JPH04355036A - 荷電粒子ビーム輸送装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム輸送装置Info
- Publication number
- JPH04355036A JPH04355036A JP3157635A JP15763591A JPH04355036A JP H04355036 A JPH04355036 A JP H04355036A JP 3157635 A JP3157635 A JP 3157635A JP 15763591 A JP15763591 A JP 15763591A JP H04355036 A JPH04355036 A JP H04355036A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- charged particle
- ring type
- ring
- right angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、荷電粒子ビームを、
その断面の形状をなるべく保ちながら任意の方向に輸送
する荷電粒子ビーム輸送装置に関し、とくに低加速・大
電流の荷電粒子ビームを輸送するのに最適な荷電粒子ビ
ーム輸送装置に関する。
その断面の形状をなるべく保ちながら任意の方向に輸送
する荷電粒子ビーム輸送装置に関し、とくに低加速・大
電流の荷電粒子ビームを輸送するのに最適な荷電粒子ビ
ーム輸送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】高速Ｘ線ＣＴ装置などにおいて、低加速
・大電流の荷電粒子ビームをその断面の形状をなるべく
保ちながら任意の方向に輸送する荷電粒子ビーム輸送装
置の実現が求められている。すなわち、高速Ｘ線ＣＴ装
置において、低加速・大電流の電子ビームをリング型の
真空管中に回転させ、この電子ビームを偏向器によって
任意に曲げることによりリング型ターゲットに衝突させ
て、そこからＸ線を発生させる。電子ビームのターゲッ
トへの衝突位置を高速に移動させることにより、Ｘ線源
を高速に回転でき、高速のＸ線ＣＴ装置が実現できる。
・大電流の荷電粒子ビームをその断面の形状をなるべく
保ちながら任意の方向に輸送する荷電粒子ビーム輸送装
置の実現が求められている。すなわち、高速Ｘ線ＣＴ装
置において、低加速・大電流の電子ビームをリング型の
真空管中に回転させ、この電子ビームを偏向器によって
任意に曲げることによりリング型ターゲットに衝突させ
て、そこからＸ線を発生させる。電子ビームのターゲッ
トへの衝突位置を高速に移動させることにより、Ｘ線源
を高速に回転でき、高速のＸ線ＣＴ装置が実現できる。
【０００３】このように荷電粒子ビームを輸送する場合
、その空間電荷の存在によって荷電粒子ビームは発散す
るので、これを抑えるため、直線型では、強磁界中でビ
ームを回転させたり（Ｂｒｉｌｌｏｕｉｎ流やＨａｒｒ
ｉｓ流）、周期的な電界または磁界で強集束させたりす
ることなどが行なわれている。
、その空間電荷の存在によって荷電粒子ビームは発散す
るので、これを抑えるため、直線型では、強磁界中でビ
ームを回転させたり（Ｂｒｉｌｌｏｕｉｎ流やＨａｒｒ
ｉｓ流）、周期的な電界または磁界で強集束させたりす
ることなどが行なわれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、低加速
・大電流の荷電粒子ビームの場合は空間電荷によってビ
ームが発散する度合いが大きいため、磁場によって回転
させるなどの従来の構成ではその発散を十分に抑えるこ
とができず、ビームの断面形状を保存することができな
いという問題があった。
・大電流の荷電粒子ビームの場合は空間電荷によってビ
ームが発散する度合いが大きいため、磁場によって回転
させるなどの従来の構成ではその発散を十分に抑えるこ
とができず、ビームの断面形状を保存することができな
いという問題があった。
【０００５】この発明は、上記に鑑み、低加速・大電流
の荷電粒子ビームをその断面の形状をなるべく保ちなが
ら任意の方向に輸送することができる、荷電粒子ビーム
輸送装置を提供することを目的とする。
の荷電粒子ビームをその断面の形状をなるべく保ちなが
ら任意の方向に輸送することができる、荷電粒子ビーム
輸送装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明による荷電粒子ビーム輸送装置においては
、荷電粒子ビームの進行方向に直角な方向の磁界を与え
る。この磁界は、その強度がビームの進行方向及び磁界
方向に直角な方向に傾斜しており、しかもビームの進行
方向に周期的に逆極性となるような周期性を持たされて
いる。荷電粒子ビームの進行方向に直角な方向の磁界を
与えることにより、そのビームを、磁界方向に直角な平
面内で曲げることができる。また、その磁界の強度はそ
の曲がり方向に傾斜しているため、その方向のビームの
集束をコントロールすることができ、さらにその磁界は
ビームの進行方向に周期的に逆極性となるような周期性
を持っているので、その周期性によりビームが曲がる平
面に直角な方向でのビームの集束をコントロールするこ
とができる。その結果、ビームの曲がり方向、及びその
曲がる平面に直角な方向で異なった大きさを持つビーム
の空間電荷による発散を打ち消すことができる。したが
って、荷電粒子ビームを、その断面形状を保ったまま、
任意の方向に曲げることが可能となる。
め、この発明による荷電粒子ビーム輸送装置においては
、荷電粒子ビームの進行方向に直角な方向の磁界を与え
る。この磁界は、その強度がビームの進行方向及び磁界
方向に直角な方向に傾斜しており、しかもビームの進行
方向に周期的に逆極性となるような周期性を持たされて
いる。荷電粒子ビームの進行方向に直角な方向の磁界を
与えることにより、そのビームを、磁界方向に直角な平
面内で曲げることができる。また、その磁界の強度はそ
の曲がり方向に傾斜しているため、その方向のビームの
集束をコントロールすることができ、さらにその磁界は
ビームの進行方向に周期的に逆極性となるような周期性
を持っているので、その周期性によりビームが曲がる平
面に直角な方向でのビームの集束をコントロールするこ
とができる。その結果、ビームの曲がり方向、及びその
曲がる平面に直角な方向で異なった大きさを持つビーム
の空間電荷による発散を打ち消すことができる。したが
って、荷電粒子ビームを、その断面形状を保ったまま、
任意の方向に曲げることが可能となる。
【０００７】
【実施例】以下、この発明の一実施例について図面を参
照しながら詳細に説明する。この実施例は、高速Ｘ線Ｃ
Ｔ装置に用いるＸ線発生装置にこの発明を適用したもの
で、図１において、リング型Ｘ線管１に対して、その接
線方向に電子銃２が連結されている。この電子銃２は、
電子を発生する電子発生部と、発生した電子を加速及び
集束する電極部とからなり、電子ビームをリング型Ｘ線
管１に対してその接線方向に入射する。
照しながら詳細に説明する。この実施例は、高速Ｘ線Ｃ
Ｔ装置に用いるＸ線発生装置にこの発明を適用したもの
で、図１において、リング型Ｘ線管１に対して、その接
線方向に電子銃２が連結されている。この電子銃２は、
電子を発生する電子発生部と、発生した電子を加速及び
集束する電極部とからなり、電子ビームをリング型Ｘ線
管１に対してその接線方向に入射する。
【０００８】このリング型Ｘ線管１は、その平面に直角
な方向（Ｚ方向）において、２つのマグネット３の２つ
の磁極３３、３４によって挟まれる。このマグネット３
は全体としてリング型となっており、断面がＣ形で全体
としてリング型となっているコア３１とこのコア３１内
にリング型に巻回されたコイル３２とからなる。リング
型Ｘ線管１が磁極３３、３４によって挟まれることによ
り、Ｚ方向の磁界が与えられる。その結果、電子銃２か
らリング型Ｘ線管１に、その接線方向に直線的に入射さ
せられた電子ビームは、電子ビームの走行方向と磁界の
方向Ｚとに直角な平面（ｒ−θ平面）内に曲がる力を受
け、円形軌道上を走行することになる。
な方向（Ｚ方向）において、２つのマグネット３の２つ
の磁極３３、３４によって挟まれる。このマグネット３
は全体としてリング型となっており、断面がＣ形で全体
としてリング型となっているコア３１とこのコア３１内
にリング型に巻回されたコイル３２とからなる。リング
型Ｘ線管１が磁極３３、３４によって挟まれることによ
り、Ｚ方向の磁界が与えられる。その結果、電子銃２か
らリング型Ｘ線管１に、その接線方向に直線的に入射さ
せられた電子ビームは、電子ビームの走行方向と磁界の
方向Ｚとに直角な平面（ｒ−θ平面）内に曲がる力を受
け、円形軌道上を走行することになる。
【０００９】この磁極３３、３４の対向面は図１及び図
２に示すように、リングの中心０から外方に向かうにつ
れて両者の間隔が狭まるよう傾斜させられている。これ
によって磁界の強度が半径方向（ｒ方向）に傾斜させら
れ、電子ビームのｒ方向での集束がコントロールされ、
電子ビームのｒ方向での断面形状が保たれる。
２に示すように、リングの中心０から外方に向かうにつ
れて両者の間隔が狭まるよう傾斜させられている。これ
によって磁界の強度が半径方向（ｒ方向）に傾斜させら
れ、電子ビームのｒ方向での集束がコントロールされ、
電子ビームのｒ方向での断面形状が保たれる。
【００１０】また図３に示すように、この磁極３３、３
４には、電子ビーム５の進行方向つまりθ方向に交互に
極性が異なる永久磁石４、４、…が埋め込まれており、
電子ビーム５の進行方向に周期性が持たされている。こ
れら永久磁石４、４、…の磁界の強さは、それがコイル
３２によって形成されるθ方向に一定の磁界とは反対極
性となっているときにはそれを打ち消すほどの大きさと
なっており、そのため、電子ビーム５に加わる、これら
の磁界の合成磁界は、実質的に進行方向に交互に反対極
性となる。この磁界の周期性によって電子ビーム５のＺ
方向での集束がコントロールされ、電子ビーム５のＺ方
向での断面形状が保たれる。
４には、電子ビーム５の進行方向つまりθ方向に交互に
極性が異なる永久磁石４、４、…が埋め込まれており、
電子ビーム５の進行方向に周期性が持たされている。こ
れら永久磁石４、４、…の磁界の強さは、それがコイル
３２によって形成されるθ方向に一定の磁界とは反対極
性となっているときにはそれを打ち消すほどの大きさと
なっており、そのため、電子ビーム５に加わる、これら
の磁界の合成磁界は、実質的に進行方向に交互に反対極
性となる。この磁界の周期性によって電子ビーム５のＺ
方向での集束がコントロールされ、電子ビーム５のＺ方
向での断面形状が保たれる。
【００１１】リング型Ｘ線管１は図４に拡大して示すよ
うに、リング型の真空外囲器１１と、その内部に配置さ
れたリング型ターゲット１２とからなる。ターゲット１
２の表面は、Ｚ方向からリングの中心方向にわずかに傾
いている。上記のように円軌道上に走行する電子ビーム
５がその軌道をそらされてターゲット１２の方向に向か
わされ、ターゲット１２に衝突すると、Ｘ線がその衝突
位置から発射する。電子ビーム５をターゲット１２の方
向へ曲げるための構成としては電界を利用した偏向電極
や磁界を利用した偏向コイルなどの偏向器が考えられる
が、ここではリング型真空外囲器１１のリングの中心方
向の面に多数の小さなコイル６１をリング型真空外囲器
１１に沿って配列するとともに、リング型真空外囲器１
１のリングの中心方向とは反対側の面にコイル６１と同
数の小さなコイル６２をリング型真空外囲器１１に沿っ
て配列して、これら対応するコイル６１、６２に電流を
流すことにより、電子ビーム５をＺ方向に偏向させるよ
うにしている。この円周方向のどの位置にあるコイル６
１、６２に電流を流すかによってＸ線発生位置を定める
ことができ、この電流を流すコイル６１、６２の切り替
えを電子的に高速に行うことにより、Ｘ線発生位置を高
速に移動させることができる。
うに、リング型の真空外囲器１１と、その内部に配置さ
れたリング型ターゲット１２とからなる。ターゲット１
２の表面は、Ｚ方向からリングの中心方向にわずかに傾
いている。上記のように円軌道上に走行する電子ビーム
５がその軌道をそらされてターゲット１２の方向に向か
わされ、ターゲット１２に衝突すると、Ｘ線がその衝突
位置から発射する。電子ビーム５をターゲット１２の方
向へ曲げるための構成としては電界を利用した偏向電極
や磁界を利用した偏向コイルなどの偏向器が考えられる
が、ここではリング型真空外囲器１１のリングの中心方
向の面に多数の小さなコイル６１をリング型真空外囲器
１１に沿って配列するとともに、リング型真空外囲器１
１のリングの中心方向とは反対側の面にコイル６１と同
数の小さなコイル６２をリング型真空外囲器１１に沿っ
て配列して、これら対応するコイル６１、６２に電流を
流すことにより、電子ビーム５をＺ方向に偏向させるよ
うにしている。この円周方向のどの位置にあるコイル６
１、６２に電流を流すかによってＸ線発生位置を定める
ことができ、この電流を流すコイル６１、６２の切り替
えを電子的に高速に行うことにより、Ｘ線発生位置を高
速に移動させることができる。
【００１２】つぎに、上記のリング型Ｘ線管１内で、低
加速・大電流の電子ビーム５がＺ方向及びｒ方向に集束
されてその断面形状が保たれながら、円軌道上を進行す
ることについて理論的に説明する。まず、軌道面（ｒ−
θ面）に垂直な方向（Ｚ方向）の磁界の強度をｒ方向に
傾斜させるとき、ｎ値をつぎの式で定義する。 ｎ＝−｛ｒ／Ｂｚ（ｒ）｝｛∂Ｂｚ（ｒ）／∂ｒ｝この
ときの電子ビームの平衡軌道からのずれｒ（θ）、Ｚ（
θ）は、 （ｄ２ｒ／ｄθ２）＋（１−ｎ）ｒ＝０（ｄ２Ｚ／ｄθ
２）＋ｎＺ＝０ で与えられる。
加速・大電流の電子ビーム５がＺ方向及びｒ方向に集束
されてその断面形状が保たれながら、円軌道上を進行す
ることについて理論的に説明する。まず、軌道面（ｒ−
θ面）に垂直な方向（Ｚ方向）の磁界の強度をｒ方向に
傾斜させるとき、ｎ値をつぎの式で定義する。 ｎ＝−｛ｒ／Ｂｚ（ｒ）｝｛∂Ｂｚ（ｒ）／∂ｒ｝この
ときの電子ビームの平衡軌道からのずれｒ（θ）、Ｚ（
θ）は、 （ｄ２ｒ／ｄθ２）＋（１−ｎ）ｒ＝０（ｄ２Ｚ／ｄθ
２）＋ｎＺ＝０ で与えられる。
【００１３】これからビームの軌道を求め、各軌道点に
おける Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｍａｔｒｉｘを計算するこ
とにより、平衡軌道に対する振動パラメータμ２ を求
めることができ、これから任意の入射アクセプタンスに
対するビームエンベロープを計算することができる。
おける Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｍａｔｒｉｘを計算するこ
とにより、平衡軌道に対する振動パラメータμ２ を求
めることができ、これから任意の入射アクセプタンスに
対するビームエンベロープを計算することができる。
【００１４】ところで、空間電荷密度が大きい場合には
、ビームは図５に示すように発散する傾向を示し、軌道
の安定条件（０＜ｎ＜１）内ではこれを抑えることは不
可能である。なお、図５は、１２０ｋＶ、１Ａの電子ビ
ームを自由空間に０．６ｍ×２πの距離走行させた場合
の、空間電荷による発散のみを考慮に入れたビームエン
ベロープを示している。
、ビームは図５に示すように発散する傾向を示し、軌道
の安定条件（０＜ｎ＜１）内ではこれを抑えることは不
可能である。なお、図５は、１２０ｋＶ、１Ａの電子ビ
ームを自由空間に０．６ｍ×２πの距離走行させた場合
の、空間電荷による発散のみを考慮に入れたビームエン
ベロープを示している。
【００１５】そこで、この発明では上記の実施例のよう
に、ｎ＜０とし、かつθ方向にｆｌｕｔｔｅｒ を入れ
た（磁界に周期性を持たせた）強集束によりビームの発
散を抑えるようにしている。このｆｌｕｔｔｅｒ はつ
ぎの式で定義する。 Ｂｚ（ｒ，θ）＝Ｂｏ（ｒ）［１＋ｆｃｏｓ（Ｎθ）］
ｆ；ｆｌｕｔｔｅｒ値 Ｎ；セクター数（３６０゜での周期の数）この場合、ｎ
値−ｆ値に対する振動パラメータμｒ、μｚを求め（セ
クター数Ｎ＝１６）、その等高線図を描いてみると、図
６のようになる。この図６から、μｒはｆ値に無関係で
ほぼｎ値によって決まり、その結果、ｎ値とｆ値とによ
りμｒとμｚとを独立にコントロールすることが可能で
あることがわかる。
に、ｎ＜０とし、かつθ方向にｆｌｕｔｔｅｒ を入れ
た（磁界に周期性を持たせた）強集束によりビームの発
散を抑えるようにしている。このｆｌｕｔｔｅｒ はつ
ぎの式で定義する。 Ｂｚ（ｒ，θ）＝Ｂｏ（ｒ）［１＋ｆｃｏｓ（Ｎθ）］
ｆ；ｆｌｕｔｔｅｒ値 Ｎ；セクター数（３６０゜での周期の数）この場合、ｎ
値−ｆ値に対する振動パラメータμｒ、μｚを求め（セ
クター数Ｎ＝１６）、その等高線図を描いてみると、図
６のようになる。この図６から、μｒはｆ値に無関係で
ほぼｎ値によって決まり、その結果、ｎ値とｆ値とによ
りμｒとμｚとを独立にコントロールすることが可能で
あることがわかる。
【００１６】上記の実施例では、Ｎ＝２０、Ｂｏ＝２０
．５８ガウス、ｎ＝−４．５、ｆ＝２０として１２０ｋ
Ｖ、１Ａの電子ビームの平衡軌道を半径０．６ｍの円形
軌道とするようにしている。この場合、磁界の強度は、
軌道中心付近で、電子ビームの進行方向に、−３９１．
０２〜４３２．１８ガウスに周期的に変化することにな
る。このような周期的非対称反転磁界中に、入射アクセ
プタンスとして αｒ＝０、βｒ＝１０、εｒ＝１．０１×１０−５αｚ
＝０、βｚ＝１０、εｚ＝２．９４×１０−８なる電子
ビームを入射すると、空間電荷を考慮に入れないときの
ビームエンベロープは図７のＡ（Ｚ方向）、Ｂ（ｒ方向
）のようになり、このときのｒ−θ平面での平衡軌道は
図８のようになる。また、空間電荷を考慮に入れると、
ビームエンベロープは図９のＡ（Ｚ方向）、Ｂ（ｒ方向
）のようになり、任意の点でビーム断面の形状が保存さ
れることが分かる。
．５８ガウス、ｎ＝−４．５、ｆ＝２０として１２０ｋ
Ｖ、１Ａの電子ビームの平衡軌道を半径０．６ｍの円形
軌道とするようにしている。この場合、磁界の強度は、
軌道中心付近で、電子ビームの進行方向に、−３９１．
０２〜４３２．１８ガウスに周期的に変化することにな
る。このような周期的非対称反転磁界中に、入射アクセ
プタンスとして αｒ＝０、βｒ＝１０、εｒ＝１．０１×１０−５αｚ
＝０、βｚ＝１０、εｚ＝２．９４×１０−８なる電子
ビームを入射すると、空間電荷を考慮に入れないときの
ビームエンベロープは図７のＡ（Ｚ方向）、Ｂ（ｒ方向
）のようになり、このときのｒ−θ平面での平衡軌道は
図８のようになる。また、空間電荷を考慮に入れると、
ビームエンベロープは図９のＡ（Ｚ方向）、Ｂ（ｒ方向
）のようになり、任意の点でビーム断面の形状が保存さ
れることが分かる。
【００１７】このように、低加速・大電流の荷電粒子ビ
ームを輸送する場合に、与えられた入射アクセプタンス
に対して適当なｎ値、ｆ値を設定することによって、空
間電荷による発散を磁界による集束で打ち消すことがで
き、ビーム断面形状を保存しながら輸送することが可能
となる。
ームを輸送する場合に、与えられた入射アクセプタンス
に対して適当なｎ値、ｆ値を設定することによって、空
間電荷による発散を磁界による集束で打ち消すことがで
き、ビーム断面形状を保存しながら輸送することが可能
となる。
【００１８】なお、上記ではＸ線発生装置にこの発明を
適用した一実施例について説明したが、このようなＸ線
発生装置以外に低加速・大電流の荷電粒子ビームを任意
方向に曲げて輸送する装置に適用できることはもちろん
である。
適用した一実施例について説明したが、このようなＸ線
発生装置以外に低加速・大電流の荷電粒子ビームを任意
方向に曲げて輸送する装置に適用できることはもちろん
である。
【００１９】
【発明の効果】以上実施例について説明したように、こ
の発明の荷電粒子ビーム輸送装置によれば、低加速・大
電流の荷電粒子ビームを、損失なく、希望する断面形状
を保ったまま、所望の方向に曲げて輸送することができ
る。
の発明の荷電粒子ビーム輸送装置によれば、低加速・大
電流の荷電粒子ビームを、損失なく、希望する断面形状
を保ったまま、所望の方向に曲げて輸送することができ
る。
【図１】この発明の一実施例の半断面斜視図。
【図２】同実施例において電子ビームの進行方向に直角
な平面で断面した磁極の断面図。
な平面で断面した磁極の断面図。
【図３】同実施例において電子ビームの進行方向に平行
な面で断面した磁極の断面図。
な面で断面した磁極の断面図。
【図４】同実施例におけてＸ線管を部分的に断面した斜
視図。
視図。
【図５】電子ビームの自由空間でのエンベロープを示す
図。
図。
【図６】ｎ−ｆ面上のμｒ、μｚの等高線図。
【図７】空間電荷を考慮しないときの電子ビームのエン
ベロープを示す図。
ベロープを示す図。
【図８】電子ビームのｒ−θ平面における平衡軌道を表
わす図。
わす図。
【図９】空間電荷を考慮したときの電子ビームのエンベ
ロープを表わす図。
ロープを表わす図。
１ リング型Ｘ線管
１１ 真空外囲器
１２ ターゲット
２ 電子銃
３ マグネット
３１ コア
３２ コイル
３３、３４ 磁極
４ 永久磁石
５ 電子ビーム
６１、６２ 偏向用コイル
Claims (1)
- 【請求項１】 磁界方向が荷電粒子ビームの進行方向
に直角で、かつその強度がビームの進行方向及び磁界方
向に直角な方向に傾斜しており、しかもビームの進行方
向に周期的に逆極性となるような周期性を持つ磁界を発
生する磁界発生装置を備えること特徴とする荷電粒子ビ
ーム輸送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3157635A JP2993185B2 (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 荷電粒子ビーム輸送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3157635A JP2993185B2 (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 荷電粒子ビーム輸送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04355036A true JPH04355036A (ja) | 1992-12-09 |
| JP2993185B2 JP2993185B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=15654033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3157635A Expired - Fee Related JP2993185B2 (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 荷電粒子ビーム輸送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2993185B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102789943A (zh) * | 2011-05-18 | 2012-11-21 | 苏州生物医学工程技术研究所 | X射线管系统及其操作方法 |
-
1991
- 1991-05-31 JP JP3157635A patent/JP2993185B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102789943A (zh) * | 2011-05-18 | 2012-11-21 | 苏州生物医学工程技术研究所 | X射线管系统及其操作方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2993185B2 (ja) | 1999-12-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5014028A (en) | Triangular section permanent magnetic structure | |
| US5172401A (en) | High-speed scan type x-ray generator | |
| JPH04253149A (ja) | 二次元磁気走査を用いたイオン照射装置および関連装置 | |
| JP6460038B2 (ja) | 磁気偏向システム、イオン注入システム、イオンビームを走査する方法 | |
| JP2024022311A (ja) | 多極電磁石 | |
| JPS5942960B2 (ja) | プラズマ閉込装置 | |
| JPH04355036A (ja) | 荷電粒子ビーム輸送装置 | |
| JPH07118287B2 (ja) | 磁気四重極レンズ、これを用いたイオンビーム加速装置並びにイオンビーム減速装置 | |
| JP2001023798A (ja) | 偏向磁石及びこの磁石を用いた装置 | |
| US5034590A (en) | Electron gun arrangement for use in the electron beam evaporation process | |
| JPH0443371B2 (ja) | ||
| JPH0750637B2 (ja) | 高速原子線源 | |
| US3629576A (en) | Accelerator tube electrode for focusing a beam of charged particles | |
| JP3133155B2 (ja) | 電子ビーム加速器および該加速器に用いる偏向電磁石 | |
| KR0147039B1 (ko) | 방사광가속기의 4극 전자석 | |
| JPH11271497A (ja) | マルチポール電磁石 | |
| JPH0750639B2 (ja) | 加速器 | |
| US3492531A (en) | Non-uniform magnetic field type electron current generating device | |
| JPH02293699A (ja) | ウィグラー装置 | |
| JPH0243866Y2 (ja) | ||
| JP2501380B2 (ja) | 加速器用偏向電磁石 | |
| JPH01217900A (ja) | 加速器 | |
| JP2808977B2 (ja) | 荷電粒子加速装置 | |
| JPH0864398A (ja) | 周期磁場発生装置 | |
| JPH04112499A (ja) | Ｓｏｒ装置用真空槽 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |