JPH04365887A - 高電流密度電解の方法および装置 - Google Patents
高電流密度電解の方法および装置Info
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- JPH04365887A JPH04365887A JP3169173A JP16917391A JPH04365887A JP H04365887 A JPH04365887 A JP H04365887A JP 3169173 A JP3169173 A JP 3169173A JP 16917391 A JP16917391 A JP 16917391A JP H04365887 A JPH04365887 A JP H04365887A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
続的に電解する方法およびその方法を実施する際に用い
られる電解装置に関する。
して、「金属の連続電解装置」が実願昭58−9756
0に、「銀の電解精練装置」が特開平1−246388
に、「円環状電解槽」が実願昭58−97559にそれ
ぞれ開示されている。従来、金、白金族等の高価な金属
およびこれらを含む合金は、このような装置を用いて次
のような方法により回収されていた。銅あるいは鉛等の
卑金属中に白金等の貴金属を濃縮した金属板をつくり、
この金属板をアノードとして用いて電解を行い、陰極に
電着金属を析出させると共に、陽極に貴金属を含有する
アノードスライムを発生させ、電解終了後このアノード
スライムを陽極から回収し、別途処理することにより貴
金属を回収していた。
属を得ることを目指しているために、陰極電流密度を
170〜260A/m2 の範囲内にして操業を行うこ
とが不可欠であると同時に、貴金属を濃縮した陽極中の
貴金属品位も5,000ppm以下に制御する必要があ
った。また、アノード中への貴金属濃縮品位に上述のご
とく制限があり、スライムの連続的排出ができなかった
。そのため、採算ベースの貴金属回収を行うためには、
電槽数をかなり多くする必要があり、このため初期設備
費が莫大なものとなっていた。さらに、貴金属の濃縮度
が低いため陽極の電解ライフを長く取らなければならな
いという技術上の問題があり、貴金属の電槽内滞留期間
を短かくすることが困難であった。そのため、滞留金利
アップなどの経済上の大きな問題を抱えていた。
技術の問題点を解決し、低コストで、金、白金族等のよ
うな高価な金属およびこれらを含む合金を、連続的に分
離回収することができる高電流密度電解の方法および装
置を提供することを目的とする。
解決するために鋭意研究した結果、隔膜電槽を用いて高
電流密度電解を行い、両極における生成物を電解液流に
よって連続的に電槽外へ抜出することにより上記目的が
達成されることを見い出し、本発明を提出することがで
きた。
た陽極と陰極とを隔膜によって分離し、陽極室と陰極室
とにそれぞれ別個に連続的な電解液の供給および排出を
行うことによって両極室内にそれぞれ第1および第2の
電解液流をつくり、精製用の粗金属からなるアノードを
陽極室に供給して 500〜1,500A/m2 の高
電流密度で電解を行い、電解が進行するにつれて陰極に
析出する電着金属粉を上記第1の電解液流によって連続
的に電槽外へ排出し、陽極に生成するアノードスライム
を上記第2の電解液流によって連続的に電槽外へ排出す
ることを特徴とする高電流密度電解方法;および、 5
00〜1,500A/m2 の高電流密度が得られる状
態に接続され、かつ水平に配置された陽極と陰極とが隔
膜によって分離されており、該陽極室および陰極室にそ
れぞれ別個に連続的な電解液の供給および排出を行うこ
とができる構造の電槽を有してなることを特徴とする高
電流密度電解装置を提供するものである。
するアノードとして、平均粒径10mm以下の貴金属を
含有する卑金属のメタルショットを用いて、アノード中
に濃縮された貴金属を回収することを主たる目的とする
電解に用いる場合に特に有利である。
粒径10mm以下の貴金属を含有させた卑金属からなる
メタルショットを陽極室に供給してアノードとし、陽極
および陰極室内に別個に連続的な電解液の供給および排
出を行って電解液流をつくり、 500〜1,500A
/m2 高電流密度で効率良く電解処理を行うことがで
きる。このように高電流密度で電解を行うことにより、
陰極に電着金属粉、陽極に貴金属を含有するスライムを
短時間で多量に発生させることができるため、電槽数を
増やす必要がなくなり、しかも電槽が小型化し、設備コ
ストを低くすることができる。
属粉は、陰極室内への電解液の連続供給および排出によ
ってつくられた電解液流によって電槽外へ排出され、陽
極に生成した貴金属を含有するスライムは、例えばメタ
ルショットの撹拌によって剥離した後、陽極内への電解
液の連続供給および排出によってつくった電解液流によ
って電槽外へ排出される。このように陰極に析出する電
着金属粉や陽極に生成するスライムを連続的に電槽外へ
排出することにより、長時間にわたって電解を続けるこ
とが可能となり、しかも貴金属の槽内滞留期間が短くな
るため滞留金利が大幅に削減される。また、本発明の装
置における電槽部分は、陰極と陽極とが隔膜によって隔
てられているため、粒状の電着金属粉とアノードスライ
ムとが混合することはない。
およびスライム含有電解液は、濾過されて電着金属粉お
よびスライムが回収される。なお、濾過の際に得られた
濾液は再び電槽に戻される。また、上記回収されたスラ
イムは、精製工程に送られて貴金属が回収される。
に説明する。しかし本発明の範囲は以下の実施例により
制限されるものではない。
電解方法により、自動車工業において発生した貴金属を
含有する原料からPt、Pd、Rhを分離回収した。
あるTi−Pt板8が隔膜電解装置の電槽3の底板とし
て装備されており、陰極である銅板7を有する陰極ボッ
クス2が電槽3の上部に、両極が平行になるように装備
されている。また、陽極と陰極とは隔膜1によって隔て
られており、陽極生成物と陰極生成物とが混ざらないよ
うになっている。さらに、陽極室および陰極室には、両
極室内に電解液5を強制的に供給および排出することが
できるようになっている 上記の構造の電解装置における陽極室にアノードメタル
4(貴金属を含有する平均粒径10mmの銅ショット)
を供給し、両極を最大 1,500 A/m2 の電流
密度が得られる導体と接続して高電流密度電解を行った
。電解が進行するにつれて陰極には電着金属粉が析出し
、陽極には貴金属を含有するスライムが生成した。陰極
に析出した電着金属粉は、陰極ボックス2内に強制供給
している電解液5と共に電槽外に排出し、該電解液5を
濾過して回収した。なお、このとき得られた濾液は陰極
室内に供給される。
ドメタル4をスクレーパー6で撹拌することによって剥
離させ、陽極室内に強制供給している電解液5と共に電
槽外に排出した。次いで取り出した電解液5を濾過し、
濾液は陽極室内に供給し、得られた固形物は精製工程に
送ってPt、Pd、Rhを個別に回収した。なお、アノ
ードメタル4は粒状のメタルショットであるため、レベ
ルの低下を見ながら連続的に補給した。
る操作が不要となり、貴金属のハンドリングロスを防ぐ
ことができるようになった。また、電槽の小型化が可能
になり、設備コストを低減させることができるようにな
った。さらに、ライフが短い陽極を連続的に補給するこ
とができ、かつ、生成したスライムを連続的に系外に抜
出すことができるため、貴金属の槽内滞留期間が短縮さ
れ、滞留金利を大幅に削減できるようになった。
高電流密度電解装置の一例を示した模式断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 電槽内に対向配置した陽極と陰極とを
隔膜によって分離し、陽極室と陰極室とにそれぞれ別個
に連続的な電解液の供給および排出を行うことによって
両極室内にそれぞれ第1および第2の電解液流をつくり
、精製用の粗金属からなるアノードを陽極室に供給して
500〜1,500A/m2 の高電流密度で電解を
行い、電解が進行するにつれて陰極に析出する電着金属
粉を上記第1の電解液流によって連続的に電槽外へ排出
し、陽極に生成するアノードスライムを上記第2の電解
液流によって連続的に電槽外へ排出することを特徴とす
る高電流密度電解方法。 - 【請求項2】 500〜1,500A/m2 の高
電流密度が得られる状態に接続され、かつ水平に配置さ
れた陽極と陰極とが隔膜によって分離されており、該陽
極室および陰極室にそれぞれ別個に連続的な電解液の供
給および排出を行うことができる構造の電槽を有してな
ることを特徴とする高電流密度電解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3169173A JP3055821B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 高電流密度電解の方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3169173A JP3055821B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 高電流密度電解の方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04365887A true JPH04365887A (ja) | 1992-12-17 |
| JP3055821B2 JP3055821B2 (ja) | 2000-06-26 |
Family
ID=15881605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3169173A Expired - Lifetime JP3055821B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 高電流密度電解の方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3055821B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113122905A (zh) * | 2019-12-31 | 2021-07-16 | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 | 电化学抛光液回收装置与方法 |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP3169173A patent/JP3055821B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113122905A (zh) * | 2019-12-31 | 2021-07-16 | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 | 电化学抛光液回收装置与方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3055821B2 (ja) | 2000-06-26 |
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