JPH04356529A - 微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 - Google Patents
微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法Info
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- JPH04356529A JPH04356529A JP15782791A JP15782791A JPH04356529A JP H04356529 A JPH04356529 A JP H04356529A JP 15782791 A JP15782791 A JP 15782791A JP 15782791 A JP15782791 A JP 15782791A JP H04356529 A JPH04356529 A JP H04356529A
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- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は微粒子を分散させた高分
子複合物の製造方法に係り、詳しくは結晶性高分子をそ
の融解温度より150〜550℃高い温度で加熱して低
粘度の液体とし、これを急速に冷却してフィルムを作製
し、該フィルムの表面に密着した金属あるいはフィルム
中に混合した金属を微粒子化して高分子中に分散させる
高分子複合物の製造方法に関する。
子複合物の製造方法に係り、詳しくは結晶性高分子をそ
の融解温度より150〜550℃高い温度で加熱して低
粘度の液体とし、これを急速に冷却してフィルムを作製
し、該フィルムの表面に密着した金属あるいはフィルム
中に混合した金属を微粒子化して高分子中に分散させる
高分子複合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】今日、導電性を有する機能性高分子とし
て種々のものが開発されているが、その中でもP−アセ
チレン、P−パラフェニレン、P−パラフェニレンビニ
レン、P−チオフェン、P−アリニン、P−ピロール等
に代表されるπ共役系電子を利用する高分子群があり、
導電率1〜105 S/cmとほぼ金属と同等になるも
のが知られている。一方、他の導電性を有する高分子材
料としては、高分子マトリックスに金属粉、金属繊維、
カーボンブラック等の導電体を充填したものがあるが、
その導電率は10−4〜1S/cmと低いものである。
て種々のものが開発されているが、その中でもP−アセ
チレン、P−パラフェニレン、P−パラフェニレンビニ
レン、P−チオフェン、P−アリニン、P−ピロール等
に代表されるπ共役系電子を利用する高分子群があり、
導電率1〜105 S/cmとほぼ金属と同等になるも
のが知られている。一方、他の導電性を有する高分子材
料としては、高分子マトリックスに金属粉、金属繊維、
カーボンブラック等の導電体を充填したものがあるが、
その導電率は10−4〜1S/cmと低いものである。
【0003】ところで、金属の微粒子はその原子の殆ど
が表面形成に使用され、表面に露出する原子の割合が大
きいため、物理的、化学的な活性が大きく、バルク金属
とは著しく性質が異なることが知られている。その巨大
な表面積をもつことなども考え合わせて、触媒、熱交換
材料、特異な導電材料、磁気材料、光電変換材料、生体
材、薬剤等の用途に従来より試みられてきた。
が表面形成に使用され、表面に露出する原子の割合が大
きいため、物理的、化学的な活性が大きく、バルク金属
とは著しく性質が異なることが知られている。その巨大
な表面積をもつことなども考え合わせて、触媒、熱交換
材料、特異な導電材料、磁気材料、光電変換材料、生体
材、薬剤等の用途に従来より試みられてきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記導電性
高分子は共役結合が出来てしまうと、溶媒にも溶けず成
型加工が極めて難しいため、薄膜、フィルム、線材等に
加工するのが極めて困難であること、また空気中に長時
間放置すると導電率が低下するといった大きな問題があ
った。一方、高分子複合材料においては導電体を互いに
接触させた状態で導電性を確保しているため、導電体の
接触状態はマトリックス中でばらつきが大きくて抵抗分
布が生じる欠点がある。
高分子は共役結合が出来てしまうと、溶媒にも溶けず成
型加工が極めて難しいため、薄膜、フィルム、線材等に
加工するのが極めて困難であること、また空気中に長時
間放置すると導電率が低下するといった大きな問題があ
った。一方、高分子複合材料においては導電体を互いに
接触させた状態で導電性を確保しているため、導電体の
接触状態はマトリックス中でばらつきが大きくて抵抗分
布が生じる欠点がある。
【0005】一方、金属微粒子はその高い活性のために
、例えば空気中で発火、爆発したり、極めて酸化され易
く、また微粒子同志が再焼結、凝集し、粒径が変化した
りするというように、取扱いが困難で、且つ物理的、化
学的性質も変化するという問題のため、工業的にはその
成果は極めて数少ないものであった。
、例えば空気中で発火、爆発したり、極めて酸化され易
く、また微粒子同志が再焼結、凝集し、粒径が変化した
りするというように、取扱いが困難で、且つ物理的、化
学的性質も変化するという問題のため、工業的にはその
成果は極めて数少ないものであった。
【0006】本発明者らは、このような問題点に着目し
、結晶性高分子をその融解温度より150〜550℃高
い温度で加熱して得た分子間相互作用の働かない低粘度
の液体物を超急冷すれば、超急冷物であるフィルム等の
表面に密着した金属あるいはこのフィルム中に予め混合
している金属が、前記フィルムが熱安定化するにつれて
微粒化して高分子中に均一に分散する特異な現象を見出
し、本発明に至ったものである。
、結晶性高分子をその融解温度より150〜550℃高
い温度で加熱して得た分子間相互作用の働かない低粘度
の液体物を超急冷すれば、超急冷物であるフィルム等の
表面に密着した金属あるいはこのフィルム中に予め混合
している金属が、前記フィルムが熱安定化するにつれて
微粒化して高分子中に均一に分散する特異な現象を見出
し、本発明に至ったものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明の微粒子を
分散させた高分子複合物の製造方法においては、結晶性
高分子をその融解温度より150〜550℃高い温度で
加熱して低粘度の液体とし、これを100℃/秒以上の
冷却速度で超冷却して熱力学的に不安定な高分子層を作
製し、この高分子の表面に金属層を密着した後、該融解
温度以下で加熱して高分子層を安定化させることで金属
層の金属を微粒子化して高分子層内に分散させる方法に
ある。
分散させた高分子複合物の製造方法においては、結晶性
高分子をその融解温度より150〜550℃高い温度で
加熱して低粘度の液体とし、これを100℃/秒以上の
冷却速度で超冷却して熱力学的に不安定な高分子層を作
製し、この高分子の表面に金属層を密着した後、該融解
温度以下で加熱して高分子層を安定化させることで金属
層の金属を微粒子化して高分子層内に分散させる方法に
ある。
【0008】また、他の方法としては結晶性高分子と金
属粉末とを混合し、この混合物を結晶性高分子の融解温
度より約150〜550℃高い温度で加熱して低粘度の
液体とし、これを100℃/秒以上の冷却速度で超急冷
して熱力学的に不安定な高分子層を作製し、これを該融
解温度以下で加熱して高分子層を安定化させることで金
属粉末を微粒子化して分散させる方法にある。
属粉末とを混合し、この混合物を結晶性高分子の融解温
度より約150〜550℃高い温度で加熱して低粘度の
液体とし、これを100℃/秒以上の冷却速度で超急冷
して熱力学的に不安定な高分子層を作製し、これを該融
解温度以下で加熱して高分子層を安定化させることで金
属粉末を微粒子化して分散させる方法にある。
【0009】即ち、本発明方法の工程は図1より図4に
示すように、まず、第一工程としては結晶性高分子1か
らなる原材料を容器2に入れて、これを高分子の分解物
あるいは気化物を排気、回収できるダクト機能を有する
加熱炉3に投入し、該加熱炉3の温度をこの高分子の融
解温度より150〜550℃、より好ましくは200〜
350℃高い温度に保持する。この加熱炉3の中で結晶
性高分子1を分子間相互作用が働かず低粘度の液体4に
なるまで所定時間放置する。
示すように、まず、第一工程としては結晶性高分子1か
らなる原材料を容器2に入れて、これを高分子の分解物
あるいは気化物を排気、回収できるダクト機能を有する
加熱炉3に投入し、該加熱炉3の温度をこの高分子の融
解温度より150〜550℃、より好ましくは200〜
350℃高い温度に保持する。この加熱炉3の中で結晶
性高分子1を分子間相互作用が働かず低粘度の液体4に
なるまで所定時間放置する。
【0010】図5は結晶性高分子の加熱温度と粘度及び
分解、気化量の関係を示す模式図であるが、一般に結晶
性高分子は加熱温度が上昇するにつれて融点までは固体
状態で融点を越えると液体化するとともに高分子の分子
間相互作用による高粘度液体域になり、この領域を越え
ると急速に粘度が低下し始める。この温度をTeとする
。更に、温度がTeより上昇すると、高分子の分解、気
化量が急上昇し始める。この温度をThとする。更に、
温度を上げると高分子の分解が極めて激しくなる。 従って、本発明方法における結晶性高分子の加熱温度は
、上記Te〜Thの範囲であり、この温度範囲は高分子
の種類により異なる。
分解、気化量の関係を示す模式図であるが、一般に結晶
性高分子は加熱温度が上昇するにつれて融点までは固体
状態で融点を越えると液体化するとともに高分子の分子
間相互作用による高粘度液体域になり、この領域を越え
ると急速に粘度が低下し始める。この温度をTeとする
。更に、温度がTeより上昇すると、高分子の分解、気
化量が急上昇し始める。この温度をThとする。更に、
温度を上げると高分子の分解が極めて激しくなる。 従って、本発明方法における結晶性高分子の加熱温度は
、上記Te〜Thの範囲であり、この温度範囲は高分子
の種類により異なる。
【0011】本発明で使用する結晶性高分子は、例えば
ナイロン6、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン1
2、ナイロン69、高密度ポリエチレン(HDPE)、
低密度ポリエチレン(LDPE)、ポリエチレンテレフ
タレート(PET)、ポリビニルアルコール、ポリフェ
ニレンスルフィド(PPS)等である。これらの高分子
を用いるとTeは融点より約150℃高く、またThは
融点より550℃高い温度である。より好ましくは、T
e〜Thの温度範囲は200〜350℃である。
ナイロン6、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン1
2、ナイロン69、高密度ポリエチレン(HDPE)、
低密度ポリエチレン(LDPE)、ポリエチレンテレフ
タレート(PET)、ポリビニルアルコール、ポリフェ
ニレンスルフィド(PPS)等である。これらの高分子
を用いるとTeは融点より約150℃高く、またThは
融点より550℃高い温度である。より好ましくは、T
e〜Thの温度範囲は200〜350℃である。
【0012】そして、上記温度で結晶性高分子が均一に
温度上昇するまで最低30秒必要である。あまり長く置
くと、高分子の分解が激しくなり、歩溜まりも悪くなる
ところから、本発明の保持時間は30秒から30分であ
る。
温度上昇するまで最低30秒必要である。あまり長く置
くと、高分子の分解が激しくなり、歩溜まりも悪くなる
ところから、本発明の保持時間は30秒から30分であ
る。
【0013】次いで、第二工程として図2に示すように
、結晶性高分子の低粘度の液体4を約20℃に保持され
た金型5に流し込んで冷却速度100℃/秒以上で超急
冷して厚さ約300μmのフィルムなどの型物からなる
高分子層6を作製する。前記金型5は通常結晶性高分子
の融点より最低でも150℃低いことが必要であり、そ
のため金型5を水冷するか液体窒素で冷却する。連続的
に超冷却の高分子層6を作製するために冷却水を還流し
て常時冷却するのが好ましい。尚、冷却速度が100℃
/秒未満では、微粒子9を分散させる熱力学的に不安定
構造を有する高分子層6が得られない。
、結晶性高分子の低粘度の液体4を約20℃に保持され
た金型5に流し込んで冷却速度100℃/秒以上で超急
冷して厚さ約300μmのフィルムなどの型物からなる
高分子層6を作製する。前記金型5は通常結晶性高分子
の融点より最低でも150℃低いことが必要であり、そ
のため金型5を水冷するか液体窒素で冷却する。連続的
に超冷却の高分子層6を作製するために冷却水を還流し
て常時冷却するのが好ましい。尚、冷却速度が100℃
/秒未満では、微粒子9を分散させる熱力学的に不安定
構造を有する高分子層6が得られない。
【0014】続いて、前記熱力学的に不安定にある超急
冷された高分子層6は、ガラス基材8に設置され、第3
図に示すように、その表面に金属層7を密着させる工程
へと移される。この工程では真空蒸着装置によって金属
7を高分子層6に蒸着させるか、もしくは金属箔、金属
板を直接高分子層6に密着させる等の方法で金属層7を
高分子層6に積層させる。その金属材料としては金、銀
、白金、銅、鉄、ニッケル、コバルト、スズ、亜鉛、セ
リウム、イットリウム等であり、特に限定されない。
冷された高分子層6は、ガラス基材8に設置され、第3
図に示すように、その表面に金属層7を密着させる工程
へと移される。この工程では真空蒸着装置によって金属
7を高分子層6に蒸着させるか、もしくは金属箔、金属
板を直接高分子層6に密着させる等の方法で金属層7を
高分子層6に積層させる。その金属材料としては金、銀
、白金、銅、鉄、ニッケル、コバルト、スズ、亜鉛、セ
リウム、イットリウム等であり、特に限定されない。
【0015】このようにして得られた金属層7と高分子
層6とが密着した複合物を、加熱して高分子層6を安定
状態へ移行させる。この工程では前記金属層付の高分子
層6を恒温槽中で結晶性高分子の融解温度以下において
加熱する。その結果、第4図に示されるように金属層7
の金属は、粒径1,000nm以下、好ましくは300
nm以下、より好ましくは100nm以下の金属もしく
は金属酸化物の微粒子9となって高分子層6内へ拡散浸
透し、この状態は高分子層6が完全に緩和するまで続き
、高分子層6に付着している金属層7はその厚さも減少
して最終的に無くなる。(図3及び図4参照)従って、
金属層7が全て金属もしくは金属酸化物の微粒子9とな
って高分子層6に分散するためには、その厚みを調節す
る必要がある。
層6とが密着した複合物を、加熱して高分子層6を安定
状態へ移行させる。この工程では前記金属層付の高分子
層6を恒温槽中で結晶性高分子の融解温度以下において
加熱する。その結果、第4図に示されるように金属層7
の金属は、粒径1,000nm以下、好ましくは300
nm以下、より好ましくは100nm以下の金属もしく
は金属酸化物の微粒子9となって高分子層6内へ拡散浸
透し、この状態は高分子層6が完全に緩和するまで続き
、高分子層6に付着している金属層7はその厚さも減少
して最終的に無くなる。(図3及び図4参照)従って、
金属層7が全て金属もしくは金属酸化物の微粒子9とな
って高分子層6に分散するためには、その厚みを調節す
る必要がある。
【0016】前記微粒子9は金、銀、プラチナ等の金属
と、Cu2 O、Fe3 O4 、ZnO、Y2 O3
等の金属酸化物を含んでいる。
と、Cu2 O、Fe3 O4 、ZnO、Y2 O3
等の金属酸化物を含んでいる。
【0017】尚、この工程で高分子層6を加熱すると、
高分子層6が金属もしくは金属酸化物の微粒子9との相
互作用で固有の着色を示し、金属もしくは金属酸化物の
微粒子9が高分子層6内へ浸透していることがわかる。 また、この色は金属もしくは金属酸化物の種類、金属も
しくは金属酸化物の微粒子径、高分子の種類により変化
しうる。このようにして得られた高分子複合物10は、
図4に示すように微粒子が独立した状態で分離分散して
いる。
高分子層6が金属もしくは金属酸化物の微粒子9との相
互作用で固有の着色を示し、金属もしくは金属酸化物の
微粒子9が高分子層6内へ浸透していることがわかる。 また、この色は金属もしくは金属酸化物の種類、金属も
しくは金属酸化物の微粒子径、高分子の種類により変化
しうる。このようにして得られた高分子複合物10は、
図4に示すように微粒子が独立した状態で分離分散して
いる。
【0018】また、本発明の他の製造方法としては、前
記結晶性高分子と粒子径1〜30μmの金属粉とを混合
し、この混合物を入れた容器を前述のダクト機能を有す
る加熱炉4に投入し、該加熱炉3をTe〜Thの範囲に
所定時間設置して低粘度の液体とし、これを約20℃に
保持した金型5に流し込んで冷却速度100℃/秒以上
で超急冷して高分子層6を作製する。この高分子層6を
結晶性高分子の融解温度以下で加熱して緩和し、金属粉
は元の粒子径より小さい粒子径を有する微粒子として分
離分散する。この微粒子の大きさは、粒径1,000n
m以下、具体的には300mm以下、あるいは100n
m以下になっている。
記結晶性高分子と粒子径1〜30μmの金属粉とを混合
し、この混合物を入れた容器を前述のダクト機能を有す
る加熱炉4に投入し、該加熱炉3をTe〜Thの範囲に
所定時間設置して低粘度の液体とし、これを約20℃に
保持した金型5に流し込んで冷却速度100℃/秒以上
で超急冷して高分子層6を作製する。この高分子層6を
結晶性高分子の融解温度以下で加熱して緩和し、金属粉
は元の粒子径より小さい粒子径を有する微粒子として分
離分散する。この微粒子の大きさは、粒径1,000n
m以下、具体的には300mm以下、あるいは100n
m以下になっている。
【0019】このようにして得られた高分子複合物10
は、導電性高分子、導電性ペーストを初めとして、微粒
子化金属の極めて大きい触媒活性をもち、しかも高分子
が被覆した形状になっているため安定に保持された触媒
、微粒子化したことで大きなメモリ容量が期待される磁
気メモリ、光もしくは熱等の刺激によって高分子と前記
微粒子の間の構造、距離が変化することを利用する光も
しくは熱応答材、高分子と金属の種類を適当に選定する
ことによって透明でしかも固有の色を示すことから液晶
カラー表示などの光学材、微粒子によって粉末金属の焼
結温度が低下することを利用する焼結促進剤及び接合材
、微粒子の比熱容量が大きいことを利用する高分子−金
属もしくは金属酸化物の微粒子複合物による熱交換膜、
大容量コンデンサ材、各種ガスセンサなどに適用される
。
は、導電性高分子、導電性ペーストを初めとして、微粒
子化金属の極めて大きい触媒活性をもち、しかも高分子
が被覆した形状になっているため安定に保持された触媒
、微粒子化したことで大きなメモリ容量が期待される磁
気メモリ、光もしくは熱等の刺激によって高分子と前記
微粒子の間の構造、距離が変化することを利用する光も
しくは熱応答材、高分子と金属の種類を適当に選定する
ことによって透明でしかも固有の色を示すことから液晶
カラー表示などの光学材、微粒子によって粉末金属の焼
結温度が低下することを利用する焼結促進剤及び接合材
、微粒子の比熱容量が大きいことを利用する高分子−金
属もしくは金属酸化物の微粒子複合物による熱交換膜、
大容量コンデンサ材、各種ガスセンサなどに適用される
。
【0020】
【実施例】次に、本発明を具体的な実施例により更に詳
細に説明する。 実施例1 ナイロン11のポリマーペレット5gを容器に投入し、
これを所定温度に設定したダクト付の加熱炉内に所定時
間だけ放置して、結晶性高分子を低粘度の液体とした。 この液体の全てを冷却水を還流させて所定温度に保持し
たフラットな金型に流し込んで超急冷し、厚さ200〜
300μmのフィルムを作製した。この時のフィルムの
重量と容器に付着している重量の合計量を予め容器に投
入したポリマーペレットの量で除することによって残留
ポリマー量(%)を求めた。
細に説明する。 実施例1 ナイロン11のポリマーペレット5gを容器に投入し、
これを所定温度に設定したダクト付の加熱炉内に所定時
間だけ放置して、結晶性高分子を低粘度の液体とした。 この液体の全てを冷却水を還流させて所定温度に保持し
たフラットな金型に流し込んで超急冷し、厚さ200〜
300μmのフィルムを作製した。この時のフィルムの
重量と容器に付着している重量の合計量を予め容器に投
入したポリマーペレットの量で除することによって残留
ポリマー量(%)を求めた。
【0021】次いで、該フィルムを金型から剥離し、ガ
ラス基板の上に設置し、これを真空蒸着装置内に投入し
、銅線あるいは金線をタングステン線に巻き付け加熱融
解して10−4〜10−6Torrの真空下で蒸着を行
い、フィルムの上に銅あるいは金蒸着膜を付着して、こ
のガラス板を真空蒸着装置から取り出した。そして、こ
れを120℃に設置した恒温槽中に30分間放置して高
分子複合物を得た。このようにして得られた高分子複合
物の表面の色、及びこの複合物を透過型電子顕微鏡によ
って撮影した写真をもとに分散している微粒子のサイズ
を求めた。これを表1に示す。
ラス基板の上に設置し、これを真空蒸着装置内に投入し
、銅線あるいは金線をタングステン線に巻き付け加熱融
解して10−4〜10−6Torrの真空下で蒸着を行
い、フィルムの上に銅あるいは金蒸着膜を付着して、こ
のガラス板を真空蒸着装置から取り出した。そして、こ
れを120℃に設置した恒温槽中に30分間放置して高
分子複合物を得た。このようにして得られた高分子複合
物の表面の色、及びこの複合物を透過型電子顕微鏡によ
って撮影した写真をもとに分散している微粒子のサイズ
を求めた。これを表1に示す。
【0022】
【表1】
【0023】また、前記フィルムの表面に銅蒸着膜を密
着して得た実施例1−4と1−8の試料と、これらを加
熱した後の試料を入射角1.0°の薄膜X線回折装置(
理学電機社製RINT1200)を用いて、X線回折パ
ターンを測定した。その結果を図6、図7に示す。
着して得た実施例1−4と1−8の試料と、これらを加
熱した後の試料を入射角1.0°の薄膜X線回折装置(
理学電機社製RINT1200)を用いて、X線回折パ
ターンを測定した。その結果を図6、図7に示す。
【0024】このX線回折パターンにおいて、実線はフ
ィルムと金属膜との積層物であり、点線はこの積層物を
120℃で30分恒温槽に放置して熱処理した後の複合
物を示す。これによると各熱処理前のパターンでは,い
ずれもそれぞれの金属及びナイロン11の回折ピークが
出現しており、ナイロン11の高分子層に金属の蒸着膜
を積層した構成であることを示している。また、各熱処
理後のパターンはナイロン11の構造が変化し、熱処理
によって緩和していることがわかる。また、それぞれの
金属の回折ピーク幅(半価幅)が大きくなっているとこ
ろから、各金属が微粒子化してナイロン11中に分散し
ていることを示している。尚、銅を使用した場合には、
銅はCu2 O(酸化銅)に変化し、この微粒子がナイ
ロン11中に分散していることが判る。
ィルムと金属膜との積層物であり、点線はこの積層物を
120℃で30分恒温槽に放置して熱処理した後の複合
物を示す。これによると各熱処理前のパターンでは,い
ずれもそれぞれの金属及びナイロン11の回折ピークが
出現しており、ナイロン11の高分子層に金属の蒸着膜
を積層した構成であることを示している。また、各熱処
理後のパターンはナイロン11の構造が変化し、熱処理
によって緩和していることがわかる。また、それぞれの
金属の回折ピーク幅(半価幅)が大きくなっているとこ
ろから、各金属が微粒子化してナイロン11中に分散し
ていることを示している。尚、銅を使用した場合には、
銅はCu2 O(酸化銅)に変化し、この微粒子がナイ
ロン11中に分散していることが判る。
【0025】比較例1
表2に示すようにポリマーペレットの加熱条件を実施例
1と相違させ、他の方法は実施例1と同様の方法よって
試料を得た。熱処理前後のフィルムの色、微粒子のサイ
ズ等を表2に併記する。
1と相違させ、他の方法は実施例1と同様の方法よって
試料を得た。熱処理前後のフィルムの色、微粒子のサイ
ズ等を表2に併記する。
【0026】
【表2】
【0027】これによると、比較例1−1では炉の加熱
温度が高すぎるため、また比較例1−2では保持時間が
長すぎたために加熱中に結晶性高分子の分解、気化する
量が多くて歩溜まりが悪く、また変成が大きいため均一
な厚みのフィルムを作製することが出来ない。
温度が高すぎるため、また比較例1−2では保持時間が
長すぎたために加熱中に結晶性高分子の分解、気化する
量が多くて歩溜まりが悪く、また変成が大きいため均一
な厚みのフィルムを作製することが出来ない。
【0028】また、比較例1−3では冷却速度が遅くて
低粘度の液体を除々に冷却しているために、高分子層は
不安定な構造とならず、フィルム中に微粒子を分散させ
ることは不可能であった。更に、比較例1−4、1−5
では加熱温度が低いために、結晶性高分子が高粘度な液
体となり、これを超急冷してフィルム化しても,高分子
複合物を得ることは不可能であった。図8は比較例1−
4の試料の熱処理前後のX線回折パターンを示すが、熱
処理前後における試料の回折パターンは同じであるとこ
ろから、金属が微粒子化してフィルム中に分散していな
いことが判る。
低粘度の液体を除々に冷却しているために、高分子層は
不安定な構造とならず、フィルム中に微粒子を分散させ
ることは不可能であった。更に、比較例1−4、1−5
では加熱温度が低いために、結晶性高分子が高粘度な液
体となり、これを超急冷してフィルム化しても,高分子
複合物を得ることは不可能であった。図8は比較例1−
4の試料の熱処理前後のX線回折パターンを示すが、熱
処理前後における試料の回折パターンは同じであるとこ
ろから、金属が微粒子化してフィルム中に分散していな
いことが判る。
【0029】実施例2、比較例2
種々の結晶性高分子のペレットを用いることにより、前
述の実施例1と同様の方法で高分子複合物を得た。その
製造条件および熱処理前後のフィルムの色、微粒子のサ
イズ等を表3に示す。
述の実施例1と同様の方法で高分子複合物を得た。その
製造条件および熱処理前後のフィルムの色、微粒子のサ
イズ等を表3に示す。
【0030】
【表3】
【0031】これによると、ポリカーボネート、ポリメ
チルメタアクリレート等の非晶性高分子、あるいはポリ
イミド等の分解性高分子から目的とする高分子複合物を
得ることが出来ないことが判る。
チルメタアクリレート等の非晶性高分子、あるいはポリ
イミド等の分解性高分子から目的とする高分子複合物を
得ることが出来ないことが判る。
【0032】実施例3、比較例3
高分子粉体と銅粉体(粒径約10μm)を予め混合し、
この混合物を容器に入れ、表4に示す加熱温度及び保持
時間でダクト付きの加熱炉で加熱して低粘度の液体を得
、これを実施例1と同様の方法でフィルムを作製したの
ち、恒温槽中で加熱処理して試料を得た。これらの試料
の熱処理前後フィルムの色、微粒子のサイズ等を表4に
示す。
この混合物を容器に入れ、表4に示す加熱温度及び保持
時間でダクト付きの加熱炉で加熱して低粘度の液体を得
、これを実施例1と同様の方法でフィルムを作製したの
ち、恒温槽中で加熱処理して試料を得た。これらの試料
の熱処理前後フィルムの色、微粒子のサイズ等を表4に
示す。
【0033】
【表4】
【0034】これによると、予め金属粉体を結晶性高分
子中に分散した混合物の低粘度の液体を超急冷してフィ
ルムを作製し、このフィルムを加熱しても、金属粉体を
微粒化することが出来る。
子中に分散した混合物の低粘度の液体を超急冷してフィ
ルムを作製し、このフィルムを加熱しても、金属粉体を
微粒化することが出来る。
【0035】
【発明の効果】以上のように本発明の微粒子を分散させ
た高分子複合物の製造方法では、結晶性高分子をその融
解温度より約150〜550℃高い温度で加熱して低粘
度の液体とし、これを冷却速度100℃/秒以上で超急
冷して熱力学的に不安定な高分子層を作製し、この高分
子層の表面に金属層を密着した後、該融解温度以下で加
熱して高分子層を安定化させることにより、上記金属層
の金属を微粒子化して高分子層中に均一に分散させるこ
とができる。
た高分子複合物の製造方法では、結晶性高分子をその融
解温度より約150〜550℃高い温度で加熱して低粘
度の液体とし、これを冷却速度100℃/秒以上で超急
冷して熱力学的に不安定な高分子層を作製し、この高分
子層の表面に金属層を密着した後、該融解温度以下で加
熱して高分子層を安定化させることにより、上記金属層
の金属を微粒子化して高分子層中に均一に分散させるこ
とができる。
【0036】また、本発明方法では結晶性高分子と金属
粉末とを混合し、この混合物を結晶性高分子の融解温度
より約150〜550℃高い温度で加熱して低粘度の液
体とし、これを冷却速度100℃/秒で超急冷して熱力
学的に不安定な高分子層を作製し、これを加熱して緩和
することで内在する金属粉末をより粒径の小さな微粒子
として分離、分散することができるため、微粒子の発火
、爆発等の危険をおかすことなく安全に高分子複合物を
製造することができる。
粉末とを混合し、この混合物を結晶性高分子の融解温度
より約150〜550℃高い温度で加熱して低粘度の液
体とし、これを冷却速度100℃/秒で超急冷して熱力
学的に不安定な高分子層を作製し、これを加熱して緩和
することで内在する金属粉末をより粒径の小さな微粒子
として分離、分散することができるため、微粒子の発火
、爆発等の危険をおかすことなく安全に高分子複合物を
製造することができる。
【図1】容器に入れた結晶性高分子を加熱して粘調な液
体にする工程を示す。
体にする工程を示す。
【図2】粘調な液体を金型に流し込んで超急冷した高分
子層を得る工程を示す。
子層を得る工程を示す。
【図3】高分子層の表面に金属層を積層した積層物を加
熱した後の状態を示す断面図である。
熱した後の状態を示す断面図である。
【図4】本発明方法によって得られた高分子複合物の断
面図である。
面図である。
【図5】結晶性高分子の加熱温度と粘度及び分解,気化
量の関係を示す模式図である。
量の関係を示す模式図である。
【図6】実施例1−4により得られた高分子層と金属膜
との積層物の熱処理前後の薄膜X線回折パターン図であ
る。
との積層物の熱処理前後の薄膜X線回折パターン図であ
る。
【図7】実施例1−8により得られた高分子層と金属膜
との積層物の熱処理前後の薄膜X線回折パターン図であ
る。
との積層物の熱処理前後の薄膜X線回折パターン図であ
る。
【図8】比較例1−4により得られた高分子層と金属膜
との積層物の熱処理前後の薄膜X線回折パターン図であ
る。
との積層物の熱処理前後の薄膜X線回折パターン図であ
る。
1 結晶性高分子
2 容器
3 加熱炉
4 低粘度の液体
5 金型
6 高分子層
7 金属層
9 微粒子
10 高分子複合物
Claims (2)
- 【請求項1】 結晶性高分子をその融解温度より15
0〜550℃高い温度で加熱して低粘度の液体とし、こ
れを100℃/秒以上の冷却速度で超急冷して熱力学的
に不安定な高分子層を作製し、この高分子層の表面に金
属層を密着した後、該融解温度以下で加熱して高分子層
を安定化させることで金属層の金属を微粒子化して高分
子内に分散させることを特徴とする微粒子を分散させた
高分子複合物の製造方法。 - 【請求項2】 結晶性高分子と金属粉末とを混合し、
この混合物を結晶性高分子の融解温度より約150〜5
50℃高い温度で加熱して低粘度の液体とし、これを1
00℃/秒以上の冷却速度で超急冷して熱力学的に不安
定な高分子層を作製し、これを該融解温度以下で加熱し
て金属粉末を微粒子化して分散させることを特徴とする
微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15782791A JP2611888B2 (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15782791A JP2611888B2 (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04356529A true JPH04356529A (ja) | 1992-12-10 |
| JP2611888B2 JP2611888B2 (ja) | 1997-05-21 |
Family
ID=15658189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15782791A Expired - Fee Related JP2611888B2 (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 微粒子を分散させた高分子複合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2611888B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07713U (ja) * | 1993-05-31 | 1995-01-06 | 三ツ星ベルト株式会社 | 熱力学的に準安定構造を有する高分子の製造装置 |
-
1991
- 1991-05-31 JP JP15782791A patent/JP2611888B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07713U (ja) * | 1993-05-31 | 1995-01-06 | 三ツ星ベルト株式会社 | 熱力学的に準安定構造を有する高分子の製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2611888B2 (ja) | 1997-05-21 |
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