JPH0436947A - 電子ビーム制御装置 - Google Patents
電子ビーム制御装置Info
- Publication number
- JPH0436947A JPH0436947A JP2141373A JP14137390A JPH0436947A JP H0436947 A JPH0436947 A JP H0436947A JP 2141373 A JP2141373 A JP 2141373A JP 14137390 A JP14137390 A JP 14137390A JP H0436947 A JPH0436947 A JP H0436947A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- sample
- control device
- current density
- beam control
- Prior art date
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- Pending
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子ビーム照射装置に係り、特に電子流密度制
御に好適な電子ビーム制御装置に関する。
御に好適な電子ビーム制御装置に関する。
従来の装置は、電子ビーム照射装置において、電子ビー
ムの偏向角による試料−４二の電子流密度をコン１〜ロ
ール電子ビーム制御装置は有していない。
ムの偏向角による試料−４二の電子流密度をコン１〜ロ
ール電子ビーム制御装置は有していない。
」１記従来技術は電子ビーム照射装置において、電子ビ
ームの偏向角により、試料」〕に照射される電流密度の
コントロール機能は有していないため、渦状走査時等の
試料表面加工精度を上げる必要があった。
ームの偏向角により、試料」〕に照射される電流密度の
コントロール機能は有していないため、渦状走査時等の
試料表面加工精度を上げる必要があった。
本発明の目的は電子ビームの偏向角により、試料上の電
子流密度を変化させる電子ビーム制御装置を附加した電
子ビーム照射装置又は類似装置を提供することにある。
子流密度を変化させる電子ビーム制御装置を附加した電
子ビーム照射装置又は類似装置を提供することにある。
」１記目的を達成するために、電子ビームの偏向角によ
り、試料上に照射される電流密度を制御可能にしたもの
である。
り、試料上に照射される電流密度を制御可能にしたもの
である。
本発明の電子ビーｌ＼制御装置は試料に照射する電子ビ
ームを偏向角により、電子ビームを制御することが出来
るため、試料の表面加二Ｉニ精度向−にがはかれる。
ームを偏向角により、電子ビームを制御することが出来
るため、試料の表面加二Ｉニ精度向−にがはかれる。
以下、実施例の構成及び動作の説明しする。
第１図の構成図は電子銃１より発生した電子ビームをレ
ンズ系で絞り、偏向コイル２により、試料２３−ヒをＸ
、、Ｙ２次元スキャンを行う。偏向コイル２に第２図の
偏向電流ｓｉｎ波形をＸに、ｃｏｓ波形をＹに流すこと
により、電子ビームは試料３上を円径状に走査する。偏
向波形電流を変化させることにより偏向角が変わり、第
３図のように渦状に走査させることが出来る。
ンズ系で絞り、偏向コイル２により、試料２３−ヒをＸ
、、Ｙ２次元スキャンを行う。偏向コイル２に第２図の
偏向電流ｓｉｎ波形をＸに、ｃｏｓ波形をＹに流すこと
により、電子ビームは試料３上を円径状に走査する。偏
向波形電流を変化させることにより偏向角が変わり、第
３図のように渦状に走査させることが出来る。
電子ビームが試料３−」二を渦状に走査させると、同−
周期内であると内径走査速度より、久径走査速度の場合
より速いため、試料３」−の内径より外径の方が電流密
度が低下する。したがって試料表面加工する場合この方
法では不都合である。
周期内であると内径走査速度より、久径走査速度の場合
より速いため、試料３」−の内径より外径の方が電流密
度が低下する。したがって試料表面加工する場合この方
法では不都合である。
本発明節］案は第３図より内径走査速度Ｖｌ。
外径走査速度ｖ２を制御することにより電ｄ石密度を均
一または希望値にコントロールする効果がある。この場
合は第２図のｓｊｎ、 ｃｏｓ波形の内径走査。
一または希望値にコントロールする効果がある。この場
合は第２図のｓｊｎ、 ｃｏｓ波形の内径走査。
外径走査時の周期を制御することで可能どなる。
発明の第２案は第４図の如く、電子ビームを内径。
外径走査回数をＮ１回、Ｎ２回と走査させることにより
電流密度をコン１〜ロールする効果がある。
電流密度をコン１〜ロールする効果がある。
この場合は第２図のｓｊｎ、 ｃｏｓ波形の内径走査、
外径走査時の周期を同一にして、繰返し回数を制御する
ことで可能となる。
外径走査時の周期を同一にして、繰返し回数を制御する
ことで可能となる。
発明の第３案は第１図のビームブランキングプレー１−
〇の動作により、電子ビームを第６図の如くスポラ１〜
にして、間隔Ｌｓ、、Ｌ２を制御することにより、電流
密度をコント効果がある。この場合はｓｉｎ、 ｃｏｓ
波形の内径走査、外径走査の周期を同一にして、ビーム
ブランキングにより内径走査時。
〇の動作により、電子ビームを第６図の如くスポラ１〜
にして、間隔Ｌｓ、、Ｌ２を制御することにより、電流
密度をコント効果がある。この場合はｓｉｎ、 ｃｏｓ
波形の内径走査、外径走査の周期を同一にして、ビーム
ブランキングにより内径走査時。
外径走査時の導通時間第５図の如く制御することで可能
となる。第７図は第１．．２．３案を持ちいない時の通
常の試料上の電流密度分布図である。
となる。第７図は第１．．２．３案を持ちいない時の通
常の試料上の電流密度分布図である。
したがって内径走査、外径走査時の電流密度を発明節１
．２．３案により、電流密度を制御することに効果があ
る。
．２．３案により、電流密度を制御することに効果があ
る。
本発明は、以上説明したように構成されているので以下
に記載されるような効果を奏する。
に記載されるような効果を奏する。
電子ビームを内径走査速度、外径走査速度を走査するこ
とにより試料上の電流密度を制御することが出来る。ま
た電子ビームを内径走査回数と外径走査回数と制御する
ことにより試料上の電流密度を制御することが出来る。
とにより試料上の電流密度を制御することが出来る。ま
た電子ビームを内径走査回数と外径走査回数と制御する
ことにより試料上の電流密度を制御することが出来る。
さらに電子ビー１１をブランキングを併用してスポット
間隔Ｌ１．Ｌ２を制御することにより、試料−七の電流
密度を制御することが出来る。
間隔Ｌ１．Ｌ２を制御することにより、試料−七の電流
密度を制御することが出来る。
第１図は本発明の構成図、第２図は偏向コイルに流す電
流波形図、第３図は試料」二の内径、外径を電子ビーム
走査速度を変化させた場合の図、第４図は試料」二の内
径、外径を電子ビー１１の走査を複数回走査した場合の
図、第５図はブランキングプレ−１〜パルス電圧波形図
、第６図は試料」二の内径、外径を電子ビームの走査を
ブランキングを併用してスポラ１〜形状にて走査した場
合の図、第７図は通常渦状走査した場合の平均電流密度
を示す図である。 １・・電子銃、２・・・偏向コイル、３・・試料、４・
・・電流増幅器、５・・ｓｊｎ波形発生器、６・・・電
流増幅器、７・・ＣＯ３波形発生器、８・・ＣＰＵ、９
・・プランキ′背 磯；− × ・ぜ＋）−
流波形図、第３図は試料」二の内径、外径を電子ビーム
走査速度を変化させた場合の図、第４図は試料」二の内
径、外径を電子ビー１１の走査を複数回走査した場合の
図、第５図はブランキングプレ−１〜パルス電圧波形図
、第６図は試料」二の内径、外径を電子ビームの走査を
ブランキングを併用してスポラ１〜形状にて走査した場
合の図、第７図は通常渦状走査した場合の平均電流密度
を示す図である。 １・・電子銃、２・・・偏向コイル、３・・試料、４・
・・電流増幅器、５・・ｓｊｎ波形発生器、６・・・電
流増幅器、７・・ＣＯ３波形発生器、８・・ＣＰＵ、９
・・プランキ′背 磯；− × ・ぜ＋）−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、電子ビーム照射装置において、試料に照射する電子
ビームを偏向角により電子ビームを制御し、電流密度を
可変することを特徴とする電子ビーム制御装置。 ２、請求項第１項において、偏向角により偏向速度を制
御して、試料の電流密度を変化させることを特徴とする
電子ビーム制御装置。 ３、請求項第１項において電子ビームを複数回重さねる
ことにより、電流密度を制御することを特徴とする電子
ビーム制御装置。 ４、請求項第１項においてビームブランキング機能を附
加させ導通時間を制御することにより電子流密度を制御
させることを特徴とする電子ビーム制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2141373A JPH0436947A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 電子ビーム制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2141373A JPH0436947A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 電子ビーム制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0436947A true JPH0436947A (ja) | 1992-02-06 |
Family
ID=15290487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2141373A Pending JPH0436947A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 電子ビーム制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0436947A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6407519B1 (en) | 1999-06-07 | 2002-06-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Cathode-ray tube system capable of providing beam spots of a small diameter |
| JP2011090844A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Jeol Ltd | 試料加工方法及び試料加工装置 |
| CN103295862A (zh) * | 2013-04-25 | 2013-09-11 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种用于电子束轨迹控制的电磁偏转装置及其应用 |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP2141373A patent/JPH0436947A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6407519B1 (en) | 1999-06-07 | 2002-06-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Cathode-ray tube system capable of providing beam spots of a small diameter |
| JP2011090844A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Jeol Ltd | 試料加工方法及び試料加工装置 |
| CN103295862A (zh) * | 2013-04-25 | 2013-09-11 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种用于电子束轨迹控制的电磁偏转装置及其应用 |
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