JPH04363288A - 記録装置 - Google Patents

記録装置

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JPH04363288A
JPH04363288A JP3292218A JP29221891A JPH04363288A JP H04363288 A JPH04363288 A JP H04363288A JP 3292218 A JP3292218 A JP 3292218A JP 29221891 A JP29221891 A JP 29221891A JP H04363288 A JPH04363288 A JP H04363288A
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泰男 片野
Akira Oyamaguchi
大山口 章
Yoshio Watanabe
好夫 渡邉
Takeshi Takemoto
武 竹本
Yasuyuki Okada
康之 岡田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は新規な記録装置に関し、
詳しくは、表面が特定性状を示す記録体のその表面に、
選択的に又は選択的かつ可逆的に、加熱温度に応じた後
退接触角を示す領域が形成されるようにして潜像を形成
せしめ、次いで、その潜像に顕色材を含有する記録剤溶
液又は分散液を供給して顕像化した後、これを記録紙に
転写するようにした記録装置に関する。 【0002】 【従来の技術】表面を液体付着性領域と非液体付着性領
域とに区分けして画像形成に供するようにした手段の代
表的なものとしては平版印刷版を用いたオフセット印刷
方式があげられる。だが、このオフセット印刷方式は原
版からの製版工程及び刷版(印刷版)からの印刷工程を
一つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷の装
置の小型化は勢い困難なものとなっている。例えば、比
較的小型化されている事務用オフセット製版印刷機にお
いても、製版装置と印刷装置とは別個になっているのが
普通である。 【0003】このようなオフセット印刷方式の欠陥を解
消することを意図して、画像情報に応じた液体付着性領
域及び非液体付着性領域が形成でき、しかも、繰返し使
用が可能な(可逆性を有する)記録方法ないし装置が提
案されるようになってきている。その幾つかをあげれば
次のとおりである。 (1) 水性現像方式 疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する(特公昭40−18992号、特公昭
40−18993号、特公昭44−9512号、特開昭
63−264392号などの公報)。 (2) フォトクロミック材料の光化学反応を利用した
方式スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に
紫外線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロ
ミック化合物を親水化する〔例えば「高分子論文集」第
37巻4号、287頁(1980)〕。 (3) 内部偏倚力の作用を利用した方式不定形状態と
結晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの
付着・非付着領域を構成する(特公昭54−41902
号公報)。 【0004】前記(1)の方式によれば、水性インクを
紙などに転写した後、除電により親水性部は消去され、
別の画像情報の記録が可能となる。即ち、一つの原版(
光導電体)で繰り返し使用が可能となる。だが、この方
式は電子写真プロセスを基本としているため帯電→露光
→現像→転写→除電という長いプロセスを必要とし、装
置の小型化やコストの低減、メンテナンスフリー化が困
難であるといった欠点をもっている。 【0005】前記(2)の方式によれば、紫外線と可視
光との照射を選択的にかえることによって親水性、疎水
性を自由かつ可逆的に制御できるものの、量子効率が悪
いため反応時間が非常に長くて記録速度が遅く、また安
定性に欠けるといった欠点をもっており、いまだ実用レ
ベルには達していないのが実情である。 【0006】更に、前記(3)の方式によれば、そこで
使用される情報記録部材は、記録後のものでは安定性が
あるが、記録前のものでは温度変化により物理的構造変
化が生じるおそれがあることから保存性に問題が残され
ている。これに加えて、記録された情報パターンの消去
には熱パルスを与え、次いで急冷する手段が採用される
ことから、繰り返しの画像形成は繁雑さをまねがれ得な
いといった不都合がある。 【0007】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の記録方式とは異なり、加熱状態でかつ接触材料(B)
と接触させた場合に、後退接触角が低くなる表面を有す
る部材(記録体(A))のその表面に、容易な手段で選
択的に又は選択的かつ可逆的に、所望パターン領域(潜
像)を形成させ、これを顕像化せしめ記録紙へ転写させ
る装置を提供するものである。本発明の他の目的は、環
境変化や経時によっても記録体(A)への記録剤溶液又
は分散液(便宜上以降「インク液」と称することがある
)の付与が常時良好に行なわれ、多数枚の良質の転写画
像が得られる新規な記録装置を提供するものである。 【0008】 【課題を解決するための手段】本発明の記録装置は、下
記記録体(A)の表面を下記接触材料(B)と接触させ
た状態で選択的に加熱することにより又は記録体(A)
の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と接触
させることにより記録体(A)の表面に加熱温度に応じ
た後退接触角を示す潜像を形成せしめる接触材料(B)
を記録体(A)表面に供給する手段と、潜像形成のため
に記録体(A)の表面を加熱する手段と、顕色材を含有
する記録剤溶液又は分散液を記録体(A)表面に供給し
前記潜像に付着させその潜像を顕像化するための記録剤
付与手段と、記録体(A)表面の付着記録剤を記録紙に
転写する手段と、前記記録剤溶液又は分散液の粘度を検
知する手段とを設けてなることを特徴としている。 (A)加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
角が低下する表面を有する記録体。 (B)液体、蒸気又は記録体(A)表面における後退接
触角の低下開始温度以下で液体となるか又は液体若しく
は蒸気を発生する固体。 【0009】なお、本発明装置においては、前記潜像が
形成された記録体(A)の表面を接触材料(B)の不存
在下で加熱することによって潜像の消去が行なえ、可逆
的に画像形成がなし得るものである。 【0010】まず、本発明装置で用いる記録体(A)の
表面の作用について説明する。本発明で用いられる記録
体(A)は、液体に接した状態で加熱すると冷却後にお
いても後退接触角が低くなり、かつ、液体不存在下で加
熱すると後退接触角が高くなるという機能を示す表面を
有する。更に詳しくは、記録体(A)の表面が、(i)
疎水基の表面自己配向機能をもつ有機化合物を含む部材
、又は(ii)疎水基をもつ有機化合物であって疎水基
を表面に配向した部材からなる。(i)にいう“表面自
己配向機能”とは、ある化合物を支持体上に形成した固
体又はある化合物自体による固体を空気中で加熱すると
、表面において疎水基が空気側(自由表面側)に向いて
配向する性質があることを意味する。このことは、(i
i)においても同様にいえることである。 【0011】一般に、有機化合物では、疎水基は疎水性
雰囲気側へ向きやすい傾向をもっている。これは、固−
気界面の界面エネルギーが低くなる方に向うために生じ
る。また、この傾向は、疎水基の分子長が長くなるほど
認められるが、これは分子長が長くなるほど、加熱にお
ける分子の運動性が上がるためである。 【0012】更に具体的には、末端に疎水基を有する(
即ち表面エネルギーを低くする)分子であると、空気側
(自由表面側)を向いて表面配向しやすい。同様に(−
CH2−)nを含む直鎖状分子では(−CH2CH2−
)の部分が平面構造をしており、分子鎖どうしが配向し
やすい。また、(−Ph−)nを含む分子も−Ph−の
部分が平面構造をしており、分子鎖どうしが配向しやす
い。なお、−Ph−はp−フェニレン基である(以下同
じ)。殊に、弗素などの電気陰性度の高い元素を含む直
鎖状分子は自己凝集性が高く、分子鎖どうしが配向しや
すい。 【0013】この配向性の状態と後退接触角とは関係が
あり、また後退接触角と液体付着性との間にも関係があ
る。すなわち、固体表面での液体の付着は、液体の固体
表面での主にタッキングによって生じる。このタッキン
グは、いわば液体が固体表面を滑べる時の一種の摩擦力
とみなすことができる。従って、本発明でいう“後退接
触角”θrには、 cosθr=γ(γs−γse−πe+γf)/γev
(但し、 γ :真空中の固体の表面張力γse:固−
液界面張力 γev液体がその飽和蒸気と接しているときの表面張力
πe :平衡表面張力 γf :摩擦張力 γs :吸着層のない固体の表面張力である)といった
関係式が成立つ(斉藤、北崎ら「日本接着協会誌」Vo
l.22、No.12,1986)。 【0014】従って、θrの値が低くなるときγf値は
大きくなる。即ち、液体は固体面を滑べりにくくなり、
その結果、液体は固体面に付着するようになる。 【0015】これら相互の関連から推察しうるように、
液体付着性は後退接触角θrがどの程度であるかに左右
され、その後退接触角θrは表面自己配向機能を表面に
有する部材の何如により定められる。それ故、本発明装
置においては、記録体(A)はその表面に所望パターン
領域の形成及び/又は記録剤による顕像化の必要から、
必然的に、表面自己配向機能を表面に有する部材が選択
されねばならない。 【0016】本発明装置で用いられる記録体(A)は、
既述のとおり、「加熱状態でかつ液体と接触された場合
に後退接触角θrが低下する表面」を有するものである
。記録体(A)はその表面が上記のような性状を有して
さえいれば、形状等は任意である。従って、記録体(A
)はフィルム状であっても、適当な支持体や成形体上に
表面が上記のような性状を有する別の塗工膜などが設け
られているという構成であってもかまわない。成形体自
体であってもかまわないが、その表面は上記のような性
状を有していることが必要である。 【0017】この記録体(A)は、接触材料(B)の種
類によっては潜像領域における液体付着性部分が親油性
又は親水性のいずれかになり、従って、複写物を得る際
には油性インク、水性インクなどのいずれもが必要に応
じて使いわけられる。 【0018】ここで、“加熱状態でかつ液体と接触させ
た場合に後退接触角θrが低下する表面を形成する”部
材ないし材料を幾つかに分類した例を図1に示す。 【0019】図1(a)は自己配向機能を有する化合物
の例で、高分子重合体の側鎖に疎水基を有する化合物で
あり、主鎖Lと疎水基Rとは結合基Jにて結合している
。 【0020】図1(b)は、疎水基を有する有機化合物
においてその疎水基を表面に配向した部材の例で、有機
又は無機材料Mの表面に、物理的又は化学的結合により
、前記疎水基を有する化合物Oを形成した部材である。 【0021】図1(c)は、図1(b)であげた疎水基
を有する有機化合物Oのみからなる部材の例である。 【0022】図1(d)は、直鎖状分子が高分子の側鎖
にある例で、主鎖Lと前記分子を結合基Jによりつなぎ
、末端に疎水基Rをもつ自己凝集性又は平面構造を有す
る分子鎖Nが中間にある化合物である。 【0023】なお、図1(a)及び(d)の例において
は、高分子化合物の主鎖Lは直線状でも網かけ構造でも
よい。 図1(b)の例においては、累積LB膜のように、疎水
基含有化合物Oの上にさらに疎水基含有化合物Oが積層
されていてもよい。図1(c)の例においては、主鎖(
L)をもつことなく又は有機・無機材料(M)などに結
合することなく、疎水基含有化合物Oのみによる構造で
ある。 【0024】前記の疎水基としては、分子の末端が好ま
しくは−CH3や−CF3、−CF2H、−CFH2、
−C(CF3)3、−C(CH3)3などによっており
、より好ましくは、分子運動性が高い点で分子長の長い
ものが有利である。中でも、前記疎水基としては、−F
及び/又は−Clが1つ以上ある置換アルキル基(−C
F2CF2C(Cl)FCF2CF3のようなものでも
よい)或いは無置換のアルキル基であって、炭素数4以
上のものが望ましい。弗素置換、塩素置換のいずれのも
のも用いられるが、弗素置換のものの方が効果的である
。これらの材料においては、アルキル基炭素数と機能と
の関係では、炭素数が3以下であると、本発明の記録装
置に適する機能が低くなってしまう。 【0025】この機能発現の原理はいまだ完全に明らか
にされた訳ではなく、従って、不明な点が多いが、以下
のことが推定される。 【0026】まず、上記化合物により形成された記録体
(A)の表面は、前記疎水基がかなり配向した表面とな
っていることが考えられる。従って、この表面は液体反
撥性を有する(疎水基は表面エネルギーが小さいため)
。この状態で、記録体(A)の表面が接触材料(B)に
接して加熱を受けると、加熱による疎水基の分子運動が
活発となり、かつ、接触材料(B)との相互作用を受け
て、記録体(A)の表面の少なくとも一部の配向(整列
)状態が別の状態(即ち、別の配向状態又は配向が乱れ
た状態)にかわり、冷却後もその別の状態を維持するた
めと思われる。 なお、記録体(A)の表面に接触材料(B)が接した状
態のもとで加熱することは、接触材料(B)の形態いか
んにより、記録体(A)の表面が加熱された状態のもと
に液体を接触させることになる。この加熱前は、疎水基
が表面に整列(配向)しているため、記録体(A)の表
面の表面エネルギーは極めて少ない。 【0027】ところが、前記の接触材料(B)が接した
状態のものでの加熱により、配向状態は乱れて表面エネ
ルギーが高まる。後退接触角θrは、液体の種類にかか
らわず、固体と液体との表面エネルギーのバランスで決
定される。このため、固体の表面エネルギーが高まれば
、液体の種類にかかわらず、後退接触角θrは低くなる
。 従って、液体に対する付着性は増大することになる。 【0028】更に、記録体(A)の表面が別の状態(元
の配向状態とは異なる「別の配向状態」又は「配向が乱
れた状態」)で接触材料(B)の不存在下に加熱を受け
ると、接触材料(B)との相互作用が生じないため、元
の整列(配向)状態にもどると思われる。 【0029】従って、接触材料(B)の存在は単なる記
録体(A)の表面を加熱後の急冷を行なうためのもので
はなく、記録体(A)の表面の化合物との何らかの相互
作用をおこすものであり、この相互作用があって、はじ
めて別の状態(別の配向状態又は配向が乱れた状態)へ
の変化がおこると思われる。 【0030】前記のとおり、記録体(A)の表面を形成
する部材(化合物)の疎水基として、アルキル基又は弗
素置換あるいは塩素置換のアルキル基が採用された場合
には、アルキル基の炭素数が4以上であるのが望ましい
のは、記録体(A)の表面にアルキル基がある程度整列
(配向)し、しかも加熱時に活溌な分子運動をするのに
必要な数によるものと思われる。また、接触材料(B)
が記録体(A)の表面とともに加熱を受けた時、記録体
(A)表面の分子中に接触材料(B)の分子がとりこま
れることも考えられる。さらに、アルキル基中に電気陰
性度の高いフッ素や塩素があると、液体特に極性液体と
の相互作用が大きくなるため、水素のみのアルキル基を
含有する化合物よりも大きな付着性変化が得られる。ま
た、フッ素を含有するアルキル基は、自己凝集性が強い
ため、表面自己配向機能が高く、更に、表面エネルギー
が低いため、地肌よごれ防止の点ですぐれている。 【0031】更にまた、記録体(A)の表面は液体反撥
性を有するが、これを固体の表面エネルギーで記述する
と、本発明者らの検討では、50dyn/cm以下であ
ることが本発明装置による記録方式として望ましいこと
をも確めている。これ以上の高い値では記録剤に対して
記録体(A)の表面が、時として、ぬれてしまい、地肌
よごれをおこすおそれがある。 【0032】ここで、記録体(A)の表面を形成する化
合物(記録体(A)表面を選択的に加熱した状態で接触
材料(B)と接触させた時、記録体(A)の表面に加熱
温度に応じた後退接触角を示す潜像を形成せしめる化合
物)の詳細を述べる。まず、図1(a)及び(d)のタ
イプについてビニル系高分子側鎖にアルキル基(フッ素
置換及び/又は塩素置換のものも含む)を有する化合物
などが考えられる。 具体的には、式(I)(II)(III)(IV)(V
)(VI)及び(VII)R:−H、−CH3,−C2
H5,−CF3又は−C2F5Rf:C4以上のアルキ
ル基又はフッ素置換若しくは塩素置換アルキル基を含有
した基、もしくは、分子鎖中に(−CF2−)p、(−
CH2−)p又は―Ph―をもつ疎水基(p≧4)m:
1以上の整数をモノマーとした重合体があげられる。 【0033】その他のポリマーとしては、式(VIII
)(IX)及び(X)に示したごときものがあげられる
。 R:−H、−CH3、−C2H5、−CF3又は−C2
F5Rf:C4以上のアルキル基又はフッ素置換もしく
は塩素置換アルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖
中に(−CF2−)p、(−CH2−)p又は―Ph―
を含む疎水基(p≧4)n:10以上の整数 【0034】これら具体例でRfをより詳しくいえば下
記(1)から(20)までのものを例示することができ
る。 (1) −CH2CF2CHFCF3 (6) −CH2(CF2)10H (7)  −(CF2)6−O−CF2CF3(8) 
−(CH2)4−NH−CF2CF3(9) −(CF
2)6−CF3 (10) −(CH2)10C8F17(13) −C
H2NHSO2C8F17(14)  −(CF2)8
−Ph―F(15)  c・s−CH2CH2−(CF
3■)6CF(CF3)2 (16) −CH2CF2CF2CF3(17) −C
H2CH2CH2CH2■F(18)  −CH2(C
F2)6CF3(19)  −CH2(CF2)5CF
3(20)  −(CH2)3CF3      【0
035】これらの化合物のうちでも、特に、下記(XI
)の材料の使用が望ましい。   〔但し、R1:水素、−CxHy又は−CxFy(
x=1又は2以上の整数、y=2x+1である。) R2:(−CH2−)p(p≧1整数)又は(−CH2
−)q−N(R3)SO2−(R3は−CH3又は−C
2H5、q≧1の整数) m:6以上の整数である。〕 【0036】従って、本発明における記録体(A)表面
の部材の最も好ましい具体的化合物としてはなどが挙げ
られる。 【0037】さらに、これら式(I)(II)(III
(IV)(V)(VI)(VII)及び(XI)のモノ
マーどうし(2種以上のモノマーの共重合体)の他に、
他のモノマー例えばエチレン、塩化ビニル、スチレン、
ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、ビニルアルキ
ルエーテル、酢酸ビニル、ビニルアルコールなどとの共
重合体も上記化合物として適する。 【0038】また、式(XI)のモノマーと官能基を有
する重合モノマー例えば CH2=C(CH3)COO(CH2)2OHCH2=
C(CH3)COOCH2CH(OH)CH3CH2=
CHCOOCH2CH(OH)C8F17などの1種以
上とで共重合物をつくり重合物中に官能基を多数導入す
るか、式(XIのモノマーと官能基を有する重合性モノ
マーとの共重合物をつくり、続いて、官能基を多数含ん
だ共重合物どうしを架橋試薬をもちいて架橋することに
より製造した架橋性重合体も材料としてすぐれている。 【0039】架橋試薬としては、ホルムアルデヒド、ジ
アルデヒド、N−メチロール化合物、ジカルボン酸、ジ
カルボン酸クロライド、ビスハロゲン化合物、ビスエポ
キシド、ビスアジリジン、ジイソシアネートなどがあげ
られる。 【0040】このようにして得られた架橋重合物の一例
を下記化1に示す。 【化1】 【0041】化1で表わされる架橋重合物において、A
ブロックは前記の熱的性質の変化をもたらすアルキル基
であり、一方、Bブロックは鎖状ポリマーどうしを架橋
している(架橋試薬としてジイソシアネートを用いて架
橋したもの)部位である。 【0042】架橋体による膜を得るには、前記の共重合
物と架橋試薬とを混合した溶液をコート液として基板上
に塗布し、加熱又は電子線照射や光照射により架橋重合
膜を得るようにすればよい。 【0043】なお、上記モノマーから重合体を得るには
、溶液重合、電解重合、乳化重合、光重合、放射線重合
、プラズマ重合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸
着重合など、材料により適当な方法が選択される。 【0044】次に、図1(b)に示した化合物について
述べる。ここでは、式(XII)、(XII)及び(X
IV)に示す材料Rf−COOH          
        ・・・(XII)Rf−OH    
                  ・・・(XII
I)Rf−(CH2)n−SiX          
・・・(XIV)(Rf:炭素数4以上のアルキル基又
はフッ素置換又は塩素置換のアルキル基を含有した基、
もしくは、分子鎖中に(−CF2−)p、(−CH2−
)p又は―Ph―を含む疎水基(p≧4))n:1以上
の整数 X:塩素、メトキシ基又はエトキシ基)等をガラス、金
、銅などの無機材料やポリイミド、ポリエステル、ポリ
エチレンテレフタレートなどの有機材料表面に物理吸着
又は化学結合した材料(表面エネルギーが約50dyn
/cm以下であるのが好ましい)であることが望ましい
。 【0045】式(XII)(XIII)及び(XIV)
の具体例としてはCF3−(CF2)5−COOH,C
F3−(CF2)7−COOH,CF3−(CF2)7
−(CH2)2OH,H−(CF2)10−COOH,
H−(CF2)10−CH2OH,F−(CF2)6−
CH2CH2−Si(CH3)2Cl,CF2Cl(C
F3)CF(CF2)5COOH,CF3(CF2)7
(CH2)2SiCl3などがあげられる。 【0046】図1(c)に示す化合物としては式(XI
I)、式(XIII)や式(XIV)の材料のみの構造
体があげられる。 【0047】続いて、前記化合物を用いた記録体(A)
について述べる。記録体(A)の構成としては、■前記
の表面部材そのもので形成したもの、■支持体(好まし
くは耐熱性支持体)上に前記の表面部材を形成したもの
、とに大別される。■の態様は上記化合物(表面部材)
そのものをフィルム状、板状、あるいは円柱状に成形し
たものである。この際、フィルム状の場合は、フィルム
の厚さは1μm〜5mmが望ましい。 【0048】■の態様においては、前記化合物がある程
度支持体内部へ侵入していてもかまわない。記録体(A
)自体の膜厚は30Å〜1mmが望ましい。但し、熱伝
導性の点では100Å〜10μm、耐摩耗性の点では1
0μm〜1mmがすぐれている。支持体の耐熱温度とし
ては、50℃〜300℃が望ましい。 【0049】支持体の形状は、ベルト状、板状、ドラム
状いずれでもよく、装置の使用用途に応じて選定する。 特に、ドラム状は装置における寸法精度を出せる点です
ぐれている。板状のものは、記録紙サイズに応じてその
大きさを決めればよい。 【0050】更に、前記化合物(記録体(A)の表面形
成材料)と他の部材、例えば疎水性ポリマー、疎水性無
機材料との混合物を支持体上に形成すると、印字におけ
る地肌よごれ防止の点ですぐれている。また、熱伝導性
を上げるためには、金属粉を上記化合物に混入するとよ
い。 更に、支持体と前記化合物との密着性を向上するために
プライマー層を支持体と化合物間に設けることもできる
。耐熱性支持体としては、テトラフルオロエチレン、シ
リコーン、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ、
メラミン、フェノール、ポリエステル、ポリアセタール
、ユリア、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂、更
にはNi、Al、Cu、Cr、Ptなどの金属及び金属
酸化物等が好ましい。これら支持体は平滑でも粗面や多
孔質であってもよい。 【0051】次に、接触材料(B)について説明する。 接触材料(B)は、液体、蒸気又は記録体(A)表面に
おける後退接触角の低下開始温度以下で液体となるか又
は液体若しくは蒸気を発生する固体である。端的に言え
ば、当初から液体あるいは蒸気であるか、又は記録体(
A)表面における後退接触角θrの低下開始温度以下で
結果的に液体を生じさせる固体である。ここでの蒸気は
、記録体(A)の表面又は表面近傍で、少なくともその
一部が凝縮して液体を生ぜしめ、その液体が記録体(A
)の表面を濡らすことができるものであれば充分である
。一方、ここでの固体は、前記後退接触角θrの低下開
始温度以下で液体となるか、液体を発生させるか、又は
蒸気を発生させるものである。固体から発生された蒸気
は記録体の表面又はその近傍で凝縮して液体を生じさせ
ることは前記の場合と同様である。 【0052】これら接触材料(B)をより具体的にいえ
ば次のとおりである。すなわち、接触材料の一つである
液体としては、水の他に、電解質を含む水溶液、エタノ
ール、n−ブタノール等のアルコール、グリセリン、エ
チレングリコール等の多価アルコール、メチルエチルケ
トン等のケトン類のごとき有極性液体や、n−ノナン、
n−オクタン等の直鎖状炭化水素、シクロヘキサン等の
環式状炭化水素、m−キシレン、ベンゼン等の芳香族炭
化水素のごとき無極性液体が挙げられる。また、これら
の混合体でもよいし、各種分散液や液状インクも使用で
きる。更に望ましくは、極性液体の方がよりすぐれてい
る。 【0053】接触材料(B)の他の一つである蒸気とし
ては、水蒸気の外に接触材料(B)の液体の蒸気であれ
ば使用できるが、特にエタノール蒸気やm−キシレン蒸
気などの有機化合物の蒸気(噴霧状態のものを含む)が
挙げられる。この有機化合物蒸気の温度は、記録体(A
)の表面を形成する化合物の融点あるいは軟化点以下で
ある必要がある。 【0054】接触材料(B)の他のもう一つである固体
としては、高級脂肪酸、低分子量ポリエチレン、高分子
ゲル(ポリアクリルアミドゲル、ポリビニルアルコール
ゲル)、シリカゲル、結晶水を含んだ化合物などが挙げ
られる。 【0055】なお、接触材料(B)として、前記インク
液のごとき記録剤溶液又は分散液を用いた場合には、潜
像形成と同時に顕像化が行なわれることになる。 【0056】続いて、加熱手段について説明する。加熱
手段としてはヒーター、サーマルヘッドなどによる接触
加熱の他に、電磁波(レーザー光源、赤外線ランプなど
の発光源からの光線をレンズで集光する)による非接触
加熱がある。 【0057】図2(a)は支持体1上に記録体(A)の
表面を構成する前記化合物の膜2が形成され、この膜面
に接触材料(B)のうちの例えば液体3が存在している
状態を示している。この状態において、図3(a)に示
されるように膜2を加熱すると、膜2表面は後退接触角
θrが低下して著しい濡れを示し、液体付着性を有して
しまうのが認められる。更に、この液体付着性を有する
膜2を空気中、真空中又は不活性ガス雰囲気中で再び加
熱する〔図2(b)〕と、膜2表面は後退接触角θrが
高まってゆき再び液体反撥性を示すのが認められる。 【0058】このような現象と幾分類似した現象を示す
ものとして、先に挙げた特公昭54−41902号公報
に記載された方法がある。だが、ここに開示されている
方法では、記録材料に実質的にデイスオーダーでかつ一
般的に不定形のメモリ物質の層を得るようにしている点
で、メカニズム上大きく相違したものとなっている。す
なわち、本発明では、接触材料(B)の存在なしでは、
記録体(A)表面には状態変化が起こり得ない。また、
特公昭54−41902号公報に記載された方法では、
簡単な操作で可逆性を得ることはできない。 【0059】図3(a)のごとく、画像情報に応じて液
体3の接触下で膜2に熱を加える〔図3(b−1)のよ
うに、液体不存在のものに膜2に画像情報に応じて熱を
加えた状態のもとで液体と接触させても同様である〕と
、加熱部分の膜2の表面が液体付着性化される。図中、
4はヒーター、31は液体供給口、41は赤外線ランプ
、5はレンズ、6はシャッターを表わしている。 【0060】図3(a)は膜2の加熱を支持体1を通し
て行なっている例であるが、図3(b−2)に示した例
は、直接膜2に加熱がなされている例である。 【0061】この膜2の水溶液接触下での加熱前後の水
溶液の接触角の変動、及び、このものを更に空気中で加
熱した場合の水溶液の接触角の変動の一例を図4に示し
た。図4において、○は前進接触角、△は後退接触角を
表わしている。 【0062】一般に、後退接触角が90゜以上の高い値
の場合、その表面は液体反撥性を示し、90゜以下の低
い値の場合、その表面は液体付着性を示す。 【0063】接触材料(B)に接した状態での記録体(
A)表面の加熱温度としては、50℃〜250℃の範囲
が望ましく、更に望ましくは80℃〜150℃である。 加熱時間は0.1ミリ秒〜1秒程度で、望ましくは0.
5ミリ秒〜2ミリ秒である。加熱のタイミングとしては
、潜像形成であれば、■記録体(A)表面を加熱した後
、冷めないうちに接触材料(B)に接触させる、■記録
体(A)表面に接触材料(B)を接触させた状態のもと
に記録体(A)表面を加熱させる、のいずれかでよい。 一方、潜像消去であれば、接触材料の不存在下で記録体
(A)表面を50〜300℃、望ましくは100〜18
0℃に加熱すればよい。加熱時間はいずれの場合も1ミ
リ秒〜10秒程度で、好ましくは10ミリ秒〜1秒であ
る。 【0064】続いて、記録体(A)表面に実際に画像情
報の記録を行なう手段について、より詳細に説明する。 一つは、液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録
体(A)の表面を加熱し、記録体(A)の表面に液体付
着領域を形成(潜像形成)し、その後、この潜像部に記
録剤溶液又は分散液を接触させる手段により潜像部に記
録剤を付着させ(顕像化)、この後、記録体(A)表面
の記録剤を、記録紙に転移(転写)する方法である(間
接記録方法)。また、記述のとおり、本発明装置におい
ては、接触材料(B)として記録剤溶液又は分散液を兼
ねるものを使用すると、潜像形成と顕像化が同時に行な
われる。更に、これらの方法において、記録剤を転写後
、再び潜像部に記録剤溶液又は分散液を接触させる手段
を行なえば、記録体(A)を印刷版として用いた印刷方
法となる。また、これらの方法において、記録剤を転写
後、液体又は蒸気の不存在下で潜像を形成した記録体(
A)の表面を加熱し潜像を消去することにより、記録体
(A)が再生可能な記録方法となる。図5(a)及び(
b)に間接記録方法(印刷法)、記録体の可逆的な間接
記録方法(繰り返し記録方法)の代表的なプロセスを示
す。 【0065】次に、記録体(A)をはじめ、本発明装置
における構成について述べる。記録体は(A)、加熱状
態でかつ液体と接触させた場合に加熱温度に応じて後退
接触角が低下する表面(便宜上「膜2」又は「記録体(
A)表面」と記すことがある)を有しているものであれ
ば、その形態にとらわれない。従って、記録体(A)は
、剛体円筒形状であっても、柔軟性を有するフィルム形
状であってもかまわない。ただ、剛体円筒形状記録体(
円筒状剛体の表面に膜2が形成されたもの)は、記録体
(A)を稼働する際位置ずれ等が生じにくく制御性に優
れているので、剛体円筒形状の記録体(A)が好ましい
。このような記録体(A)の作製は膜2を基板上に成膜
する方法や、成形体そのもので作成する方法が採用され
る。特に、前記成形体は一般に機械強度が弱いため、支
持体上に成膜する方法が望ましい。なお、成形体そのも
ので記録体(A)をつくる場合においても、その表面に
は膜2が形成されていなければならないことはいうまで
もない。 【0066】記録体(A)の支持体に樹脂を用いた場合
、このものは熱の良導体とは言いがたく、記録体(A)
表面が加熱され液体付着性を有するまでにはある程度の
時間を要する。そこで、熱の良導体を支持体の全体に又
は支持体1上の部分に用いることが考えられてよい。 【0067】図6(a)は、例えば金属のような熱の良
導体を基板(金属基板11)とし、その上に有機薄膜1
2を蒸着し、更にその上に、膜2を形成したものである
が、このようにすると垂直方向の熱伝導速度が向上する
。ここでの有機薄膜12としては、ポリイミド、ポリエ
ステル、フタロシアニンなどが例示される。印字ドット
が比較的大きくてよい場合にはこの構成で充分であるが
、両方向への熱拡散により液体付着性を有する部分が拡
大するため、一層の高密度印字を目的とする場合には適
さない。 図6(b)は、そのため、支持体1上に熱の良導部分を
区切って設けることにより面方向への熱拡散を防ぎ、液
体付着性を有する部分2aの微小化を図ったものである
。図6(b)において、11aは微小化された金属膜を
表わしている。 【0068】続いて、加熱による潜像形成手段について
述べる。上記したごとく、加熱源としては、ヒーターや
サーマルヘッドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線
ランプのごとき電磁波による非接触加熱源が望ましい。 【0069】図7及び図8は本発明装置の代表的な二例
の概略を示したものである。図中、3aは着色インク液
(記録剤)、42はサーマルヘッド、43はレーザー光
源、41′は赤外線ランプ、7は記録体(A)、8はイ
ンクタンク、9はインク粘度検知手段、10は転写ロー
ラ、Pは記録紙を表わしている。なお、これらの例では
、エンドレスベルト状の記録体7が一回転するごとに赤
外線ランプ41により、インク液3aの不存在下で記録
体7の表面を加熱せしめるようにすれば、潜像が消去さ
れ、従って、記録体7の一回転ごとに新たな転写画像を
得ることが可能となる。 【0070】また、上記転写手段の後、液体又は蒸気の
不存在下で、すなわち、空気中、真空中、又は不活性ガ
ス中で潜像部付近を加熱することにより潜像を消去すれ
ば、記録体は繰り返し使用可能な記録装置となる。なお
、潜像消去のための加熱源としては、ヒーターやサーマ
ルヘッドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプ
のごとき電磁波による非接触加熱源が望ましい。加熱は
記録体(A)全面に行なっても良く、潜像部のみ行なっ
ても良い。但し、全面加熱の方が装置構成を簡単にでき
るため、より望ましい。なお、潜像消去手段は、消去の
ための加熱を行なったのち、再び潜像形成を行なうまで
の時間の間に記録体(A)表面が実質的に冷却する位置
に設ける。消去に必要な加熱温度は、記録体(A)表面
の材料により異なるが、記録体(A)表面の材料の後退
接触角低下開始温度以上でかつ分解点以下の温度が望ま
しい。 【0071】ところで、記録剤溶液又は分散液としての
着色インク液(液体インク)3aは、使用時の雰囲気(
気温等)により、粘度が異なる。また、この粘度はイン
ク組成等によっても相違してくるが、溶媒として揮発性
物質が含まれることが多いため、その溶媒の蒸発により
経時的に粘度が上昇しがちである。 【0072】これらのインク粘度の変化は潜像へのイン
ク付着量や図12にみられるごとく記録速度の限界速度
に影響を及ぼす。図12における限界現像速度(限界記
録速度)とは、それ以上の速度ではインクが非潜像部に
付着するぎりぎりの速度を意味する。特にインク粘度の
上昇により記録限界速度は急速に低くなるため高速記録
装置では粘度上昇により非潜像部にインクが付着しやす
くなり地汚れを起こす。図12に示すごとく、インクの
表面張力によりインク粘度と限界記録速度との対応は異
なる。 例えば、約50dyn/cm以上の高い表面張力を有す
るインクでは低速記録におけるインク粘度の変化に対す
る許容範囲は広く、例えば記録体(A)の移動速度(記
録速度)が10mm/sでインク粘度が5Ocpである
場合、粘度変化は100cpまで許され50cp〜10
0cpの範囲に粘度が収まるように制御すれば良い。高
速記録では粘度変化に対する許容範囲は低くなり、例え
ば記録体(A)の移動速度(記録速度)が30mm/s
でインク粘度が20cpである場合、粘度変化は25c
pまで許され20cp〜25cpの範囲に粘度が収まる
ように制御する必要がある。低表面張力のインク、例え
ば30dyn/cm程度のインクでは粘度変化に対する
許容範囲は低くなり、例えば記録体の移動速度(記録速
度)が10mm/sでインク粘度が10cpである場合
、粘度変化は15cpまで許され10cp〜15cpの
範囲に粘度が収まるように制御する必要がある。これら
は一例で各種インク及び記録速度に合わせて図12に従
い粘度変化の許容範囲が決まりその範囲内に粘度が収ま
るように制御する必要がある。 【0073】インク液の記録体(A)表面への供給は、
(i)図7、図8、図9及び図13に示したように、記
録体(A)をインク液中に浸漬させる、(ii)図11
に示したように、インク液中に回転ローラをある程度浸
漬させて回転ローラ表面にインク液を移し、次いで、こ
のインク液を記録体(A)表面に供給する、等が行なわ
れる。こうしたインク供給手段のうち、後者(ii)の
インク供給を回転ローラ15で行なう場合、ローラ表面
に形成されるインク液層の厚みはインク液3aの粘度に
依存し粘度が高いほどインク液層の厚みは厚くなる。イ
ンク液層が厚くなると現像時に非潜像部にインク液が付
着しやすくなり地汚れが発生しやすくなる。そこで、回
転ローラ15による現像を実施する場合、インク液層の
厚みを一定にするためにもインク液粘度の制御が必要と
なる。 【0074】インク液粘度検知手段9としては、回転粘
度計、オストワルト粘度計等の粘度計が用いられる。先
に触れたように、インク液粘度検知手段9に基づいてイ
ンク液粘度は一定に維持される必要があるが、その手当
としては検知されたインク液粘度を制御回路に入力し、
それに基づいて、■加熱又は吸熱或いは希釈剤の添加に
よってインク液粘度を調整するか、■記録体7に供給さ
れるインク液量を調整するか、■制御の様子をユーザー
に知らせるようにしてインク液粘度等を適宜調整する等
が考えられる。前記■についてのインク液粘度を調整す
る方法の一例は図9に示したとおりである。インク液粘
度はインク液の温度が上昇すると低くなるため、予め設
定してあるインク液の粘度より高い場合にはインク液3
aがヒータ等の加熱部材13によって加熱され、低い場
合には冷却部材14によってインク液の熱量が吸収され
る。そして、冷却部材14には通電により吸熱するいわ
ゆるペルチェ効果を有する部材が用いらるのが有利であ
る。 【0075】インク粘度が常時一定にしておくことが望
ましいことは前記のとおりであるが、図9に示したよう
な手段を講じることなく、インク粘度に応じて、サーマ
ルヘッドの印加エネルギーを調整(図10)したり、イ
ンク供給ローラ15の回転速度を調整(図11(a))
したり、インク液中に溶媒を添加(図13)したりして
記録体(A)表面に供給されるインク量を調整すること
が考えられてよい。 サーマルヘッドを制御する場合、予め設定してあるイン
ク粘度より検知された粘度が低い場合にはサーマルヘッ
ドに印加するエネルギーを大きくし、検知された粘度が
高い場合にはサーマルヘッドに印加するエネルギーを小
さくすればよい。また、インク液供給ローラ15は記録
体7の移動方向と同じでも逆方向のいずれにも回転可能
であるが、検知されたインク液粘度に基づいて回転速度
を変化させればよい。 【0076】粘度上昇時にはインク液供給回転ローラ1
5の回転速度を遅くするかローラ表面にカウンターブレ
ードを当ててローラ表面のインク液層を制御する。制御
の仕方は粘度変化検出信号に基づきローラの回転数を変
えるか、ローラ15とブレード16との間隔を変える。 粘度の上昇にたいしては回転数を少なくし又はローラと
ブレードとの間隔を狭くする。ローラの回転数が少なく
なるとローラ表面のインク流体の境界層が薄くなりイン
ク液3aの厚みが薄くなる。回転数とインク層厚みとの
関係や、ローラとブレードの間隔とインク液層の厚みと
の関係は、ローラ表面形状やローラ径に左右されるため
一律にはきまらず、ローラが選定された時点で実験によ
り回転数とインク層厚みとの検量線やローラとブレード
の間隔とインク液層の厚みの検量線を求めそのデータを
図11(b)の制御回路に記憶させる。粘度の低下にた
いしては逆の操作をする。また、インクの溶媒蒸発によ
りインク粘度が上昇する場合、図13のごとく溶媒補給
手段により粘度を制御する。この時、溶媒がインクに直
ちに溶解するように撹拌手段を設けた方がより望ましい
。 【0077】これらの制御を行なっても、安定したイン
ク液3a供給がなされないときは、インクや記録体7な
どの材料の劣化が考えられる。この場合には、ユーザー
に記録装置の状況、対処を知らせて対応できる。 【0078】潜像の消去については前記のとおりである
が、記録体(A)に再び潜像形成が行なわれることを考
慮すれば、潜像消去操作により加熱された記録体(A)
表面が潜像形成のために加熱されるところまで移動され
る間に実質的に冷却されるような位置に潜像消去手段(
非接触又は直接加熱)を設けておく必要がある。また、
消去に必要な加熱温度は膜2の材料により異なるが、膜
2の後退接触角が低くなる開始温度以上で分解点以下の
温度が望ましい。 【0079】記録紙としては、透明樹脂フィルム、普通
紙、インクジェット用紙、タイプ紙などが適当である。 【0080】次に記録剤について述べる。本発明におい
て、記録層表面上に可視画像を得るには、記録剤として
筆記用インク、インクジェット用インク、印刷インク、
電子写真用トナー等の従来の印字記録方法に用いられて
きた記録剤の中から、本プロセスに適合するものを選択
し使用することができる。より具体的な例を挙げると、
例えば水性インクとしては、水、湿潤剤及び染料からな
る水溶性インク、水、湿潤剤、顔料及び分散用高分子化
合物からなる水性顔料分散インクあるいは顔料又は染料
を界面活性剤を用いて水に分散させたエマルジョンイン
ク等が用いられる。水性インクに用いられる湿潤剤とし
ては、次のような水溶性の有機液体化合物が挙げられる
。 【0081】エタノール、メタノール、プロパノール等
の一価アルコール類;エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、グリセリン、低分子
量のポリエチレングリコール、ヘキシレングリコール等
の多価アルコール類;エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコ
ールアルキルエーテル類;エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテ
ル等の多価アルコールアリールエーテル類;N−メチル
−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン
、ε−カプロラクタム、γ−ブチロラクトン等の含窒素
複素環化合物;ホルムアミド、N−メチルホルムアミド
、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド類;モノエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノール
アミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン等のアミン類;ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン等の含硫黄化合物類;プロピレンカーボネート、炭
酸エチレン等。 【0082】水溶性染料としては、カラー・インデック
スにおいて、酸性染料、直接染料、塩基性染料、反応性
染料、食用染料に分類される染料で、耐水、耐光性の優
れたものが用いられる。これら染料の具体例としては、
例えば次のものが挙げられる。 【0083】C.I.アシッド・イエロー17,23,
42,44,79,142 C.I.アシッド・レッド1,8,13,14,18,
26,27,35,37,42,52,82,87,8
9,92,97,106,111,114,115,1
34,186,249,254,289C.I.アシッ
ド・ブルー9,29,45,92,249C.I.アシ
ッド・ブラック1,2,7,24,26,94C.I.
フード・イエロー3,4 C.I.フード・レッド7,9,14 C.I.フード・ブラック2 C.I.ダイレクト・イエロー1,12,24,26,
33,44,50,142,144,865 C.I.ダイレクト・レッド1,4,9,13,17,
20,28,31,39,80,81,83,89,2
25,227 C.I.ダイレクト・オレンジ26,29,62,10
2C.I.ダイレクト・ブルー1,2,6,15,22
,25,71,76,79,86,87,90,98,
163,165,199,202C.I.ダイレクト・
ブラック19,22,32,38,51,56,71,
74,75,77,154,168 C.I.ベーシック・イエロー1,2,11,13,1
4,15,19,21,23,24,25,28,29
,32,36,40,41,45,49,51,53,
63,65,67,70,73,77,87,91 C.I.ベーシック・レッド2,12,13,14,1
5,18,22,23,24,27,29,35,36
,38,39,46,49,51,52,54,59,
68,69,70,73,78,82,102,104
,109,112 C.I.ベーシック・ブルー1,3,5,7,9,21
,22,26,35,41,45,47,54,62,
65,66,67,69,75,77,78,89,9
2,93,105,117,120,122,124,
129,137,141,147,155ベーシック・
ブラック2,8等。 【0084】顔料としては、有機顔料としてアゾ系、フ
タロシアニン系、アンスラキノン系、キナクリドン系、
ジオキサジン系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノ
ン系、ペリレン系、イソインドレノン系、アニリン・ブ
ラック、アゾメチン系、カーボン・ブラック等が挙げら
れ、無機顔料として酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、バリウムイエ
ロー、紺青、カドミウムレッド、クロムイエロー、金属
粉が挙げられる。 【0085】顔料分散用化合物としては、ポリアクリル
アミド、ポリアクリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶
性スチレンアクリル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性ス
チレンマレイン酸樹脂、水溶性ビニルナフタレンアクリ
ル樹脂、水溶性ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリ
ビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、β−ナフタ
レンスルホン酸ホルマリン縮合物のアルカリ金属塩、四
級アンモニウムやアミノ基等のカチオン性官能基の塩を
側鎖に有する高分子化合物、ポリエチレンオキサイド、
ゼラチン、カゼイン等の蛋白質、アラビアゴム、トラガ
ントゴム等の天然ゴム類、サポニン等のグルコキシド類
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース、メチルセルロース、等のセルロース誘導体、リ
グニンスルホン酸及びその塩、セラック等の天然高分子
化合物、等が挙げられる。 【0086】油性の記録剤としては、水性インクと同様
に、油溶性染料を展開剤である有機溶媒に溶解したもの
や、顔料を展開剤である有機溶媒に分散させたもの、顔
料又は染料を展開剤である油性ベースに乳化させたもの
、等が用いられる。 【0087】油性染料の具体例としては、例えば次のも
のが挙げられる。 C.I.ソルベント・イエロー1,2,3,4,5,6
,7,8,9,10,11,12,14,16,17,
26,27,29,30,39,40,46,49,5
0,51,56,61,80,86,87,89,96 C.I.ソルベント・オレンジ12,23,31,43
,51,61C.I.ソルベント・レッド1,2,3,
16,17,18,19,20,22,24,25,2
6,40,52,59,60,63,67,68,12
1C.I.ソルベント・バイオレット7,16,17C
.I.ソルベント・ブルー2,6,11,15,20,
30,31,32,35,36,55,58,71,7
2 C.I.ソルベント・ブラウン2,10,15,21,
22C.I.ソルベント・ブラック3,10,11,1
2,27等。 【0088】また、染料を溶解したり、顔料を分散する
ための展開剤としては、n−オクタン、n−デカン、ミ
ネラネスピリット、リグロイン、ナフサ、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の炭化水素類;ジブチルエーテル、
ジヘキシルエーテル、アニソール、フェネトール、ジベ
ンジルエーテル等のエーテル類;メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン
等のアルコール類;ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル等の多価アルコールエーテル類;エチレングリコ
ールモノメチルアセタート、エチレングリコールモノエ
チルアセタート、エチレングリコールモノブチルアセタ
ート等の多価アルコールアセタート類;オレイン酸等が
挙げられる。 【0089】油性インクにおいても、先に例示した顔料
を用いることができる。油性の顔料分散剤の例としては
、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル
、メタクリル酸エステル−アクリル酸エステル共重合体
、ポリ酢酸ビニル、塩ビ−酢ビ共重合体、ポリビニルピ
ロリドン、ポリビニルブチラール等のビニル系共重合体
、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース
系樹脂、ポリエステル、ポリアミド、フェノール樹脂等
の縮重合樹脂、ロジン、セラック、ゼラチン、カゼイン
、等の天然樹脂等がある。 【0090】 【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。 【0091】実施例1 約50μm厚のポリイミドフィルム(東レ・デュポン社
製)上に膜2として含フッ素アクリレート材料17F(
大阪有機化学工業社製)を1,1,1−トリクロロエタ
ン中で溶液重合したポリマーを被膜して記録体7をつく
った。インク液3aとして水性インク(染料:黒色直接
染料1.5重量%,溶媒:純水/グリセリン=1/1、
粘度:30cp,表面張力:50dyn/cm)を用い
た。記録速度は20mm/sとした。図9のごとく粘度
検出手段を設けた。検出器は回転粘度検出器をもちい、
回転盤にかかるトルク検出信号を制御回路に送り信号に
応じてインク容器密着のヒータを作動させるようにした
。ヒータ作動開始の粘度のしきい値は40cpとした。 記録装置を5℃の環境下へ放置したところ、制御回路が
作動しヒータ加熱によりインク粘度が35cp前後に保
たれ良好な印字ができた。一方、粘度検知手段を設けず
に装置を5℃下で放置し印字したところ、記録紙全面に
インクが付着し極めてひどい地汚れが発生した。 【0092】実施例2 実施例1と同じ装置に図13の如く溶媒補給手段を設け
た、溶媒の補給は流体ポンプにより実施し、補給溶媒は
純水のみとした。インク容器に蓋をせずに2日放置した
ところ粘度変化を検出しポンプが作動し元の粘度になっ
たところでポンプが停止した。 【0093】実施例3 図11(a)のごとく現像をインク液供給回転ローラに
ておこなった。ローラ表面にはインク層を制御するため
可動機構の付いたブレードを設けた。粘度検出手段は、
実施例1と同じく回転粘度計を用いた。記録体(A)は
実施例1と同じにした。インク液にはラウリン酸を溶媒
とし油溶性黒色染料を溶解したのも(粘度:15cp,
表面張力:30dyn/cm)を用いた。記録速度は1
0mm/sとした。ブレードを調節しインク液層の厚み
を約20μm前後にに保ち良好な印字を維持した。 【0094】 【発明の効果】請求項1の記録装置は、インク液の粘度
検知手段を設けるようにしたことから、インク液の性状
を一定にするのに有効であり、長期にわたって所望の均
一な鮮明画像を得ることができる。請求項2の記録装置
は、接触材料(B)とインク液とを同一に使用するよう
にしたことから、画像形成するための工程数を減らすこ
とができる。請求項3、4、5及び6の記録装置は、イ
ンク液の性状並びに適量のインク液の記録体(A)の供
給が行えるため、極めて良好な複写画像が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】表面自己配向機能を有する形態の模式的な四例
の図。
【図2】本発明装置で用いられる記録体(A)の機能を
基本的に説明するための図。
【図3】本発明装置で用いられる記録体(A)の機能を
基本的に説明するための図。
【図4】本発明装置で用いられる記録体(A)表面に液
体を接触させた状態で記録体(A)表面を加熱した場合
、その記録体(A)表面にみられる後退接触角θrの変
化を表わした図。
【図5】本発明装置を用いた場合の二つの態様を示した
図。
【図6】本発明装置の実施の様子を表わした図。
【図7】本発明装置の実施の様子を表わした図。
【図8】本発明装置の実施の様子を表わした図。
【図9】本発明装置の実施の様子を表わした図。
【図10】本発明装置の実施例を説明するための図。
【図11】(a)及び(b)は本発明装置の実施の様子
を説明するための図。
【図12】本発明装置で用いられるインク液粘度と限界
現像速度との関係を表わした図。
【図13】本発明装置の実施の様子を表わした図。
【符号の説明】
1…基板 2…膜 3…液体(3a…着色インク) 4…ヒーター 5…レンズ 6…シャッター 7…記録体(A) 8…インクタンク(8a…インク溶媒タンク)9…イン
ク粘度検知手段 10…転写ローラ 11…金属基板 13…ヒータ 14…冷却素子 15…記録剤供給ローラ 16…ブレード 17…ブレード可動装置 18…プロペラ回転用モータ 41,41′…赤外線ランプ 42…サーマルヘッド P…ポンプ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  下記記録体(A)の表面を下記接触材
    料(B)と接触させた状態で選択的に加熱することによ
    り又は記録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接
    触材料(B)と接触させることにより記録体(A)の表
    面に加熱温度に応じた後退接触角を示す潜像を形成せし
    める接触材料(B)を記録体(A)表面に供給する手段
    と、潜像形成のために記録体(A)の表面を加熱する手
    段と、顕色材を含有する記録剤溶液又は分散液を記録体
    (A)表面に供給し前記潜像に付着させその潜像を顕像
    化するための記録剤付与手段と、記録体(A)表面の付
    着記録剤を記録紙に転写する手段と、前記記録剤溶液又
    は分散液の粘度を検知する手段とを設けてなることを特
    徴とする記録装置。 (A)加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
    角が低下する表面を有する記録体。 (B)液体、蒸気又は記録体(A)表面における後退接
    触角の低下開始温度以下で液体となるか又は液体若しく
    は蒸気を発生する固体。
  2. 【請求項2】  前記接触材料(B)として顕色材を含
    有する記録剤溶液又は分散液を用いることにより、前記
    の接触材料(B)を記録体(A)表面に供給する手段と
    、前記の記録剤付与手段とを一つにした請求項1記載の
    記録装置。
  3. 【請求項3】  前記記録剤付与手段が回転ローラであ
    り、かつ、前記検知した記録剤溶液又は分散液の粘度に
    応じてその回転ローラの回転数を変化させるものである
    請求項1又は2記載の記録装置。
  4. 【請求項4】  前記検知した記録剤溶液又は分散液の
    粘度に応じて、記録剤溶液又は分散液の粘度を一定に維
    持せしめる手段を更に設けた請求項1又は2記載の記録
    装置。
  5. 【請求項5】  前記記録剤溶液又は分散液の粘度を一
    定に維持せしめる手段が、記録剤溶液又は分散液の加熱
    又は冷却するものである請求項4記載の記録装置。
  6. 【請求項6】  前記記録剤溶液又は分散液の粘度を一
    定に維持せしめる手段が、粘度上昇の場合、記録剤溶液
    又は分散液で使用されている溶媒をその記録剤溶液又は
    分散液に添加するものである請求項4記載の記録装置。
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