JPH047193A - 記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な記録装置に関し、詳しくは、表面が特定
性状を示す記録体のその表面に、選択的に又は選択的か
つ可逆的に、加熱温度に応じた後退接触角を示す領域が
形成されるようにして潜像を形成せしめ、この潜像に顕
色材を含有する記録剤を供給して顕像化するようにした
記録装置に関する。

〔従来の技術〕

表面を液体付着性領域と非液体付着性領域とに区分けし
て画像形成に供するようにした手段の代表的なものとし
ては水（湿し水）なし平版印刷版を用いたオフセット印
刷方式があげられる。だが、このオフセット印刷方式は
原版からの製版工程及び刷版（印刷版）からの印刷工程
を一つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷の
装置の小型化は勢い困難なものとなっている。

例えば、比較的小型化されている事務用オフセット製版
印刷機においても、製版装置と印刷装置とは別個になっ
ているのが普通である。

このようなオフセット印刷方式の欠陥を解消することを
意図して、画像情報に応じた液体付着性領域及び非液体
付着性領域が形成でき、しかも。

繰返し使用が可能な（可逆性を有する）記録方法ないし
装置が提案されるようになってきている。その幾つかを
あげれば次のとおりである。

（１）水性現像方式 疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する（特公昭４〇−１８９９２号、特公昭
４０−１８９９３号、特公昭４４−９５１２号、特開昭
６３−２６４３９２号などの公報）。

（２）フォトクロミック材料の光化学反応を利用した方
式 スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により１．これらフォトクロミ
ック化合物を親水化する〔例えば「高分子論文集」第３
７巻４号、２８７頁（１９８０））。

（３）内部偏倚力の作用を利用した方式不定形状態と結
晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの付
着・非付着領域を構成する（特公昭５４−４１９０２号
公報）。

前記（１）の方式によれば、水性インクを紙などに転写
した後、除電により親水性部は消去され、別の画像情報
の記録が可能となる。即ち、一つの原版（光導電体）で
繰り返し使用が可能となる。だが、この方式は電子写真
プロセスを基本としているため帯電→露光→現像→転写
→除電という長いプロセスを必要とし、装置の小型化や
コストの低減、メンテナンスフリー化が困難であるとい
った欠点をもっている。

前記（２）の方式によ九ば、紫外線と可視光との照射を
選択的にかえることによって親水性、疎水性を自由かつ
可逆的に制御できるものの、量子効率が悪いため反応時
間が非常に長くて記録速度が遅く、また安定性に欠ける
といった欠点をもっており、いまだ実用レベルには達し
ていないのが実情である。

更に、前記（３）の方式によれば、そこで使用される情
報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、記録
前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じるお
それがあることから保存性に問題が残されている。これ
に加えて、記録された情報パターンの消去には熱パルス
を与え、次いで急冷する手段が採用されることから、繰
り返しの画像形成は繁雑さをまねかれ得ないといった不
都合がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の目的は、加熱状態でかつ液体と接触させた場合
に後退接触角が低くなる表面を有する部材（記録体（Ａ
））のその表面に、容易な手段で選択的に又は選択的か
つ可逆的に、所望パターン領域が形成させ、これを顕像
化せしめる装置を提供するものである。

本発明の他の目的は、前記可視画像をそのまま記録体表
面に固定させてもよく、また、固定させることなく可視
画像を普通紙などに転写し固定して、階調性のある鮮明
な画像が得られるようにした装置を提供するものである
。

本発明の更に他の目的は、所望パターン領域の形成・消
去、顕像化、転写等すべての工程において、保存性並び
に安定性にすぐれた記録体（Ａ）が使用されることによ
って、可逆的に複数回の前記工程が行ないうる新規な記
録装置を提供するものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明装置は、下記の記録体（Ａ）の表面と接触材料（
Ｂ）とを接触させた状態で選択的に加熱し、又は、記録
体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状態で接触材料（Ｂ
）と接触させることにより、記録体（Ａ）の表面に加熱
温度に応じた後退接触角を示す領域（所望パターン領域
であり、便宜上以降「潜像」又は「潜像領域」と称する
）を形成せしめた後、この潜像を顕像化させるようにし
たことを特徴としている。

（Ａ）加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
角が低下する表面を有する記録体。

（Ｂ）液体、蒸気又は記録体（Ａ）にいう後退接触角の
低下開始温度以下で液体となるか、液体もしくは蒸気を
発生する固体。

なお、本発明装置においては、前記潜像が形成された記
録体（Ａ）の表面を、接触材料（Ｂ）の不存在下で加熱
することによって潜像の消去が行なえ、可逆的に画像形
成がなし得るものである。

本発明者は、従来技術に記述したごとき欠陥を解消し、
新規な記録方法ないし装置について多くの研究・検討を
行なった。その結果、液体に接した状態で加熱され冷却
後後退接触角が低くなり、かつ、液体不存在下の加熱に
より後退接触角が高くなるという機能を表面に有する部
材が記録体として有用であることを見いだした。そして
、このような機能を有する記録体（Ａ）はその表面が（
１）疎水基の表面自己配向機能をもつ有機化合物を含む
部材、又は（２）疎水基をもつ有機化合物であって疎水
基を表面に配向した部材であることも併せて確めた。

（１）にいう″表面自己配向機能″とは、ある化合物を
支持体上に形成した固体又は成る化合物自体による固体
を空気中で加熱すると、表面において疎水基が空気側（
自由表面側）に向いて配合する性質があることを意味す
る。このことは、（２）においても同様にいえることで
ある。一般に、有機化合物では疎水基は疎水性雰囲気側
へ向きやすい性質をもっている。これは、固−気界面の
界面エネルギーが低くなる方に向うために生じる現象で
ある。また、この現象は疎水基の分子長が長くなるほど
その傾向がみられるが、これは分子長が長くなるほど加
熱における分子の運動性が上がるためである。

更に具体的には、末端に疎水基を有する（即ち表面エネ
ルギーを低くする）分子であると、空気側（自由表面側
）を向いて表面配向しやすい。同様に一＋ＣＨ２ｅ−１
を含む直鎖状分子では（ＣＨ２ＣＨ２）−の部分が平面
構造をしており、分子鎖どうしが配向しやすい。また、
→０＋−ｏを含む分子も−＋０＋−の部分が平面構造を
しており、分子鎖どうしが配向しやすい。殊に、弗素な
どの電気陰性度の高い元素を含む直鎖状分子は自己凝集
性が高く、分子鎖どうしが配向しやすい。

これらの検討結果をまとめると、より好ましくは、自己
凝集性の高い分子を含んだり平面構造をもつ分子を含み
、かつ、末端に疎水基を有する直鎖状分子、或いは、そ
うした直鎖状分子を含む化合物は表面自己配向機能が高
い化合物といえる。

これまでの記述から明らかなように、表面自己配向状態
と後退接触角とは関連があり、また、後退接触角と液体
付着性との間にも関係がある。即ち、固体表面での液体
の付着は、液体の固体表面での主にタッキングによって
生じる。このタッキングはいわば液体が固体表面を滑べ
る時の一種の摩擦力とみなすことができる。従って、本
発明でいう″後退接触角″θｒは、前記摩擦力をγ、と
すると、 （但し、　γ：真空中の固体の表面張力γＳＱ：固−液
界面張力 πｅ：平衡表面張力 γ、：摩擦張力 γＳ：吸着層のない固体の表面張力である）の関係式が
成立つ（斉藤、北崎ら「日本接着協会誌」Ｖｏ１２．２
２、Ｎａ　１２．Ｎａ　１９８６号）。

従って、ｏｒの値が低くなるときγ、値は大きくなる。

即ち、液体は固体面を滑へりにくくなり、その結果、液
体は固体面に付着するようになる。

これら相互の関連から推察しうるように、液体付着性は
後退接触角ｏｒがどの程度であるかに左右され、その後
退接触角ｏｒは表面自己配向機能を表面に有する部材の
何如により定められる。それ故、本発明装置においては
、記録体（Ａ）はその表面に所望パターン領域の形成及
び／又は記録剤による顕像化の必要から、必然的に、表
面自己配向機能を表面に有する部材が選択されねばなら
ばい。

本発明装置で用いられる記録体（Ａ）は、既述のとおり
、「加熱状態でかつ液体と接触された場合に後退接触角
ｏｒが低下する表面」を有するものである。

記録体（Ａ）はその表面が上記のような性状を有してさ
えいれば、形状等は任意である。従って、記録体（Ａ）
はフィルム状であっても、適当な支持体や成形体上に表
面が上記のような性状を有する別の塗工膜などが設けら
れていてもかまわない。

成形体自体であってもかまわないが、その表面は上記の
ような性状を有していることが必要である。

この記録体（Ａ）は、接触材料（Ｂ）の種類によっては
潜像領域における液体付着性部分が親油性又は親水性の
いずれかになり、従って、複写物を得る際には油性イン
ク、水性インクのいずれも必要に応じて使いわけられる
。

ここで、″加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退
接触角ｏｒが低下する表面を形成する″部材ないし材料
を幾つかに分類した例を第１図に示す。第１図（ａ）は
自己配向機能を有する化合物の例で、高分子重合体の側
鎖に疎水基を有する化合物であり、主鎖りと疎水基Ｒと
は結合基Ｊにて結合している。

第１図（ｂ）は、疎水基を有する有機化合物においてそ
の疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又は無機材
料阿の表面に、物理的又は化学的結合により、前記疎水
基を有する化合物Ｏを形成した部材である。第１図（Ｃ
）は、第１図（ｂ）であげた疎水基を有する有機化合物
Ｏのみからなる部材の例である。

第１図（ｄ）は、直鎖状分子が高分子の側鎖にある例で
、主鎖りと前記分子を結合基Ｊによりつなぎ、末端に疎
水基Ｒをもつ自己凝集性又は平面構造を有する分子鎖Ｎ
が中間にある化合物である。

なお、第１図（ａ）（ｄ）の例においては、高分子化合
物の主鎖りは直線状でも網かけ構造でもよい。

第１図（ｂ）の例においては、累積ＬＢ膜のように、疎
水基含有化合物０の上にさらに疎水基含有化合物０が積
層さ九ていてもよい。第１図（ｃ）の例においては、主
鎖（Ｌ）をもっことなく又は有機・無機材料（Ｍ）など
に結合することなく、疎水基含有化合物０のみによる構
造である。

前記の疎水基としては、分子の末端が好ましくは−ＣＨ
，や−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ１−ＣＦＨ２、−Ｃ（ＣＦ３
）３、−Ｃ（ＣＨ，）３などによっており、より好まし
くは、分子運動性が高い点で分子長の長いものが有利で
ある。中でも、前記疎水基としては、−Ｆ及び／又は−
ＣＱが１つ以上ある置換アルキル基（−ＣＦ２ＣＦ２Ｃ
ＦＣＦ２ＣＦ２（７）よＣＱ うなものでもよい）或いは無置換のアルキル基であって
、炭素数４以上のものが望ましい。弗素置換、塩素置換
のいずれのものも用いれるが、弗素置換のものの方が効
果的である。これらの材料においては、アルキル基炭素
数と機能との関係では、炭素数が３以下であると、記録
装置に適する機能が低くなってしまう。

この機能発現の原理はいまだ完全に明らかにされた訳で
はなく、従って、不明な点が多いが、以下のことが推定
される。

まず、上記化合物により形成された記録体（Ａ）の表面
は、前記疎水基がかなり配向した表面となっていること
が考えられる。従って、この表面は液体反撥性を有する
（疎水基は表面エネルギーが小さいため）。この状態で
、記録体（Ａ）の表面が接触材料（Ｂ）に接して加熱を
受けると、加熱による疎水基の分子運動が活発となり、
かつ、接触材料（Ｂ）との相互作用を受けて、記録体（
Ａ）の表面の少なくとも一部の配向（整列）状態が別の
状態（即ち、別の配向状態又は配向が乱れた状態）にか
わり、冷却後もその別の状態を維持するためと思われる
。

なお、記録体（Ａ）の表面に接触材料（Ｂ）が接した状
態のもとで加熱することは、接触材料（Ｂ）の形態いか
んにより、記録体（Ａ）の表面が加熱された状態のもと
に液体を接触させることになる。

この加熱前は、疎水基が表面に整列（配向）しているた
め、記録体（Ａ）の表面の表面エネルギーは極めて少な
い。

ところが、前記の接触材料（Ｂ）が接した状態のもので
の加熱により、配向状態は乱れて表面エネルギーが高ま
る。後退接触角θｒは、液体の種類にかかられす、固体
と液体との表面エネルギーのバランスで決定される。こ
のため、固体の表面エネルギーが高まれば、液体の種類
にかかわらず、後退接触角θｒは低くなる。従って、液
体に対する付着性は増大することになる。

更に、記録体（Ａ）の表面が別の状態（元の配向状態と
は異なるｒ別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」）
で接触材料（Ｂ）の不存在下に加熱を受けると、接触材
料（Ｂ）との相互作用が生じないため、元の整列（配向
）状態にもどると思われる。

従って、接触材料（Ｂ）の存在は単なる記録体（Ａ）の
表面を加熱後の急冷を行なうためのものではなく、記録
体（Ａ）の表面の化合物との何らかの相互作用をおこす
ものであり、この相互作用があって、はじめて別の状態
（別の配向状態又は配向が乱れた状態）への変化がおこ
ると思われる。

前記のとおり、記録体（Ａ）の表面を形成する部材（化
合物）の疎水基として、アルキル基又は弗素あるいは塩
素置換のアルキル基が採用された場合には、アルキル基
の炭素数が４以上であるのが望ましいのは、元素、記録
体（Ａ）の表面にアルキル基がある程度整列（配向）し
、しかも加熱時に活発な分子運動をするのに必要な数な
のだと思われる。

また、接触材料（Ｂ）が記録体（Ａ）の表面とともに加
熱を受けた時、記録体（Ａ）表面の分子中に接触材料（
Ｂ）の分子がとりこまれることも考えられる。

さらに、アルキル基中に電気陰性度の高いフッ素や塩素
があると、液体、特に極性液体との相互作用が大きくな
るため、水素のみのアルキル基を含有する化合物よりも
大きな付着性変化が得られる。

また、フッ素を含有するアルキル基は、自己凝集性が強
いため１表面自己配向機能が高く、更に、表面エネルギ
ーが低いため、地肌よごれ防止の点ですぐれている。

更にまた、記録体（Ａ）の表面は液体反撥性を有するが
、これを固体の表面エネルギーで記述すると、本発明者
の検討では、５０ｄｙｎ／Ｃｍ以下であることが記録方
法として望ましいことがわかった。これ以上の高い値で
は記録剤に対して記録体（Ａ）の表面が、時として、ぬ
れてしまい、地肌よごれをおこすおそれがある。

ここで、記録体（Ａ）の表面を形成する化合物の詳細を
述へる。まず、第１図（ａ）及び（ｄ）のタイプについ
てビニル系高分子側鎖にアルキル基（フッ素及び／又は
塩素のものも含む）を有する化合物などが考えられる。

具体的には、式（Ｉ　）（ｎ）（ＩＩＩ）（ＩＶ）（Ｖ
）（ＶＩ）及び（■） Ｒｆ：０４以上のアルキル基又はフッ素若しくは塩素置
換アルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖中に（Ｃ
Ｆ２←ａ、−（（１，Ｈ２←ａ又は−■−をもつ疎水基
（Ｑ≧４） ｎ′＝１以上の整数 をモノマーとした重合体があげられる。

その他のポリマーとしては、式（■）（■）及び（Ｘ）
に示したごときものがあげられる。

ＲニーＨ５−ＣＨ，、−Ｃ２ＨＳ、−ＣＦ３又は−Ｃ２
Ｆ。

へ− Ｏ＝Ｃ−ａ ＲニーＨ１−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＣＦ３又は−Ｃ２
Ｆ。

Ｒｆ：Ｃ４以上のアルキル基又はフッ素もしくは塩素置
換アルキル基を含有した基、もしくは。

分子鎖中に（ＣＦ２）−。、−＋ＣＨ２）−＋２又は−
〇−を含む疎水基（Ｑ≧４） ｎ：１０以上の整数 これら具体例でＲｆをより詳しくいえば下記（１）から
（２０）までのものを例示することができる。

（１）　−ＣＨ２ＣＦ、ＣＨＦＣＦ３ （６）　　ｃＨ２（ｃｐｚ）ｔ。Ｈ （７）　−＋ＣＦ２に〇−ＣＦ２ＣＦ。

（８）　（ＣＨ２升ＮＨ−ＣＦ２ＣＦ３（９）→ＣＦ、
ＣＨ２ ＣＦ２）　（ＣＨ２）、ｏＣ，Ｆ、７ （１３）−ＣＨ２ＮＨ５○２ＣＩＩＦ１７（１４）　（
ＣＦ２＜ΣＦ （１５）　ｅ−５−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ、）６ＣＦ（
ＣＦ３）２（１６）−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ。

（１７）−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｆ（１８）　−Ｃ
Ｈ２（ＣＦ２）６ＣＦ。

（１９）　−ＣＨ，（ＣＦ２）、ＣＦ。

（２の一＋ＧＨｚ）３ｃＦ３ これらの化合物のうちでも、特に、 下記（ＸＩ）の 材料 〔但し、Ｒ１：水素、−ｃｎ）ｌｚｎ＋ｘ又は−ＣｎＦ
ｚ　ｎｅ□（ｎ：１又は２以上の整数） Ｒ２ニー＋ＣＨ２＋−（ρ≧１の整数）又は任ＣＨ２＋
−Ｎ　（Ｒ’　）５０２−（Ｒ’は−ＣＨ３又は−Ｃ２
Ｈ５−Ｑ≧１の整数）ｍ８６以上の整数 である。〕 従って、本発明における記録体（Ａ）表面の部材の最も
好ましい具体的化合物としては Ｃ２Ｈ。

などが挙げられる。

さらに、これら式（Ｉン（Ｕ　）（ＩＩＩ）（Ｒ’）（
Ｖ）（ＶＩ）（■）及び（Ｘ［）のモノマーどうしく２
種以上のモノマーの共重合体）の他に、他の七ツマ−例
えばエチレン、塩化ビニル、スチレン、ブタジェン、イ
ソプレン、クロロプレン、ビニルアルキルエーテル、酢
酸ビニル、ビニルアルコールなどとの共重合体も上記化
合物として適する。

また、式（ＸＩ）のモノマーと官能基を有する重合性モ
ノマー例えば ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ，）Ｃｏｏ　（Ｃ１（２）２０ＨＣＨ
２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ。

ＣＨ２＝ＣＨＣ００ＣＨ２ＣＨ（（ＩＨ）ＣＩＩＦ１７
などの１種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能基
を多数導入するか、式（ＸＩ）のモノマーと官能基を有
する重合性モノマーとの共重合物をつくり、続いて、官
能基を導入した材料が架橋性重合体の材料としてすぐれ
ている６架橋試薬としては、ホルムアルデヒド、ジアル
デヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジカルボン酸、ジカル
ボン酸クロライド、ビスハロゲン化合物、ビスエポキシ
ド、ビスアジリジン、ジイソシアネートなどがあげられ
る。このようにして得られた架橋重合物の一例を下記に
示す。

上記の式において、Ａブロックは前記の熱的性質の変化
をもたらすアルキル基であり、一方、Ｂブロックは鎖状
ポリマーどうしを架橋している（架橋試薬としてジイソ
シアネートを用いて架橋したもの）部位である。

架橋体による膜を得るには、前記の共重合物と架橋試薬
とを混合した溶液をコート液として基板上に塗布し、加
熱又は電子線照射や光照射により架橋重合膜を得るよう
にすればよい。

なお、上記モノマーから重合体を得るには、溶液重合、
電解重合、乳化重合、光重合、放射線重合、プラズマ重
合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸着重合など、
材料により適当な方法が選択される。

次に、第１図（ｂ）に示した化合物について述べる。

ここでは、式（Ｘ［ｌ）、　（Ｘｍ）及び（ＸＩＶ）に
示す材料Ｒｆ−ＣＯＯＨ・・・（ＸＩＩ） Ｒｆ−ＯＨ・・・（Ｘ　Ｉ［Ｉ　） Ｒｆ（ＣＨ２廿ＳｉＸ　　　　　　　・・・（ＸＩＶ）
（Ｒｆ：炭素数４以上のアルキル基又はフッ素又は塩素
置換のアルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖中に
一＋ＣＦｚ＋−ａ、→Ｃｌ２）。又は−〇−を含む疎水
基（Ｑ≧４）） ｎ：１以上の整数 Ｘ：塩素、メトキシ基又はエトキシ基）等をガラス、金
、銅などの無機材料やポリイミド、ポリエステル、ポリ
エチレンテレフタレートなどの有機材料表面に物理吸着
又は化学結合した材料（表面エネルギーが約５０ｄｙｎ
／ａｍ以下であるのが好ましい）であることが望ましい
。

式（Ｘ［１）（ＸＩＩ［）及び（ＸＩＶ）の具体例とし
てＣＦ３（ＣＦ２汁Ｃ０ＯＨ。

ＣＦ、（ＣＦ２升Ｃ０ＯＨ。

ＣＦ３→ＣＦ２汁（ＣＨ２汁○Ｈ。

Ｈ→ＣＦ２刑Ｃ○○Ｈ。

Ｈ→ＣＦ２刑ＣＨ２０Ｈ。

ＦイＣＦ２１ｃＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣΩ　。

ＣＦ２ＣＱ、（ＣＦ、）ＣＦ（ＣＦ２）、Ｃ○○Ｈ。

ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓ　１ＣＱ３などがあ
げられる。

第１図（ｃ）に示す化合物としては式（ｘｎ）、式（Ｘ
ｍ）や式（ＸＩＶ）の材料のみの構造体があげられる。

続いて、上記化合物を用いた記録体（Ａ）について述へ
る。

記録体（Ａ）の構成としては、■前記の表面部材そのも
ので形成したもの、■支持体（好ましくは耐熱性支持体
）上に前記の表面部材を形成したもの、とに大別される
。■の態様は上記化合物（表面部材）そのものをフィル
ム状あるいは板状、あるいは、円柱状に成形したもので
ある。この際、フィルム状の場合は、フィルムの厚さは
ＩＩＪｍ〜５ｍｍが望ましい。

２Ｉの態様においては、上記化合物がある程度支持体内
部へ侵入していてもかまわない。記録体（Ａ）自体の膜
厚は３０人〜１ｍｍが望ましい。ただし、熱伝導性の点
では１００人〜１０ｔ、耐摩耗性の点では１０μｍｎ〜
１ｍｍがすぐれている。支持体の耐熱温度としては、５
０°Ｃ〜３００°Ｃが望ましい。

支持体の形状は、ベルト状、板状、ドラム状いずれでも
よく、装置の使用用途に応じて選定する。

特に、ドラム状は装置における寸法精度を出せる点です
ぐれている。板状のものは、記録紙サイズに応じてその
大きさを決めればよい。

さらに、上記化合物（記録体（Ａ）の表面形成材料）と
他の部材、例えば疎水性ポリマー、疎水性無機材料との
混合物を支持体上に形成すると、印字における地肌よご
れ防止の点ですぐれている。また、熱伝導性を上げるた
めには、金属粉を上記化合物に混入するとよい。更に、
支持体と上記化合物との密着性を向上するためにプライ
マー層を支持体−化合物間にもうけることもできる。耐
熱性支持体としては、ポリイミド、ポリエステルなどの
樹脂フィルムやガラスやＮｉ、ＡＱ、　Ｃｕ、　Ｃｒ、
　Ｐｔなどの金属や金属酸化物等が好ましい。これら支
持体は平滑でも粗面や多孔質であってもよい。

次に、接触材料（Ｂ）について説明する。

接触材料（Ｂ）は、先に記載したとおりであるが、端的
にいえば、当初から液体あるいは蒸気であるか、又は、
記録体（Ａ）にいう後退接触角Ｏｒの低下開始温度以下
で結果的に液体を生じさせる固体である。ここでの蒸気
は、記録体（Ａ）の表面又は表面近傍で、少なくともそ
の一部が凝縮して液体を生ぜしめ、その液体が記録体（
Ａ）の表面を濡らすことができるものであれば充分であ
る。一方、ここでの固体は、前記後退接触角ｏｒの低下
開始温度以下で液体となるか、液体を発生させるか、又
は、蒸気を発生させるものである。固体から発生された
蒸気は記録体（Ａ）の表面又はその近傍で凝縮して液体
を生じさせることは前記の場合と同様である。

これら接触材料（Ｂ）をより具体的にいえば次のとおり
である。

即ち、接触材料（Ｂ）の一つである液体としては、水の
他に、電解質を含む水溶液、エタノール、ｎ−ブタノー
ル等のアルコール、グリセリン、エチレングリコール等
の多価アルコール、メチルエチルケトン等のケトン類の
ごとき有極性液体や、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン等の直
鎖状炭化水素、シクロヘキサン等の環式状炭化水素、ｍ
−キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素のごとき無極
性液体があげられる。また、これらの混合体でもよいし
、さらには極性液体であってもかまわない。

接触材料（Ｂ）の他の一つである蒸気としては水蒸気の
外に、接触材料（８）の液体の蒸気であれば使用できる
が、特にエタノール蒸気やｍ−キシレン蒸気などの有機
化合物の蒸気（噴霧状態のものを含む）があげられる。

この有機化合物蒸気の温度は記録体（Ａ）の表面を形成
する化合物の融点或いは軟化点以下である必要がある。

接触材料（Ｂ）の他のもう一つである固体とじては、高
級脂肪酸、低分子量ポリエチレン、高分子ゲル（ポリア
クリルアミドゲル、ポリビニルアルコールゲル）、シリ
カゲル、結晶水を含んだ化合物などがあげられる。

続いて、加熱手段について説明する。

加熱手段としてはヒーター、サーマルヘッドなどによる
接触加熱の他に、電磁波（レーザー光源、赤外線ランプ
などの発光源からの光線をレンズで集光する）による非
接触加熱がある。また、電子線照射及び光（Ｕｖ光）照
射によった場合にも実質的に加熱がなされていれば本発
明を達成するすることができる。

第２図（ａ）は基板１上に記録体（Ａ）の表面を構成す
る前記化合物の膜２が形成され、この膜面に接触材料（
Ｂ）のうちの例えば液体３が存在している状態を示して
いる。この状態において、膜２を加熱すると、膜２表面
は後退接触角ｅｒが低下して著しい濡れを示し、液体付
着性を有してしまうのが認められる。更に、この液体付
着性を有する膜２を空気中、真空中又は不活性ガス雰囲
気中で再び加熱する（第２図（ｂ））と膜２表面は後退
接触角ｏｒが高まってゆき再び液体反撥性を示すのが認
められる。

このような現象と幾分類似した現象を示すものとして、
先にあげた特公昭５４−４１９０２号公報に記載された
方法がある。だが、ここに開示されている方法では記録
材料に実質的にディスオーダーでかつ一般的に不定形の
メモリ物質の層を得るようにしている点でメカニズム上
大きく相違したものとなっている。すなわち、本発明で
は、接触材料（Ｂ）の存在なしでは、記録体（Ａ）表面
には状態変化がおこりえない。また、特公昭５４−４１
９０２号公報に記載された方法では、簡単な操作で可逆
性を得ることはできない。

第３図（ａ）のごとく、画像情報に応じて液体３の接触
下で膜２に熱を加える（第３図（ｂ−１）のように、液
体不存在のものに膜２に画像情報に応じて熱を加えた状
態のもとて液体と接触させても同様である）と、加熱部
分の膜２の表面が液体付着性化される。図中、４はヒー
ター、３１は液体供給口、４１は赤外線ランプ、５はレ
ンズ、６はシャッターを表わしている。

第３図（ａ）は膜２の加熱は基板１を通して行なってい
る例であるが、第３図（ｂ−２）に示した例は、液体３
を通して加熱がなされている例である。

この膜２の水溶液接触下での加熱前後の水溶液の接触角
の変動、及び、このものを更に空気中で加熱した場合の
水溶液の接触角の変動の一例を第４図に示した。第４図
において、Ｏは前進接触角、△は後退接触角を表わして
いる。

一般に、後退接触角が９０°以上の高い値の場合、その
表面は液体反撥性を示し、９０”以下の低い値の場合、
その表面は液体付着性を示す。

接触材料（Ｂ）に接した状態での記録体（Ａ）表面の加
熱温度としては、５０℃〜２５０℃の範囲が望ましく、
さらに望ましくは８０℃−１５０℃である。加熱時間は
、０．１璽秒〜１秒程度で望ましくは、０．５ｍ秒〜２
ｆｆｉ秒である。加熱のタイミングとしては、潜像形成
であれば、■記録体（Ａ）表面を加熱した後、冷めない
うちに接触材料（Ｂ）に接触させる、■記録体（Ａ）表
面に接触材料（Ｂ）を接触させた状態のもとに記録体（
Ａ）表面を加熱させる、のいずれかでもよい。

方、潜像消去であれば、接触材料ＣＢ）の不存在下で記
録体（Ａ）表面を５０〜３００℃、望ましくは１００〜
１８０℃に加熱すればよい。加熱時間はいずれの場合も
１ｍ秒〜１０秒程度で好ましくは１０ｍ秒〜１秒である
。

続いて、記録体（Ａ）表面に実際に画像情報の記録を行
なう手段についてより詳細に説明する。

一つは液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録層
（Ａ）表面を加熱し、記録層（Ａ）の表面に液体付着領
域を形成（潜像形成）し、その後、この潜像部に記録剤
を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着させ（現
像）、この後、この記録をそのまま記録体（Ａ）の表面
上に定着させる方法である（直接記録方法）。もう一つ
は、液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録体（
Ａ）の表面を加熱し、記録体（Ａ）の表面に液体付着領
域を形成（潜像形成）し、その後、この潜像部に記録剤
を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着させ（現
像）、この後、記録紙に記録体（Ａ）表面の記録剤を転
写する方法である（間接記録方法）。さらに、上記の方
法において、記録剤を転写後、再び潜像部に記録剤を接
触させる手段を行えば、記録体（Ａ）を印刷版として用
いた印刷方法となる。また、上記の方法において、記録
剤を転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像を形成した
記録体（Ａ）の表面を加熱し潜像を消去することにより
、記録体（Ａ）が再生可能な記録方法となる。第５図（
ａ）　、　（ｂ）　、　（Ｃ）に直接記録方法、間接記
録方法（印刷法）、記録体の可逆的な記録方法（繰り返
し記録方法）の代表的なプロセスを示す。

次に、記録体（Ａ）をはじめ１本発明装置における構成
について述べる。

記録体（Ａ）は、加熱状態でかつ液体と接触させた場合
に後退接触角が低下する表面（便宜上「膜２」又は「記
録体（Ａ）表面」を記すことがある）を有しているもの
であれば、その形態にとられれない。従って、記録体（
Ａ）は、剛体円筒形状であっても、柔軟性を有するフィ
ルム形状であってもかまわない。剛体円筒形状記録体（
円筒状剛体の表面に膜２が形成されたもの）は、記録体
（Ａ）を稼働する際位置ずれ等が生じにくいため制御性
に優れているので、望ましくは剛体円筒形状の記録体（
Ａ）が良い。

このような記録体（Ａ）の作製は膜２を基板上に成膜す
る方法や、成形体そのもので作成する方法がよい。特に
、前記成形体は一般に機械強度が弱いため基板上に成膜
する方法が望ましい。なお、成形体そのもので記録体（
Ａ）をつくる場合においても、その表面には膜２が形成
されていなければならないことはいうまでもない。

記録体基板に樹脂を用いた場合、このものは熱の良導体
とはいいがたく、記録体（Ａ）表面が加熱され液体付着
性を有するまでにはある程度の時間を要する。そこで、
熱の良導体を基板の全体に又は基板１上の部分に用いる
ことが考えられてよい。

第６図（ａ）は例えば金属のような熱の良導体を基板（
金属基板１１）としてその上に有機薄膜１２を蒸着し、
更にその上に、膜２を形成するようにすれば、垂直方向
の熱伝導速度が向上する。ここでの有機薄膜１２として
はポリイミド、ポリエステル、フタロシアニンなどが例
示できる。印字ドツトが比較的大きくてよい場合にはこ
の構成で十分であるが、両方向への熱拡散により液体付
着性を有する部分が拡大するため一層の高密度印字を目
的とする場合には適さない。第６図（ｂ）は、そのため
、基板１上に熱の良導部分を区切って設けることにより
面方向への熱拡散を防ぎ液体付着性を有する部分２ａの
微小化を図ったものである。第６図（ｂ）において。

１１ａは微小された金属膜を表わしている。

続いて、加熱による潜像形成手段、更に、記録剤付与手
段（顕像化手段）について述べる。上記したごとく、加
熱源としては、ヒーターやサーマルヘッドのごとき接触
加熱源やレーザーや赤外線ランプのごとき電磁波による
非接触加熱源が望ましい。また、記録剤は後述にあげた
ものが用いられる。

さて、潜像形成用の接触部材として、記録剤を用いると
潜像と顕像が同時に行えるため装置構成を簡素化できる
。しかし、記録剤の種類によっては、加熱により記録体
に劣化をおよぼすものがあり、記録体（Ａ）の繰り返し
使用により著しい劣化をおこす場合である。この様な記
録剤の使用に対しては潜像形成用の専用の接触部材を用
い、潜像部と顕像部を分離する必要がある。さらに、潜
像形成用の接触部材と顕像化のための記録剤を分割手段
を設け、一体化すれば装置構成が簡素化できる。

第７図（ａ）　（ｂ）　（Ｃ）は本発明装置の代表的な
二側を示したものである。

第７図（ａ）は記録体７表面に接触材料３を接触させた
状態で接触材料３側から加熱を行なって潜像（Ｓ）をつ
くり、これを記録剤２１によって可視像化するというも
のである。ここでは、接触材料３及び記録剤２１は一つ
の皿に収納されているが、両者は混らないように、浸透
膜又は逆浸透膜９で完全に分離されている。但し、接触
材料（８）が固体である場合には、これと記録剤２１と
は混合することがないが、接触材料（Ｂ）が蒸気である
場合には記録剤２１とは適当は隔壁を設けて両者の混合
を防止することが必要である。なお、第７図（ａ）の例
で、接触材料３として純水を用い、記録剤２１として水
性インクを用いたときには、潜像部に純水が付着し、そ
の後、水性インク中で前記付着した純水が水性インクと
混じることになる。従って、水性インクの濃度は徐々に
低下してくるが、逆浸透膜９のもつ逆浸透現象により、
純水は潜像形成手段側へ逆浸透膜９を通して移動するた
め、水性インクの濃度は一定に維持され、繰り返しの記
録に何等の不都合も生じさせない。

第７図（ｂ）（ｅ）は接触材料（Ｂ）が液体の場合に、
その接触材料３と記録剤２１との比重が異なり、かつ、
それらの相溶性が悪いものどうしを用いて潜像形成、顕
像化を行なうのに適した態様を示している。

このような例においては、接触材料３が純水で記録剤２
１が油性インクの場合、接触材料３がｎ−ノナンで記録
剤２１が水性インクの場合などがあげられる。

なお、光や電子線による潜像形成手段も上記構成と基本
的に同様に考おられてよく、例えば、第７図（ａ）のサ
ーマルヘッドに代えてレーザー光源が用いられてもかま
わない。

直接記録の場合、記録体基板として柔軟性を有するフィ
ルム又は剛体のフィルムを用い、基板１上に膜２を成膜
し記録体（Ａ）とする。この記録体（Ａ）に上記の手段
により潜像形成及び顕像化を施す。

こののち、自然乾燥又は加熱乾燥を行い、記録体（Ａ）
上に付着した記録剤２１を定着させる。直接記録方法の
実施に望ましい装置の例を第８図に示す。

第８図の例では、潜像形成手段及び顕像化手段を固定し
記録体７を移動している。

さらに、直接記録後、記録剤を定着した記録体基板が透
明フィルムの場合は、透過光を照射することで、スライ
ド投影機のごとき装置の原版として使える（第９図）。

また、ビーム状の反射光や透過光を照射し記録剤の有無
による光の強度変化を検知することで情報記憶用媒体と
しても利用できる（第１０図）。第１０図で、５２はス
クリーン、５３は光源、５４は検知器、５５はモーター
である。

間接記録の場合、前記のとおり、例えば剛性円筒体が記
録体基板として用いられるのが有利である。潜像形成及
び現像（顕像化）後１例えば記録体（Ａ）上の記録剤は
記録紙と直接液する手段を設けることで記録紙の毛管作
用により、記録紙６１へ記録剤は転写される（転写手段
）。転写を行う位置は。

現像後であれば、記録体のどの位置でもかまわないが、
現像後、直ちに転写が行われる位置が望ましい。転写後
、潜像消去を行わず現像を繰り返えせば、この装置は印
刷装置となる。一つの画像情報の印刷が終了すれば、記
録体（Ａ）を交換することで又は潜像消去を行なうこと
で、別の画像情報の記録・印刷が可能となる。

また、上記転写手段の後、液体又は蒸気の不存在下で、
即ち、空気中、真空中、又は、不活性ガス中で潜像部付
近を加熱することにより、潜像を消去すれば記録体（Ａ
）は繰返し使用可能な記録装置となる。なお、潜像消去
のための加熱源としては、ヒーターやサーマルヘッドの
ごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプのごとき電
磁波による非接触加熱源が望ましい。加熱は記録体全面
に行っても良く、潜像部のみ行っても良い。ただし、全
面加熱の方が装置構成を簡単にできるため、より望まし
い。なお、潜像消去手段は、消去のための加熱を行った
のち、再び、潜像を行うまでの時間の間に記録体（Ａ）
表面が実質的に冷却する位置に設ける。消去に必要な加
熱温度は、当該記録体（Ａ）表面の材料により異なるが
、記録体（Ａ）表面の材料の後退接触角が低くなる開始
温度以上で分解点以下の温度が望ましい。

記録紙（被転写体）としては、透明樹脂フィルム、普通
紙、インクジェット用紙、タイプ紙などが適当である。

次に記録剤について述へる。

本発明の記録装置において記録体（Ａ）表面上に可視画
像を得るには、記録剤として筆記用インク、インクジェ
ット用インク、印刷インク、電子写真用トナー等の従来
の印字記録方法に用いられてきた記録剤の中から、本プ
ロセスに適合するものを選択し使用することができる。

より具体的な例を挙げると、例えば水性インクとしては
、水、湿潤剤、染料を主体とする水溶性インク又は水、
顔料、分散用高分子化合物、湿潤剤を主体とした水性顔
料分散インク、顔料又は染料を界面活性剤を用いて水に
分散せしめたエマルジョン・インク等が用いられる。水
性インクに用いられる湿潤剤としては、次のような水溶
性の有機液体化合物が挙げられる。

エタノール、メタノール、プロパツール等の一価アルコ
ール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプ
ロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類
；エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコール、ジエチレングリコール千ノ
エチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル
、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価ア
ルコールのエーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、
１，３−ジメチルイミダゾリジノン、ε−カプロラクタ
ム等の複素環式化合物；モノエタノールアミン、ジェタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノエチルアミ
ン、ジニチルアミン、トリエチルアミン等のアミン類等
。

水溶性染料としては、カラー・インデックスにおいて酸
性染料、直接染料、塩基性染料、反応性染料、食用染料
に分類される染料が用いられる。

代表的な染料の例としては、 Ｃ，１，アシッド・イエロー１７，２３，４２，４４，
７９，１４２Ｃ，１，アシッド・レッド１，８，１３，
１４，１８，２６，２７，３５゜３７．４２，５２，８
２，８７，８９，９２，９７゜１０６．１１１，１１４
，１１５，１３４，１８６゜２４９．２５４，２８９ Ｃ，１，アシッド・ブルー９．２９，４５，９２，２４
９，８９０Ｃ，１，アシッド・ブラック１，２，７，２
４，２６，９４Ｃ，１，フート・イエロー３，４ Ｃ，１，フード・レッド７．９．１４ Ｃ，１，フード・ブラック２ Ｃ，１，ダイレクト・イエロー１，１２，２４，２６，
３３，４４，５０゜１４２．１４４，８６５ Ｃ，１，ダイレクト・レッド１，４，９，１．３，１７
，２０，２８，３１゜３９．８０，８１，８３，８９，
２２５゜Ｃ，１，ダイレクト・オレンジ２６，２９，６
２，１０２Ｃ，１，ダイレクト・ブルー１．２，６，１
５，２２，２５，７１，７６゜７９．８６，８７，９０
，９８，１６３゜１６５．２０２ Ｃ，１，ダイレクト・ブラック１９，２２，３２，３８
，５１，５６゜７１．７４，７５，７７．１５４，１６
８Ｃ，１，ベーシック・イエロー１，２，１１，１３，
１４，１５，１９゜２１．２３，２４，２５，２８，２
９゜３２．３６，４０，４１，４５，４９゜５１　、５
３　、６３　、６５　、６７　、７０　。

７３．７７．８７．９１ Ｃ，１，ベーシック・レッド２，１２，１３，１４，１
５，１８，２２゜２３．２４，２７，２９，３５，３６
，３８゜３９．４６，４９，５１，５２，５４，５９゜
６８．６９，７０，７３，７８，８２，１０２゜１０４
．１０９，１１２ Ｃ，１，ベーシック・ブルー１．３，５，７，９，２１
，２２，２６，３５゜４１．４５，４７，５４，６２，
６５，６６゜６７．６９，７５，７７．７８，８９，９
２゜９３．１０５，１１７，１２０，１２２゜１２４．
１２９，１３７，１４１，１４７゜ベーシック・ブラッ
ク２，８ 等を挙げることができる。

顔料としては、有機顔料としてアゾ系、フタロシアニン
系、アンスラキノン系、キナクリドン系。

ジオキサジン系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノ
ン系、ペリレン系、イソインドレノン系、アニリン・ブ
ラック、アゾメチンアゾ系、カーボン・ブラック等が挙
げられ、無機顔料として酸化鉄、酸化チタン、炭酸カル
シウム、硫酸Ａリウム、水酸化アルミニウム、バリウム
イエロー、紺青、カドミウムレッド、クロムイエロー、
金属粉が挙げられる。

顔料分散用化合物として、ポリアクリルアミド、ポリア
クリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性スチレンアク
リル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチレンマレイン
酸樹脂、水溶性ビニルナフタレンアクリル樹脂、水溶性
ビニルナフタ１ノンマレイン酸樹脂、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコール、β−ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物のアルカリ金属塩、四級アンモニウ
ムやアミノ基等のカチオン性官能基の塩を含む高分子化
合物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、カゼイン等
の蛋白質、アラビアゴム、トラガントゴム等の天然ゴム
類、サポニン等のグルコキシド類、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロ
ース、等のセルロース誘導体、リグニンスルホン酸及び
その塩、セラミック等の天然高分子化合物、等が挙げら
れる。

油性の記録剤としては、水性インクと同様に、油溶性染
料を有機液体化合物に溶解したものや、顔料を有機液体
化合物に分散せしめたもの、顔料又は染料を油性ベース
に乳化させたもの、等が用いられる。

油性染料の代表的な例としては、 Ｃ，１，ソルベント・イエロー１，２，３，４，５，６
，７，８，９゜１０．１１，１２，１４，１６，１７゜
２６．２７，２９，３０，３９，４０゜４６．４９，５
０，５１，５６，６１゜８０．８６，８７，８９．９６ Ｃ，１，ソルベント・オレンジ１２，２３，３１，４３
，５１，６１Ｃ，１，ソルベント・レッド１，２，３，
１６，１７，１８，１９，２０゜２２．２４，２５，２
６，４０，５２，５９゜６０．６３，６７．６８，１２
１ Ｃ，１，ソルベント・バイオレット７．１６．１７Ｃ，
１，ソルベント・ブルー２，６，１１，１５，２０，３
０，３１，３２゜３５．３６，５５，５８，７１．７２ Ｃ，１，ソルベント・ブラウン２，１０，１５，２１．
２２Ｃ，１，ソルベント・ブラック３，１０，１１，１
２．１３等が挙げられる。

また、染料を溶解したり、顔料を分散するための油性ベ
ースとしては、ｎ−オクタン、ｎ−デカン、ミネラネス
ピリット、リグロイン、ナフサ、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の炭化水素類；ジブチルエーテル、ジブチル
エーテル、アニソール、フェネトール、ジベンジルエー
テル等のエーテル類；メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコ
ール類等を例示することができる。

油性インクにおいても先に例示した顔料を用いることが
できる。油性の顔料分散剤の例としては、ポリメタクリ
ル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、塩ビニル系共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルブチラール等のビニル系共重合体、エチルセルロ
ース、メチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエ
ステル、ポリアミド、フェノール樹脂等の縮重合樹脂、
ロジン、セラミック、ゼラチン、カゼイン、等の天然樹
脂等がある。

〔実施例〕

実施例１ 成形体材料として、パーフルオロメチルメタクリレート
（大阪有機化学社製「ビスコート１７ＦＭ））をモノマ
ーとして１，１．１−トリクロロエタン中で溶液重合に
て作製したホモポリマーを用いた。この材料を精製した
後、フレオン１１３（三井フロロケミカル社製「フレオ
ンＴＦＪ　）にて、希釈し、７重量ダのコート液を調製
した。このコート液をポリイミドフィルム上にキャスト
（３声膜厚の記録体を作製し、φ１００＋ｎｍのアルミ
製円同管にまきつけ第７図（ａ）に示す構成にて装置を
作製した。潜像形成手段に用いる接触材料として純水を
用い、逆浸透膜にてインクと分割し、一体化した皿に供
給した。潜像は加熱手段で８ｄａｔ／ｍｍの端面に熱素
子を有するサーマルヘッドを用いた。インクとして、酸
性黒色染料をＰＨＩＯのＮａＯＨ水に溶解した水性イン
クを用いた。

さまざまな画像情報にもとづき潜像形成→現像→インク
転写→潜像消去をくり返し実施したところ、１万回くり
返しでも画像劣化は認められなかった。

実施例２ 実施例１と同じ記録体を用いた。潜像形成手段に用いる
接触材料として純水を用いた。インクとして、ｎ−オク
タンを溶媒とするカーボンブラックを分散した油性イン
クを用いた。第７図（ｂ）に示すごとく、サーマルヘッ
ドとインク容器（皿状）を−体化したものに、まずイン
クを満たし、次にインクに接するように記録体を配置し
た。この時、サーマルヘッド端部にインクが接しないよ
うにした。

次に、サーマルヘッド端部付近に純水を満たすことで第
７図（ｂ）のような構成を作った。この装置にて、くり
返し画像記録を行ったところ１万図のくり返しでも画像
劣化は認められなかった。

比較例 実施例１における装置において、潜像形成手段に用いる
部材をインクにしてくり返し記録を行ったところ１００
０回程度で画像劣化がおこった。

〔発明の効果〕

本発明の装置によれば、簡単な操作でしかも可逆的に所
望の画像を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は表面自己配向機能を有する形態の模式的な四側
の図である。 第２図及び第３図は本発明装置を基本的に説明するため
の図である。 第４図は本発明の実施で用いらる記録体（Ａ）表面に液
体を接触させた状態で記録体（Ａ）表面を加熱した場合
、その記録体（Ａ）表面にみられる後退接触角ｏｒの変
化を表わした図である。 第５図は本発明装置による方式の三つの態様を示したも
のである。 第６図、第７図及び第８図は本発明装置の実施の様子を
表わした図である。 第９図及び第１０図は本発明装置でつくられた記録物の
応用例を示したものである。 １・・・基板 ２・・・膜 ３・・・液体 ４・・・ヒーター 特許出願人　株式会社　リ　　コ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）加熱状態でかつ液体と接触させたときに後退接触
   角が低下する表面を有する記録体（Ａ）と液体、蒸気及
   び記録体（Ａ）における後退接触角の低下開始温度以下
   で液体となるか液体もしくは蒸気を発生する固体から選
   ばれる接触材料（Ｂ）と、これら記録体（Ａ）の表面に
   接触材料（Ｂ）を接触させた状態で選択的に加熱し又は
   記録体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状態で該接触材
   料（Ｂ）と接触させることにより記録体（Ａ）表面に加
   熱温度に応じた後退接触角を示す領域を形成せしめる潜
   像形成手段と、その潜像を顕像化するための記録剤付与
   手段とを、分割手段を設けて一体化したことを特徴とす
   る記録装置。