JPH04362199A - 電気めっき装置 - Google Patents
電気めっき装置Info
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- JPH04362199A JPH04362199A JP13456791A JP13456791A JPH04362199A JP H04362199 A JPH04362199 A JP H04362199A JP 13456791 A JP13456791 A JP 13456791A JP 13456791 A JP13456791 A JP 13456791A JP H04362199 A JPH04362199 A JP H04362199A
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- Japan
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- plating
- copper
- cathode
- electrolytic cell
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電気めっき装置に関し、
特に印刷配線板用の電気めっき装置に関する。
特に印刷配線板用の電気めっき装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の印刷配線板の電気めっきは、図2
に示すように、めっき槽1に例えば、硫酸及び硫酸銅か
らなるめっき液2を満たす。次に陽極として銅ボール1
3をアノードケース14に入れ、さらにこれらをアノー
ドバック15に入れ、めっき槽1に浸漬する。
に示すように、めっき槽1に例えば、硫酸及び硫酸銅か
らなるめっき液2を満たす。次に陽極として銅ボール1
3をアノードケース14に入れ、さらにこれらをアノー
ドバック15に入れ、めっき槽1に浸漬する。
【0003】次に、所望の箇所に穴あけを施し、無電解
めっき処理を行った基板4をめっき治具に取り付け、め
っき槽1に浸漬する。次に、銅ボール13を陽極,基板
4を陰極として直流電流を流す。これによって、銅ボー
ル13より銅イオンがめっき液2中に溶解し、基板4に
銅が析出される。
めっき処理を行った基板4をめっき治具に取り付け、め
っき槽1に浸漬する。次に、銅ボール13を陽極,基板
4を陰極として直流電流を流す。これによって、銅ボー
ル13より銅イオンがめっき液2中に溶解し、基板4に
銅が析出される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この従来の電気めっき
に用いられる電気めっき装置では、陽極として銅ボール
を使用しているため、めっきを行う事により銅が溶解し
、銅ボールの表面積が徐々に小さくなるため、陽極の表
面積を一定にする事が困難である。このため、めっき液
の組成の変動や電流密度の分布が不均一になり、銅めっ
きの厚さが不均一になるという問題点がある。また、銅
ボールを補給する時の作業がめっき槽上で行なわれ、硫
酸雰囲気,高電流,重い銅ボールの運搬等で作業環境が
よくないという問題点もある。
に用いられる電気めっき装置では、陽極として銅ボール
を使用しているため、めっきを行う事により銅が溶解し
、銅ボールの表面積が徐々に小さくなるため、陽極の表
面積を一定にする事が困難である。このため、めっき液
の組成の変動や電流密度の分布が不均一になり、銅めっ
きの厚さが不均一になるという問題点がある。また、銅
ボールを補給する時の作業がめっき槽上で行なわれ、硫
酸雰囲気,高電流,重い銅ボールの運搬等で作業環境が
よくないという問題点もある。
【0005】また、良好なめっき品質を得るためには、
めっき液の浴組成を管理する必要があるが、めっき液の
銅濃度は高くなる傾向にあるため、定期的にめっき液を
希釈する必要があり、定期的なラインの停止及び多大な
浴管理工数を必要としていた。
めっき液の浴組成を管理する必要があるが、めっき液の
銅濃度は高くなる傾向にあるため、定期的にめっき液を
希釈する必要があり、定期的なラインの停止及び多大な
浴管理工数を必要としていた。
【0006】本発明の目的は、めっき液の組成の変動や
電流密度の分布の不均一をなくし、悪影響下での作業を
減らすことのできる電気めっき装置を提出することにあ
る。
電流密度の分布の不均一をなくし、悪影響下での作業を
減らすことのできる電気めっき装置を提出することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の電気めっき装置
は、めっき槽と、このめっき槽内に設置される不溶性の
陽極と、陰イオン交換膜により陽極室と陰極室とに分離
された電解槽と、この陽極室と陰極室内にそれぞれ設置
される銅電極と不溶性の陰極と、前記めっき槽と前記陽
極室とに満されるめっき液を循環させるためのめっき液
循環手段とを含むものである。
は、めっき槽と、このめっき槽内に設置される不溶性の
陽極と、陰イオン交換膜により陽極室と陰極室とに分離
された電解槽と、この陽極室と陰極室内にそれぞれ設置
される銅電極と不溶性の陰極と、前記めっき槽と前記陽
極室とに満されるめっき液を循環させるためのめっき液
循環手段とを含むものである。
【0008】硫酸及び硫酸銅の水溶液からなるめっき液
に於いて、陽極として不溶性の電極を用いてめっきを行
うと、陰極である基板側では次の(1)式の反応が起こ
り、金属銅の析出が生じる。
に於いて、陽極として不溶性の電極を用いてめっきを行
うと、陰極である基板側では次の(1)式の反応が起こ
り、金属銅の析出が生じる。
【0009】
Cu2++2e− →Cu0
……(1)陽極である不溶性電極側では、次の
(2)式の反応が起こる。
……(1)陽極である不溶性電極側では、次の
(2)式の反応が起こる。
【0010】
H2 O→2H+ +1/2O2 ↑+2e−
……
(2)次に、陰イオン交換膜によって陽極室と陰極室の
2つの小部屋に仕切られた電解槽を設け、陽極室に銅電
極を陰極室に陰極を設置する。陽極室には、前述しため
っき液を満たし、陰極室には電解質溶液、例えば水酸化
ナトリウム水溶液を満たす。そして両電極間に直流電流
を流すと、陽極側では、次の(3)式の反応が生じる。
……
(2)次に、陰イオン交換膜によって陽極室と陰極室の
2つの小部屋に仕切られた電解槽を設け、陽極室に銅電
極を陰極室に陰極を設置する。陽極室には、前述しため
っき液を満たし、陰極室には電解質溶液、例えば水酸化
ナトリウム水溶液を満たす。そして両電極間に直流電流
を流すと、陽極側では、次の(3)式の反応が生じる。
【0011】
Cu0 →Cu2++2e−
……(3)これにより、めっき液中に銅が溶解
し、銅イオンが蓄積される。
……(3)これにより、めっき液中に銅が溶解
し、銅イオンが蓄積される。
【0012】陽極室と陰極室との間では、陰極室中の水
酸イオンが陰イオン交換膜を通り、陽極室内へ入るが、
めっき液中の水素イオンで中和される。陰極側では、次
の(4)式の反応だけが起こり、陽極室へ移動する水酸
イオンが生成される。
酸イオンが陰イオン交換膜を通り、陽極室内へ入るが、
めっき液中の水素イオンで中和される。陰極側では、次
の(4)式の反応だけが起こり、陽極室へ移動する水酸
イオンが生成される。
【0013】
H2 O+e− →OH− +1/2H2 ↑
…
…(4)次に、前述しためっき槽とこの電解槽の陽極室
を配管でつなぎ、めっき液を循環させる事により、めっ
き槽内でめっき反応により消費される銅イオンを電解槽
の陽極室内で蓄積される銅イオンにより補なう事ができ
る。
…
…(4)次に、前述しためっき槽とこの電解槽の陽極室
を配管でつなぎ、めっき液を循環させる事により、めっ
き槽内でめっき反応により消費される銅イオンを電解槽
の陽極室内で蓄積される銅イオンにより補なう事ができ
る。
【0014】(1)式,(3)式より、めっき槽で流す
電流値と電解槽で流す電流値を等しくしてやれば、めっ
きの析出で消費した銅イオンの量と、銅電極より溶解す
る銅イオンの量は等しくなるため、めっき液中の銅イオ
ン濃度は常に一定となる。また、(2)式と(4)式よ
り、めっき槽と電解槽の電流値を等しくする事により、
等モルづつ水素イオンと水酸イオンが生成され、これら
は等モル比で中和されるため、めっき液中の硫酸濃度も
常に一定となる。従って、めっき液の組成を常に一定に
保ちながら、電気めっきを行う事が可能となり、めっき
槽の陽極の面積は常に一定であるため、電流密度の分布
が常に均一である電気めっきができる。
電流値と電解槽で流す電流値を等しくしてやれば、めっ
きの析出で消費した銅イオンの量と、銅電極より溶解す
る銅イオンの量は等しくなるため、めっき液中の銅イオ
ン濃度は常に一定となる。また、(2)式と(4)式よ
り、めっき槽と電解槽の電流値を等しくする事により、
等モルづつ水素イオンと水酸イオンが生成され、これら
は等モル比で中和されるため、めっき液中の硫酸濃度も
常に一定となる。従って、めっき液の組成を常に一定に
保ちながら、電気めっきを行う事が可能となり、めっき
槽の陽極の面積は常に一定であるため、電流密度の分布
が常に均一である電気めっきができる。
【0015】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の一実施例の構成図である
。
て説明する。図1は、本発明の一実施例の構成図である
。
【0016】めっき槽1内に、不溶性の陽極として白金
電極3A,3Bを設置する。この時、白金電極3A,3
Bの表面積は、めっき治具の有効めっき面積と同等とし
た。次に陰イオン交換膜6によって、陽極室と陰極室に
仕切られた電解槽5を設け、陽極室に陽極として銅電極
8を設置し、陰極室に陰極として白金電極9を設置する
。めっき槽1内のめっき液2を、電解槽5の陽極室に送
るためにポンプ10Bを介して配管を継ぐ。また、電解
槽5の陽極室のめっき液2Aをめっき槽1へ送るため、
ポンプ10Aとフィルター11を介して配管を継ぐ。
電極3A,3Bを設置する。この時、白金電極3A,3
Bの表面積は、めっき治具の有効めっき面積と同等とし
た。次に陰イオン交換膜6によって、陽極室と陰極室に
仕切られた電解槽5を設け、陽極室に陽極として銅電極
8を設置し、陰極室に陰極として白金電極9を設置する
。めっき槽1内のめっき液2を、電解槽5の陽極室に送
るためにポンプ10Bを介して配管を継ぐ。また、電解
槽5の陽極室のめっき液2Aをめっき槽1へ送るため、
ポンプ10Aとフィルター11を介して配管を継ぐ。
【0017】次にこのように構成された本実施例の操作
について説明する。めっき槽1及び電解槽5の陽極室に
めっき液2,2Aを満たし、ポンプ10A,10Bを動
かし、めっき液2,2Aを循環させる。使用しためっき
液2,2Aの組成は、硫酸200g/l,硫酸銅五水塩
70g/l,塩素60ppmである。
について説明する。めっき槽1及び電解槽5の陽極室に
めっき液2,2Aを満たし、ポンプ10A,10Bを動
かし、めっき液2,2Aを循環させる。使用しためっき
液2,2Aの組成は、硫酸200g/l,硫酸銅五水塩
70g/l,塩素60ppmである。
【0018】また、電解槽5の陰極室に電解液7として
10g/lの水酸化ナトリウム水溶液を入れる。水酸化
ナトリウムの代りに水酸化カリウムでもよい。次に、所
望の箇所に穴あけを施され、無電解銅めっき処理が行な
われた基板4をめっき治具に取り付け、めっき槽1中の
めっき液2に浸漬する。
10g/lの水酸化ナトリウム水溶液を入れる。水酸化
ナトリウムの代りに水酸化カリウムでもよい。次に、所
望の箇所に穴あけを施され、無電解銅めっき処理が行な
われた基板4をめっき治具に取り付け、めっき槽1中の
めっき液2に浸漬する。
【0019】陰極電流密度を2.0A/dm2 として
、設定めっき厚25μm,めっき時間57分のめっきを
行った。これと同時に電解槽5の両電極間8,9に、め
っき槽で流した電流値と等しい電流を流した。そしてめ
っき前後に於ける硫酸濃度,銅濃度を分析したところ、
それぞれ、200g/l,70g/l(硫酸銅五水塩と
して)であり、めっき前後での変化は見られなかった。 また、基板のめっき厚の分布を調べたところ、バラツキ
が小さく非常に良好であった。
、設定めっき厚25μm,めっき時間57分のめっきを
行った。これと同時に電解槽5の両電極間8,9に、め
っき槽で流した電流値と等しい電流を流した。そしてめ
っき前後に於ける硫酸濃度,銅濃度を分析したところ、
それぞれ、200g/l,70g/l(硫酸銅五水塩と
して)であり、めっき前後での変化は見られなかった。 また、基板のめっき厚の分布を調べたところ、バラツキ
が小さく非常に良好であった。
【0020】上述した実施例では、めっき液の循環手段
として2台のポンプを用いた場合について説明したが、
めっき槽1の上部からオーバーフローによりめっき液2
を電解槽5の陽極室へ流出させてもよい。この場合、め
っき液循環のポンプを1台に減らすことができる。
として2台のポンプを用いた場合について説明したが、
めっき槽1の上部からオーバーフローによりめっき液2
を電解槽5の陽極室へ流出させてもよい。この場合、め
っき液循環のポンプを1台に減らすことができる。
【0021】また不溶性の電極として白金の代りに、白
金めっきチタン板,グラファイト,過酸化鉛等を用いる
ことができる。
金めっきチタン板,グラファイト,過酸化鉛等を用いる
ことができる。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、めっき槽
の陽極に不溶性の電極を用い、銅の補充を、電解槽で行
うことにより、陽極の表面積は、常に一定となり、また
、めっきの析出により消費した銅イオンは、常時銅イオ
ンのみを同等量補充できるため、電流密度の分布が常に
一定で、浴組成の変動のないめっきができるという効果
を有する。
の陽極に不溶性の電極を用い、銅の補充を、電解槽で行
うことにより、陽極の表面積は、常に一定となり、また
、めっきの析出により消費した銅イオンは、常時銅イオ
ンのみを同等量補充できるため、電流密度の分布が常に
一定で、浴組成の変動のないめっきができるという効果
を有する。
【図1】本発明の一実施例の構成図。
【図2】従来の電気めっき装置の構成図。
1 めっき槽
2,2A めっき液
3A,3B 白金電極
4 基板
5 電解槽
6 陰イオン交換膜
7 水酸化ナトリウム水溶液
8 銅電極
9 白金電極
10A,10B ポンプ
11 フィルター
13 銅ボール
14 アノードケース
15 アノードバック
Claims (1)
- 【請求項1】 めっき槽と、このめっき槽内に設置さ
れる不溶性の陽極と、陰イオン交換膜により陽極室と陰
極室とに分離された電解槽と、この陽極室と陰極室内に
それぞれ設置される銅電極と不溶性の陰極と、前記めっ
き槽と前記陽極室とに満されるめっき液を循環させるた
めのめっき液循環手段とを含むことを特徴とする電気め
っき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13456791A JPH04362199A (ja) | 1991-06-06 | 1991-06-06 | 電気めっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13456791A JPH04362199A (ja) | 1991-06-06 | 1991-06-06 | 電気めっき装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04362199A true JPH04362199A (ja) | 1992-12-15 |
Family
ID=15131361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13456791A Pending JPH04362199A (ja) | 1991-06-06 | 1991-06-06 | 電気めっき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04362199A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001092604A3 (en) * | 2000-05-31 | 2002-04-25 | De Nora Elettrodi Spa | Electrolysis cell for restoring the concentration of metal ions in processes of electroplating |
| CN1333442C (zh) * | 2000-10-02 | 2007-08-22 | 先进微装置公司 | 半导体工艺用的具有远程第二阳极的电镀系统 |
| JP2009242940A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-10-22 | C Uyemura & Co Ltd | 連続電気銅めっき方法 |
| KR101067694B1 (ko) * | 2011-05-20 | 2011-09-27 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리과정에서 발생되는 용존 구리의 처리 시스템 |
| KR101311274B1 (ko) * | 2011-08-05 | 2013-09-25 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리과정에서 발생되는 용존 구리의 처리 시스템 |
| JP2016225082A (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-28 | 昭和電線ケーブルシステム株式会社 | 酸化物超電導線材の製造方法 |
| WO2019050688A1 (en) * | 2017-09-05 | 2019-03-14 | Wisconsin Alumni Research Foundation | ELECTROCHEMICAL OXIDATION OF 5-HYDROXYMETHYLFURFURAL USING COPPER ANODES |
| US10655233B2 (en) | 2015-01-08 | 2020-05-19 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Electrochemical and photoelectrochemical oxidation of 5-hydroxymethylfurfural to 2,5-furandicarboxylic acid and 2,5-diformylfuran |
| US11142833B2 (en) | 2017-10-09 | 2021-10-12 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Electrochemical oxidation of aromatic aldehydes in acidic media |
| CN114438563A (zh) * | 2022-02-18 | 2022-05-06 | 崇辉半导体有限公司 | 自动补充银离子的系统及喷镀银系统及喷镀银工艺 |
-
1991
- 1991-06-06 JP JP13456791A patent/JPH04362199A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001092604A3 (en) * | 2000-05-31 | 2002-04-25 | De Nora Elettrodi Spa | Electrolysis cell for restoring the concentration of metal ions in processes of electroplating |
| CN1333442C (zh) * | 2000-10-02 | 2007-08-22 | 先进微装置公司 | 半导体工艺用的具有远程第二阳极的电镀系统 |
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| KR101067694B1 (ko) * | 2011-05-20 | 2011-09-27 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리과정에서 발생되는 용존 구리의 처리 시스템 |
| KR101311274B1 (ko) * | 2011-08-05 | 2013-09-25 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리과정에서 발생되는 용존 구리의 처리 시스템 |
| US10655233B2 (en) | 2015-01-08 | 2020-05-19 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Electrochemical and photoelectrochemical oxidation of 5-hydroxymethylfurfural to 2,5-furandicarboxylic acid and 2,5-diformylfuran |
| JP2016225082A (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-28 | 昭和電線ケーブルシステム株式会社 | 酸化物超電導線材の製造方法 |
| WO2019050688A1 (en) * | 2017-09-05 | 2019-03-14 | Wisconsin Alumni Research Foundation | ELECTROCHEMICAL OXIDATION OF 5-HYDROXYMETHYLFURFURAL USING COPPER ANODES |
| US10669639B2 (en) * | 2017-09-05 | 2020-06-02 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Eletrochemical oxidation of 5-hydroxymethylfurfural using copper-based anodes |
| US11142833B2 (en) | 2017-10-09 | 2021-10-12 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Electrochemical oxidation of aromatic aldehydes in acidic media |
| CN114438563A (zh) * | 2022-02-18 | 2022-05-06 | 崇辉半导体有限公司 | 自动补充银离子的系统及喷镀银系统及喷镀银工艺 |
| CN116162990A (zh) * | 2022-02-18 | 2023-05-26 | 崇辉半导体(深圳)有限公司 | 一种喷镀银系统及喷镀银工艺 |
| CN116162990B (zh) * | 2022-02-18 | 2026-04-28 | 崇辉半导体(江门)有限公司 | 一种喷镀银系统及喷镀银工艺 |
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