本
体１０には、排ガス入口２４及び処理ガス出口２６が設
けられる。排ガス入口２４及び処理ガス出口２６は、中
空円筒状のダスト除去用粒子層２２の軸方向に沿って設
けられる。また、触媒粒子層２０の内側又はダスト除去
用粒子層２２の外側に、ダスト分離手段が設けられる。 図１は、ダスト分離手段が触媒粒子層２０の内側に設け
られた例を示している。２８はダスト分離用ガス入口、
３０はダスト分離用ガス流路、３１は流路３０を形成す
るための仕切部で、ダスト分離用ガス入口２８から供給
されたガスを、円筒状の触媒粒子層２０の軸方向に設け
られたダスト分離用ガス流路３０を通し、その下面の多
孔板３２から触媒粒子層２０を通してダスト除去用粒子
層２２に吹きつけることによって、ダスト除去用粒子間
に捕捉されていたダストを粒子から分離し、ダスト排出
口３４から排出するように構成されている。ガスは連続
的に吹きつけてもよいし、間欠的にパルス状に吹きつけ
てもよい。排ガスが可燃性物質を含むときは、ダスト分
離用ガスとして空気などの酸素含有ガスや酸素などを用
いることにより、ダストを焼却することもできる。また
、図示していないが、ダスト分離用ガスを粒子層に吹き
つける代わりに、ダスト排出口３４側からガスを吸引す
るように構成してもよい。ガスの吸引は、連続的でも間
欠的（パルス状）でもよい。 【００１３】また、触媒粒子層２０の一部の内側に、触
媒再生ガス供給手段が設けられる。この触媒再生ガス供
給手段は、一例として、図１に示すように、再生ガス流
路３６と、この流路３６を形成するための仕切部３８と
、流路３６に接続された再生ガス入口４０と、流路３６
の触媒粒子層に近接する部分に設けられた多孔板４２と
からなる。４４は再生オフガス出口である。 【００１４】排ガス入口２４から導入された排ガスは、
まず、ダスト除去用粒子層２２でダストが捕集され、触
媒粒子層２０でＮＯｘ又は／及びＳＯｘ（又はＨ２　Ｓ
）が除去された後、矢印で示すように、再び触媒粒子層
２０に流入する。このように、触媒粒子層を２回通過し
、しかも、２回目は再生済の触媒粒子層を通過するので
、高い精製度でガスが浄化される。また、この時には、
ダスト除去用粒子層は粗に充てんされているため、空隙
部ができる状態となっている。このため、ガスは粒子層
ではなく、空隙部を通り圧力損失は高くならない。また
、ダスト除去用粒子は粗に充てんされているので、粒子
層の回転により粒子が動き、捕捉されていたダストが分
離され易くなる。また、触媒粒子は密に充てんされてい
るので、粒子間の摩擦が殆ど起こらず、それ程、高い強
度が要求されない。 【００１５】ダスト除去用粒子としては、熱的に安定で
、強度が高いアルミナ、ムライト、シリカなどのセラミ
ック造粒物が適している。粒子直径は１〜５ｍｍ程度が
望ましい。また、ＳＯｘ除去の場合、脱硫活性を有する
粒子としては、Ｃｕ−Ａｌ又はＣｕ−Ａｌ−Ｔｉ系の粒
子を用いることが望ましい。その場合、以下の反応が進
行する。（脱硫反応）　　ＣｕＯ＋ＳＯ２　＋１／２Ｏ
２　→ＣｕＳＯ４　 （再生反応）　　ＣｕＳＯ４　→ＣｕＯ＋ＳＯ２　＋１
／２Ｏ２　 下段の脱硫剤再生反応は熱分解反応であり、脱硫剤粒子
の再生と粒子層に捕集されたダストの燃焼とを同時に行
なうことにより、ダスト燃焼熱を熱分解に利用するとと
もに、カーボンによる還元効果で再生反応を促進するこ
とができる。また、脱硝活性を有する粒子としては、Ｖ
２　Ｏ５　、ＷＯ３　、ＣｕＯなどを表面に担持した粒
子や、あるいは、Ｖ２　Ｏ５　−ＴｉＯ２　、Ｖ２　Ｏ
５　−ＷＯ３　−ＴｉＯ２　、ＣｕＯ−Ａｌ２　Ｏ３　
系の粒子を用い、排ガスにアンモニアなどの還元剤を必
要当量分添加して粒子層に供給する。また、脱硫と脱硝
を同時に行う場合には、上記の脱硫活性を有する粒子と
脱硝活性を有する粒子とを混合して用いるか、又は各々
個別の粒子層として用い、排ガスに還元剤を添加する。 さらに、Ｖ２　Ｏ５　系、Ｃｒ２　Ｏ３　系などの同時
脱硫・脱硝活性を有する粒子を充填し、排ガスに還元剤
を必要反応当量分添加して、粒子層に供給することによ
り、脱じん、脱硫、脱硝を同時に行うことができる。ま
た、脱硝・脱硫機能を有する触媒として、例えばＣｕＯ
−Ａｌ２　Ｏ３　−ＴｉＯ２　、ＣｕＯ−ＳｉＯ２　−
ＴｉＯ２　、ＣｕＯ−Ｃｒ２　Ｏ３　−ＴｉＯ２　など
が知られており、これらの触媒成分のうちＣｕＯと排ガ
ス中のＳＯｘとの硫酸塩化反応による下式による脱硫反
応に加えて生成したＣｕＳＯ４　を触媒とするＮＯｘの
アンモニアによる還元反応を同時に行なうものである。 ＳＯ２　＋１／２Ｏ２　→ＳＯ３　（触媒：ＣｕＯ）Ｓ
Ｏ３　＋ＣｕＯ→ＣｕＳＯ４　 ＮＯ＋ＮＨ３　＋１／４Ｏ２　→Ｎ２　＋３／２Ｈ２　
Ｏ（触媒：ＣｕＳＯ４　） ＮＯ２　＋４／３ＮＨ３　→７／６Ｎ２　＋２Ｈ２　Ｏ
（触媒：ＣｕＳＯ４　） 上記反応による使用済み脱硫・脱硝剤粒子は、還元剤（
ＮＨ３　、Ｈ２　等）の共存下で還元と空気系での酸化
反応により再生され、再利用される。例えば還元剤とし
てＮＨ３　を用いる場合 ＣｕＳＯ４　→Ｃｕ３　Ｎ（ＮＨ３　添加）Ｃｕ３　Ｎ
→ＣｕＯ（Ｏ２　添加） の反応により再生される。上記の粒子は、いずれも緻密
焼結体とするのが望ましく、この場合は、従来の多孔質
フィルターのように、ダスト燃焼熱による破損・焼結が
発生し難いという利点がある。また、硫化水素除去用の
脱硫活性を有する粒子としては、各種金属酸化物、水酸
化物などが用いられる。例えば、鉄鉱石などの酸化鉄、
酸化銅、ドロマイト、焼成ドロマイト、石灰石などを挙
げることができる。脱硫反応及び再生反応は、酸化鉄を
用いた場合は以下の通りである。（脱硫反応）　　３Ｆ
ｅ２　Ｏ３　＋Ｈ２　→２Ｆｅ３　Ｏ４　＋Ｈ２　Ｏ（
脱硫反応）　　Ｆｅ３　Ｏ４　＋３Ｈ２　Ｓ＋Ｈ２　→
３ＦｅＳ＋４Ｈ２　Ｏ （再生反応）　　２ＦｅＳ＋７／２Ｏ２　→Ｆｅ２　Ｏ
３　＋２ＳＯ２　 【００１６】実施例２ 本実施例は、図２に示すように、円筒状の通気性支持板
４６を加えて通気性支持板を４個として、触媒粒子層を
２層とし、各々の触媒粒子層４８、５０を、異なる触媒
粒子を充填した層としたものである。この場合、一例と
して、一方の層を脱硫活性を有する粒子を充填した触媒
粒子層とし、他方の層を脱硝活性を有する粒子を充填し
た触媒粒子層とする。他の構成、作用は実施例１の場合
と同様である。 【００１７】実施例３ 本実施例は、図３に示すように、円筒状の通気性支持板
４６を加えて、通気性支持板を４個として、触媒粒子層
２０とダスト除去用粒子層２２との間に、空間部５２を
形成したものである。この空間部５２により、ガスの整
流効果をもたせることができる。他の構成、作用は実施
例１の場合と同様である。 【００１８】実施例４本実施例は、図４に示すように、
触媒再生ガス供給手段を設けないように構成したもので
ある。脱じんと脱硝を行う場合は、触媒の再生を必要と
しないので、本実施例の装置を使用する。他の構成、作
用は実施例１の場合と同様である。また、実施例４にお
いても、実施例２、３のように構成することができる。 【００１９】 【発明の効果】本発明は上記のように構成されているの
で、つぎのような効果を奏する。（１）　　一体となっ
て回転するダスト除去用粒子層及び触媒粒子層により、
排ガスの浄化とダスト分離、又は排ガスの浄化とダスト
分離と触媒再生が同時に連続して行なうことができる。 また、圧力損失の変化が殆どない。（２）　　脱じんと
脱硫、脱じんと脱硝、又は脱じんと脱硫と脱硝を同時に
行なうことができる。（３）　　ダスト除去用粒子は粗
に充てんされているので、円筒の回転により粒子が動き
、捕捉されていたダストが分離され易くなる。（４）　
　排ガスはダスト除去用粒子層、触媒粒子層を通って円
筒内に入り、再び触媒粒子層（再生済）を通って処理ガ
スとなるので、高い精製度が得られる。また、処理ガス
は粒子層の空隙部を通るので、圧力損失が少なくなる。 （５）　　触媒粒子は密に充てんされているので、粒子
間の摩擦が殆ど起こらず、それ程高い強度が要求されな
い。なお、ダスト除去用粒子は強度が要求されるが、高
強度のものが比較的容易に得られる。（６）　　多数の
仕切板を設けているので、ダスト除去用粒子を粗に充て
んすることができ、かつ、粒子層を補強する効果もある
。さらに排ガスとＳＯ２　などを含む再生オフガスとの
混合を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の排ガス処理装置の一実施例を示す断面
説明図である。

【図２】本発明の排ガス処理装置の他の実施例を示す断
面説明図である。

【図３】本発明の排ガス処理装置の他の実施例を示す断
面説明図である。

【図４】本発明の排ガス処理装置のさらに他の実施例を
示す断面説明図である。

【符号の説明】

１０　　装置本体 １２　　通気性支持板 １４　　通気性支持板 １６　　通気性支持板 １８　　仕切板 ２０　　触媒粒子層 ２２　　ダスト除去用粒子層 ２４　　排ガス入口 ２６　　処理ガス出口 ４８　　触媒粒子層 ５０　　触媒粒子層 ５２　　空間部

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　つぎの（ａ）、（ｂ）の工程、すなわ
   ち、（ａ）　　連続的又は間欠的に回転する中空円筒状
   で小区画に仕切られた内側触媒粒子層（２０）及び小区
   画に仕切られた外側ダスト除去用粒子層（２２）の一部
   に、外側から内側の方向に排ガスを通過させて、排ガス
   中のダストを捕集するとともに、排ガス中の窒素酸化物
   又は／及び硫黄酸化物を除去する工程、（ｂ）　　内側
   触媒粒子層（２０）及び外側ダスト除去用粒子層（２２
   ）の一部に、内側から外側の方向にダスト分離用ガスを
   連続的若しくは間欠的に吹きつけるか、又は外側ダスト
   除去用粒子層（２２）の外側から連続的若しくは間欠的
   に吸引してダストを分離する工程、を包含することを特
   徴とする排ガス処理方法。
2. 【請求項２】　　内側触媒粒子層（２０）及び外側ダス
   ト除去用粒子層（２２）の一部に、内側から外側の方向
   に触媒再生ガスを流して触媒を再生することを特徴とす
   る請求項１記載の排ガス処理方法。
3. 【請求項３】　　触媒粒子の少なくとも一部を脱硫活性
   を有する粒子として、ダストの除去とともに硫黄酸化物
   を除去することを特徴とする請求項１又は２記載の排ガ
   ス処理方法。
4. 【請求項４】　　触媒粒子の少なくとも一部を脱硝活性
   を有する粒子とし、排ガス中に還元剤を添加して、ダス
   トの除去とともに窒素酸化物を除去することを特徴とす
   る請求項１記載の排ガス処理方法。
5. 【請求項５】　　触媒粒子の少なくとも一部を脱硫活性
   を有する粒子及び脱硝活性を有する粒子とし、排ガス中
   に還元剤を添加して、ダストの除去とともに硫黄酸化物
   及び窒素酸化物を除去することを特徴とする請求項１又
   は２記載の排ガス処理方法。
6. 【請求項６】　　触媒粒子の少なくとも一部を同時脱硫
   ・脱硝活性を有する粒子とし、排ガス中に還元剤を添加
   して、ダストの除去とともに硫黄酸化物及び窒素酸化物
   を除去することを特徴とする請求項１又は２記載の排ガ
   ス処理方法。
7. 【請求項７】　　硫黄酸化物を除去する代わりに、硫化
   水素を除去することを特徴とする請求項１、２又は３項
   記載の排ガス処理方法。
8. 【請求項８】　　同心円筒状に配置された３個の通気性
   支持板（１２）、（１４）、（１６）の空隙部を多数の
   小区画に仕切るために放射状に設けられた多数の仕切板
   （１８）と、内側の空隙部の各小区画内に触媒粒子を密
   に充填して形成された触媒粒子層（２０）と、外側の空
   隙部の各小区画内にダスト除去用粒子を粗に充填して形
   成されたダスト除去用粒子層（２２）と、触媒粒子層及
   びダスト除去用粒子層を一体として回転可能に収納する
   装置本体（１０）と、触媒粒子層（２０）及びダスト除
   去用粒子層（２２）を一体として回転させる回転手段と
   、装置本体に設けられた排ガス入口（２４）及び処理ガ
   ス出口（２６）と、触媒粒子層（２０）の内側又はダス
   ト除去用粒子層（２２）の外側に設けられたダスト分離
   手段と、を包含することを特徴とする排ガス処理装置。
9. 【請求項９】　　触媒粒子層（２０）の内側に、触媒再
   生ガス供給手段を設けたことを特徴とする請求項８記載
   の排ガス処理方法。
10. 【請求項１０】　　通気性支持板を４個として触媒粒子
    層を２層とし、各々の層を、異なる触媒粒子を充填した
    触媒粒子層（４８）、（５０）としたことを特徴とする
    請求項８又は９記載の排ガス処理装置。
11. 【請求項１１】　　一方の層を脱硫活性を有する粒子を
    充填した触媒粒子層とし、他方の層を脱硝活性を有する
    粒子を充填した触媒粒子層としたことを特徴とする請求
    項１０記載の排ガス処理装置。
12. 【請求項１２】　　通気性支持板を４個として、触媒粒
    子層（２０）とダスト除去用粒子層（２２）との間に、
    ガスの整流を行なうための空間部（５２）を形成したこ
    とを特徴とする請求項８又は９記載の排ガス処理装置。