JPH04366142A - ガスバリアフイルムおよびその製造法 - Google Patents
ガスバリアフイルムおよびその製造法Info
- Publication number
- JPH04366142A JPH04366142A JP16868891A JP16868891A JPH04366142A JP H04366142 A JPH04366142 A JP H04366142A JP 16868891 A JP16868891 A JP 16868891A JP 16868891 A JP16868891 A JP 16868891A JP H04366142 A JPH04366142 A JP H04366142A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- gas barrier
- thin film
- barrier film
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 42
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 24
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000012785 packaging film Substances 0.000 description 3
- 229920006280 packaging film Polymers 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012254 powdered material Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N tetrasodium;silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレトルト食品等の包装用
フイルムに適したガスバリアフイルムおよびその製造法
に関する。
フイルムに適したガスバリアフイルムおよびその製造法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば蒸着法の如きドライプロセ
スにより製造したガスバリアフイルムとしては、アルミ
ニウム蒸着フイルム等がある。例えば、プラスチックフ
イルムの少なくとも片面上にアルミニウムを１０００オ
ングストローム程度の厚さに蒸着したフイルムを表面ハ
ードコート及びラミネートしたものが食品包装用フイル
ムとして用いられている。しかし、アルミニウム蒸着に
よりえられた薄膜のガスバリア性は１〜１０ｃｃ／ｍ２
・２４ｈｒ・ａｔｍ程度であり充分とはいいえない。
スにより製造したガスバリアフイルムとしては、アルミ
ニウム蒸着フイルム等がある。例えば、プラスチックフ
イルムの少なくとも片面上にアルミニウムを１０００オ
ングストローム程度の厚さに蒸着したフイルムを表面ハ
ードコート及びラミネートしたものが食品包装用フイル
ムとして用いられている。しかし、アルミニウム蒸着に
よりえられた薄膜のガスバリア性は１〜１０ｃｃ／ｍ２
・２４ｈｒ・ａｔｍ程度であり充分とはいいえない。
【０００３】また、無機酸化物の薄膜を設けたガスバリ
アフイルムとしては、ＳｉＯを蒸着したフイルムがある
。例えば、プラスチックフイルムの少なくとも片面上に
ＳｉＯを７００オングストローム程度の厚さに蒸着した
ものを表面ハードコート及びラミネートして食品包装用
フイルムに用いられている。しかし、ＳｉＯは材料費が
高く、コストがかかりすぎる。また、Ｓｉ，ＳｉＯ，Ｓ
ｉＯ２ の混合材料による蒸着法では、材料の飛散、真
空度の上昇等により、緻密な構造を有する無機酸化物薄
膜は得られていない。更にガスバリア性も１〜１０ｃｃ
／ｍ２ ・２４ｈｒ・ａｔｍ程度であり充分ではない。
アフイルムとしては、ＳｉＯを蒸着したフイルムがある
。例えば、プラスチックフイルムの少なくとも片面上に
ＳｉＯを７００オングストローム程度の厚さに蒸着した
ものを表面ハードコート及びラミネートして食品包装用
フイルムに用いられている。しかし、ＳｉＯは材料費が
高く、コストがかかりすぎる。また、Ｓｉ，ＳｉＯ，Ｓ
ｉＯ２ の混合材料による蒸着法では、材料の飛散、真
空度の上昇等により、緻密な構造を有する無機酸化物薄
膜は得られていない。更にガスバリア性も１〜１０ｃｃ
／ｍ２ ・２４ｈｒ・ａｔｍ程度であり充分ではない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述のように従来の表
面蒸着によるガスバリアフイルムにおいてはガスバリア
性は充分満足すべき程度には達しておらず、また蒸着に
用いる材料が高価である、緻密な構造を有する蒸着薄膜
が得られない等の難点があった。本発明は材料の飛散、
真空度の上昇が実質的になく、比較的廉価な材料を用い
、ガスバリア性のすぐれたガスバリアフイルムを提供し
ようとするものである。
面蒸着によるガスバリアフイルムにおいてはガスバリア
性は充分満足すべき程度には達しておらず、また蒸着に
用いる材料が高価である、緻密な構造を有する蒸着薄膜
が得られない等の難点があった。本発明は材料の飛散、
真空度の上昇が実質的になく、比較的廉価な材料を用い
、ガスバリア性のすぐれたガスバリアフイルムを提供し
ようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】概説すると、本発明は（
ａ）Ｓｉおよび／またはＳｉの酸化物、および（ｂ）（
ｉ）アルカリ金属、（ｉｉ）アルカリ土類金属、（ｉｉ
ｉ ）アルカリ金属の化合物および（ｉｖ）実質的に塩
基性を示す物質からなる群から選択した少なくとも一つ
の物質からなり、薄膜全体を基準として（ａ）は９０重
量％以上、（ｂ）は０．１〜１０重量％である無機薄膜
をプラスチックフイルムの少なくとも一面上にコートし
たことを特徴とするガスバリアフイルムに関する。
ａ）Ｓｉおよび／またはＳｉの酸化物、および（ｂ）（
ｉ）アルカリ金属、（ｉｉ）アルカリ土類金属、（ｉｉ
ｉ ）アルカリ金属の化合物および（ｉｖ）実質的に塩
基性を示す物質からなる群から選択した少なくとも一つ
の物質からなり、薄膜全体を基準として（ａ）は９０重
量％以上、（ｂ）は０．１〜１０重量％である無機薄膜
をプラスチックフイルムの少なくとも一面上にコートし
たことを特徴とするガスバリアフイルムに関する。
【０００６】本発明はまた蒸着法、スパッタ法等のドラ
イプロセスによりプラスチックフイルムの少なくとも一
面上に無機薄膜をコートすることによりガスバリアフイ
ルムを製造するにあたり、ドライプロセスに用いる材料
としてＳｉおよび／またはＳｉの酸化物、および（ｂ）
（ｉ）アルカリ金属、（ｉｉ）アルカリ土類金属、（ｉ
ｉｉ ）アルカリ金属の化合物および（ｉｖ）実質的に
塩基性を示す物質からなる群から選択した少なくとも一
つの物質からなり、（ａ）は９０重量％以上、（ｂ）は
０．１〜１０重量％の組成のものを用いることを特徴と
するガスバリアフイルムの製造方法に関する。
イプロセスによりプラスチックフイルムの少なくとも一
面上に無機薄膜をコートすることによりガスバリアフイ
ルムを製造するにあたり、ドライプロセスに用いる材料
としてＳｉおよび／またはＳｉの酸化物、および（ｂ）
（ｉ）アルカリ金属、（ｉｉ）アルカリ土類金属、（ｉ
ｉｉ ）アルカリ金属の化合物および（ｉｖ）実質的に
塩基性を示す物質からなる群から選択した少なくとも一
つの物質からなり、（ａ）は９０重量％以上、（ｂ）は
０．１〜１０重量％の組成のものを用いることを特徴と
するガスバリアフイルムの製造方法に関する。
【０００７】本発明の実施にあたり使用しうるプラスチ
ックフイルムは常法により有機重合体をその溶液または
溶融物の形で押し出して成形し、必要により長手方向お
よび／または横方向に延伸されたものである。有機重合
体の代表例としてはポリエステル、ポリエチレン、ナイ
ロン６、ポリアミド、ポリイミド等があげられる。用い
るフイルムの厚さは用途に応じて広範囲に変えることが
できるが、一般には５〜１００μｍである。
ックフイルムは常法により有機重合体をその溶液または
溶融物の形で押し出して成形し、必要により長手方向お
よび／または横方向に延伸されたものである。有機重合
体の代表例としてはポリエステル、ポリエチレン、ナイ
ロン６、ポリアミド、ポリイミド等があげられる。用い
るフイルムの厚さは用途に応じて広範囲に変えることが
できるが、一般には５〜１００μｍである。
【０００８】本発明のガスバリアフイルムはかかるプラ
スチックフイルムの少なくとも一面上に前記の組成を有
する無機質の薄膜をコートしたものである。この薄膜の
厚さも用途に応じて異なるが、一般的には５〜５０００
オングストローム、好ましくは１００〜２０００オング
ストロームである。
スチックフイルムの少なくとも一面上に前記の組成を有
する無機質の薄膜をコートしたものである。この薄膜の
厚さも用途に応じて異なるが、一般的には５〜５０００
オングストローム、好ましくは１００〜２０００オング
ストロームである。
【０００９】本発明においてはＳｉおよび／またはＳｉ
の酸化物が用いられるが、両者は通常混合して使用され
る。しかし、両者の混合割合は広範囲にわたり変化しう
る（Ｓｉ＝０〜１００重量％）。なおＳｉの酸化物の例
としてはＳｉＯ，ＳｉＯ２ またはその混合物が列挙さ
れる。
の酸化物が用いられるが、両者は通常混合して使用され
る。しかし、両者の混合割合は広範囲にわたり変化しう
る（Ｓｉ＝０〜１００重量％）。なおＳｉの酸化物の例
としてはＳｉＯ，ＳｉＯ２ またはその混合物が列挙さ
れる。
【００１０】本発明ではこのようなＳｉ系の物質に加え
、（ｉ）アルカリ金属、（ｉｉ）アルカリ土類金属、（
ｉｉｉ ）アルカリ金属の化合物および（ｉｖ）実質的
に塩基性を示す物質からなる群から選択した少なくとも
一つの物質を併用することを要する。なお（ｉ）の例と
してはＮａ，Ｋ等、（ｉｉ）の例としてはＭｇ，Ｃａ，
Ｂａ等、（ｉｉｉ ）の例としては水酸化ナトリウム、
ケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸ナトリウム、メタケイ
酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウム等があげられる。ま
た（ｉｖ）の実質的に塩基性を示す物質には塩基性塩化
アルミニウム、Ａｌ２＋ｎ（ＯＨ）２ｎＣｌ６，ＭｇＯ
，ＢａＯ等がある。
、（ｉ）アルカリ金属、（ｉｉ）アルカリ土類金属、（
ｉｉｉ ）アルカリ金属の化合物および（ｉｖ）実質的
に塩基性を示す物質からなる群から選択した少なくとも
一つの物質を併用することを要する。なお（ｉ）の例と
してはＮａ，Ｋ等、（ｉｉ）の例としてはＭｇ，Ｃａ，
Ｂａ等、（ｉｉｉ ）の例としては水酸化ナトリウム、
ケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸ナトリウム、メタケイ
酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウム等があげられる。ま
た（ｉｖ）の実質的に塩基性を示す物質には塩基性塩化
アルミニウム、Ａｌ２＋ｎ（ＯＨ）２ｎＣｌ６，ＭｇＯ
，ＢａＯ等がある。
【００１１】なお本発明においてプラスチックフイルム
上に前記の無機質薄膜を形成せしめるにあたっては蒸着
法、スパッタ法等の高真空室内での方法（ドライプロセ
ス）を採るのがよい。蒸着法とは抵抗過熱、誘導過熱、
電子線加熱等により、るつぼに入った材料を加熱、蒸発
させて基板（プラスチックフイルム）に薄膜として付着
させる方法である。その際、材料、目的によって加熱温
度、加熱方式が異なり、最も適したものを選定する。ま
た、真空槽内に酸素等の反応ガスを導入し、酸化反応を
起させる反応性蒸着法も使用しうる。またスパッタ法と
は真空槽内に放電ガス（Ａｒ等）を導入し、ターゲット
、基板（プラスチックフイルム）間に高周波電圧、直流
電圧を与えて放電ガスをプラズマ化し、ターゲットに衝
突させ、材料を飛ばして基板に薄膜として付着させる方
法である。又、酸素等の反応ガスを導入し、酸化反応を
起させる反応性スパッタ法も用いることがでる。
上に前記の無機質薄膜を形成せしめるにあたっては蒸着
法、スパッタ法等の高真空室内での方法（ドライプロセ
ス）を採るのがよい。蒸着法とは抵抗過熱、誘導過熱、
電子線加熱等により、るつぼに入った材料を加熱、蒸発
させて基板（プラスチックフイルム）に薄膜として付着
させる方法である。その際、材料、目的によって加熱温
度、加熱方式が異なり、最も適したものを選定する。ま
た、真空槽内に酸素等の反応ガスを導入し、酸化反応を
起させる反応性蒸着法も使用しうる。またスパッタ法と
は真空槽内に放電ガス（Ａｒ等）を導入し、ターゲット
、基板（プラスチックフイルム）間に高周波電圧、直流
電圧を与えて放電ガスをプラズマ化し、ターゲットに衝
突させ、材料を飛ばして基板に薄膜として付着させる方
法である。又、酸素等の反応ガスを導入し、酸化反応を
起させる反応性スパッタ法も用いることがでる。
【００１２】これらの各種のドライプロセス法は何れも
それ自体は公知である。本発明では既述の如くかかる薄
膜形成法において特定組成の材料を用い、特定組成の薄
膜を形成せしめる点に特徴がある。
それ自体は公知である。本発明では既述の如くかかる薄
膜形成法において特定組成の材料を用い、特定組成の薄
膜を形成せしめる点に特徴がある。
【００１３】なお、かかる特定組成の材料は前記の（ａ
）および（ｂ）を所定割合もとに配合して、成形、焼結
した形態のものとし、これを前記ドライプロセスの材料
に供するのが普通である。かかる調整にあたってはそれ
自体公知の手段をとることができる。
）および（ｂ）を所定割合もとに配合して、成形、焼結
した形態のものとし、これを前記ドライプロセスの材料
に供するのが普通である。かかる調整にあたってはそれ
自体公知の手段をとることができる。
【００１４】本発明ではこのような特定の組成の材料を
用いる為にドライプロセスによる薄膜形成時に材料の飛
散を防止しうると共に真空度の上昇を抑えることができ
、緻密な無機薄膜をプラスチックフイルム上に付着形成
せしめることができる。かくしてえられるガスバリアフ
イルムのガスバリア性は１ｃｃ／ｍ２ ・２４ｈｒ・ａ
ｔｍ以下のすぐれた特性を示す。
用いる為にドライプロセスによる薄膜形成時に材料の飛
散を防止しうると共に真空度の上昇を抑えることができ
、緻密な無機薄膜をプラスチックフイルム上に付着形成
せしめることができる。かくしてえられるガスバリアフ
イルムのガスバリア性は１ｃｃ／ｍ２ ・２４ｈｒ・ａ
ｔｍ以下のすぐれた特性を示す。
【００１５】本発明方法は前述の如くドライプロセスに
より無機薄膜を形成せしめるものであるが、電子ビーム
を用いた蒸着法によるのが好ましい。かかる蒸着法はそ
れ自体公知の装置を用いて実施しうるが、その一例の略
図を図１に示す（但し、真空槽は省略）。なお蒸着時の
真空度は５×１０−３ｔｏｒｒ以下、好ましくは１×１
０−３以下、また冷却ドラムの温度は−２０℃乃至１０
℃、好ましくは−１０℃乃至５℃である。
より無機薄膜を形成せしめるものであるが、電子ビーム
を用いた蒸着法によるのが好ましい。かかる蒸着法はそ
れ自体公知の装置を用いて実施しうるが、その一例の略
図を図１に示す（但し、真空槽は省略）。なお蒸着時の
真空度は５×１０−３ｔｏｒｒ以下、好ましくは１×１
０−３以下、また冷却ドラムの温度は−２０℃乃至１０
℃、好ましくは−１０℃乃至５℃である。
【００１６】以下本発明を比較例と共に実施例をあげて
説明する。
説明する。
【００１７】比較例
ＳｉとＳｉＯ２ の粉末を４７：５３重量％の割合で混
合した粉末材料に、エチルシリケート〔Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ
５）４〕を無水アルコールに対して体積比で１：１の割
合で混合した溶液を、粉末材料２００ｇに対して１００
ｃｃ加え撹拌、型入れを行い、１５０℃で４時間大気中
で乾燥させた後、１３００℃で１時間焼結して緻密な構
造の蒸着材料を調整した。
合した粉末材料に、エチルシリケート〔Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ
５）４〕を無水アルコールに対して体積比で１：１の割
合で混合した溶液を、粉末材料２００ｇに対して１００
ｃｃ加え撹拌、型入れを行い、１５０℃で４時間大気中
で乾燥させた後、１３００℃で１時間焼結して緻密な構
造の蒸着材料を調整した。
【００１８】このように調整した蒸着材料を用い図１に
示した電子ビーム蒸着装置によりポリエステル（ポリエ
チレンテレフタレート）フイルムの片面上に薄膜を付着
させた。フイルムの厚さは１２μｍ、フイルムの送り速
度は７０ｍ／分、電子ビームの投入電力は３５ｋｗとし
た。また、蒸発源のスリットの幅は１００ｍｍ、ドラム
は−１０℃まで冷却した。真空槽内を６×１０−４Ｐａ
以下に排気した後、電子ビーム蒸着を行いＳｉＯの薄膜
（厚さ７００オングストローム）をフイルム上に蒸着さ
せた。かくして得たガスバリアフイルムの酸素透過率そ
の他のデータを第１表に示す。
示した電子ビーム蒸着装置によりポリエステル（ポリエ
チレンテレフタレート）フイルムの片面上に薄膜を付着
させた。フイルムの厚さは１２μｍ、フイルムの送り速
度は７０ｍ／分、電子ビームの投入電力は３５ｋｗとし
た。また、蒸発源のスリットの幅は１００ｍｍ、ドラム
は−１０℃まで冷却した。真空槽内を６×１０−４Ｐａ
以下に排気した後、電子ビーム蒸着を行いＳｉＯの薄膜
（厚さ７００オングストローム）をフイルム上に蒸着さ
せた。かくして得たガスバリアフイルムの酸素透過率そ
の他のデータを第１表に示す。
【００１９】実施例 １
ＳｉとＳｉＯ２ の粉末を４７：５３重量％の割合で混
合した粉末材料に、ケイ酸ナトリウム（Ｎａ２ＳｉＯ３
） を水に対して０．３６重量％混合した溶液を粉末材
料２００ｇに対して７０ｃｃ加え撹拌、型入れ、発泡を
行い、１５０℃で４時間大気中で乾燥させた後、１３０
０℃で１時間焼結して蒸着材料を調整した。この蒸着材
料は多孔質な構造を有していた。
合した粉末材料に、ケイ酸ナトリウム（Ｎａ２ＳｉＯ３
） を水に対して０．３６重量％混合した溶液を粉末材
料２００ｇに対して７０ｃｃ加え撹拌、型入れ、発泡を
行い、１５０℃で４時間大気中で乾燥させた後、１３０
０℃で１時間焼結して蒸着材料を調整した。この蒸着材
料は多孔質な構造を有していた。
【００２０】このように調整した蒸着材料を使用して図
１に示した電子ビーム蒸着装置により、ポリエステル（
ポリエチレンテレフタレート）フイルムの片面上にＳｉ
Ｏ薄膜を付着させた。その際、フイルムの厚さは１２μ
ｍ、製膜時のフイルムの送り速度は８０ｍ／分、電子ビ
ームの投入電力は３８ｋｗとした。また、蒸発源のスリ
ットの幅は１００ｍｍ、ドラムは−１０℃まで冷却した
。真空槽内を６×１０−４Ｐａ以下に排気した後、電子
ビーム蒸着を行いＳｉＯの薄膜（厚さ７００オングスト
ローム）をフイルムに蒸着させた。かくして得たガスバ
リアフイルムの酸素透過率その他のデータを第１表に示
す。
１に示した電子ビーム蒸着装置により、ポリエステル（
ポリエチレンテレフタレート）フイルムの片面上にＳｉ
Ｏ薄膜を付着させた。その際、フイルムの厚さは１２μ
ｍ、製膜時のフイルムの送り速度は８０ｍ／分、電子ビ
ームの投入電力は３８ｋｗとした。また、蒸発源のスリ
ットの幅は１００ｍｍ、ドラムは−１０℃まで冷却した
。真空槽内を６×１０−４Ｐａ以下に排気した後、電子
ビーム蒸着を行いＳｉＯの薄膜（厚さ７００オングスト
ローム）をフイルムに蒸着させた。かくして得たガスバ
リアフイルムの酸素透過率その他のデータを第１表に示
す。
【００２１】実施例 ２
ＳｉとＳｉＯ２ の粉末を４７：５３重量％の割合で混
合した粉末材料に、ＮａＯＨを水に対して０．５重量％
混合した溶液を粉末材料２００ｇに対して７０ｃｃ加え
て撹拌、型入れ、発泡を行い、１５０℃で４時間大気中
で乾燥させた後、１３００℃で１時間焼結して蒸着材料
を調整した。この蒸着材料は多孔質な構造を有していた
。
合した粉末材料に、ＮａＯＨを水に対して０．５重量％
混合した溶液を粉末材料２００ｇに対して７０ｃｃ加え
て撹拌、型入れ、発泡を行い、１５０℃で４時間大気中
で乾燥させた後、１３００℃で１時間焼結して蒸着材料
を調整した。この蒸着材料は多孔質な構造を有していた
。
【００２２】このように調整した蒸着材料を使用して図
１に示した電子ビーム蒸着装置により、ポリエステル（
ポリエチレンテレフタレート）フイルムの片面上にＳｉ
Ｏ薄膜を付着させた。その際、フイルムの厚さは１２μ
ｍ、製膜時のフイルムの送り速度は８０ｍ／分、電子ビ
ームの投入電力は３５ｋｗとした。また、蒸発源のスリ
ットの幅は１００ｍｍ、ドラムは−１０℃まで冷却した
。真空槽内を６×１０−４Ｐａ以下に排気した後、電子
ビーム蒸着を行いＳｉＯの薄膜（厚さ７００オングスト
ローム）をフイルム上に蒸着させた。かくして得たガス
バリアフイルムの酸素透過率その他のデータを第１表に
示す。
１に示した電子ビーム蒸着装置により、ポリエステル（
ポリエチレンテレフタレート）フイルムの片面上にＳｉ
Ｏ薄膜を付着させた。その際、フイルムの厚さは１２μ
ｍ、製膜時のフイルムの送り速度は８０ｍ／分、電子ビ
ームの投入電力は３５ｋｗとした。また、蒸発源のスリ
ットの幅は１００ｍｍ、ドラムは−１０℃まで冷却した
。真空槽内を６×１０−４Ｐａ以下に排気した後、電子
ビーム蒸着を行いＳｉＯの薄膜（厚さ７００オングスト
ローム）をフイルム上に蒸着させた。かくして得たガス
バリアフイルムの酸素透過率その他のデータを第１表に
示す。
【００２３】
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によるときは
レトルト食品包装用等のガスバリアフイルムとして、従
来ガスバリアフイルムよりも格段によいガス遮断性を有
するものが提供される。
レトルト食品包装用等のガスバリアフイルムとして、従
来ガスバリアフイルムよりも格段によいガス遮断性を有
するものが提供される。
【図１】本発明方法の実施にあたり使用しうる電子ビー
ム蒸着装置の一例の概略図である。
ム蒸着装置の一例の概略図である。
１ ポリエステルフイルムのロール
２ テンショナー
３ 冷却ドラム
４ シャッター
５ スリット
６ 電子ビーム蒸着源
７ 巻き取りロール
Claims (2)
- 【請求項１】 （ａ）Ｓｉおよび／またはＳｉの酸化
物、および（ｂ）（ｉ）アルカリ金属、（ｉｉ）アルカ
リ土類金属、（ｉｉｉ ）アルカリ金属の化合物および
（ｉｖ）実質的に塩基性を示す物質からなる群から選択
した少なくとも一つの物質からなり、薄膜全体を基準と
して（ａ）は９０重量％以上、（ｂ）は０．１〜１０重
量％である無機薄膜をプラスチックフイルムの少なくと
も一面上にコートしたことを特徴とするガスバリアフイ
ルム。 - 【請求項２】 蒸着法、スパッタ法等のドライプロセ
スによりプラスチックフイルムの少なくとも一面上に無
機薄膜をコートすることによりガスバリアフイルムを製
造するにあたり、ドライプロセスに用いる材料としてＳ
ｉおよび／またはＳｉの酸化物、および（ｂ）（ｉ）ア
ルカリ金属、（ｉｉ）アルカリ土類金属、（ｉｉｉ ）
アルカリ金属の化合物および（ｉｖ）実質的に塩基性を
示す物質からなる群から選択した少なくとも一つの物質
からなり、（ａ）は９０重量％以上、（ｂ）は０．１〜
１０重量％の組成のものを用いることを特徴とするガス
バリアフイルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16868891A JP3191324B2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | ガスバリアフイルムおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16868891A JP3191324B2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | ガスバリアフイルムおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04366142A true JPH04366142A (ja) | 1992-12-18 |
| JP3191324B2 JP3191324B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=15872626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16868891A Expired - Fee Related JP3191324B2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | ガスバリアフイルムおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3191324B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005199515A (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明蒸着フィルムおよびその製造法 |
-
1991
- 1991-06-12 JP JP16868891A patent/JP3191324B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005199515A (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明蒸着フィルムおよびその製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3191324B2 (ja) | 2001-07-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5856017A (en) | Gas barrier film | |
| KR100864612B1 (ko) | 증착 필름 | |
| JP2570279B2 (ja) | 包装用フイルム | |
| JPWO2019031262A1 (ja) | ガスバリアフィルムの製造方法 | |
| JP3267637B2 (ja) | ガスバリアフィルム及びその製造法 | |
| JPH04366142A (ja) | ガスバリアフイルムおよびその製造法 | |
| JP2745584B2 (ja) | 透明バリアーフィルムの製造方法 | |
| JP3295955B2 (ja) | 蒸着フィルムの製造方法 | |
| JP2870003B2 (ja) | 蒸着フィルムの製造方法 | |
| JPH06210790A (ja) | ガスバリアフィルム | |
| JP3191321B2 (ja) | プラスチック被覆用材料および被覆プラスチックフィルム | |
| JP3191320B2 (ja) | プラスチック被覆用材料および被覆プラスチックフィルム | |
| JP3230370B2 (ja) | 蒸着用成形物およびそれを用いた真空蒸着方法 | |
| JP4332921B2 (ja) | ガスバリア材の製造方法 | |
| JPH11322973A (ja) | 透明蒸着用ポリエステルフィルム | |
| JPH10323933A (ja) | 酸化アルミニウム蒸着フィルム | |
| JPS61297137A (ja) | 耐透湿性透明合成樹脂体 | |
| JP4110748B2 (ja) | 高ガスバリア性フイルムの製造方法 | |
| JPH04165064A (ja) | 透明ガスバリアフィルムの製造方法 | |
| JPS6315345B2 (ja) | ||
| JPH11300876A (ja) | ガスバリア材およびその製造方法および包装体 | |
| JPH0580546B2 (ja) | ||
| JP2022020890A (ja) | 透明バリアフィルム | |
| JP2002240183A (ja) | 高水蒸気バリアフイルム及びその製造方法 | |
| JP2002234104A (ja) | 高水蒸気バリアフィルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080525 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100525 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100525 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110525 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |