JPH04366338A - クリーンベンチ - Google Patents
クリーンベンチInfo
- Publication number
- JPH04366338A JPH04366338A JP14055591A JP14055591A JPH04366338A JP H04366338 A JPH04366338 A JP H04366338A JP 14055591 A JP14055591 A JP 14055591A JP 14055591 A JP14055591 A JP 14055591A JP H04366338 A JPH04366338 A JP H04366338A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- heavy metal
- metal impurities
- air
- clean bench
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 title abstract 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Workshop Equipment, Work Benches, Supports, Or Storage Means (AREA)
- Ventilation (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造作業
で使用するクリーンベンチに関する。
で使用するクリーンベンチに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体装置における製造工程で
は、半導体素子の製造、検査組立に係る種々の作業があ
る。これらの作業には、微細な半導体装置を取扱うため
に、ごみの無い環境で行なわなければならず、作業室は
清浄であるとともに作業に使用する作業机も清浄でなけ
ればならない。このような作業机はクリーンベンチと呼
ばれる作業机が使用されていた。
は、半導体素子の製造、検査組立に係る種々の作業があ
る。これらの作業には、微細な半導体装置を取扱うため
に、ごみの無い環境で行なわなければならず、作業室は
清浄であるとともに作業に使用する作業机も清浄でなけ
ればならない。このような作業机はクリーンベンチと呼
ばれる作業机が使用されていた。
【０００３】図２は従来の一例を示すクリーンベンチの
模式断面図である。従来、この種のクリーンベンチは、
例えば図２に示すように、作業台１と、この作業台を支
えるとともに空気取入口であるフィルタ２ａが取付けら
れる台部５と、台部５の側面より衝立てられるとともに
空気の流れるダクト４と、作業台１を覆い、作業台１に
清浄な空気を供給するフィルタ２が取付けられる覆い部
６とを有していた。また、台部５とダクト４との間には
、空気を送るためのファン３が取付けられていた。
模式断面図である。従来、この種のクリーンベンチは、
例えば図２に示すように、作業台１と、この作業台を支
えるとともに空気取入口であるフィルタ２ａが取付けら
れる台部５と、台部５の側面より衝立てられるとともに
空気の流れるダクト４と、作業台１を覆い、作業台１に
清浄な空気を供給するフィルタ２が取付けられる覆い部
６とを有していた。また、台部５とダクト４との間には
、空気を送るためのファン３が取付けられていた。
【０００４】このクリーンベンチでは、常に作業中、フ
ァン３を動作させ、フィルタ２ａと２とにより空気中の
ごみ（パーティクル）を除去し、清浄な空気を作業台１
上に吹き付けていた。
ァン３を動作させ、フィルタ２ａと２とにより空気中の
ごみ（パーティクル）を除去し、清浄な空気を作業台１
上に吹き付けていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
クリーンベンチでは、フィルタを通過する粒子の細い重
金属不純物を除去する手段を有していないので、供給す
る空気中の重金属不純物を除去することができず、クリ
ーンベンチ内で製造途中の半導体基板を取り扱う際には
、しばしば半導体基板表面が重金属不純物に汚染され、
製造歩留を低下させるという問題があった。
クリーンベンチでは、フィルタを通過する粒子の細い重
金属不純物を除去する手段を有していないので、供給す
る空気中の重金属不純物を除去することができず、クリ
ーンベンチ内で製造途中の半導体基板を取り扱う際には
、しばしば半導体基板表面が重金属不純物に汚染され、
製造歩留を低下させるという問題があった。
【０００６】本発明の目的は、かかる問題を鑑み、重金
属不純物に汚染されることなく作業の出来るクリーンベ
ンチを提供することである。
属不純物に汚染されることなく作業の出来るクリーンベ
ンチを提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のクリーンベンチ
は、吸気口に取付けられる除塵用のフィルタと、このフ
ィルタを通過する空気を通過させる酸性溶液を蓄える密
封槽と、この密封槽に浮遊する酸化された重金属不純物
を除去する重金属不純物除去用のフィルタとを備えてい
る。
は、吸気口に取付けられる除塵用のフィルタと、このフ
ィルタを通過する空気を通過させる酸性溶液を蓄える密
封槽と、この密封槽に浮遊する酸化された重金属不純物
を除去する重金属不純物除去用のフィルタとを備えてい
る。
【０００８】
【実施例】次に本発明について、図面を参照して説明す
る。
る。
【０００９】図１は本発明の一実施例を示すクリーンベ
ンチの模式断面図である。このクリーンベンチは、同図
に示すように、粒子の細い重金属不純物を酸化する薄い
酸性溶液８を蓄える槽９と、この槽９の薄い酸性溶液８
に一端側を浸し、他端側を吸気口におけるフィルタ２ｂ
に取付けられる配管１０と、一端側を槽９に気密に挿入
されるとともに他端側がフィルタ７に連結される配管１
１とを設けたことである。それ以外は従来と同じである
。
ンチの模式断面図である。このクリーンベンチは、同図
に示すように、粒子の細い重金属不純物を酸化する薄い
酸性溶液８を蓄える槽９と、この槽９の薄い酸性溶液８
に一端側を浸し、他端側を吸気口におけるフィルタ２ｂ
に取付けられる配管１０と、一端側を槽９に気密に挿入
されるとともに他端側がフィルタ７に連結される配管１
１とを設けたことである。それ以外は従来と同じである
。
【００１０】次に、このクリーンベンチの空気供給動作
を説明する。まず、室内の空気を空気吸気口より取り入
れ、フィルタ２ｂで空気中のごみを取除く。次に、ごみ
が除去された空気は、配管１０を介して、薄い酸性溶液
に浴びせられる。このとき、空気中に含まれるヒューム
状の重金属不純物は、酸化され固形状となる。次に、槽
９内に浮遊する酸化固形物は配管１１を通過し、フィル
タ７に入り込み酸化固形物を完全に吸着除去した後、更
に高性能除塵のフィルタ２によってより清浄にし、作業
台１上に供給する。
を説明する。まず、室内の空気を空気吸気口より取り入
れ、フィルタ２ｂで空気中のごみを取除く。次に、ごみ
が除去された空気は、配管１０を介して、薄い酸性溶液
に浴びせられる。このとき、空気中に含まれるヒューム
状の重金属不純物は、酸化され固形状となる。次に、槽
９内に浮遊する酸化固形物は配管１１を通過し、フィル
タ７に入り込み酸化固形物を完全に吸着除去した後、更
に高性能除塵のフィルタ２によってより清浄にし、作業
台１上に供給する。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、吸気口の
フィルタでごみが除去された空気を薄い酸性溶液中でバ
ブリングして、空気中の重金属不純物を酸化固形物にし
、蒸発する酸化固形物を除去するフィルタを後段に設け
ることによって、重金属不純物に汚染されることなく作
業の出来るクリーンベンチが得られるという効果がある
。
フィルタでごみが除去された空気を薄い酸性溶液中でバ
ブリングして、空気中の重金属不純物を酸化固形物にし
、蒸発する酸化固形物を除去するフィルタを後段に設け
ることによって、重金属不純物に汚染されることなく作
業の出来るクリーンベンチが得られるという効果がある
。
【図１】本発明の一実施例を示すクリーンベンチの模式
断面図である。
断面図である。
【図２】従来の一例を示すクリーンベンチの模式断面図
である。
である。
１ 作業台
２，２ａ，２ｂ，７ フィルタ
３ ファン
４ ダクト
５ 台部
６ 覆い部
８ 薄い酸性溶液
９ 層
１０，１１ 配管
Claims (1)
- 【請求項１】吸気口に取付けられる除塵用のフィルタと
、このフィルタを通過する空気を通過させる酸性溶液を
蓄える密封槽と、この密封槽に浮遊する酸化された重金
属不純物を除去する重金属不純物除去用のフィルタとを
備えることを特徴とするクリーンベンチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14055591A JPH04366338A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | クリーンベンチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14055591A JPH04366338A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | クリーンベンチ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04366338A true JPH04366338A (ja) | 1992-12-18 |
Family
ID=15271405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14055591A Pending JPH04366338A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | クリーンベンチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04366338A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150121838A (ko) * | 2014-04-22 | 2015-10-30 | (주)동양케미칼 | 크린 후드용 가열장치 및 이를 장착한 크린 후드 |
| CN113510667A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-10-19 | 湖北瑞佳不锈钢有限公司 | 一种不锈钢制品加工操作台 |
-
1991
- 1991-06-13 JP JP14055591A patent/JPH04366338A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150121838A (ko) * | 2014-04-22 | 2015-10-30 | (주)동양케미칼 | 크린 후드용 가열장치 및 이를 장착한 크린 후드 |
| CN113510667A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-10-19 | 湖北瑞佳不锈钢有限公司 | 一种不锈钢制品加工操作台 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6044874A (en) | Sealed container and sealed container ambient gas substitution apparatus and method | |
| JPH11114340A (ja) | 半導体装備の空気流入装置及びこれを用いた化学物汚染除去方法 | |
| JPH04366338A (ja) | クリーンベンチ | |
| KR100727487B1 (ko) | 파티클 흡착챔버, 파티클 샘플링 장치 및 파티클 샘플링방법 | |
| TWI538039B (zh) | Processing means (B) | |
| JPS63312035A (ja) | 薄板保持装置 | |
| JP3429553B2 (ja) | クリーンボックス | |
| JPH05114540A (ja) | レチクル搬送装置 | |
| KR20250133342A (ko) | 기판을 세정하기 위한 일체형 세정 및 건조 모듈 | |
| TWI707728B (zh) | 研磨清潔的改良裝置 | |
| JPH0766165A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3293399B2 (ja) | 板状試料表面の処理方法 | |
| JPH04272027A (ja) | 吸着ハンドラ | |
| JP3299988B2 (ja) | 基板を処理するための装置 | |
| JP3503770B2 (ja) | クリーンユニット及びクリーンルーム | |
| JP2759654B2 (ja) | 真空吸着装置及び処理装置 | |
| JPH11233392A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH10308426A5 (ja) | 基板検査装置 | |
| JP2001250802A (ja) | 製造プロセスの異物除去システム。 | |
| JPH05149582A (ja) | クリーンルームの空気清浄装置 | |
| JP3268225B2 (ja) | 製造プロセスの異物除去システム | |
| JP2002250552A (ja) | クリーンルーム及び半導体装置の製造方法 | |
| JPH0534108Y2 (ja) | ||
| JPH0438516Y2 (ja) | ||
| JPH0548330U (ja) | クリーンベンチ |