JPH04366846A - ペリクルをマスクから剥離する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明はＬＳＩや液晶等の製造
のリソグラフィ−工程に使用されるフォトマスクやレテ
ィクル等の透明基板（以下マスクと略す）の異物付着を
防止することを目的として使用されるペリクルを、マス
クから脱着する方法に関する。さらに詳細には、マスク
に装着した後脱着が必要な場合、マスク上の粘着剤の残
留物をきわめて少なくできる脱着方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体等の製造においてウェハ−上に微
細な回路パタ−ンを形成する場合、ステッパ−等の製造
装置を使用している。ここで重要なのは前記製造装置に
組み込まれる回路パタ−ンを形成する為のマスクの品質
である。近年、大規模集積回路の発展に伴いその画線幅
も非常に微細になり、今後もその傾向は進むと予想され
、それ故マスクの品質が製造装置の稼働率や製造コスト
に大きく影響するものとなってきている。特にマスクに
付着する異物が歩留りを低下させることが重大な問題で
ある。この問題を解決する手段として、いわゆるペリク
ルを装着してマスクを異物から保護する方法が取られて
いる（例えば、特公昭５４−２８７１６号公報参照）。 一方、大規模集積回路がカスタム化し多品種少量生産の
方向が強まってきつつあり、このことは多数のマスクを
使用することを意味し、マスクの保管管理の必要性が増
してきた。その際、ペリクル装着の保管は管理上簡便で
あることが認められつつある。

【０００３】第１図はこのような所に使われるペリクル
の説明図である。ここに、光学的薄膜体１が支持枠２に
接着層３によりシワ、タルミなく固着されている。支持
枠２も他の端面に粘着体４を有し、その上に保護フィル
ム５を配置した構造となっている。このようなペリクル
は、保護フィルム５を剥し粘着体を介してマスクに装着
して使用される。

【０００４】ところで、装着時や装着後の作業中に光学
的薄膜体１が傷ついたり破れたりした場合、あるいはマ
スク面に異物の付着がみつかったり、ブロ−（ガスの吹
き付け）等では除去されない異物が光学的薄膜体に付着
していることがあった場合、新しいペリクルと交換する
必要がある。その際当然マスクからペリクルを剥離しな
ければならない。この剥離はかなり乱暴な操作即ちまず
光学的薄膜体を破り支持枠をペンチ等ではさみ、マスク
面と粘着体との間にドライバ−等を差し込んで強い力で
こじあけるような方法で行われている。

【０００５】その改良策としていくつかの提案がこれま
でにもなされている。例えば特開昭６１−１６９８４８
号公報には支持枠の一部に開口部を設けておきその開口
部に特殊な治具を差し込んで剥離する方法である。この
方法はマスク面に傷をつけることは少なくなるもののマ
スク面に粘着体の粘着物が残りその除去が難しい。又特
開昭６０−１４７７３７号公報には支持枠自体をマスク
側とペリクル側とに分離できる構造にするという提案が
なされている。この提案によるとペリクルの張り替え作
業は容易になるもののマスク側の粘着体の剥離にたいし
ては上と同様の問題が残る。同じように支持枠の構造を
かえるという提案は特開昭６１−１９３１５１号公報に
もある。さらに特開昭６０−７５８３５号公報には粘着
体のマスク側の接着力を弱くするという提案がなされて
いる。しかし剥離の点では若干容易になるものの粘着体
のマスク上の残りをなくすことにはならない。又あまり
その接着力を弱くすると作業中でのマスクからのペリク
ルの落下の危険性が増す。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記のようなマスクか
らのペリクルの剥離方法では、特に粘着体の残留物がマ
スク上に付着して再使用のためのマスクの洗浄が困難に
なるという問題点があった。特に重要な問題は粘着体の
残留物がマスクのパタ−ン部に修正不能の欠陥を生じさ
せる点であった。

【０００７】この発明は以上のような実情に鑑みなされ
たもので、必要時にマスクから容易に、かつマスク上に
粘着体の残留物を少なくして剥離できる方法を提供する
ことを目的とするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記したようにペリクル
をマスクから剥離した時に、マスク上に粘着体の残留物
がきわめて少ないことが要求される。本発明者らは粘着
体の化学的物性を考慮すると、良溶媒があるにちがいな
いと考えて鋭意検討した結果この発明を完成するに至っ
た。即ち、この発明は、光学的薄膜体と、それを一側に
有し、かつ、その反対側の端面に粘着体を有する支持枠
とを備えてなるペリクルを、該ペリクルが貼付いたマス
クから脱着する方法において、水に可溶または部分可溶
なＣ２　−Ｃ５　の少なくとも１つのアルコ−ルと水か
ら本質的になり、１／５〜５／１の容積比の混合溶媒に
あらかじめ浸潤することを特徴とするマスクからペリク
ルを脱着する方法である。このようにありふれた、扱い
易い溶媒が極めて良好な結果を与えたことは驚くべき事
である。

【０００９】この発明の本質は水と水に可溶または部分
可溶なアルコ−ルの特定の容積比を有する混合溶媒中に
マスクとペリクルを浸潤させる点にある。貼付いた物を
該溶媒中に浸漬させたり、マスクとペリクルの間の粘着
体の部分に該溶媒をつけることも可能である。この容積
比がこの範囲を越えて、水が多くなった時には脱着させ
るために大きな力が必要でかつ粘着体そのものが残留し
やすい。又、アルコ−ルの量がこの範囲を越えて多くな
ると、脱着するための力は少なくてすむものの、粘着体
の残留物が急に多くなる。

【００１０】この発明で使用される混合溶媒のアルコ−
ル成分は２つから５つの炭素原子をもつアルコ−ルの１
以上である。メタノ−ルは特異性を示さない。６ケの炭
素原子を有するアルコ−ルは水との可溶性の悪さと高い
粘度のためにこの発明には使用されない。この発明に使
用しうるアルコ−ルの例として、以下のものがあげられ
る。ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル
、イソプロパノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、エタノ−ル、
１，２−プロパンジオ−ル、１，３−プロパンジオ−ル
、１，２−ブタンジオ−ル、１，３−ブタンジオ−ル、
１，４−ブタンジオ−ル、２，３−ブタンジオ−ル、グ
リセリン、ジエチレングリコ−ル、２−ペンタノ−ル、
３−ペンタノ−ル、１，５−ペンタンジオ−ルである。 このうち、エタノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブタノ−
ル、イソプロパノ−ル、ジエチレングリコ−ルがより好
ましい。

【００１１】この発明の混合溶媒を使用したときの脱着
条件として、温度と浸潤時間があげられる。一般に長鎖
のアルコ−ルを使用するときの方が、緩やかな条件でよ
いという以外は、これらの条件はクリティカルではない
。ただあまりに高い温度で浸潤時間が長いと、脱着は容
易になるが、粘着体の残留物は多くなる傾向はある。 一般に０Ｃから６０Ｃが用いられ、１０から１０００秒
の条件が用いられる。

【００１２】この発明は液晶用の大型ペリクルに好適に
使用することができる。即ち、粘着体の幅も全体も極め
て大きくなると、非常に脱着しにくいのでこの発明の有
用性が増すからである。一般に粘着体の厚みは０．１ｍ
ｍ〜２．０ｍｍ程度であるが、マスクとの装着ミスをな
くすために約１．０ｍｍとかなり厚くなっている。マス
クの装着後作業中の落下を防ぐために粘着体の接着力は
かなり強く１００〜１００ｇ／ｃｍとなっている（接着
力の値はＪＩＳ　　Ｚ−０２３７粘着力試験方法による
）。

【００１３】光学的薄膜体としては、単層のものあるい
は反射防止層を有するものが使用できる。中心層を構成
する膜の材料としては、石英等の無機物質やポリマ−が
使用できる。ポリマ−としては、ポリエチレンテレフタ
レ−ト、セルロ−スエステル類、ポリカ−ボネ−ト、ポ
リメタクリル酸メチル等をあげることができる。特に一
般に好適な素材として、ニトロセルロ−スが用いられて
いる。これら材質を溶解しないような混合溶媒が好まし
い。反射防止層の材料としては、ＭｇＦ２等の無機物か
らポリスチレン、テフロン等のポリマ−が使用できる。

【００１４】支持枠としてはアルミニウム合金、ステン
レススチ−ル等の金属、プラスチック等が使用できる。 その大きさはマスクの大きさに対応して１〜８インチ径
、または１〜８インチ角程度であり、液晶用になると２
０インチ以上に達する場合もある。その高さは２〜１０
ｍｍ程度である。ペリクルは使用に供されるまで清浄な
ケ−スに収納されゴミの付着を防止する。ステッパ−に
用いるに当たっては、異物の影響が鋭敏に現れるためマ
スクの画像側だけでなく他の面にもペリクルが装着され
ることが多い。

【００１５】以下実施例と比較例により本発明を更に詳
細に説明する。

【００１６】

【実施例及び比較例】外寸１２０ｍｍ×９８ｍｍの矩形
のアルミニウム合金からなる支持枠に、基材がクロロプ
レンゴムで粘着剤がアクリル系の厚み０．８ｍｍの両面
粘着テ−プ（住友３Ｍ社製ＮＯ．４２６２）をつけた。 このような支持枠の反対側にエポキシ接着剤を塗布して
おき、別に用意しておいた光学的薄膜体（中心層がニト
ロセルロ−ス、両面にフッソ系ポリマ−の反射防止層を
有する）に貼付け固着した。このようにして作ったペリ
クルを両面粘着テ−プが約０．４ｍｍ程度沈み込むぐら
いの圧力を支持枠にかけてマスクに装着した。

【００１７】一方種々の混合容積比の水−アルコ−ル混
合溶媒をあらかじめ調製しておいた。そうした溶媒中に
マスクごと浸漬し、適当な時間後支持枠をもってひき剥
した。マスク面上の粘着体の残留物を観察した。表１は
その結果である。本発明の容積比の混合溶媒は、それか
らはずれる溶媒よりもあきらかに良い結果を与えた。

【００１８】

【表１】

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の混合溶媒
を使用すればペリクルをマスクから脱着することが容易
で、かつ従来剥離時生じていた多くの問題点を解消する
ことができるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的なペリクルの説明図。

【符号の説明】

１．光学的薄膜体 ２．支持枠 ３．接着層 ４．粘着体 ５．保護フィルム

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光学的薄膜体と、それを一側に有し、かつ
   、その反対側の端面に粘着体を有する支持枠とを備えて
   なるペリクルを、該ペリクルが貼付いたマスクから脱着
   する方法において、水に可溶または部分可溶なＣ２　−
   Ｃ５の少なくとも１つのアルコ−ルと水から本質的にな
   り、１／５〜５／１の容積比の混合溶媒にあらかじめ浸
   潤することを特徴とするマスクからペリクルを脱着する
   方法。